JP3468685B2 - Carborane-containing silicon-based polymer and method for producing the same - Google Patents

Carborane-containing silicon-based polymer and method for producing the same

Info

Publication number
JP3468685B2
JP3468685B2 JP07224398A JP7224398A JP3468685B2 JP 3468685 B2 JP3468685 B2 JP 3468685B2 JP 07224398 A JP07224398 A JP 07224398A JP 7224398 A JP7224398 A JP 7224398A JP 3468685 B2 JP3468685 B2 JP 3468685B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
carbon atoms
carborane
silicon
chemical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP07224398A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH11269270A (en
Inventor
基邦 一谷
俊哉 杉本
光治 米澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
Priority to JP07224398A priority Critical patent/JP3468685B2/en
Publication of JPH11269270A publication Critical patent/JPH11269270A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3468685B2 publication Critical patent/JP3468685B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Silicon Polymers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は耐熱性、難燃性に優
れた機能性材料として有用な新規カルボラン含有ケイ素
系重合体及びその製造方法に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel carborane-containing silicon polymer useful as a functional material having excellent heat resistance and flame retardancy, and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、耐熱性、難燃性に優れたケイ
素系重合体が開発されている。また、高分子反応により
重合体を架橋させる方法で高分子量化、機械強度の向上
が試みられている〔Organometallics, 15, 75(1996) 〕
が、耐熱性、難燃性は必ずしも十分なものではなかっ
た。一方、カルボラン含有ケイ素系重合体についてはい
くつか知られており、例えば、J. Macromol. Sci. -Re
v. Macromol. Chem., C17(2), 173-208 (1979) には、
ポリ(ドデカカルボラン−シロキサン)について報告さ
れている。
2. Description of the Related Art Conventionally, silicon-based polymers having excellent heat resistance and flame retardancy have been developed. In addition, attempts have been made to increase the molecular weight and improve the mechanical strength by a method of crosslinking a polymer by a polymer reaction [Organometallics, 15, 75 (1996)].
However, heat resistance and flame retardancy were not always sufficient. On the other hand, some carborane-containing silicon-based polymers are known, for example, J. Macromol. Sci.
v. Macromol. Chem., C17 (2), 173-208 (1979),
Poly (dodecacarborane-siloxane) has been reported.

【0003】また、特表平8−505649号公報に
は、有機ホウ素ポリマーが開示されており、カルボラン
を導入することによりシロキサンポリマーの熱安定性が
向上することが報告されている。しかしながら、上記有
機ホウ素ポリマーはアセチレン基含有ジリチオ塩と両末
端クロロ基含有カルボランシロキサンとの反応から得ら
れるものであり、モノマーからカルボラン含有ケイ素系
化合物を合成するのに数段階を要するため、簡便な方法
ではなかった。
In addition, Japanese Patent Publication No. 8-505649 discloses an organic boron polymer, and it is reported that the thermal stability of a siloxane polymer is improved by introducing carborane. However, the above-mentioned organoboron polymer is obtained from a reaction of an acetylene group-containing dilithio salt and a carbolane siloxane containing chloro groups at both ends, and it takes several steps to synthesize a carborane-containing silicon compound from a monomer. It wasn't the way.

【0004】また、上記従来の有機ホウ素ポリマー以外
に、カルボラン含有ケイ素系重合体は殆ど知られておら
ず、耐熱性に優れた新規なカルボラン含有ケイ素系重合
体の開発が期待されている。
In addition to the above-mentioned conventional organic boron polymers, almost no carborane-containing silicon polymer is known, and development of a novel carborane-containing silicon polymer having excellent heat resistance is expected.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、耐熱
性及び難燃性に優れた新規なカルボラン含有ケイ素系重
合体及びその製造方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a novel carborane-containing silicon polymer having excellent heat resistance and flame retardancy and a method for producing the same.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明では、反応性二重
結合基を側鎖に含有するケイ素系重合体とシリル置換カ
ルボラン誘導体とを複合化させることを試みた。二重結
合とシリル基との反応は非常に効率がよく、重合体中に
カルボランを簡便に導入することができる。また、重合
体の側鎖に反応性の二重結合が結合するため、効率的に
より多くのカルボランを導入することができ、重合体の
耐熱性及び難燃性の一層の向上が期待できる。
In the present invention, an attempt was made to complex a silicon-based polymer having a reactive double bond group in its side chain with a silyl-substituted carborane derivative. The reaction between the double bond and the silyl group is very efficient, and the carborane can be easily introduced into the polymer. Further, since a reactive double bond is bonded to the side chain of the polymer, more carborane can be efficiently introduced, and further improvement in heat resistance and flame retardancy of the polymer can be expected.

【0007】請求項記載の発明(以下、本発明とい
う)のカルボラン含有ケイ素系重合体は、一般式(1)
及び/もしくは一般式(2)で表されるカルボラン含有
ユニットと、一般式(4)〜(7)で表されるユニット
の組合わせからなる炭化水素基と一般式(14)で表さ
れるフェニルメチルシリレン基とからなり、重量平均分
子量が500以上であることを特徴とする。
The carborane-containing silicon-based polymer of the invention according to claim 1 (hereinafter referred to as the present invention 1 ) has the general formula (1):
And / or a hydrocarbon group comprising a combination of the carborane-containing unit represented by the general formula (2), the units represented by the general formulas (4) to (7), and the hydrocarbon group represented by the general formula (14).
And a phenylmethylsilylene group having a weight average molecular weight of 500 or more.

【0008】請求項記載の発明(以下、本発明とい
う)のカルボラン含有ケイ素系重合体の製造方法は、本
発明1のカルボラン含有ケイ素系重合体の製造方法であ
って、一般式(4)〜(7)で表されるユニットの組合
わせからなる炭化水素基と一般式(14)で表されるフ
ェニルメチルシリレン基と一般式(8)で表されるシリ
レン基とからなるケイ素系重合体における一般式(8)
中の二重結合と、一般式(9)又は(10)で表される
シリル置換カルボラン誘導体とを反応させることを特徴
とする。
The method for producing a carborane-containing silicon polymer according to the second aspect of the present invention (hereinafter referred to as the present invention 2 ) is the method for producing a carborane-containing silicon polymer according to the first aspect of the present invention. ) To (7), a hydrocarbon group comprising a combination of units represented by the formulas (7) to (7) and a group represented by the general formula (14).
Formula in silicon-based polymer comprising a silylene group represented by E sulfonyl silylene group and the general formula (8) (8)
The double bond therein is reacted with the silyl-substituted carborane derivative represented by the general formula (9) or (10).

【0009】以下、本発明について詳細に説明する。The present invention will be described in detail below.

【0010】本発明のカルボラン含有ケイ素系重合体
は、一般式(1)及び/もしくは一般式(2)で表され
るカルボラン含有ユニットと、一般式(4)〜(7)で
表されるユニットの組合わせからなる炭化水素基と一般
式(14)で表されるフェニルメチルシリレン基とから
なる
The carborane-containing silicon polymer of the present invention 1 is represented by the carborane-containing unit represented by the general formula (1) and / or the general formula (2) and the general formulas (4) to (7). Hydrocarbon group consisting of a combination of units and general
From the phenylmethylsilylene group represented by the formula (14)
Become

【0011】[0011]

【化12】 [Chemical 12]

【0012】[0012]

【化13】 [Chemical 13]

【0013】[0013]

【化14】 [Chemical 14]

【0014】[0014]

【化15】 [Chemical 15]

【0015】式(1)、(2)中、R1 は、ケイ素原子
に結合した水素原子、炭素数1〜20のアルキル基又は
炭素数6〜30のアリール基を表し、それぞれ同一であ
っても異なっていてもよい。R2 は、ケイ素原子に結合
した炭素数1〜20のアルキレン基又は炭素数6〜30
のアリーレン基を表わすが、必ずしも必要はなく、な
場合はケイ素原子に直接CH 2 −CH 2 が結合する。R
3 は、カルボランの炭素原子に結合した水素原子、炭素
数1〜20のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基
又は一般式(3)で表されるケイ素化合物を表す。CB
xHx’Cは、2価のかご状のホウ素化合物であるカル
ボランを表し、x,x’は3〜16の整数を表す。式
(4)、(5)中、R5 は、炭素原子に結合した水素原
子、炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数6〜30の
アリール基を表し、それぞれ同一であっても異なってい
てもよい。式(7)中、R6 は、炭素数6〜30のアリ
ーレン基を表す。
In the formulas (1) and (2), R 1 represents a hydrogen atom bonded to a silicon atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, each of which is the same. May also be different. R 2 is bonded to a silicon atom
C1-C20 alkylene group or C6-C30
Of represents an arylene group, it is not always necessary, stomach
In this case, CH 2 —CH 2 is directly bonded to the silicon atom . R
3 represents a hydrogen atom bonded to a carbon atom of carborane, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or a silicon compound represented by the general formula (3). CB
xHx'C represents carborane which is a divalent cage boron compound, and x and x'represent an integer of 3 to 16. In formulas (4) and (5), R 5 represents a hydrogen atom bonded to a carbon atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, and they may be the same or different. May be. In formula (7), R 6 represents an arylene group having 6 to 30 carbon atoms.

【0016】[0016]

【化16】 [Chemical 16]

【0017】式(3)中、R4 は、ケイ素原子に結合し
た水素原子、炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数6
〜30のアリール基を表し、それぞれ同一であっても異
なっていてもよい。
In the formula (3), R 4 is a hydrogen atom bonded to a silicon atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or 6 carbon atoms.
To 30 aryl groups, which may be the same or different.

【0018】上記R1 〜R4 で表される炭化水素基の炭
素数は、脂肪族の場合多くなると結合が切れやすくな
り、耐熱性が低下するため、また、芳香族の場合多くな
ると溶媒に対する溶解性が低下するため、上記範囲にそ
れぞれ限定される。
When the number of carbon atoms of the hydrocarbon group represented by R 1 to R 4 is aliphatic, the bond is easily broken and the heat resistance is lowered, and when it is aromatic, the number of carbon atoms to the solvent is increased. Since the solubility decreases, the above ranges are limited.

【0019】上記R1 、R3 、R4 で表されるアルキル
基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデ
シル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル
基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル
基、ノナデシル基、エイコシル基等が挙げられる。
Examples of the alkyl group represented by R 1 , R 3 and R 4 include, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group,
Examples thereof include an octyl group, a nonyl group, a decyl group, an undecyl group, a dodecyl group, a tridecyl group, a tetradecyl group, a pentadecyl group, a hexadecyl group, a heptadecyl group, an octadecyl group, a nonadecyl group and an eicosyl group.

【0020】上記R1 、R3 、R4 で表されるアリール
基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル
基、ビフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
Examples of the aryl group represented by R 1 , R 3 and R 4 include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a biphenyl group and a naphthyl group.

【0021】上記R2 で表されるアルキレン基として
は、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、
ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン
基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ウンデシ
レン基、ドデシレン基、トリシレン基、テトラデシレン
基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、ヘプタデシ
レン基、オクタデシレン基、ノナデシレン基、エイコシ
レン基等が挙げられる。
Examples of the alkylene group represented by R 2 include methylene group, ethylene group, propylene group,
Butylene group, pentylene group, hexylene group, heptylene group, octylene group, nonylene group, decylene group, undecylene group, dodecylene group, tricylene group, tetradecylene group, pentadecylene group, hexadecylene group, heptadecylene group, octadecylene group, nonadecylene group, eicosylene group Etc.

【0022】上記R2 で表されるアリーレン基として
は、例えば、フェニレン基、トリレン基、キシレン基、
ビフェニレン基、ナフタレニレン基、アントラセニレン
基等が挙げられる。
The arylene group represented by R 2 is, for example, a phenylene group, a tolylene group, a xylene group,
Examples thereof include a biphenylene group, a naphthalenylene group, and an anthracenylene group.

【0023】上記CBxHx’Cで表されるカルボラン
としては、例えば、ドデカカルボラン、デカカルボラ
ン、ヘプタカルボラン、ヘキサカルボラン、ペンタカル
ボラン等が挙げられる。
Examples of the carborane represented by CBxHx'C include dodecacarborane, decacarborane, heptacarborane, hexacarborane and pentacarborane.

【0024】上記R1 〜R4 で表される炭化水素基及び
CBxHx’Cで表されるカルボランとしては、以後に
ついても同様の成分が挙げられる。
As the hydrocarbon group represented by R 1 to R 4 and the carborane represented by CBxHx'C, the same components can be mentioned hereinafter.

【0025】上記一般式(4)〜(7)で表されるユニ
ットの組合わせからなる炭化水素基としては、以下に示
すものが挙げられる。
Examples of the hydrocarbon group composed of a combination of the units represented by the above general formulas (4) to (7) include those shown below.

【0026】[0026]

【化17】 [Chemical 17]

【0027】上記R5 で表されるアルキル基、アリール
基としては、上記R1 と同様のアルキル基、アリール基
が挙げられ、以下についても同様である。また、上記R
6 で表されるアリーレン基としては、上記R2 と同様の
アリーレン基が挙げられ、以下についても同様である。
Examples of the alkyl group and aryl group represented by R 5 include the same alkyl groups and aryl groups as those described above for R 1, and the same applies to the following. Also, the above R
Examples of the arylene group represented by 6 include the same arylene groups as those described above for R 2, and the same applies to the following.

【0028】上記(4)〜(7)の組合わせからなる炭
化水素基の具体例としては、例えば、メチレン基、エチ
レン基、プロピレン基、メチルメチレン基、メチルエチ
レン基、ジメチルメチレン基、ジメチルエチレン基、ビ
ニレン基、ブチレン−1,3−ジエン基、エチニレン
基、ジエチニレン基、フェニレン基、ビフェニレン基、
ナフタレニレン基、プロピレン−1−エン基、ブチレン
−2−エン基、ペンチレン−1,4−ジエン基、プロピ
レン−1−イン基、ブチレン−2−イン基、ペンチレン
−1,4−ジイン基、メチレンフェニレン基、1,4−
ジメチレンベンゼン基、ジフェニレンメタン基、ビニレ
ンフェニレン基、1,4−ジビニレンベンゼン基、1,
2−ジフェニレンビニレン基、エチニレンフェニレン
基、1,4−ジエチニレンベンゼン基、ジフェニレンア
セチレン基等が挙げられる。
Specific examples of the hydrocarbon group comprising the combination of the above (4) to (7) include, for example, methylene group, ethylene group, propylene group, methylmethylene group, methylethylene group, dimethylmethylene group, dimethylethylene. Group, vinylene group, butylene-1,3-diene group , ethynylene group, dietynylene group, phenylene group, biphenylene group,
Naphthalenylene group, propylene-1-ene group, butylene-2-ene group, pentylene-1,4-diene group, propylene-1-yne group, butylene-2-yne group, pentylene-1,4-diyne group, methylene Phenylene group, 1,4-
Dimethylenebenzene group, diphenylenemethane group, vinylenephenylene group, 1,4-divinylenebenzene group, 1,
Examples thereof include a 2-diphenylenevinylene group, an ethynylenephenylene group, a 1,4-diethynylenebenzene group, and a diphenyleneacetylene group.

【0029】本発明のケイ素系重合体の重量平均分子
量は、小さくなると十分な耐熱性が得られなくなるた
め、500以上に限定される。重量平均分子量の上限
は、特に限定されないが、大きくなり過ぎると溶解性が
低下し、成形体を得ることが困難になるため、500万
以下が好ましい。
The weight average molecular weight of the silicon-based polymer of the present invention 1 is limited to 500 or more because sufficient heat resistance cannot be obtained when the weight average molecular weight becomes small. The upper limit of the weight average molecular weight is not particularly limited, but if it is too large, the solubility decreases and it becomes difficult to obtain a molded product, so 5 million or less is preferable.

【0030】次に、本発明について説明する。本発明
のカルボラン含有ケイ素系重合体の製造方法では、一
般式(4)〜(7)で表されるユニットの組合わせから
なる炭化水素基と一般式(14)で表されるフェニルメ
チルシリレン基と一般式(8)で表されるシリレン基
からなるケイ素系重合体における一般式(8)中の二重
結合と、一般式(9)又は(10)で表されるシリル置
換カルボラン誘導体とを反応させることにより、本発明
1のカルボラン含有ケイ素系重合体が得られる。
Next, the present invention 2 will be described. The present invention
In the method for producing a carborane-containing silicon-based polymer of No. 2, a hydrocarbon group composed of a combination of units represented by the general formulas (4) to (7) and a phenylene polymer represented by the general formula (14).
A silylene group represented by Chirushiriren groups and the general formula (8)
To react the double bond in the general formula (8) in the silicon-based polymer consisting of the silyl-substituted carborane derivative represented by the general formula (9) or (10).
A carborane-containing silicon-based polymer of No. 1 is obtained.

【0031】[0031]

【化18】 [Chemical 18]

【0032】[0032]

【化19】 [Chemical 19]

【0033】[0033]

【化20】 [Chemical 20]

【0034】[0034]

【化21】 [Chemical 21]

【0035】[0035]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0036】式中、R1 は、ケイ素原子に結合した水素
原子、炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数6〜30
のアリール基を表し、それぞれ同一であっても異なって
いてもよい。R3 は、カルボランの炭素原子に結合した
水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜3
0のアリール基又は一般式(3)で表されるケイ素化合
物を表す。CBxHx’Cは、2価のかご状のホウ素化
合物であるカルボランを表し、x,x’は3〜16の整
数を表す。R5 は、炭素原子に結合した水素原子、炭素
数1〜20のアルキル基又は炭素数6〜30のアリール
基を表し、それぞれ同一であっても異なっていてもよ
い。R6 は、炭素数6〜30のアリーレン基を表す。R
7 は、ケイ素原子に結合した炭素数1〜20のアルキレ
ン基又は炭素数6〜30のアリーレン基を表わすが、必
ずしも必要はなく、ない場合はケイ素原子に直接二重結
合基が結合する。
In the formula, R 1 is a hydrogen atom bonded to a silicon atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or 6 to 30 carbon atoms.
Represents an aryl group and may be the same or different. R 3 is a hydrogen atom bonded to a carbon atom of carborane, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or a carbon atom having 6 to 3 carbon atoms.
Represents an aryl group of 0 or a silicon compound represented by the general formula (3). CBxHx'C represents carborane which is a divalent cage boron compound, and x and x'represent an integer of 3 to 16. R 5 represents a hydrogen atom bonded to a carbon atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, and may be the same or different. R 6 represents an arylene group having 6 to 30 carbon atoms. R
7 represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms or an arylene group having 6 to 30 carbon atoms bonded to a silicon atom, but it is not always necessary, and if not present, a double bond group is directly bonded to the silicon atom.

【0037】[0037]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0038】式中、R4 は、ケイ素原子に結合した水素
原子、炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数6〜30
のアリール基を表し、それぞれ同一であっても異なって
いてもよい。
In the formula, R 4 is a hydrogen atom bonded to a silicon atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or 6 to 30 carbon atoms.
Represents an aryl group and may be the same or different.

【0039】上記(4)〜(7)の組合わせからなる炭
化水素基の具体例としては、本発明と同様のものが挙
げられる。
Specific examples of the hydrocarbon group composed of the combination of the above (4) to (7) include the same ones as those of the first invention.

【0040】上記一般式(8)で表されるシリレン基と
しては、例えば、メチルビニルシリレン、エチルビニル
シリレン、プロピルビニルシリレン、ブチルビニルシリ
レン、ペンチルビニルシリレン、ヘキシルビニルシリレ
ン、フェニルビニルシリレン、トリルビニルシリレン、
キシリルビニルシリレン、メチルアリルシリレン、エチ
ルアリルシリレン、プロピルアリルシリレン、ブチルア
リルシリレン、ペンチルアリルシリレン、ヘキシルアリ
ルシリレン、フェニルアリルシリレン、トリルアリルシ
リレン、キシリルアリルシリレン、メチルプロペニルシ
リレン、エチルプロペニルシリレン、プロピルプロペニ
ルシリレン、ブチルプロペニルシリレン、ペンチルプロ
ペニルシリレン、ヘキシルプロペニルシリレン、フェニ
ルプロペニルシリレン、トリルプロペニルシリレン、キ
シリルプロペニルシリレン、メチルブテニルシリレン、
エチルブテニルシリレン、プロピルブテニルシリレン、
ブチルブテニルシリレン、ペンチルブテニルシリレン、
ヘキシルブテニルシリレン、フェニルブテニルシリレ
ン、トリルブテニルシリレン、キシリルブテニルシリレ
ン等が挙げられる。
Examples of the silylene group represented by the above general formula (8) include methyl vinyl silylene, ethyl vinyl silylene, propyl vinyl silylene, butyl vinyl silylene, pentyl vinyl silylene, hexyl vinyl silylene, phenyl vinyl silylene and tolyl vinyl. Silylene,
Xylyl vinyl silylene, methyl allyl silylene, ethyl allyl silylene, propyl allyl silylene, butyl allyl silylene, pentyl allyl silylene, hexyl allyl silylene, phenyl allyl silylene, tolyl allyl silylene, xylyl allyl silylene, methyl propenyl silylene, ethyl propenyl silylene, Propylpropenylsilylene, butylpropenylsilylene, pentylpropenylsilylene, hexylpropenylsilylene, phenylpropenylsilylene, tolylpropenylsilylene, xylylpropenylsilylene, methylbutenylsilylene,
Ethyl butenyl silylene, propyl butenyl silylene,
Butyl butenyl silylene, pentyl butenyl silylene,
Hexyl butenyl silylene, phenyl butenyl silylene, tolyl butenyl silylene, xylyl butenyl silylene and the like can be mentioned.

【0041】上記一般式(10)で表されるシリル置換カ
ルボラン誘導体としては、例えば、ジメチルシリルカル
ボラン、ジエチルシリルカルボラン、ジプロピルシリル
カルボラン、ジブチルシリルカルボラン、ジペンチルシ
リルカルボラン、ジヘキシルシリルカルボラン、ジフェ
ニルシリルカルボラン、ジトリルシリルカルボラン、ジ
キシリルシリルカルボラン、ジビフェニルシリルカルボ
ラン、ジナフチルシリルカルボラン、ジアントラセニル
シリルカルボラン、メチルエチルシリルカルボラン、メ
チルプロピルシリルカルボラン、メチルブチルシリルカ
ルボラン、メチルペンチルシリルカルボラン、メチルヘ
キシルシリルカルボラン、エチルプロピルシリルカルボ
ラン、エチルブチルシリルカルボラン、エチルペンチル
シリルカルボラン、エチルヘキシルシリルカルボラン、
プロピルブチルシリルカルボラン、プロピルペンチルシ
リルカルボラン、プロピルヘキシルシリルカルボラン、
ブチルペンチルシリルカルボラン、ブチルヘキシルシリ
ルカルボラン、ペンチルヘキシルシリルカルボラン、メ
チルフェニルシリルカルボラン、エチルフェニルシリル
カルボラン、プロピルフェニルシリルカルボラン、ブチ
ルフェニルシリルカルボラン、ペンチルフェニルシリル
カルボラン、ヘキシルフェニルシリルカルボラン等が挙
げられる。
Examples of the silyl-substituted carborane derivative represented by the above general formula ( 10 ) include dimethylsilylcarborane, diethylsilylcarborane, dipropylsilylcarborane, dibutylsilylcarborane, dipentylsilylcarborane, dihexylsilylcarborane and diphenylsilylcarborane. , Ditolylsilylcarborane, dixylylsilylcarborane, dibiphenylsilylcarborane, dinaphthylsilylcarborane, dianthracenylsilylcarborane, methylethylsilylcarborane, methylpropylsilylcarborane, methylbutylsilylcarborane, methylpentylsilylcarborane, methylhexylsilyl Carborane, ethylpropylsilylcarborane, ethylbutylsilylcarborane, ethylpentylsilylcarborane , Ethylhexylsilylcarborane,
Propylbutylsilylcarborane, propylpentylsilylcarborane, propylhexylsilylcarborane,
Examples thereof include butylpentylsilylcarborane, butylhexylsilylcarborane, pentylhexylsilylcarborane, methylphenylsilylcarborane, ethylphenylsilylcarborane, propylphenylsilylcarborane, butylphenylsilylcarborane, pentylphenylsilylcarborane and hexylphenylsilylcarborane.

【0042】上記一般式()で表されるシリル置換カ
ルボラン誘導体としては、例えば、m−ビス(ジメチル
シリル)カルボラン、m−ビス(ジエチルシリル)カル
ボラン、m−ビス(ジプロピルシリル)カルボラン、m
−ビス(ジブチルシリル)カルボラン、m−ビス(ジペ
ンチルシリル)カルボラン、m−ビス(ジヘキシルシリ
ル)カルボラン、m−ビス(ジフェニルシリル)カルボ
ラン、m−ビス(ジトリルシリル)カルボラン、m−ビ
ス(ジキシリルシリル)カルボラン、m−ビス(ジビフ
ェニルシリル)カルボラン、m−ビス(ジナフチルシリ
ル)カルボラン、m−ビス(ジアントラセニルシリル)
カルボラン、m−ビス(メチルエチルシリル)カルボラ
ン、m−ビス(メチルプロピルシリル)カルボラン、m
−ビス(メチルブチルシリル)カルボラン、m−ビス
(メチルペンチルシリル)カルボラン、m−ビス(メチ
ルヘキシルシリル)カルボラン、m−ビス(エチルプロ
ピルシリル)カルボラン、m−ビス(エチルブチルシリ
ル)カルボラン、m−ビス(エチルペンチルシリル)カ
ルボラン、m−ビス(エチルヘキシルシリル)カルボラ
ン、m−ビス(プロピルブチルシリル)カルボラン、m
−ビス(プロピルペンチルシリル)カルボラン、m−ビ
ス(プロピルヘキシルシリル)カルボラン、m−ビス
(ペンチルヘキシルシリル)カルボラン、m−ビス(メ
チルフェニルシリル)カルボラン、m−ビス(エチルフ
ェニルシリル)カルボラン、m−ビス(プロピルフェニ
ルシリル)カルボラン、m−ビス(ブチルフェニルシリ
ル)カルボラン、m−ビス(ペンチルフェニルシリル)
カルボラン、m−ビス(ヘキシルフェニルシリル)カル
ボラン、及びこれらのo−、p−異性体等が挙げられ
る。
Examples of the silyl-substituted carborane derivative represented by the above general formula ( 9 ) include m-bis (dimethylsilyl) carborane, m-bis (diethylsilyl) carborane, m-bis (dipropylsilyl) carborane, m
-Bis (dibutylsilyl) carborane, m-bis (dipentylsilyl) carborane, m-bis (dihexylsilyl) carborane, m-bis (diphenylsilyl) carborane, m-bis (ditolylsilyl) carborane, m-bis (dixylylsilyl) carborane , M-bis (dibiphenylsilyl) carborane, m-bis (dinaphthylsilyl) carborane, m-bis (dianthracenylsilyl)
Carborane, m-bis (methylethylsilyl) carborane, m-bis (methylpropylsilyl) carborane, m
-Bis (methylbutylsilyl) carborane, m-bis (methylpentylsilyl) carborane, m-bis (methylhexylsilyl) carborane, m-bis (ethylpropylsilyl) carborane, m-bis (ethylbutylsilyl) carborane, m -Bis (ethylpentylsilyl) carborane, m-bis (ethylhexylsilyl) carborane, m-bis (propylbutylsilyl) carborane, m
-Bis (propylpentylsilyl) carborane, m-bis (propylhexylsilyl) carborane, m-bis (pentylhexylsilyl) carborane, m-bis (methylphenylsilyl) carborane, m-bis (ethylphenylsilyl) carborane, m -Bis (propylphenylsilyl) carborane, m-bis (butylphenylsilyl) carborane, m-bis (pentylphenylsilyl)
Examples thereof include carborane, m-bis (hexylphenylsilyl) carborane, and o- and p-isomers thereof.

【0043】本発明の製造方法において反応に使用さ
れる触媒としては、例えば、塩化白金酸、ヘキサロジウ
ムヘキサデカカルボニル、ビス(ジビニルテトラメチル
ジシロキサン)白金等が挙げられるが、これらに限定さ
れるものではない。触媒の使用量は、少なすぎると反応
が十分進行せず、多すぎると合成後の重合体中に残存し
易くなり、残存によって耐熱性が低下するため、一般式
(8)及び一般式(4)〜(7)で表されるケイ素系重
合体の構成単位に対して0.001〜20mol%が好
ましく、より好ましくは0.01〜10mol%であ
る。
Examples of the catalyst used in the reaction in the production method of the present invention 2 include, but are not limited to, chloroplatinic acid, hexarodium hexadecacarbonyl, bis (divinyltetramethyldisiloxane) platinum and the like. Not something. When the amount of the catalyst used is too small, the reaction does not proceed sufficiently, and when the amount is too large, the catalyst tends to remain in the polymer after synthesis, and the heat resistance decreases due to the residual, so that the general formula (8) and the general formula (4) are used. ) To (7) is preferably 0.001 to 20 mol% and more preferably 0.01 to 10 mol% with respect to the constitutional unit of the silicon-based polymer.

【0044】上記反応に使用されるケイ素系重合体とシ
リル置換カルボラン誘導体のモル比は、カルボランの導
入量が少なくなると得られる重合体の耐熱性及び難燃性
があまり向上しないため、ケイ素系重合体:シリル置換
カルボラン誘導体=1:0.01〜20が好ましく、よ
り好ましくは1:0.1〜10である。
The molar ratio of the silicon-based polymer used in the above reaction to the silyl-substituted carborane derivative is such that the heat resistance and flame retardancy of the resulting polymer do not improve so much when the introduction amount of carborane is small. Combined: silyl-substituted carborane derivative = 1: 0.01 to 20 is preferable, and 1: 0.1 to 10 is more preferable.

【0045】上記反応に使用される溶媒は極性、無極性
いずれでもよいが、好ましくはトルエン、テトラヒドロ
フランなどの非プロトン性溶媒である。上記溶媒の使用
量は、ケイ素系重合体の構成単位の濃度で0.01〜5
0mol/Lが好ましく、より好ましくは0.05〜5
mol/Lである。
The solvent used in the above reaction may be polar or nonpolar, but is preferably an aprotic solvent such as toluene or tetrahydrofuran. The amount of the solvent used is 0.01 to 5 in terms of the concentration of the constituent unit of the silicon-based polymer.
0 mol / L is preferable, and more preferably 0.05 to 5
It is mol / L.

【0046】上記反応は室温から溶媒の沸点の間で行う
ことが好ましい。また、この反応は空気中または不活性
ガス雰囲気下のいずれでも可能であるが、好ましくはア
ルゴンガス又は窒素ガス雰囲気下である。
The above reaction is preferably carried out between room temperature and the boiling point of the solvent. Further, this reaction can be carried out in air or in an inert gas atmosphere, but is preferably in an argon gas or nitrogen gas atmosphere.

【0047】上記反応の反応時間は、短かくなるとカル
ボランの導入反応が十分進行せず、得られる重合体の耐
熱性が向上せず、逆に長くなると架橋等の副反応が進行
して溶媒に溶けなくなり取り扱いが困難になり、また、
耐熱性が低下するため、1〜72時間が好ましい。反応
終了後、ケイ素系重合体の精製方法としては、再沈殿法
又はゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GP
C)による分取等が挙げられる。
When the reaction time of the above reaction becomes short, the carborane introduction reaction does not proceed sufficiently, and the heat resistance of the resulting polymer is not improved. It will not melt and will be difficult to handle, and
Since the heat resistance decreases, 1 to 72 hours is preferable. After the reaction is completed, the silicon-based polymer can be purified by a reprecipitation method or gel permeation chromatography (GP
Examples include sorting by C).

【0048】[0048]

【発明の実施の形態】以下に本発明の実施例を説明す
る。
Embodiments of the present invention will be described below.

【0049】(実施例1) アルゴン置換した還流管及び滴下ロート還流管付1Lの
4つ口フラスコに1,4−ジエチニルベンゼン15.1
4g(120.0mmol)を入れ、テトラヒドロフラ
ン500mLに溶解した。フラスコをドライアイス・メ
タノール浴で冷却した後、n−ブチルリチウムのヘキサ
ン溶液(1.6mol/L)150mLを45分かけて
滴下し1時間撹拌した。次いで、フェニルビニルジクロ
ロシラン12.19g(60.0mmol)及びメチル
フェニルジクロロシラン11.47g(60.0mmo
l)のテトラヒドロフラン混合溶液120mLを30分
かけて滴下し室温で24時間撹拌した。得られた反応液
を塩化アンモニウム飽和水溶液500mL中に投入して
数分撹拌後、テトラヒドロフラン層を分離した。水層を
ジエチルエーテルで3回抽出後、有機層を合わせて無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。有機溶媒を濃縮してメタ
ノール1.8L中に投入した後沈殿を濾別することによ
り、黄白色の粉末(重合体)としてポリ(1,4−ジエ
チニルベンゼン・フェニルビニルシリレン・メチルフェ
ニルシリレン)21.75gを得た。
(Example 1) 1,4-diethynylbenzene 15.1 was placed in a 1 L four-necked flask equipped with a reflux tube replaced with argon and a dropping funnel reflux tube.
4 g (120.0 mmol) was added and dissolved in 500 mL of tetrahydrofuran. After cooling the flask with a dry ice / methanol bath, 150 mL of a hexane solution of n-butyllithium (1.6 mol / L) was added dropwise over 45 minutes, and the mixture was stirred for 1 hour. Then, 12.19 g (60.0 mmol) of phenylvinyldichlorosilane and methyl
Phenyldichlorosilane 11.47 g (60.0 mmo
120 mL of a tetrahydrofuran mixed solution of 1) was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was stirred at room temperature for 24 hours. The obtained reaction solution was poured into 500 mL of a saturated aqueous solution of ammonium chloride and stirred for several minutes, and then the tetrahydrofuran layer was separated. The aqueous layer was extracted 3 times with diethyl ether, and the organic layers were combined and dried over anhydrous magnesium sulfate. The organic solvent was concentrated and poured into 1.8 L of methanol, and then the precipitate was filtered off to obtain poly (1,4-diethynylbenzene / phenylvinylsilylene / methylphenylsilylene) as a yellowish white powder (polymer). 21.75 g was obtained.

【0050】アルゴン置換した還流管付500mLの3
つ口フラスコに、上記ポリ(1,4−ジエチニルベンゼ
ン・フェニルビニルシリレン・メチルフェニルシリレ
ン)10.02g(20.0mmol)を入れ、トルエ
ン300mlに溶解した後50℃に昇温し、0.10m
molの触媒〔ビス(ジビニルテトラメチルジシロキサ
ン)白金〕{Pt [CH2 =CHSi (CH3)2 OSi
(CH3)2 CH=CH2]2 }のトルエン溶液を入れ、1
0分間撹拌した。次いで、1,7−ビス(ジメチルシリ
ル)ドデカカルボラン2.61g(10.2mmol)
のトルエン溶液25mlを滴下後、オイルバスの温度を
120℃に昇温し、10時間加熱還流した。さらに、反
応溶液を減圧留去した後メタノール2L中に投入した。
得られた沈殿物を濾別し、黄白色の粉末(重合体)1
1.2gを得た。この重合体の重量平均分子量はポリス
チレン換算で41,200であった。
500 mL of 3 with a reflux tube replaced with argon
Into a one-necked flask, 10.02 g (20.0 mmol) of the above poly (1,4-diethynylbenzene / phenylvinylsilylene / methylphenylsilylene) was placed, dissolved in 300 ml of toluene and then heated to 50 ° C, 10m
mol of catalyst [bis (divinyltetramethyldisiloxane) platinum] {Pt [CH 2 = CHSi ( CH 3) 2 OSi
(CH 3 ) 2 CH = CH 2 ] 2 } in toluene solution was added, and 1
Stir for 0 minutes. Then, 2.61 g (10.2 mmol) of 1,7-bis (dimethylsilyl) dodecacarborane
25 ml of the toluene solution of was added dropwise, the temperature of the oil bath was raised to 120 ° C., and the mixture was heated under reflux for 10 hours. Further, the reaction solution was distilled off under reduced pressure and then added to 2 L of methanol.
The resulting precipitate was filtered off and a yellowish white powder (polymer) 1
1.2 g was obtained. The weight average molecular weight of this polymer was 41,200 in terms of polystyrene.

【0051】上記で実施例1の黄白色の粉末について測
定された、 1 −NMRスペクトル(ブルカー社製「D
RX300」で測定)を図に、IRスペクトル(バイ
オラッド製「FTS135システム」で測定)を図
それぞれ示した。
1 H- NMR spectrum ("Bruker""D" , measured on the yellowish white powder of Example 1 above)
1 ) and IR spectrum (measured with "FTS135 system" manufactured by Bio-Rad) are shown in FIG. 2 , respectively.

【0052】図1では、0.7〜4ppmにかけてカル
ボランに基づくプロトンのピークがみられる。また、
0.07〜0.6ppmにケイ素原子に結合したメチル
基、メチレン基のプロトンのピークが、7〜8ppmに
はフェニル基のプロトンのピークがそれぞれ確認され
た。また、図2では、2594cm-1にカルボランに起
因する吸収がみられ、これらのことから実施例1で得ら
れた重合体は、式(12)で表されるカルボラン含有ケ
イ素系重合体であることを確認した。
[0052] In Figure 1, the peak of the proton on the basis of the carborane is seen over the 0.7~4ppm. Also,
A proton peak of a methyl group and a methylene group bonded to a silicon atom was confirmed at 0.07 to 0.6 ppm, and a proton peak of a phenyl group was confirmed at 7 to 8 ppm. Further, in FIG. 2, absorption was observed due to the carborane to 2594cm -1, the polymer obtained in Example 1 from these things, in the carborane-containing silicon-based polymer represented by the formula (12) I confirmed that there is.

【0053】[0053]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0054】(比較例1) アルゴン置換した還流管付100mlの2つ口フラスコ
にポリ(1,3−ジエチニルベンゼン・フェニルビニル
シラン)0.51g(2.0mmol)を入れ、テトラ
ヒドロフラン10mlに溶解した後、反応液を55℃に
昇温し、触媒(H2 PtCl6 ・6H2 O)0.005
g(0.01mmol)のイソプロパノール溶液1mL
を入れ、10分間撹拌した。次いで、1,4−ビス(ジ
メチルシリル)ベンゼン0.19g(1.0mmol)
のテトラヒドロフラン溶液5mLを滴下後、オイルバス
の温度を75℃に昇温し、10時間加熱還流した。次
に、反応溶液を室温まで冷却し、メタノール500ml
中に投入した。得られた沈殿物を濾別し、黄白色の粉末
(重合体)0.478gを得た。
Comparative Example 1 0.51 g (2.0 mmol) of poly (1,3-diethynylbenzene / phenylvinylsilane) was placed in a 100-ml two-necked flask equipped with a reflux tube replaced with argon, and dissolved in 10 ml of tetrahydrofuran. Then, the temperature of the reaction solution was raised to 55 ° C., and the catalyst (H 2 PtCl 6 .6H 2 O) 0.005 was added.
1 mL of isopropanol solution of g (0.01 mmol)
Was charged and stirred for 10 minutes. Subsequently, 0.19 g (1.0 mmol) of 1,4-bis (dimethylsilyl) benzene
5 mL of a tetrahydrofuran solution of was added dropwise, the temperature of the oil bath was raised to 75 ° C., and the mixture was heated under reflux for 10 hours. Next, the reaction solution is cooled to room temperature, and 500 ml of methanol is added.
I put it in. The obtained precipitate was separated by filtration to obtain 0.478 g of a yellowish white powder (polymer).

【0055】得られた重合体について、実施例1と同様
1H−NMRスペクトル測定及びIRスペクトル測定
を行い、式(13)で表されるケイ素系重合体であるこ
とを確認した。
The obtained polymer was subjected to 1 H-NMR spectrum measurement and IR spectrum measurement as in Example 1 to confirm that the polymer was a silicon-based polymer represented by the formula (13).

【0056】[0056]

【化25】 [Chemical 25]

【0057】上記実施例1及び比較例1で得られた重合
体の熱重量分析をセイコー電子社製「SSC5200シ
ステム」を使用して測定し、測定結果を図に示した。
また、空気雰囲気下での5重量%分解温度(Td5)、及
び800℃での重量残存率(W800)を表1に示した。
[0057] The thermogravimetric analysis of Example 1 obtained in beauty Comparative Example 1 polymer was measured using a Seiko Denshi "SSC5200 System", showing the measurement results in FIG.
Table 1 shows the 5 wt% decomposition temperature (Td 5 ) in an air atmosphere and the weight residual rate (W 800 ) at 800 ° C.

【0058】[0058]

【表1】 [Table 1]

【0059】表1から実施例1のカルボラン含有ケイ素
系重合体は、耐熱性に非常に優れた材料であることがわ
かる。
From Table 1, it can be seen that the carborane-containing silicon polymer of Example 1 is a material having very excellent heat resistance.

【0060】[0060]

【発明の効果】本発明のケイ素系重合体は、上述の通り
であり、耐熱性に優れており、宇宙・航空材料、建築材
料などに好適に用いられる。
EFFECTS OF THE INVENTION The silicon-based polymer of the present invention is as described above, has excellent heat resistance, and is suitably used for space / aviation materials, building materials and the like.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例1のケイ素系重合体の 1H−NMRスペ
クトルである。
1 is a 1 H-NMR spectrum of the silicon-based polymer of Example 1.

【図2】実施例1のケイ素系重合体のIRスペクトルで
ある。
2 is an IR spectrum of the silicon-based polymer of Example 1. FIG.

【図3】実施例1及び比較例1のケイ素系重合体の熱分
解曲線であ
[Figure 3] Ru pyrolysis curve der silicon-based polymer of Example 1及 beauty Comparative Example 1.

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平11−1561(JP,A) 特開 平11−240956(JP,A) 特開 平11−240957(JP,A) 特開 昭50−44299(JP,A) 特開 平5−262878(JP,A) 特開 平6−49430(JP,A) 特開 平6−172712(JP,A) 特公 昭44−2240(JP,B1) 特表 平8−505649(JP,A) 特表 平8−507795(JP,A) 特表 平10−509750(JP,A) 米国特許3388090(US,A) 米国特許3388091(US,A) 米国特許5552505(US,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08G 77/00 - 77/62 C08G 79/00 - 79/14 CA(STN) REGISTRY(STN)Continuation of the front page (56) Reference JP-A-11-1561 (JP, A) JP-A-11-240956 (JP, A) JP-A-11-240957 (JP, A) JP-A-50-44299 (JP , A) JP-A-5-262878 (JP, A) JP-A-6-49430 (JP, A) JP-A-6-172712 (JP, A) JP-B 44-2240 (JP, B1) JP-A 8-505649 (JP, A) Special Table 8-507795 (JP, A) Special Table 10-509750 (JP, A) US Patent 3388090 (US, A) US Patent 3388091 (US, A) US Patent 5552505 ( (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) C08G 77/00-77/62 C08G 79/00-79/14 CA (STN) REGISTRY (STN)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 一般式(1)及び/もしくは一般式
(2)で表されるカルボラン含有ユニットと、一般式
(4)〜(7)で表されるユニットの組合わせからなる
炭化水素基と一般式(14)で表されるフェニルメチル
シリレン基とからなり、重量平均分子量が500以上で
あることを特徴とするカルボラン含有ケイ素系重合体。 【化1】 【化2】 【化3】 【化4】 〔式中、R1 は、ケイ素原子に結合した水素原子、炭素
数1〜20のアルキル基又は炭素数6〜30のアリール
基を表し、それぞれ同一であっても異なっていてもよ
い。R2 は、ケイ素原子に結合した炭素数1〜20のア
ルキレン基又は炭素数6〜30のアリーレン基を表わす
が、必ずしも必要はなく、ない場合はケイ素原子に直接
CH 2 −CH 2 が結合する。R3 は、カルボランの炭素
原子に結合した水素原子、炭素数1〜20のアルキル
基、炭素数6〜30のアリール基又は一般式(3)で表
されるケイ素化合物を表す。CBxHx’Cは、2価の
かご状のホウ素化合物であるカルボランを表し、x,
x’は3〜16の整数を表す。R5は、炭素原子に結合
した水素原子、炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数
6〜30のアリール基を表し、それぞれ同一であっても
異なっていてもよい。R6 は、炭素数6〜30のアリー
レン基を表す〕 【化5】 (式中、R4 は、ケイ素原子に結合した水素原子、炭素
数1〜20のアルキル基又は炭素数6〜30のアリール
基を表し、それぞれ同一であっても異なっていてもよ
い)
1. A hydrocarbon group comprising a combination of a carborane-containing unit represented by the general formula (1) and / or a general formula (2) and a unit represented by the general formulas (4) to (7). Phenylmethyl represented by the general formula (14)
A carborane-containing silicon polymer comprising a silylene group and having a weight average molecular weight of 500 or more. [Chemical 1] [Chemical 2] [Chemical 3] [Chemical 4] [In the formula, R 1 represents a hydrogen atom bonded to a silicon atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, and may be the same or different. R 2 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms bonded to a silicon atom.
Represents a alkylene group or an arylene group having 6 to 30 carbon atoms
However, it is not absolutely necessary, and if not, directly on the silicon atom
CH 2 -CH 2 is bonded. R 3 represents a hydrogen atom bonded to a carbon atom of carborane, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or a silicon compound represented by the general formula (3). CBxHx'C represents carborane which is a divalent cage boron compound, and x,
x'represents an integer of 3 to 16. R 5 represents a hydrogen atom bonded to a carbon atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, and may be the same or different. R 6 represents an arylene group having 6 to 30 carbon atoms] (In the formula, R 4 represents a hydrogen atom bonded to a silicon atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, and may be the same or different)
【請求項2】 一般式(4)〜(7)で表されるユニッ
トの組合わせからなる炭化水素基と一般式(14)で表
されるフェニルメチルシリレン基と一般式(8)で表さ
れるシリレン基とからなるケイ素系重合体における一般
式(8)中の二重結合と、一般式(9)又は(10)で
表されるシリル置換カルボラン誘導体とを反応させるこ
とを特徴とする請求項1記載のカルボラン含有ケイ素系
重合体の製造方法。 【化6】 【化7】 【化8】 【化9】 【化10】 〔式中、R1 は、ケイ素原子に結合した水素原子、炭素
数1〜20のアルキル基又は炭素数6〜30のアリール
基を表し、それぞれ同一であっても異なっていてもよ
い。R3 は、カルボランの炭素原子に結合した水素原
子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜30のア
リール基又は一般式(3)で表されるケイ素化合物を表
す。CBxHx’Cは、2価のかご状のホウ素化合物で
あるカルボランを表し、x,x’は3〜16の整数を表
す。R5 は、炭素原子に結合した水素原子、炭素数1〜
20のアルキル基又は炭素数6〜30のアリール基を表
し、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。R6
は、炭素数6〜30のアリーレン基を表す。R7 は、ケ
イ素原子に結合した炭素数1〜20のアルキレン基又は
炭素数6〜30のアリーレン基を表わすが、必ずしも必
要はなく、ない場合はケイ素原子に直接二重結合基が結
合する。 【化11】 (式中、R4 は、ケイ素原子に結合した水素原子、炭素
数1〜20のアルキル基又は炭素数6〜30のアリール
基を表し、それぞれ同一であっても異なっていてもよ
い)
2. A hydrocarbon group comprising a combination of units represented by general formulas (4) to (7) and a hydrocarbon group represented by general formula (14).
Represented by the general formula (9) or (10), and the double bond in the general formula (8) in the silicon-based polymer comprising the phenylmethylsilylene group represented by the formula and the silylene group represented by the general formula (8) method for producing a carborane-containing silicon-based polymer of claim 1 Symbol placement, characterized by reacting a that silyl-substituted carborane derivative. [Chemical 6] [Chemical 7] [Chemical 8] [Chemical 9] [Chemical 10] [In the formula, R 1 represents a hydrogen atom bonded to a silicon atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, and may be the same or different. R 3 represents a hydrogen atom bonded to a carbon atom of carborane, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or a silicon compound represented by the general formula (3). CBxHx'C represents carborane which is a divalent cage boron compound, and x and x'represent an integer of 3 to 16. R 5 is a hydrogen atom bonded to a carbon atom, having 1 to 1 carbon atoms.
It represents an alkyl group having 20 or an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, which may be the same or different. R 6
Represents an arylene group having 6 to 30 carbon atoms. R 7 represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms or an arylene group having 6 to 30 carbon atoms bonded to a silicon atom, but it is not always necessary, and if not present, a double bond group is directly bonded to the silicon atom. [Chemical 11] (In the formula, R 4 represents a hydrogen atom bonded to a silicon atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, and may be the same or different)
JP07224398A 1998-03-20 1998-03-20 Carborane-containing silicon-based polymer and method for producing the same Expired - Fee Related JP3468685B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP07224398A JP3468685B2 (en) 1998-03-20 1998-03-20 Carborane-containing silicon-based polymer and method for producing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP07224398A JP3468685B2 (en) 1998-03-20 1998-03-20 Carborane-containing silicon-based polymer and method for producing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11269270A JPH11269270A (en) 1999-10-05
JP3468685B2 true JP3468685B2 (en) 2003-11-17

Family

ID=13483667

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP07224398A Expired - Fee Related JP3468685B2 (en) 1998-03-20 1998-03-20 Carborane-containing silicon-based polymer and method for producing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3468685B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016030743A (en) * 2014-07-29 2016-03-07 国立大学法人 東京大学 Chiral silicon compound and production method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JPH11269270A (en) 1999-10-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Foucher et al. Synthesis, characterization, and properties of high molecular weight unsymmetrically substituted poly (ferrocenylsilanes)
Moran et al. Ferrocenyl substituted octakis (dimethylsiloxy) octasilsesquioxanes: A new class of supramolecular organometallic compounds. Synthesis, characterization, and electrochemistry
Corriu et al. Preparation of oligomers containing tetraphenylsilole, acetylene and aromatic groups in the main chain, and incorporation of iron carbonyl
Plenio et al. Synthesis of Soluble 1, 3‐Bridged Ferrocene‐Acetylene Polymers and the Divergent‐Convergent Synthesis of Defined Oligomers
JP3468685B2 (en) Carborane-containing silicon-based polymer and method for producing the same
JP3041424B1 (en) Carbosilane borazine-based polymer and method for producing the same
JP3459985B2 (en) Method for producing thin film of borazine-containing silicon polymer and borazine-containing silicon polymer
JP2917619B2 (en) Polysilane copolymer and method for producing the same
JP3468680B2 (en) Method for producing carborane-containing silicon-based polymer
JP3602725B2 (en) Carborane-containing silicon-based polymer
JP3602754B2 (en) Carborane-containing silicon-based polymer and method for producing the same
JP3602701B2 (en) Carborane-containing silicon-based polymer and method for producing the same
Majchrzak et al. An efficient catalytic synthesis and characterization of new styryl-ferrocenes and their trans-π-conjugated organosilicon materials
JP3636904B2 (en) Carborane-containing silicon-based polymer and method for producing the same
JP3845692B2 (en) Polyphenazacillin compounds having amines in the side chain
JP2800699B2 (en) Novel branched polysilane and method for producing the same
JP3468716B2 (en) Method for producing cured silicon-containing resin containing carborane
JPH06128381A (en) Production of high-molecular-weight polysilane
JP3468665B2 (en) Carborane group-containing silicon-based polymer and method for producing the same
JP2001261837A (en) Method for producing carborane-containing silicon-base polymer, and carborane-containing silicone-based polymer
JP3631213B2 (en) Ferrocenylene silylene polymer having a functional group and method for producing the same
JPH07309882A (en) New organohalosilane compound
JP4276805B2 (en) Novel silazane compound and method for producing the same, and novel silazane compound polymer and method for producing the same
Bouachrine et al. Reactivity of silyl monomers for the oxidative polymerization of phenylene units
JPH11106513A (en) Silicon-base polymer containing carborane, its production and cured silicon-base resin containing carborane

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070905

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080905

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080905

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090905

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees