JP3475431B2 - レーザ光発生装置 - Google Patents
レーザ光発生装置Info
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Description
し、特に、非線形光学結晶素子により波長変換されたレ
ーザ光を発生させるようなレーザ光発生装置に関する。
効率良く波長変換を行うことが従来より提案されてお
り、例えば、外部共振型のSHG(第2高調波発生)
や、レーザ共振器内部の非線形光学素子によるSHG等
が試みられている。
としては、共振器を構成する少なくとも一対の反射鏡の
間にレーザ媒質及び非線形光学結晶素子を配置したもの
が知られている。このタイプのレーザ光発生装置の場合
には、共振器内部の非線形光学結晶素子において、基本
波レーザ光に対して第2高調波レーザ光を位相整合させ
ることにより、効率良く第2高調波レーザ光を取り出す
ことができる。
本波レーザ光及び第2高調波レーザ光間にタイプI又は
タイプIIの位相整合条件を成り立たせるようにする。す
なわち、タイプIの位相整合は、基本波レーザ光の常光
線を利用して、同一方向に偏光した2つの光子から周波
数が2倍の一つの光子を作るような現象を生じさせるこ
とを原理とするものである。これに対して、タイプIIの
位相整合は、互いに直交する2つの基本波固有偏光を非
線形光学結晶素子に入射することにより、2つの固有偏
光についてそれぞれ位相整合条件を成り立たせるように
するもので、基本波レーザ光は非線形光学結晶素子の内
部において常光線及び異常光線に分かれて第2高調波レ
ーザ光の異常光線に対して位相整合を生じる。
て第2高調波レーザ光を発生させようとする場合、基本
波レーザ光が非線形光学結晶素子を繰り返し通る毎に基
本波レーザ光の固有偏光の位相が変化するため、第2高
調波レーザ光の発生を安定にし得なくなる虞れがある。
基本波レーザ光が共振動作によって非線形光学結晶素子
を繰り返し通過する毎に、直交する固有振動(すなわち
p波成分及びs波成分)の位相がそれぞれずれてゆく
と、共振器各部において基本的にレーザ光が効率良く互
いに強め合うような定常状態が得られなくなることによ
り、強い共振状態(強い定在波)を形成できなくなり、
結果として基本波レーザ光の第2高調波レーザ光への変
換効率が劣化すると共に、第2高調波レーザ光にノイズ
を生じさせる虞れがあった。
20879号公報に示される如く、非線形光学結晶素子
によって第2高調波レーザ光を発生するようになされた
レーザ光源において、基本波レーザ光の共振光路中に、
1/4波長板等の複屈折性素子を挿入することにより、
出力レーザ光として出射する第2高調波レーザ光を安定
させるようにしたレーザ光源を提案している。
報に開示されたレーザ光源、すなわちレーザ光発生装置
の一例を示している。この図6に示すレーザ光発生装置
は、Nd:YAGを用いたレーザ媒質(レーザロッド)
102の入射面に形成された反射面(ダイクロイックミ
ラー)103と、出力用凹面鏡104の内側の反射面
(ダイクロイックミラー)とから成る共振器101を有
しており、この共振器101内に、Nd:YAGのレー
ザ媒質102と、KTP(KTiOPO4 )より成る非
線形光学結晶素子106と、例えば水晶板により構成さ
れた1/4波長板である複屈折素子107とが配置され
ている。
は、その入射面103に、励起用半導体レーザ111か
ら射出された励起用レーザ光が、コリメータレンズ11
2、対物レンズ113を通って入射されることにより、
基本波レーザ光を発生する。この基本波レーザ光は、非
線形光学結晶素子106、複屈折素子107を通って凹
面鏡104の反射面で反射され、再び複屈折素子10
7、非線形光学結晶素子106、レーザ媒質102を順
次通って上記入射面(反射面)103で反射される。従
って、基本波レーザ光は、共振器101のレーザ媒質1
02の入射面の反射面103と出力用凹面鏡104の内
側の反射面との間を往復するように共振動作することに
なる。
7は、光の伝播方向に垂直な面内において、図7に示す
ように、異常光方向屈折率ne(7)の方向が、非線形光学
結晶素子106の異常光方向屈折率ne(6)の方向に対し
て所定の方位角θだけ、例えばθ=45°だけ傾くよう
な光軸位置に設定される。
振光路を通って非線形光学結晶素子106を通過する際
に第2高調波レーザ光を発生させ、この第2高調波レー
ザ光が凹面鏡104を透過して、出力レーザ光として送
出される。
する各光線は、非線形光学結晶素子106に対して方位
角θ=45°だけ傾いた方位に設定された複屈折素子
(基本波の1/4波長板)107を通ることにより、共
振器101の各部におけるレーザ光のパワーは所定のレ
ベルに安定化される。これは、レーザ媒質102で発生
した基本波レーザ光を非線形光学結晶素子106を通過
するように共振動作させてタイプIIの第2高調波レーザ
光を発生させる際に、基本波レーザ光の互いに直交する
2つの固有偏光モード間の和周波発生によるカップリン
グを複屈折素子107により抑制することにより、発振
を安定化させるものである。
することにより、 (i)和周波発生に起因する偏光モード間の非線形結合
がなくなり、偏光モード間のモード競合を防止できる。 (ii) 2つの偏光モード間で空間位相差が90°となる
ので、2つの偏光モードが発振することにより空間的ホ
ールバーニング効果を抑止でき、縦2モード(偏光2モ
ード)の安定発振が得られる。 という作用効果が得られるものである。この1/4波長
板107のような複屈折性素子については、上記特開平
1−220879号公報の他、特願平2−125854
号の明細書及び図面、特願平3−17068号の明細書
及び図面等において開示された技術にも用いられてい
る。
うな一対の反射手段の間を光が往復するような共振器、
いわゆる定在波型の共振器内部では、基本波レーザ光が
反射手段間を往復しながら非線形光学結晶素子に入射す
るので、非線形光学結晶素子の両方向に第2高調波が発
生する。例えば、図8に示すような基本的な共振器構
成、すなわち、532nmの波長の第2高調波レーザ光を1
00 %透過し、1064nmの波長の基本波レーザ光を100
%反射するように形成されたミラー面41R及び44R
を有する光学素子41及び44で構成される共振器の光
路中に、非線形光学結晶素子42及びレーザ媒質43が
設けられる構成において、レーザ媒質43より発生され
た基本波レーザ光は、上記ミラー面41Rと44Rの間
を往復しながら上記非線形光学結晶素子42に照射され
るので上記非線形光学結晶素子42で発生された第2高
調波レーザ光は、上記ミラー面41R側又は44R側の
両方向に向かう。
振器を構成するミラー面のどちらか片側に第2高調波レ
ーザ光に対して100 %反射のコーティングを施せばよい
が、2つの光束が干渉し、安定性が損なわれるので実用
的ではなく、上述したように上記ミラー面41R及び4
4Rを共に第2高調波レーザ光に対して100 %透過する
ようにしている。
レーザ光に対して100 %反射で第2高調波レーザ光に対
して100 %透過のミラーコーティングを完全に実現する
のは困難で、第2高調波レーザ光に対して数%から数十
%程度の反射が存在する。この図9は石英に施したミラ
ーコーティングの特性を示す。例えば、図9において、
波長λが532 nmの第2高調波レーザ光に対しての透過
率は約97%であり、約3%を反射してしまう。これに対
し、波長λが1064nmの基本波レーザ光に対しての反射
率は約99.91 %である。
透過するようにコーティングされたミラー面において、
1%の反射光を発生させてしまったとしても、この1%
の反射光がもう一方の第2高調波レーザ光と重なり干渉
を起こす。
第2高調波レーザ光の伝播速度が同じで、両者に分散が
なければ常に一定になる。しかしながら、空気や非線形
光学結晶素子及びレーザ媒質で分散があるので温度変化
等により、反射光の位相が変化してしまう。この位相が
変化したときの前方強度Iは、位相をw、反射光の反射
率をRとすれば、 I=|1+√Reiw|2 =1+2√Rcos w+R ・・・(1) となる。
の値に対して反射位相wが0からπまで変化したときの
強度変動の振幅(2√R)を上記(1)式により計算
し、次の表1に示す。
Rが1%でも±20%もの強度変動が発生することがわか
る。さらに、このような強度変動があると、レーザ光の
発振モードが不安定になり、モードホップノイズが発生
する。また、上記表1より、実用的に安定なレーザ光と
して、強度変動を2%以内に収めるには、反射光の反射
率Rを0.01%以内に抑える必要がある。したがって、上
記図9に示した特性を持つようなミラーコーティングが
施されたミラーでは強度変化を2%以内に収められな
い。
であり、定在波型共振器内部での光軸の両方向に発生さ
れた第2高調波レーザ光に干渉を起こさせず、安定な出
力が得られるレーザ光発生装置の提供を目的とする。
生装置は、共振器を構成する少なくとも一対の反射手段
と、上記共振器に外部から励起光を照射するレーザ光源
と、上記共振器内部に設けられて上記レーザ光源からの
励起光により基本波レーザ光を発生するレーザ媒質と、
上記共振器内部に設けられ、上記レーザ媒質からの基本
波レーザ光が上記共振器内を往復しながら共振動作され
て通過する際に第2高調波レーザ光を上記往復路の両方
向に発生する非線形光学結晶素子と、上記共振器内部に
設けられ、上記往復路の一方の方向に発生した上記第2
高調波レーザ光を略全透過するとともに上記基本波レー
ザ光を略全反射し、かつ透過しなかった第2高調波レー
ザ光の反射光と上記基本波レーザ光の光路を折曲する一
対の反射部を有する折曲手段とを備え、上記折曲手段を
上記非線形光学結晶素子から上記往復路の一方の方向に
発生して上記往復路の一方に設けられた上記共振器を構
成する一対の反射手段の内の一方の反射部により反射さ
れた上記第2高調波レーザ光の実効反射率を減衰するた
めに用い、上記往復路の一方の方向に発生した上記第2
高調波レーザ光と他方の方向に発生した上記第2高調波
レーザ光との干渉する強度を低減することにより上記課
題を解決する。
は、共振器を構成する少なくとも一対の反射手段と、上
記共振器に外部から励起光を照射するレーザ光源と、上
記共振器内部に設けられて上記レーザ光源からの励起光
により基本波レーザ光を発生するレーザ媒質と、上記共
振器内部に設けられ、上記レーザ媒質からの基本波レー
ザ光が上記共振器内を往復しながら共振動作されて通過
する際に第2高調波レーザ光を上記往復路の両方向に発
生する、上記往復路の一方の面を光軸に対して斜めに形
成された非線形光学結晶素子と、上記共振器内部に設け
られ、上記往復路の一方の方向に発生した上記第2高調
波レーザ光を略全透過するとともに上記基本波レーザ光
を略全反射し、かつ透過しなかった第2高調波レーザ光
の反射光と上記基本波レーザ光の光路を折曲する一対の
反射部を有する折曲手段とを備え、上記折曲手段を上記
非線形光学結晶素子から上記往復路の一方の方向に発生
して上記往復路の一方に設けられた上記共振器を構成す
る一対の反射手段の内の一方の反射部により反射された
上記第2高調波レーザ光の実効反射率を減衰するために
用い、上記往復路の一方の方向に発生した上記第2高調
波レーザ光と他方の方向に発生した上記第2高調波レー
ザ光との干渉する強度を低減することにより上記課題を
解決する。
きさを制限するための素子を挿入してもよい。
AG、Nd:YVO4 、LNP、Nd:BEL等が用い
られ、上記非線形光学結晶素子としては、KTP、L
N、BBO、LBO等が用いられる。
ザ共振器としては、励起光によって励起されるレーザ媒
質において発生した基本波レーザ光を共振器内部に設け
られた非線形光学結晶素子を通過するように共振動作さ
れることにより、タイプIIの第2高調波レーザ光を発生
させると共に、上記基本波レーザ光の2つの偏光モード
間の和周波発生によるカップリングを抑制して2モード
で安定な発振を行わせるための光学手段を共振器光路内
に設けたものを使用できる。この光学手段には、1/4
波長板等の複屈折性素子が使用できる。
過面からのやむをえない反射光の実効反射率を共振器内
部に設けられて第2高調波レーザ光の反射光と基本波レ
ーザ光の光路を折曲する一対の反射部を有する折曲手段
によって減衰させる。これにより、共振器内部で両方向
に発生する第2高調波レーザ光が干渉を起こすことな
く、安定な出力を得る。
の実施例の概略構成を示す構成図である。この図1にお
いて、励起光源素子としての半導体レーザ素子であるレ
ーザダイオード1から、励起光としてのレーザ光が出射
される。この励起レーザ光は、レンズ2で集光され、1
/4波長板3を介して、例えばNd:YAGを用いたレ
ーザ媒質4に入射する。上記1/4波長板3は、1064n
mの波長のレーザ光(基本波レーザ光)を略々100 %反
射し、810 nmの波長の励起光を略々100 %透過するよ
うな反射面3R(以下、反射面としているのは基本波レ
ーザ光に対しての反射面であり、第2高調波レーザ光又
は励起光に対しては透過面である)を有している。上記
レーザ媒質4は、上記励起光の入射に応じて基本波レー
ザ光を発生する。この基本波レーザ光は、該基本波レー
ザ光を折曲するように設けられた平面鏡5と、凹面鏡6
により、例えばKTP(KTiOPO4 )を用いた非線
形光学結晶素子7に導かれる。上記平面鏡5及び凹面鏡
6は、斜めに入射された1064nmの波長のレーザ光(基
本波レーザ光)を略々100 %反射し、同じく斜めに入射
された532 nmの波長の第2高調波レーザ光を略々100
%透過するようにコーティングされた平面状の反射面5
R及び凹面状の反射面6Rを有している。
タイプIIの位相整合により、上記基本波レーザ光の2倍
の周波数の第2高調波レーザ光を発生する。例えば基本
波レーザ光の波長λを1064nmとすると、第2高調波レ
ーザ光の波長はλ/2の532nmとなる。この非線形光
学結晶素子7は、上記平面鏡5及び凹面鏡6と同様に10
64nmの波長のレーザ光(基本波レーザ光)を略々100
%反射し、532 nmの波長の第2高調波レーザ光を略々
100 %透過するようにコーティングされた反射面7Rを
有している。
うに斜め入射の基本波レーザ光に対して高反射であり、
第2高調波レーザ光に対して高透過である。上記レーザ
媒質4によって発生された基本波レーザ光は、上記平面
鏡5及び凹面鏡6によって高反射され上記非線形光学結
晶素子7に入射する。上記非線形光学結晶素子7は、入
射された基本波レーザ光を反射面7Rで反射させ、上記
凹面鏡6及び平面鏡5を介して上記1/4波長板3に照
射する。したがって、上記レーザ媒質4で発生した基本
波レーザ光は、レーザ共振器を構成する反射面7Rと反
射面3Rの間を上記平面鏡5及び凹面鏡6を介して往復
進行し、レーザの発振が行われる。そして、上記非線形
光学結晶素子7の内部で、第2高調波レーザ光が発生さ
れ、反射面7Rを透過し、レーザ共振器外に向かう。こ
こで、上記反射面7Rは、上述したように第2高調波レ
ーザ光を完全に100 %透過するものではなく、上記凹面
鏡6の方向に数%〜数十%反射してしまう。しかし、上
記反射面7R、6R、5R及び3Rが第2高調波レーザ
光に対して、それぞれ、例えば、10%の反射光を生じさ
せてしまうとしても、上記反射面7Rで反射された反射
光が再び該反射面7Rに戻ってくるには、計5回の反射
が行われるので、実効反射光反射率Rは、0.001 %とな
る。したがって、一面当たり10%の反射でも、5回の反
射が繰り返されることにより、干渉が問題にならない程
度まで抑えられる。
鏡5及び凹面鏡6の2枚のミラーを共振器内の光路を折
曲するように設けて、実効反射率を減衰させ、強度変動
を抑えるものである。また、共振器内の光路中に光路を
折曲するように設けるミラーを3枚、4枚と増やせば、
さらに上記強度変動を抑えられる。また、1枚のみ設け
る場合は計3回の反射となり、1面当たり4.6 %以下の
反射であれば、実効反射率を0.01%にでき、強度変動を
2%以下に抑えられる。
置の第2の実施例の概略構成を示す構成図である。この
図2において、レーザダイオード11から、励起光とし
てのレーザ光が出射される。この励起レーザ光は、レン
ズ12で集光され、1/4波長板13を介して、例えば
Nd:YAGを用いたレーザ媒質14に入射する。上記
1/4波長板13は、1064nmの波長のレーザ光(基本
波レーザ光)を略々100 %反射し、810 nmの波長の励
起光を略々100 %透過するような反射面13Rを有して
いる。上記レーザ媒質14は、上記励起光の入射に応じ
て基本波レーザ光を発生するが、共振器内部の面14a
を光軸に対して斜めに形成している。そして、基本波レ
ーザ光は、該基本波レーザ光を折曲するように設けられ
た平面鏡15と、凹面鏡16により、例えばKTP(K
TiOPO4 )を用いた非線形光学結晶素子17に導か
れる。上記平面鏡15及び凹面鏡16は、斜めに入射さ
れた1064nmの波長のレーザ光(基本波レーザ光)を略
々100 %反射し、同じく斜めに入射された532 nmの波
長の第2高調波レーザ光を略々100 %透過するようにコ
ーティングされた平面状の反射面15R及び凹面状の反
射面16Rを有している。また、上記非線形光学結晶素
子17も共振器内部の面17aを光軸に対して斜めに形
成しいる。
子17の共振器内部の面14a及び17aを光軸に対し
て斜めに形成したのは、基本波レーザ光と第2高調波レ
ーザ光との光軸をずらすためである。例えば、図3に示
すようにレーザ媒質14の共振器内部の面14aを斜め
に形成した場合、基本波レーザ光と第2高調波レーザ光
には波長の違いによる屈折率の差(分散)が生じて光軸
がずれる。すなわち、基本波レーザ光はn方向、第2高
調波レーザ光はm方向の光軸を有することになる。上記
非線形光学結晶素子17についても同様に基本波レーザ
光の光軸と第2高調波レーザ光の光軸にずれが生じる。
の実施例の非線形光学結晶素子7と同様にタイプIIの位
相整合により、上記基本波レーザ光の2倍の周波数の第
2高調波レーザ光を発生し、上記第1の実施例のそれと
同様の特性を持つ反射面17Rを有している。
記第1の実施例のそれと同様である。すなわち、上記レ
ーザ媒質14によって発生された基本波レーザ光は、上
記平面鏡15及び凹面鏡16によって高反射され上記非
線形光学結晶素子17に入射する。上記非線形光学結晶
素子17は、入射された基本波レーザ光を反射面17R
で反射させ、上記凹面鏡16及び平面鏡15を介して上
記1/4波長板13に照射する。したがって、上記レー
ザ媒質14で発生した基本波レーザ光は、レーザ共振器
を構成する反射面17Rと反射面13Rの間を上記平面
鏡15及び凹面鏡16を介して往復進行し、レーザの発
振が行われる。そして、上記非線形光学結晶素子17の
内部で、第2高調波レーザ光が発生され、反射面17R
を透過し、レーザ共振器外に向かう。ここで、上記反射
面17Rは、上述したように第2高調波レーザ光を完全
に100 %透過するものではなく、上記凹面鏡16の方向
に数%〜数十%反射してしまう。しかし、上記反射面1
7R、16R、15R及び13Rが第2高調波レーザ光
に対して、例えば、それぞれ10%の反射光を生じさせて
しまうとしても、上記反射面17Rで反射された反射光
が再び該反射面17Rに戻ってくるには、計5回の反射
が行われるので、実効反射光反射率Rは、0.001 %とな
る。したがって、一面当たり10%の反射でも、5回の反
射が繰り返されることにより、干渉が問題にならない程
度まで抑えられる。
ように、上記レーザ媒質14及び非線形光学結晶素子1
7の共振器内部の面14a及び17aを光軸に対して斜
めに傾けて形成しているので、基本波レーザ光と第2高
調波レーザ光との光軸にずれが生じ、このずれが2倍に
なり、反射光がもう一方の第2高調波レーザ光に対して
ずれてくるので干渉強度が低減される。
鏡15及び凹面鏡16の2枚のミラーを共振器内の光路
を折曲するように設けて、実効反射率を減衰させ、強度
変動を抑え、さらに、上記レーザ媒質14及び非線形光
学結晶素子17の共振器内部の面14R及び17Rを光
軸に対して斜めに形成し、基本波レーザ光と第2高調波
レーザ光との光軸にずれを生じさせ、第2高調波同士の
干渉を低減させている。
置の第3の実施例の概略構成を示す構成図である。この
図4において、レーザダイオード21から、励起光とし
てのレーザ光が出射される。この励起レーザ光は、レン
ズ22で集光され、1/4波長板23を介して、例えば
Nd:YAGを用いたレーザ媒質24に入射する。上記
1/4波長板13は、1064nmの波長のレーザ光(基本
波レーザ光)を略々100 %反射し、810 nmの波長の励
起光を略々100 %透過するような反射面23Rを有して
いる。上記レーザ媒質24は、上記励起光の入射に応じ
て基本波レーザ光を発生するが、共振器内部の面24a
を光軸に対して斜めに形成している。そして、基本波レ
ーザ光は、光路中の一方に設けられて光束の大きさを制
限するための素子(以下アパーチャという)28を介
し、平面鏡25と、凹面鏡26により折曲され、光路中
の他方に設けられたアパーチャ29を介して、例えばK
TP(KTiOPO4 )を用いた非線形光学結晶素子2
7に導かれる。上記平面鏡25及び凹面鏡26は、斜め
に入射された1064nmの波長のレーザ光(基本波レーザ
光)を略々100 %反射し、同じく斜めに入射された532
nmの波長の第2高調波レーザ光を略々100 %透過する
ようにコーティングされた平面状の反射面25R及び凹
面状の反射面26Rを有している。また、上記非線形光
学結晶素子27も共振器内部の面27aを光軸に対して
斜めに形成しいる。
子27の共振器内部の面24a及び27aを光軸に対し
て斜めに形成したのは、上記第2の実施例と同様に基本
波レーザ光と第2高調波レーザ光の光軸をずらすためで
ある。
の実施例の非線形光学結晶素子7と同様にタイプIIの位
相整合により、上記基本波レーザ光の2倍の周波数の第
2高調波レーザ光を発生し、上記第1の実施例のそれと
同様の特性を持つ反射面27Rを有している。
記第1の実施例のそれと同様である。すなわち、上記レ
ーザ媒質24によって発生された基本波レーザ光は、上
記平面鏡25及び凹面鏡26によって高反射され上記非
線形光学結晶素子27に入射する。上記非線形光学結晶
素子27は、入射された基本波レーザ光を反射面27R
で反射させ、上記凹面鏡26及び平面鏡25を介して上
記1/4波長板23に照射する。したがって、上記レー
ザ媒質24で発生した基本波レーザ光は、レーザ共振器
を構成する反射面27Rと反射面23Rの間を上記平面
鏡25及び凹面鏡26を介して往復進行し、レーザの発
振が行われる。そして、上記非線形光学結晶素子27の
内部で、第2高調波レーザ光が発生され、反射面27R
を透過し、レーザ共振器外に向かう。ここで、上記反射
面27Rは、上述したように第2高調波レーザ光を100
%透過するものではなく、上記凹面鏡16の方向に数%
〜数十%反射してしまう。しかし、上記反射面27R、
26R、25R及び23Rが第2高調波レーザ光に対し
て、例えば、それぞれ10%の反射光を生じさせてしまう
としても、上記反射面27Rで反射された反射光が再び
該反射面27Rに戻ってくるには、計5回の反射が行わ
れるので、実効反射光反射率Rは、0.001 %となる。し
たがって、一面当たり10%の反射でも、5回の反射が繰
り返されることにより、干渉が問題にならない程度まで
抑えられる。
うに、上記レーザ媒質24及び非線形光学結晶素子27
の共振器内部の面24a及び27aを光軸に対して斜め
に傾けているので、基本波レーザ光と第2高調波レーザ
光の光軸にずれが生じ、このずれが2倍になり、反射光
がもう一方の第2高調波レーザ光に対してずれてくるの
で干渉強度が低減される。
4及び非線形光学結晶素子27からの反射光がもう一方
の第2高調波レーザ光と重なっておこす干渉を低減させ
るために、上記レーザ媒質24及び非線形光学結晶素子
27の共振器内部の面24a及び27aを光軸に対して
傾けているのであるが、これら斜めに形成された面24
a及び27aは基本波レーザ光に対して無反射コーティ
ングが施されいる。この無反射コーティングの残留反射
(典型的には0.1 %程度)により基本波レーザ光が斜め
方向に反射され、その斜め方向に反射された反射光(破
線で示す)が共振器内で迷光となり、レーザ光の高次モ
ードを励起し出力の安定性を損なう虞れがある。
ように、光路中の一方にアパーチャ28、他方にアパー
チャ29を挿入し、上記迷光を除去し、出力の安定性を
得るようにしている。
鏡25及び凹面鏡26の2枚のミラーを共振器内の光路
を折曲するように設けて、実効反射率を減衰させ、強度
変動を抑え、さらに、上記レーザ媒質24及び非線形光
学結晶素子27の共振器内部の面24R及び27Rを光
軸に対して斜めに形成し、基本波レーザ光と第2高調波
レーザ光との光軸にずれを生じさせ、第2高調波同士の
干渉を低減させているうえ、このときに発生する迷光を
アパーチャ28及び29により除去し、安定な出力を得
るようにしている。
に用いられているが、この第3の実施例では、横モード
の選択に用いられるより十分大きな幅でも効果がある。
また、円形のアパーチャでなく縦型スリットでも効果が
あり、従来の横モードの選択のアパーチャとは異なる。
また、スリットを用いるときは一次元のめの調整となる
ので容易である。
置の第4の実施例の概略構成を示す構成図である。この
図5において、レーザダイオード31から、励起光とし
てのレーザ光が出射される。この励起レーザ光は、レン
ズ32で集光され、1/4波長板33を介して、例えば
Nd:YAGを用いたレーザ媒質34に入射する。上記
1/4波長板33は、1064nmの波長のレーザ光(基本
波レーザ光)を略々100 %反射し、810 nmの波長の励
起光を略々100 %透過するような反射面33Rを有して
いる。上記レーザ媒質34は、上記励起光の入射に応じ
て基本波レーザ光を発生するが、共振器内部の面34a
を光軸に対して斜めに形成している。そして、基本波レ
ーザ光は、光路中に光軸よりずれた角度で設けられた後
述する光学素子35を透過し、例えばKTP(KTiO
PO4 )を用いた非線形光学結晶素子36に導かれる。
上記非線形光学結晶素子36も共振器内部の面36aを
光軸に対して斜めに形成いる。また、上記非線形光学結
晶素子36は、基本波レーザ光を略々100 %反射し、53
2 nmの波長の第2高調波レーザ光を略々100 %透過す
るような反射面36Rを有している。
の実施例の非線形光学結晶素子7と同様にタイプIIの位
相整合により、上記基本波レーザ光の2倍の周波数の第
2高調波レーザ光を発生する。
で挿入されており、基本波レーザ光を略々100 %透過
し、第2高調波レーザ光を略々100 %光軸よりずれた角
度で反射する特性を有する。また、上記光学結晶素子3
5は、第2高調波レーザ光を略々100 %吸収する特性を
有するものでもよい。
りずれた角度で挿入された上記光学素子35が上記非線
形光学結晶素子36からの第2高調波レーザ光の反射光
を光軸よりずれた角度で高反射又は吸収することによ
り、第2高調波レーザ光同士の干渉を低減できる。
34及び非線形光学結晶素子36の共振器内部の面34
a及び36aを光軸より傾けているため、第2高調波レ
ーザ光は光軸よりずれた角度で反射される。このとき、
上記面34a及び36aには、基本波レーザ光に対して
無反射コーティングが施されている。基本波レーザ光に
対して無反射コーティングであり、第2高調波レーザ光
に対してなるべく高反射であれば、第2高調波レーザ光
同士の干渉効果を低減できる。基本波レーザ光に対して
無反射コーティングを重視しながら数層の誘電体膜によ
り50%程度の第2高調波レーザ光に対する反射膜は実現
可能であり、このような面が2面あれば(例えば、上記
非線形光学結晶素子36とレーザ媒質34の光軸に対し
ての斜めの面)往復で干渉に寄与する反射光の透過率が
6.3 %となる。
ザ光に対する各1/4波長板を同時に第2高調波レーザ
光に対しても1/4波長板となるようにすれば、偏光面
が往復で90°回転するため、直交する偏光は干渉しない
ので、干渉効果を低減できる。
質をNd:YAGとしているが、Nd:YVO4 、LN
P等でもよい。また、各非線形光学結晶素子をKTPと
しているが、タイプI 、タイプIIに限らずLBO、Li
NbO3 、BBO、KNbO3 等の第2高調波レーザ発
生可能な非線形光学結晶素子でもよい。
ーザ光を発生する共振器内部型だけでなく、定在波共振
器内に非線形光学結晶素子がある外部共振型のレーザ発
光装置にも本発明は有効である。
形光学結晶素子から往復路の一方の方向に発生して往復
路の一方に設けられた一対の反射手段の内の一方の反射
部(ミラー)により反射された第2高調波レーザ光を、
一対の反射部を有する折曲手段が折曲しながら、第2高
調波レーザ光の実効反射率を減衰するので、往復路の他
方に発生した第2高調波レーザ光と干渉する強度を低減
でき、共振器内部で両方向に発生する第2高調波レーザ
光に干渉を起こさせず、安定な出力を得ることができ
る。
の共振器内部の面を光軸に対して斜めに形成することに
より、基本波レーザ光と第2高調波レーザ光との光軸に
ずれを生じさせて第2高調波同士の干渉を起こさせず、
安定な出力を得る。
きさを制限するための素子を挿入することにより、迷光
を除去し、安定な出力を得る。
と、上記レーザ媒質と、上記非線形光学結晶素子と、上
記共振器内部に高調波レーザ光を光軸よりずれた角度で
高反射又は吸収する光学素子を挿入することにより、第
2高調波同士の干渉を起こさせず、安定な出力を得る。
の概略構成を示す構成図である。
るための図である。
ある。
素子の方位角の説明図である。
光の干渉を説明するための図である。
特性図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 共振器を構成する少なくとも一対の反射
手段と、 上記共振器に外部から励起光を照射するレーザ光源と、 上記共振器内部に設けられて上記レーザ光源からの励起
光により基本波レーザ光を発生するレーザ媒質と、 上記共振器内部に設けられ、上記レーザ媒質からの基本
波レーザ光が上記共振器内を往復しながら共振動作され
て通過する際に第2高調波レーザ光を上記往復路の両方
向に発生する非線形光学結晶素子と、 上記共振器内部に設けられ、上記往復路の一方の方向に
発生した上記第2高調波レーザ光を略全透過するととも
に上記基本波レーザ光を略全反射し、かつ透過しなかっ
た第2高調波レーザ光の反射光と上記基本波レーザ光の
光路を折曲する一対の反射部を有する折曲手段とを備
え、上記折曲手段を 上記非線形光学結晶素子から上記往復路
の一方の方向に発生して上記往復路の一方に設けられた
上記共振器を構成する一対の反射手段の内の一方の反射
部により反射された上記第2高調波レーザ光の実効反射
率を減衰するために用い、上記往復路の一方の方向に発
生した上記第2高調波レーザ光と他方の方向に発生した
上記第2高調波レーザ光との干渉する強度を低減するこ
とを特徴とするレーザ光発生装置。 - 【請求項2】 共振器を構成する少なくとも一対の反射
手段と、 上記共振器に外部から励起光を照射するレーザ光源と、 上記共振器内部に設けられて上記レーザ光源からの励起
光により基本波レーザ光を発生するレーザ媒質と、 上記共振器内部に設けられ、上記レーザ媒質からの基本
波レーザ光が上記共振器内を往復しながら共振動作され
て通過する際に第2高調波レーザ光を上記往復路の両方
向に発生する、上記往復路の一方の面を光軸に対して斜
めに形成された非線形光学結晶素子と、 上記共振器内部に設けられ、上記往復路の一方の方向に
発生した上記第2高調波レーザ光を略全透過するととも
に上記基本波レーザ光を略全反射し、かつ透過しなかっ
た第2高調波レーザ光の反射光と上記基本波レーザ光の
光路を折曲する一対の反射部を有する折曲手段とを備
え、上記折曲手段を 上記非線形光学結晶素子から上記往復路
の一方の方向に発生して上記往復路の一方に設けられた
上記共振器を構成する一対の反射手段の内の一方の反射
部により反射された上記第2高調波レーザ光の実効反射
率を減衰するために用い、上記往復路の一方の方向に発
生した上記第2高調波レーザ光と他方の方向に発生した
上記第2高調波レーザ光との干渉する強度を低減するこ
とを特徴とするレーザ光発生装置。 - 【請求項3】 上記共振器内部の光路中に上記第2高調
波レーザ光の迷光を除去する迷光除去手段を設けること
を特徴とする請求項2記載のレーザ光発生装置。 - 【請求項4】 上記折曲手段が有する一対の反射部のい
ずれか一方は、凹面鏡であることを特徴とする請求項1
又は2記載のレーザ光発生装置。
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JP19457492A JP3475431B2 (ja) | 1992-06-30 | 1992-06-30 | レーザ光発生装置 |
DE69331788T DE69331788T2 (de) | 1992-06-19 | 1993-06-17 | Laserstrahlgenerator |
EP96114188A EP0749186B1 (en) | 1992-06-19 | 1993-06-17 | Laser beam generator |
EP93109710A EP0574921B1 (en) | 1992-06-19 | 1993-06-17 | Laser beam generator |
DE69331453T DE69331453T2 (de) | 1992-06-19 | 1993-06-17 | Vorrichtung zur Erzeugung von Laserstrahlen |
US08/693,014 US5675593A (en) | 1992-06-19 | 1996-08-06 | Laser beam generator |
US08/944,457 US5909456A (en) | 1992-06-19 | 1997-10-06 | Laser beam generator |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19457492A JP3475431B2 (ja) | 1992-06-30 | 1992-06-30 | レーザ光発生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0621553A JPH0621553A (ja) | 1994-01-28 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP19457492A Expired - Lifetime JP3475431B2 (ja) | 1992-06-19 | 1992-06-30 | レーザ光発生装置 |
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JP (1) | JP3475431B2 (ja) |
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---|---|---|---|---|
JP3998067B2 (ja) | 2004-11-29 | 2007-10-24 | オムロンレーザーフロント株式会社 | 固体レーザ発振器 |
-
1992
- 1992-06-30 JP JP19457492A patent/JP3475431B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0621553A (ja) | 1994-01-28 |
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