JP3470267B2 - 対称ｘ型光学系 - Google Patents
対称ｘ型光学系Info
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- JP3470267B2 JP3470267B2 JP2001096543A JP2001096543A JP3470267B2 JP 3470267 B2 JP3470267 B2 JP 3470267B2 JP 2001096543 A JP2001096543 A JP 2001096543A JP 2001096543 A JP2001096543 A JP 2001096543A JP 3470267 B2 JP3470267 B2 JP 3470267B2
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- Japan
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- sample
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- light
- optical system
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、分散型分光光度計
又はフーリエ変換型分光光度計に組み込める、絶対反射
率と絶対透過率の同時測定が可能な対称Ｘ型光学系であ
る。
又はフーリエ変換型分光光度計に組み込める、絶対反射
率と絶対透過率の同時測定が可能な対称Ｘ型光学系であ
る。
【０００２】
【従来の技術】光テクノロジーは、ＩＴ産業においては
高速大容量光通信や画像処理等、医療産業においてはレ
ーザメスやガン治療等、製造加工業においてはレーザを
用いたナノテクノロジーや同位体分離や表示器照明器
等、学術分野では精密光計測や情報処理技術開発等、現
代生活において非常に重要な技術である。
高速大容量光通信や画像処理等、医療産業においてはレ
ーザメスやガン治療等、製造加工業においてはレーザを
用いたナノテクノロジーや同位体分離や表示器照明器
等、学術分野では精密光計測や情報処理技術開発等、現
代生活において非常に重要な技術である。
【０００３】この光テクノロジーを支える基盤技術は、
物質の光学定数（屈折率と消衰係数）、あるいは同じこ
とであるが複素誘電率、の決定である。この２つの未知
数（屈折率と消衰係数）を決定するためには、２つの独
立な測定が必要である。そのひとつの方法は、試料の絶
対反射率と絶対透過率の２つを測り、これらの連立方程
式を解いて光学定数を決定する方法である。これは、直
感的で有用な方法である。
物質の光学定数（屈折率と消衰係数）、あるいは同じこ
とであるが複素誘電率、の決定である。この２つの未知
数（屈折率と消衰係数）を決定するためには、２つの独
立な測定が必要である。そのひとつの方法は、試料の絶
対反射率と絶対透過率の２つを測り、これらの連立方程
式を解いて光学定数を決定する方法である。これは、直
感的で有用な方法である。
【０００４】従来から可視・紫外域用の分散型分光光度
計、及び赤外域用のフーリエ変換型分光光度計では、試
料の反射率と透過率測定で異なった光学系を用いてい
る。このために、２つの量（反射率と透過率）の測定を
するためには、途中で光学系を『差し替え』なければな
らず、煩雑である。さらにこの『差し替え』は、測定結
果の大きな誤差要因でもある。
計、及び赤外域用のフーリエ変換型分光光度計では、試
料の反射率と透過率測定で異なった光学系を用いてい
る。このために、２つの量（反射率と透過率）の測定を
するためには、途中で光学系を『差し替え』なければな
らず、煩雑である。さらにこの『差し替え』は、測定結
果の大きな誤差要因でもある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来の光学（反射と透
過）測定には、次のような問題がある。絶対透過率は、
入射光軸上の試料の有・無による光強度の比として求め
られる。この時、入射光の光軸上に試料と検出器を一列
に並べればよいので、測定は容易である。一方、絶対反
射率の測定でも、試料の有・無による光強度の比として
求められる。しかし、試料無しの時は、光は入射光の方
向に進むが、試料有りの時は、反射のために、反射光の
進行方向は元の入射光の方向とは異なる。
過）測定には、次のような問題がある。絶対透過率は、
入射光軸上の試料の有・無による光強度の比として求め
られる。この時、入射光の光軸上に試料と検出器を一列
に並べればよいので、測定は容易である。一方、絶対反
射率の測定でも、試料の有・無による光強度の比として
求められる。しかし、試料無しの時は、光は入射光の方
向に進むが、試料有りの時は、反射のために、反射光の
進行方向は元の入射光の方向とは異なる。
【０００６】この絶対反射率測定のためには、検出器を
移動させる方法（ゴニオメトリック法）と、検出器は固
定のままで追加の鏡を移動させる方法（Ｖ−Ｎ法やＶ−
Ｗ法）が開発されている。このようにいままでの方法で
は、絶対透過率測定と絶対反射率測定は、全く別の光学
系を用いてきた。このために、両方を測定するには、そ
の度に光学系の『差し替え』が必要であった。さらに、
絶対反射率測定では、検出器か鏡の移動が必要であっ
た。
移動させる方法（ゴニオメトリック法）と、検出器は固
定のままで追加の鏡を移動させる方法（Ｖ−Ｎ法やＶ−
Ｗ法）が開発されている。このようにいままでの方法で
は、絶対透過率測定と絶対反射率測定は、全く別の光学
系を用いてきた。このために、両方を測定するには、そ
の度に光学系の『差し替え』が必要であった。さらに、
絶対反射率測定では、検出器か鏡の移動が必要であっ
た。
【０００７】本発明では、このような従来の問題を解決
することを目的とするものであり、広範に用いられてい
る分散型分光光度計（主に、近赤外の波長より短い波長
域で利用されている）やフーリエ変換型分光光度計（主
に、近赤外の波長より長い波長域で利用されている）
で、より簡便に、より精度良く物質の光学定数を決定す
るために、その物質の絶対反射率と絶対透過率を同時に
測定できる対称Ｘ型光学系を実現することを課題とする
ものである。
することを目的とするものであり、広範に用いられてい
る分散型分光光度計（主に、近赤外の波長より短い波長
域で利用されている）やフーリエ変換型分光光度計（主
に、近赤外の波長より長い波長域で利用されている）
で、より簡便に、より精度良く物質の光学定数を決定す
るために、その物質の絶対反射率と絶対透過率を同時に
測定できる対称Ｘ型光学系を実現することを課題とする
ものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、試料に対して対称なＸ型に配置された４枚
の楕円面鏡を有し、その楕円面鏡から選択された少なく
とも２枚以上の楕円面鏡を組み合わせ、試料に対して表
面と裏面からそれぞれ光を入射することにより、表面入
射と裏面入射に対する絶対反射率及び表面入射と裏面入
射に対する絶対透過率のいずれもが測定可能であり、分
散型分光光度計又はフーリエ変換型分光光度計に組み込
めることを特徴とする対称Ｘ型光学系を提供する。
するために、試料に対して対称なＸ型に配置された４枚
の楕円面鏡を有し、その楕円面鏡から選択された少なく
とも２枚以上の楕円面鏡を組み合わせ、試料に対して表
面と裏面からそれぞれ光を入射することにより、表面入
射と裏面入射に対する絶対反射率及び表面入射と裏面入
射に対する絶対透過率のいずれもが測定可能であり、分
散型分光光度計又はフーリエ変換型分光光度計に組み込
めることを特徴とする対称Ｘ型光学系を提供する。
【０００９】さらにこの対称Ｘ型光学系は、これら２つ
の絶対反射率と２つの絶対透過率をそれぞれ比較して、
測定誤差を求め、この誤差の情報から反射率と透過率測
定が正確におこなわれたかどうか判断できる。
の絶対反射率と２つの絶対透過率をそれぞれ比較して、
測定誤差を求め、この誤差の情報から反射率と透過率測
定が正確におこなわれたかどうか判断できる。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明に係わる対称Ｘ型光学系の
実施の形態を実施例に基づいて図面を参照して説明す
る。図１は、本発明に係わる対称Ｘ型光学系を説明する
図である。図１に示すように、本発明の対称Ｘ型光学系
は、２個のビーム切換器Ｒ１、Ｒ２と、４個の楕円面鏡
ＥＭ１，ＥＭ２，ＥＭ３，ＥＭ４から成る。この４個の
楕円面鏡を対称なＸ（エックス）型に配置して、その焦
点に試料支持台ＳＨが配置されている。
実施の形態を実施例に基づいて図面を参照して説明す
る。図１は、本発明に係わる対称Ｘ型光学系を説明する
図である。図１に示すように、本発明の対称Ｘ型光学系
は、２個のビーム切換器Ｒ１、Ｒ２と、４個の楕円面鏡
ＥＭ１，ＥＭ２，ＥＭ３，ＥＭ４から成る。この４個の
楕円面鏡を対称なＸ（エックス）型に配置して、その焦
点に試料支持台ＳＨが配置されている。
【００１１】この試料支持台ＳＨには、２つの同じ大き
さの穴がある。一方は試料無しのブランクで、他方はそ
の穴を完全に覆うように試料を取り付ける。このＳＨ
は、光軸上に試料又はブランクが置かれるように、自動
的に切り替わる。この時ビーム切換器（Ｒ１とＲ２）も
連動して動作するように構成されている。この結果、移
動部分が無くなり、従来必要であった『差し替え』も不
要となり、絶対反射率と絶対透過率のデータの再現性も
向上し、測定誤差が小さくなる。
さの穴がある。一方は試料無しのブランクで、他方はそ
の穴を完全に覆うように試料を取り付ける。このＳＨ
は、光軸上に試料又はブランクが置かれるように、自動
的に切り替わる。この時ビーム切換器（Ｒ１とＲ２）も
連動して動作するように構成されている。この結果、移
動部分が無くなり、従来必要であった『差し替え』も不
要となり、絶対反射率と絶対透過率のデータの再現性も
向上し、測定誤差が小さくなる。
【００１２】従来のゴニオメトリック法は、図１の対称
Ｘ型光学系とは異なった装置により実施される手法であ
るが、強いて図１を参照して説明すると、楕円面鏡ＥＭ
２，ＥＭ３とＥＭ４を用いず、ビーム切換器Ｒ１は固定
で、入射光を楕円面鏡ＥＭ１に送り、この鏡で反射して
試料支持台ＳＨの所に集光する。まず、このＳＨはブラ
ンクを選び、リファレンス信号を楕円面鏡ＥＭ４の代わ
りに検出器を置いて測定する。次に、ＳＨは試料を選
び、サンプル信号を楕円面鏡ＥＭ３の代わりに同じ検出
器を移動させて測定する。これらの比として反射率を求
めている。検出器の移動を再現性よくできれば、絶対反
射率を測定できる。
Ｘ型光学系とは異なった装置により実施される手法であ
るが、強いて図１を参照して説明すると、楕円面鏡ＥＭ
２，ＥＭ３とＥＭ４を用いず、ビーム切換器Ｒ１は固定
で、入射光を楕円面鏡ＥＭ１に送り、この鏡で反射して
試料支持台ＳＨの所に集光する。まず、このＳＨはブラ
ンクを選び、リファレンス信号を楕円面鏡ＥＭ４の代わ
りに検出器を置いて測定する。次に、ＳＨは試料を選
び、サンプル信号を楕円面鏡ＥＭ３の代わりに同じ検出
器を移動させて測定する。これらの比として反射率を求
めている。検出器の移動を再現性よくできれば、絶対反
射率を測定できる。
【００１３】又、従来のＶ−Ｎ法は、楕円面鏡ＥＭ２と
ＥＭ３を用いず、試料支持台ＳＨに光を集光するところ
までは、ゴニオメトリック法と同じである。まず、ＳＨ
はブランクを選び、リファレンス信号を測定するため
に、ビームを楕円面鏡ＥＭ４で集めてビーム切換器Ｒ２
に送り、検出器で検出する。次に、ＳＨは試料を選び、
サンプル信号を測定するために、楕円面鏡ＥＭ４を楕円
面鏡ＥＭ３の位置に移動させ、このＥＭ４でビームを集
めて回転したビーム切換器Ｒ２に送り検出器で検出す
る。これらの比として反射率を求めている。このＥＭ４
を移動して、同じＥＭ４で光を反射させて、その比とし
て試料の反射率を測定しているために、このＥＭ４の反
射率を測る必要はない。このＥＭ４の反射率が鏡全体で
一様であるとすると、絶対反射率を測定できる。
ＥＭ３を用いず、試料支持台ＳＨに光を集光するところ
までは、ゴニオメトリック法と同じである。まず、ＳＨ
はブランクを選び、リファレンス信号を測定するため
に、ビームを楕円面鏡ＥＭ４で集めてビーム切換器Ｒ２
に送り、検出器で検出する。次に、ＳＨは試料を選び、
サンプル信号を測定するために、楕円面鏡ＥＭ４を楕円
面鏡ＥＭ３の位置に移動させ、このＥＭ４でビームを集
めて回転したビーム切換器Ｒ２に送り検出器で検出す
る。これらの比として反射率を求めている。このＥＭ４
を移動して、同じＥＭ４で光を反射させて、その比とし
て試料の反射率を測定しているために、このＥＭ４の反
射率を測る必要はない。このＥＭ４の反射率が鏡全体で
一様であるとすると、絶対反射率を測定できる。
【００１４】本発明に係る対称Ｘ型光学系では、４枚の
楕円面鏡は対称なＸ（エックス）型に配置されており、
その焦点に試料支持台ＳＨが固定されている。試料の表
面が、楕円面鏡ＥＭ１と楕円面鏡ＥＭ３で作る面を向
き、さらにこの面に平行になるように置かれている。Ｖ
−Ｎ法と類似の方法で試料の絶対反射率を、表面と裏面
から測定する。
楕円面鏡は対称なＸ（エックス）型に配置されており、
その焦点に試料支持台ＳＨが固定されている。試料の表
面が、楕円面鏡ＥＭ１と楕円面鏡ＥＭ３で作る面を向
き、さらにこの面に平行になるように置かれている。Ｖ
−Ｎ法と類似の方法で試料の絶対反射率を、表面と裏面
から測定する。
【００１５】まず、『ＥＭ１，ＥＭ４，ＥＭ３の楕円面
鏡の組み合わせ』で求まる表面からの絶対反射率をｒと
し、次に『ＥＭ２，ＥＭ３、ＥＭ４の楕円面鏡の組み合
わせ』で求まる裏面からの絶対反射率をｒ’とする。た
だし、この測定のためには、前もって楕円面鏡ＥＭ３と
ＥＭ４の相対的な反射率を、精度良く求めておかなけれ
ばならない。
鏡の組み合わせ』で求まる表面からの絶対反射率をｒと
し、次に『ＥＭ２，ＥＭ３、ＥＭ４の楕円面鏡の組み合
わせ』で求まる裏面からの絶対反射率をｒ’とする。た
だし、この測定のためには、前もって楕円面鏡ＥＭ３と
ＥＭ４の相対的な反射率を、精度良く求めておかなけれ
ばならない。
【００１６】具体的に、表面からの絶対反射率測定につ
いて説明する。分光光度計からの光をビーム切換器Ｒ１
が受けて、楕円面鏡ＥＭ１に送る。ＥＭ１はこの光を試
料支持台ＳＨの所に集光する。リファレンス信号測定の
ためにＳＨはブランクを選び、全ての光は、楕円面鏡Ｅ
Ｍ４に送られ、ＥＭ４はこの光を集めてビーム切換器Ｒ
２に送り、分光光度計の検出器に集められる。この時の
出力をＩｏとする。
いて説明する。分光光度計からの光をビーム切換器Ｒ１
が受けて、楕円面鏡ＥＭ１に送る。ＥＭ１はこの光を試
料支持台ＳＨの所に集光する。リファレンス信号測定の
ためにＳＨはブランクを選び、全ての光は、楕円面鏡Ｅ
Ｍ４に送られ、ＥＭ４はこの光を集めてビーム切換器Ｒ
２に送り、分光光度計の検出器に集められる。この時の
出力をＩｏとする。
【００１７】次に試料有りのサンプル信号を測定するた
めに試料支持台ＳＨは、試料を選び、入射光は試料によ
り反射されて、楕円面鏡ＥＭ３に送られ、ＥＭ３はこの
光を集めて回転したビーム切換器Ｒ２に送り、分光光度
計の検出器に集められる。この時の出力をＩｒとする。
表面からの絶対反射率ｒは、ｒ＝Ｉｒ／Ｉｏとして求ま
る。
めに試料支持台ＳＨは、試料を選び、入射光は試料によ
り反射されて、楕円面鏡ＥＭ３に送られ、ＥＭ３はこの
光を集めて回転したビーム切換器Ｒ２に送り、分光光度
計の検出器に集められる。この時の出力をＩｒとする。
表面からの絶対反射率ｒは、ｒ＝Ｉｒ／Ｉｏとして求ま
る。
【００１８】次に、裏面からの絶対反射率測定について
説明する。分光光度計からの光を回転したビーム切換器
Ｒ１が受けて、楕円面鏡ＥＭ２に送る。ＥＭ２はこの光
を試料支持台ＳＨの所に集光する。リファレンス信号測
定のためにＳＨはブランクを選び、全ての光は、楕円面
鏡ＥＭ３に送られ、ＥＭ３はこの光を集めてビーム切換
器Ｒ２に送り、分光光度計の検出器に集められる。この
時の出力をＩ’ｏとする。
説明する。分光光度計からの光を回転したビーム切換器
Ｒ１が受けて、楕円面鏡ＥＭ２に送る。ＥＭ２はこの光
を試料支持台ＳＨの所に集光する。リファレンス信号測
定のためにＳＨはブランクを選び、全ての光は、楕円面
鏡ＥＭ３に送られ、ＥＭ３はこの光を集めてビーム切換
器Ｒ２に送り、分光光度計の検出器に集められる。この
時の出力をＩ’ｏとする。
【００１９】次に試料有りのサンプル信号を測定するた
めに試料支持台ＳＨは、試料を選び、入射光は試料によ
り反射されて、楕円面鏡ＥＭ４に送られ、ＥＭ４はこの
光を集めて回転したビーム切換器Ｒ２に送り、分光光度
計の検出器に集められる。この時の出力をＩ’ｒとす
る。裏面からの絶対反射率ｒ’は、ｒ’＝Ｉ’ｒ／Ｉ’
ｏとして求まる。前もって測定してある楕円面鏡の相対
反射率を使うと、理想的な試料では、表面からの絶対反
射率と裏面からの絶対反射率は等しい（ｒ＝ｒ’）。
めに試料支持台ＳＨは、試料を選び、入射光は試料によ
り反射されて、楕円面鏡ＥＭ４に送られ、ＥＭ４はこの
光を集めて回転したビーム切換器Ｒ２に送り、分光光度
計の検出器に集められる。この時の出力をＩ’ｒとす
る。裏面からの絶対反射率ｒ’は、ｒ’＝Ｉ’ｒ／Ｉ’
ｏとして求まる。前もって測定してある楕円面鏡の相対
反射率を使うと、理想的な試料では、表面からの絶対反
射率と裏面からの絶対反射率は等しい（ｒ＝ｒ’）。
【００２０】次にこの対称Ｘ型光学系を用いて、表面か
らの絶対透過率と、裏面からの絶対透過率を測定する。
まず、楕円面鏡ＥＭ１とＥＭ４を用いて、ブランクと試
料有りでそれぞれ光強度を測定し、その比から表面から
の絶対透過率ｔを求める。次に、楕円面鏡ＥＭ２とＥＭ
３を用いて、ブランクと試料有りでそれぞれの光強度を
測定し、その比から裏面からの絶対透過率ｔ’を求め
る。
らの絶対透過率と、裏面からの絶対透過率を測定する。
まず、楕円面鏡ＥＭ１とＥＭ４を用いて、ブランクと試
料有りでそれぞれ光強度を測定し、その比から表面から
の絶対透過率ｔを求める。次に、楕円面鏡ＥＭ２とＥＭ
３を用いて、ブランクと試料有りでそれぞれの光強度を
測定し、その比から裏面からの絶対透過率ｔ’を求め
る。
【００２１】具体的に、表面からの絶対透過率測定につ
いて説明する。分光光度計からの光をビーム切換器Ｒ１
が受けて、楕円面鏡ＥＭ１に送る。ＥＭ１はこの光を試
料支持台ＳＨの所に集光する。リファレンス信号測定の
ためにＳＨはブランクを選び、全ての光は、楕円面鏡Ｅ
Ｍ４に送られ、ＥＭ４はこの光を集めてビーム切換器Ｒ
２に送り、分光光度計の検出器に集められる。この時の
出力をＩｏする。
いて説明する。分光光度計からの光をビーム切換器Ｒ１
が受けて、楕円面鏡ＥＭ１に送る。ＥＭ１はこの光を試
料支持台ＳＨの所に集光する。リファレンス信号測定の
ためにＳＨはブランクを選び、全ての光は、楕円面鏡Ｅ
Ｍ４に送られ、ＥＭ４はこの光を集めてビーム切換器Ｒ
２に送り、分光光度計の検出器に集められる。この時の
出力をＩｏする。
【００２２】次に試料有りのサンプル信号を測定するた
めに試料支持台ＳＨは、試料を選び、入射光のうち試料
を透過した光が、同じ楕円面鏡ＥＭ４に送られ、ＥＭ４
はこの光を集めてビーム切換器Ｒ２に送り、分光光度計
の検出器に集められる。この時の出力をＩｔとする。表
面からの絶対透過率ｔは、ｔ＝Ｉｔ／Ｉｏして求まる。
めに試料支持台ＳＨは、試料を選び、入射光のうち試料
を透過した光が、同じ楕円面鏡ＥＭ４に送られ、ＥＭ４
はこの光を集めてビーム切換器Ｒ２に送り、分光光度計
の検出器に集められる。この時の出力をＩｔとする。表
面からの絶対透過率ｔは、ｔ＝Ｉｔ／Ｉｏして求まる。
【００２３】次に、裏面からの絶対透過率測定について
説明する。分光光度計からの光を回転したビーム切換器
Ｒ１が受けて、楕円面鏡ＥＭ２に送る。ＥＭ２はこの光
を試料支持台ＳＨの所に集光する。リファレンス信号測
定のためにＳＨはブランクを選び、全ての光は、楕円面
鏡ＥＭ３に送られ、ＥＭ３はこの光を集めて回転したビ
ーム切換器Ｒ２に送り、分光光度計の検出器に集められ
る。この時の出力をＩ’ｏとする。
説明する。分光光度計からの光を回転したビーム切換器
Ｒ１が受けて、楕円面鏡ＥＭ２に送る。ＥＭ２はこの光
を試料支持台ＳＨの所に集光する。リファレンス信号測
定のためにＳＨはブランクを選び、全ての光は、楕円面
鏡ＥＭ３に送られ、ＥＭ３はこの光を集めて回転したビ
ーム切換器Ｒ２に送り、分光光度計の検出器に集められ
る。この時の出力をＩ’ｏとする。
【００２４】次に試料有りのサンプル信号を測定するた
めに試料支持台ＳＨは、試料を選び、入射光のうち試料
を透過した光が同じ楕円面鏡ＥＭ３に送られ、ＥＭ３は
この光を集めてビーム切換器Ｒ２に送り、分光光度計の
検出器に集められる。この時の出力をＩ’ｔとする。裏
面からの絶対透過率ｔ’は、ｔ’＝Ｉ’ｔ／Ｉ’ｏとし
て求まる。理想的な試料では、表面からの絶対透過率と
裏面からの絶対透過率は等しい（ｔ＝ｔ’）。
めに試料支持台ＳＨは、試料を選び、入射光のうち試料
を透過した光が同じ楕円面鏡ＥＭ３に送られ、ＥＭ３は
この光を集めてビーム切換器Ｒ２に送り、分光光度計の
検出器に集められる。この時の出力をＩ’ｔとする。裏
面からの絶対透過率ｔ’は、ｔ’＝Ｉ’ｔ／Ｉ’ｏとし
て求まる。理想的な試料では、表面からの絶対透過率と
裏面からの絶対透過率は等しい（ｔ＝ｔ’）。
【００２５】この対称Ｘ型光学系は、従来の光学測定系
に比べて、光学系の『差し替え』が無いために、測定時
間を１／２に短縮できる。これに伴う試料の脱着が不要
なため、測定データの再現性に優れており、測定精度の
向上が見込める。さらに標準試料を使わずに絶対反射率
と絶対透過率が測定可能である。そして、一様な試料の
場合、実測値の２つの絶対反射率（ｒとｒ’）の差、２
つの絶対透過率（ｔとｔ’）の差から、各々の測定誤差
を見積もることも可能となる。この誤差の情報から光学
測定が正しくおこなわれたかどうかを判定できる。
に比べて、光学系の『差し替え』が無いために、測定時
間を１／２に短縮できる。これに伴う試料の脱着が不要
なため、測定データの再現性に優れており、測定精度の
向上が見込める。さらに標準試料を使わずに絶対反射率
と絶対透過率が測定可能である。そして、一様な試料の
場合、実測値の２つの絶対反射率（ｒとｒ’）の差、２
つの絶対透過率（ｔとｔ’）の差から、各々の測定誤差
を見積もることも可能となる。この誤差の情報から光学
測定が正しくおこなわれたかどうかを判定できる。
【００２６】以上実施例により本発明を説明したが、こ
れらの実施例に限定されることなく、特許請求の範囲記
載の技術事項の範囲内でいろいろ実施例があることは言
うまでもない。
れらの実施例に限定されることなく、特許請求の範囲記
載の技術事項の範囲内でいろいろ実施例があることは言
うまでもない。
【００２７】
【発明の効果】本発明にかかる対称Ｘ型光学系は以上の
ような構成であるから、今までに市販されている分光光
度計に適した形に改造可能である。各分光器メーカーが
自社分光光度計用に改造した製品を作ると期待できる。
その結果、対称Ｘ型光学系は広く社会で使われ、社会・
経済・学術の発展に役立つと期待できる。
ような構成であるから、今までに市販されている分光光
度計に適した形に改造可能である。各分光器メーカーが
自社分光光度計用に改造した製品を作ると期待できる。
その結果、対称Ｘ型光学系は広く社会で使われ、社会・
経済・学術の発展に役立つと期待できる。
【００２８】本発明にかかる対称Ｘ型光学系では、２つ
の絶対反射率と２つの絶対透過率を測定し、これらから
測定誤差が求まる。この誤差の情報から、光学測定が正
しく行われているかどうかを判定できる。
の絶対反射率と２つの絶対透過率を測定し、これらから
測定誤差が求まる。この誤差の情報から、光学測定が正
しく行われているかどうかを判定できる。
【図１】本発明の構成を説明する図である。
ＥＭ１、ＥＭ２、ＥＭ３、ＥＭ４ 楕円面鏡
ＳＨ 試料支持台
Ｒ１、Ｒ２ ビーム切換器
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平５−264353（ＪＰ，Ａ)
特開 平11−183320（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−79948（ＪＰ，Ａ)
特開 昭62−298747（ＪＰ，Ａ)
特開 昭63−32338（ＪＰ，Ａ)
特開 昭63−215923（ＪＰ，Ａ)
特開2000−35363（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G01N 21/00 - 21/61
G01J 3/00 - 3/52
ＰＡＴＯＬＩＳ
Claims (2)
- 【請求項１】 試料に対して対称なＸ型に配置された４
枚の楕円面鏡を有し、その楕円面鏡から選択された少な
くとも２枚以上の楕円面鏡を組み合わせ、上記試料に対
して表面と裏面からそれぞれ光を入射することにより、
表面入射と裏面入射に対する絶対反射率及び表面入射と
裏面入射に対する絶対透過率のいずれもが測定可能であ
り、分散型分光光度計又はフーリエ変換型分光光度計に
組み込めることを特徴とする対称Ｘ型光学系。 - 【請求項２】 上記表面入射と裏面入射に対する絶対反
射率及び表面入射と裏面入射に対する絶対透過率をそれ
ぞれ比較して、測定誤差を求め、この誤差の情報から光
学測定が正確におこなわれたかどうか判断できることを
特徴とする請求項１記載の対称Ｘ型光学系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001096543A JP3470267B2 (ja) | 2001-03-29 | 2001-03-29 | 対称ｘ型光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001096543A JP3470267B2 (ja) | 2001-03-29 | 2001-03-29 | 対称ｘ型光学系 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002296111A JP2002296111A (ja) | 2002-10-09 |
| JP3470267B2 true JP3470267B2 (ja) | 2003-11-25 |
Family
ID=18950448
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001096543A Expired - Fee Related JP3470267B2 (ja) | 2001-03-29 | 2001-03-29 | 対称ｘ型光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3470267B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012121323A1 (ja) | 2011-03-08 | 2012-09-13 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 光学特性測定装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3760234B2 (ja) | 2003-02-27 | 2006-03-29 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 双楕円柱面鏡を用いた対称ｘ型光学系 |
-
2001
- 2001-03-29 JP JP2001096543A patent/JP3470267B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012121323A1 (ja) | 2011-03-08 | 2012-09-13 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 光学特性測定装置 |
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