JP3465624B2 - 溶湯への気泡分散装置 - Google Patents
溶湯への気泡分散装置Info
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- JP3465624B2 JP3465624B2 JP11614099A JP11614099A JP3465624B2 JP 3465624 B2 JP3465624 B2 JP 3465624B2 JP 11614099 A JP11614099 A JP 11614099A JP 11614099 A JP11614099 A JP 11614099A JP 3465624 B2 JP3465624 B2 JP 3465624B2
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- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Treatment Of Steel In Its Molten State (AREA)
- Mixers Of The Rotary Stirring Type (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、溶融状態にある金属溶
湯に微細気泡として精製ガスを吹き込み、不純物を浮上
分離する気泡分散装置に関する。 【０００２】 【従来の技術】アルミニウム又はアルミニウム合金の溶
湯には、アルカリ金属，アルミニウムカーバイド，水素
ガス，炉材の微粉等の不純物が含まれている。比重の軽
い不純物は、溶湯中に塩素，窒素，Ａｒガス等の精製ガ
スを微細気泡として吹き込むことにより浮上分離する。
精製ガス吹込みに際し、溶湯中に渦流を発生させながら
精製ガスを吹き込むと、吹き込まれた精製ガスは微細気
泡となって溶湯中に効率よく分散し、処理効率を向上さ
せる。 【０００３】たとえば、特公平７−３９６１３号公報で
は、図１に示すように、精製ガス用の貫通孔を開け、先
端にインペラー１を固着した回転軸２を備えた気泡分散
装置が紹介されている。回転軸２と一体的に回転するイ
ンペラー１によって溶湯３中に渦流が発生する。インペ
ラー１の上方には被覆体４が設けられており、インペラ
ー１／被覆体４の間に侵入した溶湯は、インペラー１の
回転によって押し出され、溶湯循環流５となって溶湯容
器６内を循環する。精製ガスは、インペラー１の底面に
設けられている開口部７から溶湯中に吹き出され、微細
気泡８として溶湯循環流５に乗って溶湯全体に万遍なく
分散される。 【０００４】 【発明が解決しようとする課題】インペラー１は、溶湯
循環流５に推力を与えるように螺旋状の羽根をもってい
る。溶湯容器６内に安定した溶湯循環流５を発生させる
ためには、インペラー１／被覆体４との間から押し出さ
れる溶湯量に相応する量の溶湯がインペラー１／被覆体
４の間に流入することが必要である。しかし、図１に示
すようにインペラー１／被覆体４の間隙が狭いと、十分
な量の溶湯がインペラー１／被覆体４間に侵入できな
い。そのため、溶湯循環流５が不安定化し、吹き込まれ
た精製ガスの微細気泡８が溶湯容器６内に偏在しやす
く、結果として精製効率を低下させる。 【０００５】 【課題を解決するための手段】本発明は、このような問
題を解消すべく案出されたものであり、インペラーに対
する被覆体の位置関係を改良することにより、インペラ
ー／被覆体間に侵入する溶湯量を十分に確保して溶湯循
環流を安定化させ、溶湯に対する微細気泡の分散性を向
上させ、アルミニウム又はアルミニウム合金溶湯を効率
よく精製することを目的とする。本発明の気泡分散装置
は、その目的を達成するため、精製ガスを供給する貫通
孔が軸方向に延びる回転軸と、回転軸の下端に螺合さ
れ、半径方向外向きに広がったカバー部をもつ被覆体
と、回転軸の下端に螺合され、回転軸の貫通孔に一致す
るガス噴出孔が軸方向に貫通して形成され、回転軸先端
方向に溶湯を押出すように傾斜した複数の羽根部が円周
方向に等間隔で周面に形成されたインペラーとを備え、
該インペラーと上記被覆体とは、被覆体下面とインペラ
ー上面との間に隙間を有するとともに、被覆体のカバー
部先端下面がインペラーの上面と同じ高さ又はインペラ
ーの上面よりも高い位置になるように配置されているこ
とを特徴とする。 【０００６】 【実施の形態】本発明に従った気泡分散装置は、図２の
分解斜視図に示すように、軸方向に延びる貫通孔１１が
形成された回転軸１０の先端に、被覆体２０及びインペ
ラー３０を装着している。回転軸１０，被覆体２０及び
インペラー３０は、アルミニウム又はアルミニウム合金
溶湯による侵食に耐え、耐熱性に優れたグラファイト，
セラミックス等で作られている。回転軸１０は、軸方向
に延びる貫通孔１１が全長にわたって穿設されている。
回転軸１０の下端部には、被覆体２０を挟み込み、イン
ペラー３０の雌ネジ部３１に螺合する雄ネジ部１３がイ
ンペラー３０の回転方向と逆ネジに刻設されている。 【０００７】被覆体２０は、上方から回転軸１０が嵌め
込まれる凹部が内周面に形成された装着用筒部２２を備
えている。装着用筒部２２の内部には、図３に示すよう
に回転軸１０の下端面が当接する段差部２３が形成され
ている。段差部２３の下方には、小径部２４を介して、
下広がりのテーパ状孔部２５が形成されている。装着用
筒部２２の外側では、カバー部２６が半径方向外向きに
広がっている。カバー部２６は、図４に示すようにイン
ペラー３０よりも若干大きな外径をもっている。図３
（ａ）の例では、カバー部２６の周縁が若干下向きに偏
向した垂直部２７になっている。垂直部２７の長さは、
下端面２８がインペラー３０の上面と同じ高さ又はイン
ペラー３０の上面よりも高く位置する範囲で適宜設定さ
れる。カバー部２６は、図３（ｂ）に示すように装着用
筒部２２から水平方向に延びたフラット形状であっても
良い。 【０００８】インペラー３０は、回転軸１０の雄ネジ部
１３がねじ込まれる雌ネジ部３１を内周面に刻設した筒
状部３２を備えている。筒状部３２の外周角部は、被覆
体２０に形成したテーパ状孔部２５の傾斜面に対応する
角度を付けた面取り部３３になっている。筒状部３２の
中心には、回転軸１０の貫通孔１１に一致するガス噴出
孔３４が形成されている。ガス噴出孔３４は、図４に示
すようにインペラー３０を貫通し、インペラー３０の底
面に開口している。インペラー３０の外周面には、複数
の羽根部３５が円周方向に等間隔で放射状に形成されて
いる。個々の羽根部３５は、インペラー３０の上面又は
底面に対して角度α（図２）で傾斜している。羽根部３
５の傾斜角αは、溶湯に与える推力を大きくする上では
狭い傾斜角ほど好ましいが、狭すぎる角度ではインペラ
ー３０の回転に大きな駆動力を必要とするばかりでな
く、乱流が発生しやすくなる。実際の操業条件を前提に
すると、３０〜６０度の範囲で傾斜角αを設定すること
が好ましい。 【０００９】回転軸１０にインペラー３０を固着するに
際し、先ず被覆体２０を挟み込み、インペラー３０の雌
ネジ部３１に螺合する。雄ネジ部１３のねじ込みに伴っ
て被覆体２０のテーパ状孔部２５のテーパ面が筒状部３
２の面取り部３３に押し付けられるので、インペラー３
０は隙間なく被覆体２０に密着する。また、雄ネジ部１
３は、インペラー３０の回転方向と逆ネジに刻設されて
いるため、運転中にネジが緩むことなく強固に被覆体２
０を圧着できる。組み立てられた気泡分散装置は、図４
に示すようにインペラー３０の上面３６よりも高い位置
に、或いは少なくとも上面３６と同じ高さ位置に垂直部
２７の下端面２８が位置する。そのため、被覆体２０／
インペラー３０間の間隙Ｇが狭くならず、気泡分散装置
を溶湯Ｍに浸漬したとき、図５に示すように間隙Ｇは周
囲の溶湯Ｍに開放されている。 【００１０】開放された間隙Ｇは、溶湯循環流５を効果
的に安定化させる。すなわち、気泡分散装置を溶湯Ｍに
浸漬してインペラー３０を回転させるとき、羽根部３５
によって推力が付与された溶湯Ｍはインペラー３０の下
部からから送り出される。ここで、間隙Ｇが周囲の溶湯
Ｍに開放されているので、溶湯Ｍの送出し量に対応した
量の溶湯Ｍが間隙Ｇから被覆体２０／インペラー３０間
に流入する。その結果、溶湯容器６の内部に安定した溶
湯循環流５が発生する。この溶湯循環流５にインペラー
３０の噴出孔３４から精製ガスが吹き込まれるので、精
製ガスは微細気泡８として溶湯循環流５にのって溶湯容
器６内の溶湯Ｍに分散される。 【００１１】この点、図１に示すように翼体１の側部及
び上部を被覆体４が覆っていると、翼体１の回転で押し
出された溶湯量に見合った量の溶湯３が翼体１／被覆体
４間に十分に供給されず、回転によって溶湯Ｍを下方に
移動させる推進力が弱くなり易い。その結果、翼体１／
被覆体４間に流入する溶湯量が不規則に変動し、溶湯循
環流５が不安定になりやすい。このようにして安定化さ
れた溶湯循環流５に精製ガスが吹き込まれるため、精製
ガスの微細気泡が溶湯Ｍに万遍なく行き渡り、ガス吹込
みによる精製効率が向上する。 【００１２】 【実施例】インペラー１の下方まで延びた被覆体４を備
えた気泡分散装置（従来例：図１）及びインペラー３０
の上面３６より６０ｍｍ高い位置に被覆体２０の下端面
２８がある気泡分散装置（本発明例：図４）を用い、被
覆体４又は２０の形状が脱ガス効率に及ぼす影響を調査
した。脱ガス処理される溶湯Ｍとしてアルミニウム合金
溶湯１０トンを溶湯保持処理炉に移した。本発明に従っ
た気泡分散装置を溶湯Ｍに浸漬し、吹込み速度６Ｎｍ 3
／時でＡｒ混合ガスを貫通孔１１及びガス噴出孔３４を
経て溶湯Ｍに吹き込みながら４００ｒｐｍでインペラー
３０を３０分間回転させた。処理後の溶湯Ｍに含まれて
いるガス含有量Ｘ2 を測定し、処理前のガス含有量Ｘ1
と比較して脱ガス効率η［＝（Ｘ1 −Ｘ2 ）／Ｘ1 ×１
００（％）］を求めた。調査結果を表１に示す。なお、
表１では、従来の気泡分散装置（図１）を用いて同じ条
件下で溶湯Ｍを脱ガス処理した場合を比較例として示
す。 【００１３】 【００１４】表１にみられるように、本発明に従った気
泡分散装置を用いて溶湯Ｍを脱ガス処理した場合、何れ
も従来の気泡分散装置を用いた脱ガス処理に比較して格
段に高い脱ガス効率を示した。脱ガス処理時に炉内を観
察すると、従来の気泡分散装置を用いた脱ガス処理で
は、溶湯Ｍに吹き込まれたＡｒガスが気泡分散装置近傍
の溶湯表面に大きな気泡となってぼこぼこと排出される
様子が観察された。大きな気泡の湧出は、溶湯Ｍの内部
で安定的な気泡分散が阻害されていることを意味する。
他方、本発明に従った気泡分散装置を用いた脱ガス処理
では、溶湯表面に達する気泡が安定的に微細化されてお
り、溶湯表面でぱちぱちはじける様子が観察された。こ
の溶湯表面における気泡の湧出形態からしても、吹き込
まれたＡｒガスが脱ガス反応に有効に寄与していること
が判る。 【００１５】 【発明の効果】以上に説明したように、本発明の気泡分
散装置は、インペラーの上部に設ける被覆体がインペラ
ーの周囲に閉鎖空間を形成しないように、インペラーの
上面と同じ高さ又は上面よりも高い位置に被覆体の底面
を設定している。これにより、周囲の溶湯が被覆体／イ
ンペラー間に流入する抵抗が少なくなり、インペラーで
推力が与えられた押し出される溶湯量に見合った量の溶
湯が被覆体／インペラー間に容易に流入し、下方に向か
った強い流動力が溶湯に与えられるので、溶湯容器内に
生じる溶湯循環流が安定化する。安定した溶湯循環流に
精製ガスが吹き込まれるため、精製ガスが微細気泡とし
て溶湯容器内の溶湯に万遍なく行き渡り、ガス吹込みに
よる精製効率が向上する。
湯に微細気泡として精製ガスを吹き込み、不純物を浮上
分離する気泡分散装置に関する。 【０００２】 【従来の技術】アルミニウム又はアルミニウム合金の溶
湯には、アルカリ金属，アルミニウムカーバイド，水素
ガス，炉材の微粉等の不純物が含まれている。比重の軽
い不純物は、溶湯中に塩素，窒素，Ａｒガス等の精製ガ
スを微細気泡として吹き込むことにより浮上分離する。
精製ガス吹込みに際し、溶湯中に渦流を発生させながら
精製ガスを吹き込むと、吹き込まれた精製ガスは微細気
泡となって溶湯中に効率よく分散し、処理効率を向上さ
せる。 【０００３】たとえば、特公平７−３９６１３号公報で
は、図１に示すように、精製ガス用の貫通孔を開け、先
端にインペラー１を固着した回転軸２を備えた気泡分散
装置が紹介されている。回転軸２と一体的に回転するイ
ンペラー１によって溶湯３中に渦流が発生する。インペ
ラー１の上方には被覆体４が設けられており、インペラ
ー１／被覆体４の間に侵入した溶湯は、インペラー１の
回転によって押し出され、溶湯循環流５となって溶湯容
器６内を循環する。精製ガスは、インペラー１の底面に
設けられている開口部７から溶湯中に吹き出され、微細
気泡８として溶湯循環流５に乗って溶湯全体に万遍なく
分散される。 【０００４】 【発明が解決しようとする課題】インペラー１は、溶湯
循環流５に推力を与えるように螺旋状の羽根をもってい
る。溶湯容器６内に安定した溶湯循環流５を発生させる
ためには、インペラー１／被覆体４との間から押し出さ
れる溶湯量に相応する量の溶湯がインペラー１／被覆体
４の間に流入することが必要である。しかし、図１に示
すようにインペラー１／被覆体４の間隙が狭いと、十分
な量の溶湯がインペラー１／被覆体４間に侵入できな
い。そのため、溶湯循環流５が不安定化し、吹き込まれ
た精製ガスの微細気泡８が溶湯容器６内に偏在しやす
く、結果として精製効率を低下させる。 【０００５】 【課題を解決するための手段】本発明は、このような問
題を解消すべく案出されたものであり、インペラーに対
する被覆体の位置関係を改良することにより、インペラ
ー／被覆体間に侵入する溶湯量を十分に確保して溶湯循
環流を安定化させ、溶湯に対する微細気泡の分散性を向
上させ、アルミニウム又はアルミニウム合金溶湯を効率
よく精製することを目的とする。本発明の気泡分散装置
は、その目的を達成するため、精製ガスを供給する貫通
孔が軸方向に延びる回転軸と、回転軸の下端に螺合さ
れ、半径方向外向きに広がったカバー部をもつ被覆体
と、回転軸の下端に螺合され、回転軸の貫通孔に一致す
るガス噴出孔が軸方向に貫通して形成され、回転軸先端
方向に溶湯を押出すように傾斜した複数の羽根部が円周
方向に等間隔で周面に形成されたインペラーとを備え、
該インペラーと上記被覆体とは、被覆体下面とインペラ
ー上面との間に隙間を有するとともに、被覆体のカバー
部先端下面がインペラーの上面と同じ高さ又はインペラ
ーの上面よりも高い位置になるように配置されているこ
とを特徴とする。 【０００６】 【実施の形態】本発明に従った気泡分散装置は、図２の
分解斜視図に示すように、軸方向に延びる貫通孔１１が
形成された回転軸１０の先端に、被覆体２０及びインペ
ラー３０を装着している。回転軸１０，被覆体２０及び
インペラー３０は、アルミニウム又はアルミニウム合金
溶湯による侵食に耐え、耐熱性に優れたグラファイト，
セラミックス等で作られている。回転軸１０は、軸方向
に延びる貫通孔１１が全長にわたって穿設されている。
回転軸１０の下端部には、被覆体２０を挟み込み、イン
ペラー３０の雌ネジ部３１に螺合する雄ネジ部１３がイ
ンペラー３０の回転方向と逆ネジに刻設されている。 【０００７】被覆体２０は、上方から回転軸１０が嵌め
込まれる凹部が内周面に形成された装着用筒部２２を備
えている。装着用筒部２２の内部には、図３に示すよう
に回転軸１０の下端面が当接する段差部２３が形成され
ている。段差部２３の下方には、小径部２４を介して、
下広がりのテーパ状孔部２５が形成されている。装着用
筒部２２の外側では、カバー部２６が半径方向外向きに
広がっている。カバー部２６は、図４に示すようにイン
ペラー３０よりも若干大きな外径をもっている。図３
（ａ）の例では、カバー部２６の周縁が若干下向きに偏
向した垂直部２７になっている。垂直部２７の長さは、
下端面２８がインペラー３０の上面と同じ高さ又はイン
ペラー３０の上面よりも高く位置する範囲で適宜設定さ
れる。カバー部２６は、図３（ｂ）に示すように装着用
筒部２２から水平方向に延びたフラット形状であっても
良い。 【０００８】インペラー３０は、回転軸１０の雄ネジ部
１３がねじ込まれる雌ネジ部３１を内周面に刻設した筒
状部３２を備えている。筒状部３２の外周角部は、被覆
体２０に形成したテーパ状孔部２５の傾斜面に対応する
角度を付けた面取り部３３になっている。筒状部３２の
中心には、回転軸１０の貫通孔１１に一致するガス噴出
孔３４が形成されている。ガス噴出孔３４は、図４に示
すようにインペラー３０を貫通し、インペラー３０の底
面に開口している。インペラー３０の外周面には、複数
の羽根部３５が円周方向に等間隔で放射状に形成されて
いる。個々の羽根部３５は、インペラー３０の上面又は
底面に対して角度α（図２）で傾斜している。羽根部３
５の傾斜角αは、溶湯に与える推力を大きくする上では
狭い傾斜角ほど好ましいが、狭すぎる角度ではインペラ
ー３０の回転に大きな駆動力を必要とするばかりでな
く、乱流が発生しやすくなる。実際の操業条件を前提に
すると、３０〜６０度の範囲で傾斜角αを設定すること
が好ましい。 【０００９】回転軸１０にインペラー３０を固着するに
際し、先ず被覆体２０を挟み込み、インペラー３０の雌
ネジ部３１に螺合する。雄ネジ部１３のねじ込みに伴っ
て被覆体２０のテーパ状孔部２５のテーパ面が筒状部３
２の面取り部３３に押し付けられるので、インペラー３
０は隙間なく被覆体２０に密着する。また、雄ネジ部１
３は、インペラー３０の回転方向と逆ネジに刻設されて
いるため、運転中にネジが緩むことなく強固に被覆体２
０を圧着できる。組み立てられた気泡分散装置は、図４
に示すようにインペラー３０の上面３６よりも高い位置
に、或いは少なくとも上面３６と同じ高さ位置に垂直部
２７の下端面２８が位置する。そのため、被覆体２０／
インペラー３０間の間隙Ｇが狭くならず、気泡分散装置
を溶湯Ｍに浸漬したとき、図５に示すように間隙Ｇは周
囲の溶湯Ｍに開放されている。 【００１０】開放された間隙Ｇは、溶湯循環流５を効果
的に安定化させる。すなわち、気泡分散装置を溶湯Ｍに
浸漬してインペラー３０を回転させるとき、羽根部３５
によって推力が付与された溶湯Ｍはインペラー３０の下
部からから送り出される。ここで、間隙Ｇが周囲の溶湯
Ｍに開放されているので、溶湯Ｍの送出し量に対応した
量の溶湯Ｍが間隙Ｇから被覆体２０／インペラー３０間
に流入する。その結果、溶湯容器６の内部に安定した溶
湯循環流５が発生する。この溶湯循環流５にインペラー
３０の噴出孔３４から精製ガスが吹き込まれるので、精
製ガスは微細気泡８として溶湯循環流５にのって溶湯容
器６内の溶湯Ｍに分散される。 【００１１】この点、図１に示すように翼体１の側部及
び上部を被覆体４が覆っていると、翼体１の回転で押し
出された溶湯量に見合った量の溶湯３が翼体１／被覆体
４間に十分に供給されず、回転によって溶湯Ｍを下方に
移動させる推進力が弱くなり易い。その結果、翼体１／
被覆体４間に流入する溶湯量が不規則に変動し、溶湯循
環流５が不安定になりやすい。このようにして安定化さ
れた溶湯循環流５に精製ガスが吹き込まれるため、精製
ガスの微細気泡が溶湯Ｍに万遍なく行き渡り、ガス吹込
みによる精製効率が向上する。 【００１２】 【実施例】インペラー１の下方まで延びた被覆体４を備
えた気泡分散装置（従来例：図１）及びインペラー３０
の上面３６より６０ｍｍ高い位置に被覆体２０の下端面
２８がある気泡分散装置（本発明例：図４）を用い、被
覆体４又は２０の形状が脱ガス効率に及ぼす影響を調査
した。脱ガス処理される溶湯Ｍとしてアルミニウム合金
溶湯１０トンを溶湯保持処理炉に移した。本発明に従っ
た気泡分散装置を溶湯Ｍに浸漬し、吹込み速度６Ｎｍ 3
／時でＡｒ混合ガスを貫通孔１１及びガス噴出孔３４を
経て溶湯Ｍに吹き込みながら４００ｒｐｍでインペラー
３０を３０分間回転させた。処理後の溶湯Ｍに含まれて
いるガス含有量Ｘ2 を測定し、処理前のガス含有量Ｘ1
と比較して脱ガス効率η［＝（Ｘ1 −Ｘ2 ）／Ｘ1 ×１
００（％）］を求めた。調査結果を表１に示す。なお、
表１では、従来の気泡分散装置（図１）を用いて同じ条
件下で溶湯Ｍを脱ガス処理した場合を比較例として示
す。 【００１３】 【００１４】表１にみられるように、本発明に従った気
泡分散装置を用いて溶湯Ｍを脱ガス処理した場合、何れ
も従来の気泡分散装置を用いた脱ガス処理に比較して格
段に高い脱ガス効率を示した。脱ガス処理時に炉内を観
察すると、従来の気泡分散装置を用いた脱ガス処理で
は、溶湯Ｍに吹き込まれたＡｒガスが気泡分散装置近傍
の溶湯表面に大きな気泡となってぼこぼこと排出される
様子が観察された。大きな気泡の湧出は、溶湯Ｍの内部
で安定的な気泡分散が阻害されていることを意味する。
他方、本発明に従った気泡分散装置を用いた脱ガス処理
では、溶湯表面に達する気泡が安定的に微細化されてお
り、溶湯表面でぱちぱちはじける様子が観察された。こ
の溶湯表面における気泡の湧出形態からしても、吹き込
まれたＡｒガスが脱ガス反応に有効に寄与していること
が判る。 【００１５】 【発明の効果】以上に説明したように、本発明の気泡分
散装置は、インペラーの上部に設ける被覆体がインペラ
ーの周囲に閉鎖空間を形成しないように、インペラーの
上面と同じ高さ又は上面よりも高い位置に被覆体の底面
を設定している。これにより、周囲の溶湯が被覆体／イ
ンペラー間に流入する抵抗が少なくなり、インペラーで
推力が与えられた押し出される溶湯量に見合った量の溶
湯が被覆体／インペラー間に容易に流入し、下方に向か
った強い流動力が溶湯に与えられるので、溶湯容器内に
生じる溶湯循環流が安定化する。安定した溶湯循環流に
精製ガスが吹き込まれるため、精製ガスが微細気泡とし
て溶湯容器内の溶湯に万遍なく行き渡り、ガス吹込みに
よる精製効率が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】 従来の被覆体を備えた気泡分散装置
【図２】 本発明に従った気泡分散装置の分解斜視図
【図３】 垂直部をもつ被覆体（ａ）及びカバー部がフ
ラットな被覆体（ｂ）の断面図 【図４】 回転軸に被覆体及びインペラーを装着した気
泡分散装置の要部断面図 【図５】 本発明に従った気泡分散装置を使用して溶湯
を脱ガス処理している状態の説明図 【符号の説明】 ５：溶湯循環流 ６：溶湯容器 ８：微細気泡 １０：回転軸 １１：貫通孔 １３：雄ネジ部 ２０：被覆体 ２２：装着用筒部 ２３：段差部
２４：小径部 ２５：テーパ状孔部 ２６：カバ
ー部 ２７：垂直部 ２８：垂直部の下端面 インペラー３０： ３１：雌ネジ部 ３２：筒状部
３４：噴出孔 ３５：羽根部 ３６：上面 α：羽根部の傾斜角 Ｇ：被覆体／インペラーの間
隙 Ｍ：溶湯
ラットな被覆体（ｂ）の断面図 【図４】 回転軸に被覆体及びインペラーを装着した気
泡分散装置の要部断面図 【図５】 本発明に従った気泡分散装置を使用して溶湯
を脱ガス処理している状態の説明図 【符号の説明】 ５：溶湯循環流 ６：溶湯容器 ８：微細気泡 １０：回転軸 １１：貫通孔 １３：雄ネジ部 ２０：被覆体 ２２：装着用筒部 ２３：段差部
２４：小径部 ２５：テーパ状孔部 ２６：カバ
ー部 ２７：垂直部 ２８：垂直部の下端面 インペラー３０： ３１：雌ネジ部 ３２：筒状部
３４：噴出孔 ３５：羽根部 ３６：上面 α：羽根部の傾斜角 Ｇ：被覆体／インペラーの間
隙 Ｍ：溶湯
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 久保田 昇
静岡県庵原郡蒲原町蒲原161番地 日本
軽金属株式会社蒲原工場内
(72)発明者 佐野 剛
静岡県庵原郡蒲原町蒲原161番地 日本
軽金属株式会社蒲原工場内
(72)発明者 橋本 義介
静岡県庵原郡蒲原町蒲原161番地 日本
軽金属株式会社蒲原工場内
(56)参考文献 特開 平７−332871（ＪＰ，Ａ)
特開 平11−12662（ＪＰ，Ａ)
実開 昭58−4647（ＪＰ，Ｕ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C22B 1/00 - 61/00
B01F 3/04
B01F 7/16
C21C 7/072
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 精製ガスを供給する貫通孔が軸方向に延
びる回転軸と、回転軸の下端に螺合され、半径方向外向
きに広がったカバー部をもつ被覆体と、回転軸の下端に
螺合され、回転軸の貫通孔に一致するガス噴出孔が軸方
向に貫通して形成され、回転軸先端方向に溶湯を押出す
ように傾斜した複数の羽根部が円周方向に等間隔で周面
に形成されたインペラーとを備え、該インペラーと上記
被覆体とは、被覆体下面とインペラー上面との間に隙間
を有するとともに、被覆体のカバー部先端下面がインペ
ラーの上面と同じ高さ又はインペラーの上面よりも高い
位置になるように配置されている溶湯への気泡分散装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11614099A JP3465624B2 (ja) | 1999-04-23 | 1999-04-23 | 溶湯への気泡分散装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11614099A JP3465624B2 (ja) | 1999-04-23 | 1999-04-23 | 溶湯への気泡分散装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000309829A JP2000309829A (ja) | 2000-11-07 |
| JP3465624B2 true JP3465624B2 (ja) | 2003-11-10 |
Family
ID=14679742
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11614099A Expired - Fee Related JP3465624B2 (ja) | 1999-04-23 | 1999-04-23 | 溶湯への気泡分散装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3465624B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| ES2524005T5 (es) | 2006-02-13 | 2018-12-10 | Hydro Aluminium Rolled Products Gmbh | Aleación de aluminio libre de carburo de aluminio |
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-
1999
- 1999-04-23 JP JP11614099A patent/JP3465624B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000309829A (ja) | 2000-11-07 |
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