JP3474599B2 - 超高珪素電磁鋼板の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【産業上の利用分野】本発明は、軟磁性材料として電気
機器の鉄心に用いられる超高珪素電磁鋼板のスラブ加熱
方法に関するもので、特に加熱炉の雰囲気を制御するこ
とにより、表面酸化物（以下スケールという）を改質し
付着したままで圧延を行えるようにし、かつ得られた製
品の占積率と磁性が優れている超高珪素電磁鋼板を安定
して製造する方法に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】Ｓｉを含有する鋼板は優れた軟磁気特性
を有するため、電力用変圧器あるいは回転機の鉄心とし
て用いられている。この種軟磁性材料においては、Ｓｉ
含有量が増加すると鉄損特性が向上する（鉄損値が低く
なる）。特に、Ｓｉ含有量が６．５％近傍では鉄損特性
が良好である上に磁歪が零に近づくところから、透磁率
も一段と向上し、従来にない新しい機能をもつ磁性材料
となり得る。最近、省エネルギーを目的として、鉄損値
が低くかつ電気機器の多様な磁気特性上の要求を満足せ
しめ得る新しい材料として、Ｓｉを６．５％あるいはそ
の近傍含有する超高珪素電磁鋼板が見直され始めた。 【０００３】しかしながら、超高珪素電磁鋼板は極めて
脆いため、工業的に量産する上で多くの問題があり、い
まだ実用されるに至っていない。超高珪素電磁鋼板をス
トリップの状態で処理し工業的量産を行うには、通常の
電磁鋼板製造プロセスのように、熱間圧延板を酸洗によ
ってスケールを除去後冷間圧延することが望ましいが、
超高珪素電磁鋼板は室温での伸びが０．５％程度しかな
く、２．０mm前後の熱延板をライン破断することなく安
定的に酸洗ラインを通板することはかなり難しい。 【０００４】また、板温度が１５０℃以上あれば伸びは
１５％程度あるが、酸洗ライン全長にわたり板温度１５
０℃に保つことは不可能である。そこでスケールが付着
したままで圧延を行いある程度板厚が薄く（酸洗ライン
が常温で通板できる板厚に）なったところで酸洗を行う
ことが、工業的に量産する上で必須となる。 【０００５】従来の知見によれば、例えば特公昭５９−
２８９号公報、特公昭６０−４０９２１号公報に開示さ
れているように、表面にスケールが付着したままの熱間
圧延板を直接的に圧延するとスケールが破砕、剥離して
問題となりこれまで工業的量産規模でかかる冷間圧延は
行われていない。 【０００６】スケールについて提案された技術として
は、特開昭６０−１４５３１８号、特開昭６１−６９９
２７号、特開昭６１−６９９２４号および特開昭６２−
１３０２１９号各公報に開示の技術がある。これらの技
術はいずれも高温スラブ加熱時の炉内の酸素濃度を低く
することによって酸化減量を少なくすること、あるいは
高温酸化に伴う疵の発生防止を目的としている。 【０００７】例えば特開昭６０−１４５３１８号公報に
は、高温加熱時にはスラブ表面に大量のノロが生成し、
加熱炉の操業性を損なうばかりでなく表面疵発生をもた
らすことから、それを防止する方法として、スラブ表面
温度が１２５０℃以上において、加熱雰囲気中のＯ₂ 濃
度を１％以下にすること、またガス燃焼型炉での加熱温
度の上限を１２３０℃にすべきことが提案されている。
また、特開昭６１−６９９２７号公報では、ノロの大量
発生による炉壁熔損や歩留まり低下、高温加熱中のスラ
ブ表面の粒界酸化によるホットコイル耳割れ、スラブ表
面の脱炭に基因する最終製品の磁性劣化、さらにはスラ
ブ柱状晶の粗大化などの防止を目的として、電気的加熱
炉での加熱は、温度を１３１０〜１３５０℃、雰囲気は
非酸化性に限定すること、そして燃料燃焼炉での均熱温
度の上限は１２５０℃にすべきことが提案されている。 【０００８】さらに特公昭６１−６９９２４号公報で
は、誘導加熱方式でスラブを高温に加熱した場合スラブ
表面温度が１３２５℃を超えると熔損が始まるので、１
３２５℃以上ではＯ₂ 濃度を１０％以下に制御すべきで
あることを提案している。そしてその実施例には、加熱
温度：１３５０℃でＯ₂ 濃度：１０％以下および加熱温
度：１３７０℃でＯ₂ 濃度：１％以下の例が示されてい
る。また、さらに特開昭６２−１３０２１９号公報で
は、歩留まり低下や加熱炉操業に重大な支障をきたす熔
融状態のスラグの発生を防止するために、雰囲気中のＯ
₂ 濃度を次式、Ｏ₂ （％）＝３６．４−５．０１nT
（℃）以下にすることを提案している。そしてその具体
的な値としては１３００℃で０．５５％以下、１３５０
℃で０．３６％以下、１４００℃で０．１８％以下の範
囲が示されているが、これはＯ₂ 濃度を下げればこの成
分で熔融スラグが発生しにくくなるという熱力学的事項
を数式化したものである。 【０００９】これらの技術は、スラブ加熱時の炉内の酸
素濃度を低くすることによって酸化減少量を少なくする
こと、あるいは高温酸化に伴う疵の発生防止を目的とし
たものであり、加熱炉内の雰囲気制御により、冷間圧延
しても破砕、剥離しないでかつその後の酸洗で除去しや
すいスケールを生成させることを目的としたものではな
い。 【００１０】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、極めて脆い
超高珪素電磁鋼板をスケールが付着したままで冷間圧延
を可能ならしめ、工業的量産を可能ならしめると同時
に、優れた占積率と磁性が得られる製造方法を提供する
ことを目的とするものである。 【００１１】 【課題を解決するための手段】本発明の要旨は次の通り
である。 （１）重量比でＳｉ：４．５〜７．１％、残部Ｆｅおよ
び不可避的不純物からなる材料を、Ｏ ₂ 濃度が３％以下
の雰囲気中で１１００℃を超え１２５０℃以下の温度域
に１０分〜１２０分加熱して熱間圧延を施した後、表面
酸化物が付着したままの状態で板温度：１５０℃〜７５
０℃の温度域で圧延し、次いで酸洗により表面酸化物を
除去し、焼鈍し、４〜５８％の圧下率で酸洗前の圧延に
おける圧延温度が高い程高圧下率になる冷間圧延を行
い、しかる後に再結晶および粒成長のための焼鈍を施す
ことを特徴とする超高珪素電磁鋼板の製造方法。 【００１２】以下本発明を詳細に説明する。極めて脆い
超高珪素電磁鋼板を工業的に量産するに際して解決され
ねばならない技術的課題は、スケールが付着したままで
圧延を可能とすることである。そのためには地鉄と密着
性が良くかつ圧延後の酸洗で落ち易いスケール構造とす
ることである。 【００１３】通常の電磁鋼板製造プロセスにおいては、
熱間圧延板は酸洗によって表面スケールを除去された後
冷間圧延される。発明者等は、例えば酸洗ラインに安定
してストリップを通板できるようにすべく熱間圧延板を
直接的に冷間圧延することを考えた。そこで、発明者等
は、表面にスケールが付着したままの熱間圧延板を直接
的に圧延してみた。材料（ストリップ）温度をわずか１
５０℃程度まで高めることによって、Ｓｉを６．５％前
後含有する超高珪素電磁鋼の場合、スケールの破砕、剥
離を全く生じることなく冷間圧延することができた。本
発明者等は、超高珪素電磁鋼板ストリップを１５０℃〜
４５０℃の温度域で圧延すると、熱間圧延表面のスケー
ルが全く剥離することなく圧延できるという画期的な現
象を発見した。 【００１４】以下、この知見について詳細に説明する。
重量比で、Ｓｉ：６．５％、Ｃ：０．００３％、Ｍｎ：
０．１６％、Ｐ：０．００５％、Ｓ：０．００１％、to
tal Ｎ：０．００１３％、残部：実質的にＦｅからなる
５０kg鋼塊を加熱炉Ｏ₂ 濃度２％、１２００℃で加熱し
た後熱間圧延し、１０パスで１．８mm厚さとした（Ａコ
イル）。比較のため加熱炉Ｏ₂ 濃度１５％、１２００℃
で加熱した後熱間圧延し１０パスで１．８mm厚さに仕上
げた（Ｂコイル）。 【００１５】このＡ，Ｂ２コイルについてスケールが付
着したままで材料温度：１）室温（約２３℃）、２）１
５０℃、３）２７０℃、４）４４０℃で圧延した。この
ときの材料（ストリップ）のスケールの剥離程度を表１
に示す。 【００１６】Ａコイルは、室温で圧延したものはスケー
ルの破砕、剥離が甚だしく、剥落したスケールが圧延油
を混入したり圧延ロールに付着したりして、圧延材表面
に疵を発生するなどの問題を生じた。しかし、圧延温度
を１５０℃，２７０℃，４４０℃と高めていくと、スケ
ールの破砕、剥離は全くなく、圧延は順調に行われた。 【００１７】Ｂコイルは、室温で圧延したものは、スケ
ールの破砕、剥離が甚だしく、スケール層が厚い分温度
を上げても一部剥離が見られる。このように、加熱炉の
Ｏ₂濃度を制御することにより材料にスケールが付着し
たままで、スケールを破砕、剥離せしめることなく圧延
することができるという知見は、全く知られておらず新
規な知見である。以上のように通常行われている程度の
温度域の１５０℃〜４５０℃で圧延を行えば、スケール
付き状態でもスケール破砕もなく圧延できることがわか
った。 【００１８】 【表１】 【００１９】Ｓｉは、本発明の目的が製品の磁歪が最小
となる略６．５％Ｓｉ鋼の薄板厚製品を工業的に製造し
得るプロセスの確立にあることに鑑み、Ｓｉ含有量は
６．５％を中心に若干の上下幅をもつ範囲内であればよ
い。しかして、Ｓｉ含有量の下限は、従来市販されてい
ない珪素鋼板の範囲である４．５％とし、可及的に６．
５％に近い値が好ましい。 【００２０】一方、Ｓｉ含有量が７．１％を超えると、
材料の加工性が急激に劣化するにも拘らず、得られる製
品の磁気特性はそれ以上は向上しない。上記以外の成分
は、特に限定しない。溶鋼は鋳造され、熱間圧延され
る。鋳造に関して、本発明においては特に限定はなく、
一般的な方法を用いることができる。 【００２１】ところで、このように温間圧延で伸びるス
ケール生成および構造について説明する。鉄が高温で酸
素、空気などのガスに接触する際、その表面に反応生成
物の皮膜（スケール）が生成する。まず酸素が鉄表面に
活性化吸着し、鉄表面は正に、酸素は負にイオン化し、
この結果生じる電場の作用により極めて薄い酸化皮膜を
形成する。そこで発明者等は、高温で形成されるスケー
ル構造がどのようになるか調査した。大部分はウスタイ
ト（ＦｅＯ）となり、そのうえにマグネタイト（Ｆｅ₃
Ｏ₄ ）、ヘマタイト（Ｆｅ₂ Ｏ₃ ）の組成となる。ほぼ
６００℃よりウスタイトが形成され、スケールの厚さの
大部分がウスタイトである。 【００２２】高珪素含有鋼は、７００〜９００℃の加熱
では、非晶質のＳｉＯ₂ 薄層が、１０００℃以上では２
ＦｅＯ・ＳｉＯ₂ （ファイアライト）が形成され、これ
らが耐酸化保護膜として作用する。Ｓｉが６．５％含有
したところでは、１０００℃における酸化量は、Ｓｉが
含まれないものと比較すると約１／１００に減少する。
しかし、ファイアライトとウスタイトの共晶温度１１０
０℃超の高温では溶融相が生じ、イオンの移動度が極め
て大きくなるため耐酸化性は、甚だしく劣化する。 【００２３】さらに、その機械特性を調査した。スケー
ルの機械的性質は、厚さの影響を強く受け、一般的に
は、厚さが薄い方が強固となることが知られている。金
属が酸化物を生成する場合、その酸化物の容積とその酸
化物に含まれる金属原子の容積の比が１に近いほど生じ
る応力は小さくなり、密着性が増すということが知られ
ている。鉄の酸化物の場合には、この比は１以上とな
り、したがって圧縮応力が働いていることが予測され
る。一方、温度変化に起因する熱応力についても、一般
的には、金属とその酸化物の熱膨張係数の比が１に近い
ほど密着性に対して有利になると考えられている。鉄の
スケールではこの比がＦｅ−ＦｅＯ間では０．８４とそ
の条件をかなり満たしている。 【００２４】親和力がＦｅより大きい元素の場合は元素
の方が優先的に酸化を受け、その元素の外方拡散が酸素
の内方拡散より速い場合には選択酸化が、逆の場合に
は、内部酸化が生じる。このような選択酸化、内部酸化
は結晶粒界で生じやすく、そのためＳｉを多量に含む鋼
においては、サブスケールが粒界にそって深く侵入して
いる組織を呈する。 【００２５】このように機械的特性と密着性に及ぼす影
響を整理すると高Ｓｉ含有鋼は、特にＳｉは、酸素との
親和力が大きいため選択酸化あるいは内部酸化によっ
て、スケールと素地の界面が複雑に入り組んだ構造とな
り、スケールの密着性が良好となる。さらに高Ｓｉ含有
鋼においてファイアライトが生成した場合である。ファ
イアライトは低温においては、非常に脆いため、常温に
おける固着力を低下させるが、ウスタイトとの共晶温度
以上の高温で溶融相が生じた場合には極めて剥離しにく
くなる。その理由は、溶融相が機械的な剥離応力を分
散、緩和させるためであると考える。 【００２６】そこでこれらの改善条件を明確にするため
の詳細な実験を続け最終的に以下の条件を得た。加熱に
おいてＯ₂ 濃度を低くしてスケール厚みを薄くすること
が重要である。Ｏ₂ 濃度に関してはスラブ表面のガス流
速にも依存するが、Ｏ₂ 濃度を変えて、１２００℃×３
０分加熱したときのスケール厚さを図１に示す。Ｏ₂ 濃
度が３％以下であるとスケールが極端に薄くなることが
判明した。 【００２７】すなわち、圧延が可能となるスケールとす
るためには、１０００℃〜１２５０℃までの加熱で薄い
ファイアライトを生成させることが重要である。そのた
めに加熱炉雰囲気をＯ₂ 濃度３％以下とすることを見い
出した。図１に示すようにＯ₂ 濃度３％以下とするとス
ケール厚さが極端に薄くなり耐酸化保護膜となることが
わかる。さらにウスタイトとの共晶温度（１１００℃）
以上にして溶融相を形成し、剥離しにくいスケールをつ
くることが重要である。 【００２８】溶融相が生じるとイオンの移動度が極めて
大きくなるためそのときの加熱炉のＯ₂ 濃度を極力低減
することが望ましい。この発明では、スラブの加熱にお
いては、誘導加熱炉や電気抵抗炉などの電気的加熱炉で
行うのが好ましい。通常誘導加熱炉や電気抵抗炉などの
電気的加熱炉の雰囲気は、Ｏ₂ 濃度０．３％以下となっ
ている。すなわちＯ₂ 濃度を低める理由は、前掲図１に
も示したとおり、１１００℃以上に加熱したときの酸素
濃度が高くなるとスケール層が厚くなり、スケールが付
着したままでの圧延がしにくくなるためである。 【００２９】スラブの最終的な中心加熱温度は、１１０
０℃を超え１２５０℃以下である。加熱温度が１１００
℃未満では、熱間圧延が不可能となる。一方加熱温度が
１２５０℃を超えると材料に過大な粒成長を生じる。ま
た、均熱時間については、ファイアライトの生成に必要
な下限が１０分であり、長すぎるとファイアライトが厚
くなりすぎて密着性が劣化するので上限を１２０分と規
定した。 【００３０】次に酸洗性であるが、一般熱延鋼板の酸洗
液は、硫酸に代わって塩酸が主に用いられている。これ
は、塩酸の方が硫酸に比べて約１．５倍の酸洗能力があ
り、また酸洗仕上げ面がきれいであるなどの利点がある
ためである。ファイアライトは、成瀬，杉村：窯業協会
誌，６１（１９５３），Ｐ．２４７にあるように塩酸に
溶けやすいことが明記されており、超高珪素鋼板ででき
たスケールは、ファイアライトであるため容易に塩酸酸
洗ができ、板厚が薄くなったところで通常酸洗ラインを
通板することが可能である。 【００３１】ところで、このスケールの厚みであるが、
２，３mm厚の熱延板で２５μｍ超であり、０．３mm厚の
製品にすると３．３μｍにもなる。このままで絶縁性確
保の点からは特に問題ではないが、磁気特性の点からは
問題である。すなわち、鋼板を積層してコアーとなした
場合に実質的に磁束の通る鉄分の割合（占積率）が減少
し、磁気特性として問題である。 【００３２】そこで、このスケールを除去し、その後に
塗布量を制御した薄い絶縁被膜を塗布することが占積率
を上げ、磁性を向上させるために有効である。スケール
を除去する方法として酸洗法が一般的であり、本発明で
もこの酸洗法を採用することができる。そこで、スケー
ル付き冷間圧延した後に、酸洗を行ったところ、その表
面粗度が冷間圧延時の温度に対応して粗くなることを見
い出した。 【００３３】図２は２．０mm厚の熱延板を各種温度でス
ケール付きで０．３mmに圧延した後に、フッ酸でスケー
ルを除去した後の表面粗度（Ｒ_a ，Ｒ_max ）に及ぼす圧
延温度の影響を示す。この図から、酸洗前の圧延におけ
る圧延温度が高くなると表面粗度が大きくなり、特に７
５０℃を超える温度から急激に粗くなることが分かる。
この圧延温度と鋼板表面粗度との関係は、圧延温度下で
の硬度変化がスケールと鋼板母材との間で異なるためと
思われる。 【００３４】図３は、スケールを除去した状態と、スケ
ールの付いた状態との鋼板母材の表面から測定した硬度
の温度による変化を示す。７５０℃までは母材の硬度は
スケールより大きく、７５０℃を超えると母材の硬度は
スケールと同じ程度に急激に小さくなる。このため、７
５０℃程度までは圧延によってスケールが鋼板母材中に
食い込むことはないが、この温度を超えると母材中にス
ケールが食い込み、酸洗後の表面粗度が粗くなったもの
と考えられる。 【００３５】ところで、鋼板表面粗度が大きくなると、
容易に予想できるように鋼板を積層してコアーを作成し
た時に鋼板間に隙間が生じ、実質的な鉄分の割合が急激
に大きくなるまでの、７５０℃以内の圧延温度を本発明
の必須な構成条件とした。特に、４５０℃以内である
と、一般的な冷間圧延技術の範囲で略圧延が行えるので
有利である。 【００３６】上述のように、１５０℃以上であれば圧延
破断もなく、スケール破砕もなく圧延可能であり、そし
て７５０℃以下であればその酸洗後の表面粗度の小さい
ことが明らかになった。しかし、その表面粗度は通常、
＃１０００程度の砥石で研磨した圧延ロールを用いて圧
延した鋼板表面粗度である１μ以下のＲ_a に比べ大き
い。 【００３７】そこで、本発明者等はこの酸洗後の鋼板を
通常の冷間圧延を行い、さらに良い占積率を得ることに
成功した。しかも、この圧延時の圧下率をできるだけ小
さく選ぶこと、すなわち１５０℃〜７５０℃での圧延を
最終板厚近くまですることが、この表面粗度改善のため
の圧延時の生産効率アップと圧延の破断防止、さらに酸
洗時の板通板の安定性に有効である。これは、板破断の
ない温間で薄くまで圧延しておけば、曲げに強いので、
室温でも圧延時の割れが少なく、また酸洗時の板破断が
なく、高速での通板が可能になるためである。 【００３８】図４は種々の温度で圧延した鋼板を、酸洗
後に圧下量を変えて＃１０００の砥石で研磨した圧延ロ
ールを用いて室温で圧延した時の表面粗度（Ｒ_a ，Ｒ
_max ）を示した。酸洗前の圧延における圧延温度が１５
０℃の場合は４％、４５０℃の場合は２５％、７５０℃
の場合は５８％の圧下量で圧延を行えば、Ｒ_a が１μｍ
以下の平滑な圧延ロールと同等な表面粗度状態が得られ
る。７５０℃を超えた場合にはその後の冷間圧延を行っ
ても、Ｒ_max は中々下がらず、線状の疵の模様が残存す
る。 【００３９】したがって、本発明では圧延ロールの表面
の仕上がり状態に対応した表面が得られ、結果として最
高の占積率が達成できる、酸洗前の圧延における圧延温
度が１５０℃〜７５０℃では４〜５８％の圧下率を構成
条件とした。なお、酸洗後の鋼板は再結晶を目的とした
焼鈍を行うことにより、鋼板を軟かくしておくと、その
後の冷間圧延で表面粗さを平滑にし易い。この焼鈍条件
としては７８０℃〜１０００℃で、低温度では長時間、
高温度では短時間行う必要がある。 【００４０】この時に、酸洗前の圧延における圧延温度
が高い程、すなわち、酸洗後の表面粗度が大きくなる
程、その後の圧延で圧下量を大きくする必要がある。圧
延温度は鋼板が薄くなっているので、特に高くする必要
はない。傾向として温度を上げた程、圧延歩留まりは良
くなるが、その差は僅かである。このように表面粗度改
善を狙った圧延をした後に、８００℃〜１０２０℃の温
度域で焼鈍し、再結晶と粒成長を行って製品とする。焼
鈍時間は温度が低い時は長く、温度が高い時は短くな
り、３０秒間〜３時間程度が採用される。また、通常は
表面に絶縁抵抗を持たせるために、この焼鈍過程の前、
あるいは後に薄い絶縁コーティングが施される。 【００４１】 【実施例】（実施例１） Ｃ：０．００４％、Ｓｉ：６．５３％、Ｍｎ：０．１９
％、Ｓ：０．００１％、Ｎ：０．００１７％を含有し残
部Ｆｅおよび不可避的不純物を含む５０kgインゴットを
作成し、雰囲気中のＯ₂ 濃度を変化させたガス燃焼型の
スラブ加熱炉で均熱温度を種々に変化させた条件下に加
熱し、１０パスの熱間圧延により１．８mm厚の鋼板とし
た。この鋼板から幅８cm×長さ１２cm、４５枚を準備し
各５枚ずつについてスケールを付けたまま室温，１５０
℃，２７０℃，３００℃，４５０℃の板温で０．５mmま
で圧延した。そのときのスケール剥離状況とスケール付
き圧延時の割れ状況を表２に示した。 【００４２】加熱炉のＯ₂ 濃度が３％以下とウスタイト
とファイアライトの共晶温度１１００℃超で溶融相がで
き冷延時の圧延温度が１５０℃以上のものは、圧延時の
スケール剥離かつ冷延割れもなく安定した圧延が可能で
あった。 【００４３】 【表２】【００４４】（実施例２） Ｃ：０．００４％、Ｓｉ：６．５３％、Ｍｎ：０．１３
％、Ｓ：０．００１％、Ｎ：０．００１７％を含有し残
部Ｆｅおよび不可避的不純物を含む５０kgインゴットを
作成し、雰囲気中のＯ₂ 濃度２％，１２００℃で加熱し
１０パスの熱間加工により１．８mm厚の鋼板とした。こ
の鋼板から幅８cm×長さ１２cm、４０枚を準備し各５枚
ずつについてスケールを付けたまま室温−０．３０９
mm、１５０℃−０．３１６mm、１５０℃−０．３２
５mm、４４０℃−０．３２５mm、４４０℃−０．４
０９mm、７５０℃−０．３４２mm、７５０℃−０．
６１５mm、８００℃−０．６１５mmの板厚で、各板厚
に圧延した。 【００４５】そのときのスケール剥離状況とスケール付
き圧延時の割れ状況を表３に示した。なお、〜につ
いては酸洗減厚を９μｍ、，は１５μｍ見込んだ。
その後、（フッ酸＋硫酸）で酸洗し、さらに室温（約２
５℃）で＃１０００砥石で研磨した圧延ロールで０．３
０mm厚まで圧延した。このときのスケール剥離状況とス
ケール付き圧延時の冷間圧延割れ、および酸洗後の表面
粗度と酸洗後の圧延板粗度を表３に示した。 【００４６】板温度が１５０℃以上であればスケール付
き圧延時の冷間割れもなく、かつスケール剥離もなく安
定した圧延が可能であった。酸洗後の粗い表面も、本発
明範囲の圧下率で冷延することにより、Ｒ_a ，Ｒ_max も
小さく、良好な占積率が得られた。なお８００℃でスケ
ール付き圧延したものは酸洗後のＲ_max が大きく、その
後の冷間圧延でもなかなか平滑にはならずＲ_max が大き
かった。 【００４７】 【表３】【００４８】 【発明の効果】本発明によれば、極めて脆い超高珪素電
磁鋼板を冷間圧延における材料割れ、処理ラインに通板
するときの曲げ部の割れを惹起するため工業的量産が困
難であった略６．５％Ｓｉ含有鋼を、熱間圧延条件に厳
しい条件を付けることなく材料破断、割れを生じること
なくスケール付きで冷間圧延可能にするとともに、従
来、電磁鋼板製造のために一般的に用いられている処理
ラインで工業的に量産できる。また、得られた製品は占
積率に優れているため磁気特性が良好である。

【図面の簡単な説明】 【図１】スケール厚さに及ぼす加熱炉内酸素濃度の影響
を示した図表である。 【図２】熱延板をスケール付きで圧延した後に、酸洗し
た鋼板表面粗度（Ｒ_a ，Ｒ_max）に及ぼす圧延温度の影
響を示す図表である。 【図３】熱延板について、スケールを除去した状態をス
ケールの付いた状態との鋼板母材の表面から測定した硬
度の温度での変化を示す図表である。 【図４】種々の温度で圧延した鋼板を、酸洗後に圧下を
変えて＃１０００の砥石で研磨した圧延ロールを用いて
室温で圧延したときの表面粗度（Ｒ_a ，Ｒ_max ）を示す
図表である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 菅 洋三 富津市新富20−１ 新日本製鐵株式会社 技術開発本部内 (56)参考文献 特開 昭63−227717（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C21D 8/12 C21D 9/46 501 C22C 38/00 - 38/60 B21B 3/02 H01F 1/16 - 1/18

Claims (1)

1. (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 重量比でＳｉ：４．５〜７．１％、残部
   Ｆｅおよび不可避的不純物からなる材料を、Ｏ ₂ 濃度が
   ３％以下の雰囲気中で１１００℃を超え１２５０℃以下
   の温度域に１０分〜１２０分加熱して熱間圧延を施した
   後、表面酸化物が付着したままの状態で板温度：１５０
   ℃〜７５０℃の温度域で圧延し、次いで酸洗により表面
   酸化物を除去し、焼鈍し、４〜５８％の圧下率で酸洗前
   の圧延における圧延温度が高い程高圧下率になる冷間圧
   延を行い、しかる後に再結晶および粒成長のための焼鈍
   を施すことを特徴とする超高珪素電磁鋼板の製造方法。