JP3462987B2 - 複数ビーム生成用回折格子及びマルチビーム光ピックアップ - Google Patents

複数ビーム生成用回折格子及びマルチビーム光ピックアップ

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JP3462987B2
JP3462987B2 JP27324698A JP27324698A JP3462987B2 JP 3462987 B2 JP3462987 B2 JP 3462987B2 JP 27324698 A JP27324698 A JP 27324698A JP 27324698 A JP27324698 A JP 27324698A JP 3462987 B2 JP3462987 B2 JP 3462987B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数のビームを生
成する回折格子、及び、光記録媒体の複数のトラックに
対して同時に情報の記録、再生を行うマルチビーム光ピ
ックアップに関する。
【0002】
【従来の技術】光を利用した技術は、周波数が高い(高
速)、空間情報処理ができる、位相処理ができる等の多
くの特徴を有しているため、通信、計測、加工などの多
岐に渡る分野で研究・開発・実用化が行われている。
【0003】その技術の中で、波長選択、偏向、複数ビ
ームを生成するための素子として回折格子及びホログラ
ムが利用されているが、例えば、分光器等に利用される
回折格子は、入射光の波長を分離するために用いられて
おり、その格子周期は一定である。
【0004】また、特開平5−264923号公報にお
いては、レーザプリンタへの応用として、光偏向・集光
のためにホログラムを用いたホログラムスキャナが提案
されている。これは光源としての半導体レーザから発せ
られた光をホログラムディスク上に複数形成された走査
用ホログラムに入射させ、走査用ホログラムにより回折
して偏向された回折光を走査面(感光体ドラム)上に結
像させ、ホログラムディスクの回転により回折光の偏向
角を変化せしめて光走査を行うようになっている。走査
面上の非点収差、像面湾曲等の特性を補正するために、
2次元的に格子ピッチを変調している。
【0005】さらに、光情報記録媒体(光ディスク)を
用いた情報記録再生装置においては、情報の読み取りを
行う光ピックアップにおいて複数のビームを発生させ、
光ディスクに複数のビームを同時に照射して信号を得る
光ピックアップが知られている。これら光ピックアップ
においては、複数のビームを発生させるために回折格子
が用いられている(例えば、特開平1−269239号
公報)。以下、ピックアップに用いられる回折格子につ
いて詳しく説明する。
【0006】(従来例1)特開平1−269239号公
報には、ビーム分割用の回折格子とRES(Radia
l Error Signal)、FES(Focus
Error Signal)光の分割用ホログラム素
子とレーザ光源を一体化した光ピックアップについて記
載されている。
【0007】図14は上記3ビーム光ピックアップの構
成を示す図である。光源である半導体レーザ112を出
た発散光は、回折格子113で複数のビームに分けら
れ、各々ホログラム素子114を0次回折光として透過
し、コリメータレンズ115に入射する。コリメータレ
ンズ115で平行光にされた各ビームは対物レンズ11
6によりディスク117上で十分小さい光スポットに集
光されディスク117の情報を反映した光ビームとして
反射し、対物レンズ116、コリメータレンズ115と
辿り、RESとFES及び再生RF(Radio Fr
equency)信号は、ホログラム素子114で0次
回折光と1次回折光に分けられ、1次回折光はRES用
受光部、FES用受光部及びRF信号用受光部からなる
内部受光部118に入射する。
【0008】ここで、半導体レーザ112、回折格子1
13、ホログラム素子114、内部受光部118はホロ
グラムレーザユニット119として一体に組み上げられ
ている。前記回折格子では0次回折光と±1次回折光の
3つのビームに分割され、0次回折光はRF信号及びF
ESとして、また、±1次回折光はRESとして用いら
れる。従って、トラッキングは、3ビーム法を用いてい
る。
【0009】(従来例2)また、複数のビームを同時に
光記録媒体に照射して、その複数のビームにより光記録
媒体の複数のトラックに対して同時に情報を記録または
再生するマルチビーム光ピックアップが提案されている
(特開平1−248329号公報)。
【0010】以下に図を用いて、このマルチビーム光ピ
ックアップについて説明する。図15は光学系の構成図
である。光源である半導体レーザ102を出た光は、コ
リメータレンズ104で平行光にされた後、回折格子1
03に入射し複数のビームに分けられる。更に各ビーム
はビームスプリッタ105を通り、対物レンズ106に
よりディスク107上で十分小さい光スポットに集光さ
れディスク107の情報を反映した光ビームとして反射
し対物レンズ106を通った後、ビームスプリッタ10
5で反射し、集光レンズ108、シリンドリカルレンズ
109を通って受光素子110に入射する。
【0011】回折格子による光ビームの分割は、例えば
3ビームに分ける場合、ディスク107上で中央に回折
格子103の0次回折光(メインビームと呼ぶ)と、そ
の両外側に±1次回折光(サブビームと呼ぶ)を配し、
合計3ビームの同時読み出しを行う。
【0012】上記従来例1,2において示した従来のピ
ックアップの中で用いられる回折格子は、通常、図16
の平面図及び図17の断面図に示すように、回折格子基
板130に形成される格子溝121及び格子山122が
直線で格子周期pnが開口面に渡って一定であった。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】特開平5−26492
3号公報のようなレーザプリンタ等に用いられるホログ
ラムスキャナにおいては、ホログラムに形成された回折
格子は1本の入射ビームを偏向するために用いられ、複
数に分割することはない。なぜなら、このような用途で
は、回折後のビーム強度が大きいことが必要とされるの
で、複数のビームに分割してしまうと各回折光のビーム
強度が低下し、走査面上で必要なビーム強度が得られな
いからである。したがって、一般には最低次の回折光の
みが利用される。
【0014】したがって、高次回折光を複数利用すると
きの、最高次回折光における収差補正といった概念はな
い。また、走査面上のX(主走査)方向及びY(副走
査)方向におけるビームスポットを収束させるために、
格子形状は、曲線で形成されている。
【0015】また、従来例1,2に示したように、光ピ
ックアップの回折格子は、上記したように、通常、図1
6,17に示したような等ピッチの直線格子からなって
おり、この場合、特に、複数の光ビームを用いて複数の
トラックに対して情報を記録または再生するマルチビー
ム光ピックアップにおいては、以下に示すような問題が
ある。
【0016】マルチビーム光ピックアップにおいては、
各ビームのディスク上での間隔Pdを均等とすれば、P
dと内部受光部での間隔Phの関係は、対物レンズの焦
点距離をfOL、コリメータレンズの焦点距離をfCL
とおくと、 Pd=Ph・fOL/fCL となる。
【0017】多くのビームを同時に記録・再生に利用す
るには、Pdを小さくすることが必要であるが、Pdを
小さくするためにはPhを小さくするか、あるいはfC
Lを大きくすることが必要であり、Phは受光素子の光
電変換感度、加工組立精度により制約を受けるため任意
に小さくできず、一方fCLを大きくするとコリメータ
レンズの実効的な開口数が小さくなり、光の利用効率が
悪くなる。そこで、対物レンズ、コリメータレンズ、回
折格子、ディスク等の収差できまるディスク上の許容像
高をできるだけ大きくすることが必要である。
【0018】しかし、従来のマルチビーム光ピックアッ
プにおいては、上述のようにビーム分割用回折格子とし
て格子溝が直線で、かつ格子周期が開口面に渡って一定
のものを用いていたため、平行光に対しては収差が小さ
いが、特開平1−269239号公報に開示される光ピ
ックアップ構成のような発散光に対しては収差が大き
く、光学系全体の収差を悪化させる主原因となってい
た。
【0019】例えば、従来のマルチビーム光ピックアッ
プにおける各ビームの波面収差を図18に、また、その
内の回折格子に起因する波面収差を図19に示す。ここ
で像高とは、ディスク上における0次回折ビーム位置を
原点としたときの回折ビーム位置である。
【0020】各ビーム波面収差(r.m.s.値)の基
準値を0.07λ(Marechal Criteri
on)とすると、最大許容像高は約25μmとなるた
め、ディスク上における各ビーム間隔が9μmの場合、
±2次回折光までしか利用できない(2×9=18μm
<25μm)ため5ビーム読み出しとなる。しかし、実
際にはピックアップを構成する各光学部品の収差、組み
立て誤差等を考慮すると可能なビーム数は更に減少す
る。
【0021】したがって、±3次回折光における波面収
差値は、各部品の組み立て公差を含めると上記基準値を
越えてしまい、すべてのビームを読み出すことができな
かった。
【0022】また、図18,19から分かるが、光学系
の収差の大部分は回折格子の収差が原因である。従来の
マルチビーム光ピックアップにおいては、直線格子の等
ピッチ回折格子を用いているため、発散光束に対する収
差が大きく、そのため許容像高を大きくできず、ひいて
はビーム数を多くできなかった。従って、高像高側のサ
ブビームのスポット径を十分小さくできず、ジッタ特性
に大きな悪影響を及ぼし十分高速な読み出しもできない
と言う問題点があった。
【0023】このように、従来の直線格子の等ピッチ回
折格子では、マルチビーム光ピックアップのような高次
のビームを必要とする用途には対応できなかった。
【0024】ところで、不等ピッチの回折格子として
は、特開平7−302435号公報(以下、従来例3と
記す)に、トラッキング制御に3ビーム法を用いるピッ
クアップ装置において、ビーム3分割用の反射型の回折
格子として不等ピッチの回折格子を用いることが記載さ
れている。以下、これについて説明する。
【0025】ここでは、図20に示すように、半導体レ
ーザ7から出射したビームを、その光軸に対し45°の
角度を有して配置された反射型回折格子81によって、
ビーム進行方向を直角に曲げるとともに3ビームに分割
する。分割された各ビームはホログラム素子9、集光用
レンズ5を通過しディスク6上に集光する。ディスク6
からの反射光は集光用レンズ5を通過して、ホログラム
素子9で1次回折(あるいは−1次回折)し、受光素子
10に入射する。
【0026】反射型の回折格子を用いたピックアップで
は、回折格子への入射光の光軸が傾いているため、0次
回折光と±1次回折光との間隔が非対称となるが、従来
例3では、その非対称を是正するため、回折格子81
を、その周期が矢印X方向にいくに従って長くなるよう
に形成している。
【0027】つまり、従来例3の回折格子81は不等ピ
ッチとなっているが、これは、0次回折光に対して+1
次回折光と−1次回折光が対称にはならないことを補正
するのが目的であり、±2次以上の高次ビームの収差を
補正するものではない。したがって、±1次の回折光が
規定の波面収差を満足したとしても、それ以上の高次回
折光において波面収差の条件を満足するとは言えない。
また、従来例3では、±2次以上の高次ビームに対して
所定の波面収差を満足するような設計方法を何ら示唆し
ていない。
【0028】しかしながら、上記したマルチビーム光ピ
ックアップでは、高次回折光の波面収差をも規定のレベ
ル以下にする必要があり、従来例3に記載の回折格子を
適用することでは対応できない。
【0029】また、従来例3は反射型の回折格子特有の
±1次回折光の非対称性を解決するためになされたもの
であり、±1次回折光が対称となる透過型の回折格子は
従来例3では問題としていない。
【0030】しかしながら、本発明者の検討の結果、図
18,19に示したように、透過型の回折格子において
も、発散光束を用いた場合には特に高次回折光の波面収
差が問題となってくることが明らかになった。
【0031】本発明は、上記の事情に鑑み、高次の回折
光の波面収差を補償できる回折格子及びマルチビーム光
ピックアップを提供することを目的とする。
【0032】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の複数ビ
ーム生成用回折格子は、±2次以上の高次回折光を用い
る回折格子であって、回折格子形成面上に直交する2つ
対称軸を有し、格子形状が直線で形成され、2つの対
称軸のうち第1の対称軸は格子に直角で、第2の対称軸
は格子に平行であり、第2の対称軸により分割された部
分の格子周期が中心部で小さく周辺に行くにつれて大き
くなるように変調され、かつ、±2次以上の高次回折光
の波面収差を小さくするように格子周期が決められてい
ることを特徴とする。
【0033】請求項2に記載の複数ビーム生成用回折格
子は、請求項1に記載の複数ビーム生成用回折格子にお
いて、格子に対し直角方向をy座標に取り、第2の対称
軸上のy座標を0とし、さらにy=0からの回折格子番
号をnとしたとき、回折格子番号nのy座標が、 f(y,n)=0 を満たしており、f(y,n)が a・y−b・y3−c・n (ただし、a,b,cは定数で同符号、n=±1,±
2,±3,…)なる項を含む多項式からなることを特徴
とする。
【0034】請求項3に記載の複数ビーム生成用回折格
子は、請求項1に記載の複数ビーム生成用回折格子にお
いて、前記回折格子の周期が階段状に変化していること
を特徴とする。
【0035】請求項4に記載のマルチビーム光ピックア
ップは、回折格子の±2次以上の高次回折光を用いて、
光源から出射される出射光をメインビーム及び複数のサ
ブビームに分割し、光学系を介してメインビーム及びサ
ブビームを光記録媒体に照射することで、光記録媒体の
複数のトラックに対して同時に情報を記録または再生す
るマルチビーム光ピックアップにおいて、回折格子は格
子形状が直線で形成されており、光学系全体でのメイン
ビーム及びサブビームの波面収差が小さくなるよう、格
子周期が変調されていることを特徴とする。
【0036】請求項5に記載のマルチビーム光ピックア
ップは、回折格子の±2次以上の高次回折光を用いて、
光源から出射される出射光をメインビーム及び複数のサ
ブビームに分割し、メインビーム及びサブビームを光記
録媒体に照射して、光記録媒体の複数のトラックに対し
て同時に情報を記録または再生するマルチビーム光ピッ
クアップにおいて、回折格子形成面上に直交する2つの
対称軸を有し、格子形状が直線で形成され、2つの対称
軸のうち第1の対称軸は格子に直角で、第2の対称軸は
格子に平行であり、第2の対称軸により分割された部分
の格子周期が中心部で小さく周辺に行くにつれて大きく
形成されていることを特徴とする。
【0037】請求項6に記載のマルチビーム光ピックア
ップは、請求項5に記載のマルチビーム光ピックアップ
において、格子に対し直角方向をy座標に取り、第2の
対称軸上のy座標を0とし、さらにy=0からの回折格
子番号をnとしたとき、回折格子番号nのy座標が、 f(y,n)=0 を満たしており、f(y,n)が a・y−b・y3−c・n (ただし、a,b,cは定数で同符号、n=±1,±
2,±3,…)なる項を含む多項式からなることを特徴
とする。
【0038】請求項7に記載のマルチビーム光ピックア
ップは、請求項4乃至請求項6のいずれかに記載のマル
チビーム光ピックアップにおいて、前記回折格子は、前
記光源からの出射光を透過して、前記出射光を前記メイ
ンビーム及び前記サブビームに分割することを特徴とす
る。
【0039】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。図1は本発明の回折格子を適用したマルチ
ビーム光ピックアップの一実施の形態の構成図である。
なお、以下の図1の説明においては7ビームのマルチビ
ーム光ピックアップについて説明するが、ビーム数はこ
れに限るものではない。
【0040】マルチビーム光ピックアップ1は、ホログ
ラムレーザユニット2、コリメータレンズ3、アパチャ
ー4、対物レンズ5より構成されている。6はディスク
である。
【0041】ホログラムレーザユニット2は、半導体レ
ーザ7、透過型の不等ピッチ回折格子8、ホログラム素
子9、内部受光部10を一体化したものであり、ホログ
ラムガラス11の半導体レーザ7側の面に不等ピッチ回
折格子8、ディスク6側の面にホログラム素子9が形成
されている。不等ピッチ回折格子8は半導体レーザ7か
らの出射光の光軸に略垂直に配されており、その出射光
を透過して、後述するように複数のビームに分割する。
【0042】以下、本マルチビーム光ピックアップの動
作を説明する。半導体レーザ7より出射した光ビームは
不等ピッチ回折格子8に発散光束として入射し、0次回
折光(メインビームB0)、+1次回折光(B1
(+))、−1次回折光(B1(−))、+2次回折光
(B2(+))、−2次回折光(B2(−))、+3次
回折光(B3(+))、−3次回折光(B3(−))の
7本のビームに分けられ、コリメータレンズ3、対物レ
ンズ5を透過しディスク6上で集光される。
【0043】ディスク6からの反射光は上記経路を逆行
し、対物レンズ5、コリメータレンズ3を通り、RF信
号、FES、RESの内部受光部10に向かう光ビーム
はホログラム素子9で回折され、1次回折光として内部
受光部10に入射する。
【0044】7ビーム、即ち7トラック分のRF信号を
正確かつ高速に読み出すためには、ディスク6上でメイ
ンビーム(B0)だけでなく、各サブビーム(B1
(+)、B1(−)、B2(+)、B2(−)、B3
(+)、B3(−))のスポット径を十分小さく絞り込
むことが必要である。
【0045】ここで、本発明の不等ピッチ回折格子を用
いた場合の、各ビームと波面収差の関係の一例(後述す
る数値例1の不等ピッチ回折格子を用いた例)を図2に
示す。従来の等間隔回折格子の場合と同様、メインビー
ム(B0)とサブビーム(B1(+)、B1(−)、B
2(+)、B2(−)、B3(+)、B3(−)のディ
スク上の各ビーム間隔は9μmとする。
【0046】図2より、不等ピッチ回折格子を用いるこ
とにより、±4次回折光までが波面収差(r.m.s
値)の基準値(Marechal Criterio
n)0.07λ以下となり、7ビームすべてについて回
折限界までビームを絞り込めていることがわかる。
【0047】また、許容像高で評価すると0.07λ以
下となる許容像高は約42μmとなり、従来の25μm
に対し許容像高を増大できることが分かる。その結果、
像高が大きいほど、各ビーム間隔を一定としたとき該許
容像高中に形成することのできるビーム数を増大するこ
とができる。この場合の、利用可能な最大ビーム数は、 Int(42μm/9μm)=Int(4.67)=4 となり、片側当たり4本の高次ビームを利用することが
できる。ここで、関数Int(x)は、x以下でかつ最
も大きい整数を表す。したがって、0次光をあわせると
両側で9本のビームが所望の波面収差を満足することに
なる。
【0048】更に、このときの回折格子のみに起因する
波面収差は、図3(後述する数値例1の不等ピッチ回折
格子を用いた場合)に示すように、十分小さく抑えられ
ている。
【0049】なお、本実施の形態においては、対物レン
ズの焦点距離は2.8mm、開口数0.6、コリメータ
レンズの開口数は0.09、光源の波長は650nmで
あった。
【0050】以下に、本発明の不等ピッチ回折格子につ
いて、従来の等ピッチ回折格子と比較しながら更に詳し
く説明する。
【0051】従来の等ピッチの回折格子においては、平
行光束が入射する場合については、0次から高次に至る
まで収差を小さく抑えながらビーム分割が可能であった
が、本実施の形態の如く小型集積化、ローコスト化、調
整の容易化のため、半導体レーザ112、回折格子11
3、ホログラム素子114、内部受光部118等が一体
となったホログラムピックアップを用いる場合において
は、発散光束中に回折格子が置かれるため、光束中央部
と周辺部で入射角度が異なることにより、非点収差等が
発生し光学系全体の収差を大きくしていた。本発明者ら
は回折格子の格子周期を回折格子面内で可変とするこ
と、特に中心部で小さく周辺に行くにつれて大きくする
ことで、光学系全体の収差を小さく抑えられることを見
いだした。
【0052】(実施例1)本実施例では、図1に示した
光学系全体の収差が小さくなるように、回折格子を最適
化した場合について説明する。
【0053】本発明者は、不等ピッチ回折格子の格子周
期について、数多く検討した結果、特に、各格子を表す
格子位置のy座標(yは直線格子の格子に垂直な方向の
座標)が、 f(y,n)=0 を満たしており、且つ、f(y,n)が a・y−b・y3−c・n (ただし、a,b,cは定数で同符号,n=±1,±
2,±3,…)なる項を含む多項式からなる場合に好適
な結果が得られることがわかった。具体的な不等ピッチ
回折格子の格子周期の数値例(数値例1)を表1に示
す。
【0054】
【表1】
【0055】なお、この数値例1では、各回折格子を表
す格子位置のy座標が、以下の式にて表される。 0.0415y−0.00614y3−0.00065n=0 (式1) 但し、yは直線格子の格子に垂直な方向の座標、nは回
折格子の中心部から数えた格子の番号で、y>0でn=
1,2,3,…、y<0でn=−1,−2,−3,…で
ある。
【0056】上式を基に、格子番号に対する格子周期に
換算した結果を図4に示す。格子番号が増大するにつれ
て、すなわち周辺部に行くに従い格子周期が増加してい
る。
【0057】なお、表1および図4には、回折格子の中
心部から片側のみを示したが、実際にはビーム分割方向
の直角方向で光軸を通る直線に対して対称となってい
る。図4で言えば、格子番号1の軸に対してマイナスの
格子番号方向に折り返した特性となる。
【0058】図5に本数値例における不等ピッチ回折格
子の基本周期を平面方向から見た概念図として示す。回
折格子基板13に形成される回折格子部12は、格子が
ビームを分割する方向に対し直角に刻まれており、格子
周期が光軸が交わる点を通り格子方向に平行な直線に対
して対称である。また、格子周期は回折格子面が光軸と
交わる点即ち回折格子の中心部に近い所では小さく離れ
るにつれて大きくなるように形成されている。
【0059】このように、光軸付近に比べて光束周辺部
の格子周期を大きくすることで、図2,図3に示したよ
うに、発散光束中における周辺部の収差を小さくするこ
とができ、光束全体の波面収差を小さく抑えることがで
きる。
【0060】図6に不等ピッチ回折格子の断面図を示
す。格子周期とは回折格子の基本繰り返し周期を指し、
例えば回折格子の中心部から数えてn番目の格子周期p
nは図に示す通りである。
【0061】さらに、図7のように凸部14−1、14
−2、14−3、14−4は1周期中に各々1つずつ
(凹部も1周期中に1つずつ)のものでも、図8に示す
凹凸が各々3つずつのものでも同様に格子周期は各々図
7及び図8に示すpで定義される。なお、基本周期内の
格子形状は、各回折次数の効率配分により最適設計され
る。
【0062】このような基本周期の凹凸の形状は、本実
施例における不等ピッチ回折格子においては、寸法a,
b,c,dはpに対する比で決定される。
【0063】従って、 kn−1/pn−1=kn/pn=kn+1/pn+1
= … ln−1/pn−1=ln/pn=ln+1/pn+1
= … 及び、 an−1/pn−1=an/pn=an+1/pn+1
= … bn−1/pn−1=bn/pn=bn+1/pn+1
= … cn−1/pn−1=cn/pn=cn+1/pn+1
= … dn−1/pn−1=dn/pn=dn+1/pn+1
= … en−1/pn−1=en/pn=en+1/pn+1
= … となる。
【0064】本発明における回折格子の基本周期とは、
上記のように光線の回折方向を決めるものであり、基本
周期中の格子形状については効率設計上どのようなもの
でもその効果は変わらない。
【0065】本数値例1においては、図2、図3に示し
たように、対物レンズ、コリメータレンズ、回折格子、
ディスク等すべて含む光学系全体の収差と回折格子のみ
の収差が近い数値である。これは対物レンズ、コリメー
タレンズ、ディスク等から発生する収差とは逆方向の収
差を不等ピッチ回折格子により発生させ補正しているた
めであり、例えば光学系が変わった場合には最適化が可
能である。
【0066】なお、本数値例1の不等ピッチ回折格子を
用いたマルチビーム光ピックアップにおいては、各光学
部品の収差、部品組み立て誤差、レーザ光量等を考慮
し、図1において説明したような7ビームのマルチビー
ム光ピックアップとすることが適当であるが、図2,3
で示したように本数値例によれば9本のビームが所望の
波面収差を満足しており、9ビームのマルチビーム光ピ
ックアップとしてもよい。
【0067】本発明者は、上記した式1(3次の多項
式)で示した回折格子の他に、更に次数の高い多項式で
表される回折格子についても検討した。その数値例を式
2,3に示す。 0.0415y−0.0061323y3 −0.000017475y5−0.00065n=0 (式2) 0.0415y−0.0059864y3−0.000052429y5 −0.010013y7−0.00065n=0 (式3) yは図5に示した座標、nは回折格子の中心部から数え
た格子の番号で、y>0でn=1,2,3,…、y<0
でn=−1,−2,−3,…である。
【0068】図9に式1で表されるyの3次多項式によ
る格子位置のときの波面収差、式2で表される5次多項
式による格子位置のときの波面収差、式3で表される7
次多項式による格子位置のときの波面収差を、従来型回
折格子(直線等ピッチ型)と比較して、像高18μm,
27μm,36μmの場合について示す。各像高とも従
来型回折格子に対して、どの多項式の場合も波面収差は
大きく改善されているが、5次多項式,7次多項式によ
る波面収差は3次多項式によるものと比べて殆ど変わら
ない。よって、本実施例による回折格子においては格子
位置をyの3次多項式で表現すれば必要十分な効果が得
られる。
【0069】(実施例2)次に、回折格子に起因する収
差が小さくなるように最適化した実施例について説明す
る。
【0070】不等ピッチ回折格子の格子周期について、
数多く検討した結果、本例においても、特に、各格子を
表す格子位置のy座標(図5に示したy座標)が、 f(y,n)=0 を満たしており、且つ、f(y,n)が a・y−b・y3−c・n (ただし、a,b,cは定数で同符号,n=±1,±
2,±3,…)なる項を含む多項式からなる場合に好適
な結果が得られることがわかった。具体的な不等ピッチ
回折格子の格子周期の数値例(数値例2)を表2に示
す。
【0071】なお、数値例2は、各格子を表す格子位置
のy座標が、以下の式にて表される場合である。 0.0415y−0.00416y3−0.00065n=0 (式4) 但し、yは図5に示した座標、nは回折格子の中心部か
ら数えた格子の番号である。
【0072】
【表2】
【0073】上式を基に、格子番号に対する格子周期に
換算した結果を図10に示す。上記式1と同様、格子番
号が増大するにつれて、すなわち周辺部に行くに従い格
子周期が増加していることがわかる。また、その他の特
徴として、式1よりも格子周期の変化の割合が緩やかに
なっている。
【0074】また、このときの波面収差を図11に、ま
た、回折格子のみの波面収差を図12に示す。
【0075】図11及び図12に示す収差はいずれも小
さく抑えられ、波面収差が0.07λ以下である許容像
高は37μmと大きく改善されており、±4次回折光ま
で可能である。本数値例2の不等ピッチ回折格子を用い
たピックアップにおいては、各光学部品の収差、部品組
み立て誤差、レーザ光量等を考慮した上で、例えば5ビ
ームのマルチビーム光ピックアップを構成できる。
【0076】また、上記したように、本実施例において
は回折格子に起因する収差を小さくするよう最適化して
おり、収差状況の異なる対物レンズ、コリメータレンズ
等の光学系においても効果は同様である。
【0077】また、本実施例においても実施例1と同様
に、格子形状は図5〜図8のような様々な形状を取るこ
とができる。
【0078】なお、以上説明した本実施の形態において
は、格子周期が徐々に変化する数値例を示したが、例え
ば、表3の数値例に示すように回折格子を複数の領域に
分割し、領域内では同一の格子周期で領域毎に変化する
ものであっても十分効果はある。上式を基に、格子番号
に対する格子周期に換算した結果を図13に示す。図4
および10と異なり、格子周期の変化が階段状となって
いることがわかる。
【0079】
【表3】
【0080】また、本発明による回折格子における格子
周期は、上記式1〜式4のみに限定されるものでなく、
格子周期が、yに比例するもの、y2に比例するもの
等、yのべき乗に比例するもの及びこれらの多項式に比
例するものも含まれる。
【0081】基板13及び回折格子部12の材料は使用
する波長を透過すれば良く、例えば、ガラス、石英、高
分子樹脂等の材料で形成される。回折格子の形成方法
は、電子ビーム描画、2P(Photo Polyme
rization)法、フォトリソグラフィー法等であ
るが、本実施の形態においては、精度、コスト等考慮し
てフォトリソグラフィー法(エッチングは反応性イオン
エッチング)を採用、材料は石英を使用した。
【0082】尚、ビーム数、対物レンズ、コリメータレ
ンズの焦点距離・NA、使用波長等の光学系の仕様が変
わっても本発明の効果に変わりはなく、単一ビームでの
信号の書き込み又は読み出しを行い、サブビームをトラ
ッキング等のサーボ信号として使用する光ディスク装置
においても同様の効果がある。
【0083】また、本発明による不等ピッチ回折格子の
効果はホログラムレーザユニットを用いた光ピックアッ
プに限定されるものではなく、発散又は収束光束中に回
折格子を置く場合においては十分効果を発揮するもので
ある。
【0084】
【発明の効果】本発明の回折格子によれば、メインビー
ムだけでなく高次のサブビームの波面収差をも抑えるこ
とができる。
【0085】また、本発明のマルチビーム光ピックアッ
プによれば、同様に、メインビームだけでなく高次のサ
ブビームの波面収差をも抑えることができ、スポット径
を十分絞り込み、各ビームのジッタ特性を向上できる。
よって、ビーム数を多くでき、より高速の読み出しが可
能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態に係るマルチビーム光ピ
ックアップの構成を示す図である。
【図2】数値例1の回折格子を用いたマルチビーム光ピ
ックアップ全体の波面収差を示す図である。
【図3】数値例1の不等ピッチ回折格子の波面収差を示
す図である。
【図4】数値例1の不等ピッチ回折格子の格子周期を示
す図である。
【図5】本発明の不等ピッチ回折格子の一例を示す概念
図である。
【図6】図1の不等ピッチ回折格子の格子形状を示す断
面図である。
【図7】本発明の不等ピッチ回折格子の格子形状の他の
例を示す概念図である。
【図8】本発明の不等ピッチ回折格子の格子形状のさら
に他の例を示す概念図である。
【図9】本発明における波面収差の多項式次数依存性を
示す図である。
【図10】数値例2の不等ピッチ回折格子の格子周期を
示す図である。
【図11】数値例2の回折格子を用いたピックアップ全
体の波面収差を示すグラフである。
【図12】数値例2の不等ピッチ回折格子の波面収差を
示すグラフである。
【図13】本発明の不等ピッチ回折格子の格子周期の他
の例を示す図である。
【図14】従来の光ピックアップを示す構成図である。
【図15】従来のマルチビーム光ピックアップを示す構
成図である。
【図16】従来の回折格子の形状を示す図である。
【図17】従来の回折格子の断面形状を示す図である。
【図18】従来のマルチビーム光ピックアップにおける
ピックアップ全体の波面収差を示す図である。
【図19】従来のマルチビーム光ピックアップにおける
回折格子の波面収差を示す図である。
【図20】従来の不等ピッチ回折格子を用いた光ピック
アップを示す構成図である。
【符号の説明】
1 マルチビーム光ピックアップ 2 ホログラムレーザユニット 3 コリメータレンズ 4 アパチャー 5 対物レンズ 6 ディスク 7 半導体レーザ 8 回折格子 9 ホログラム素子 10 内部受光部 11 ホログラムガラス 12 回折格子部 13 回折格子基板 14−1,2,3,4 回折格子凸部 pn 回折格子の格子周期
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 上山 徹男 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 (56)参考文献 特開 平9−161293(JP,A) 特開 昭61−273749(JP,A) 特開 平2−149943(JP,A) 特開 平4−311828(JP,A) 特開 平7−85523(JP,A) 特開 平7−153104(JP,A) 特開 平5−325217(JP,A) 特開 平2−277003(JP,A) 特開 昭57−141032(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 7/09 - 7/22 G02B 5/18 - 5/32

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ±2次以上の高次回折光を用いる回折格
    子であって、 前記 回折格子形成面上に直交する2つの対称軸を有し、
    格子形状が直線で形成され、前記2つの対称軸のうち第
    1の対称軸は格子に直角で、第2の対称軸は格子に平行
    であり、前記第2の対称軸により分割された部分の格子
    周期が中心部で小さく周辺に行くにつれて大きくなるよ
    うに変調され、かつ、±2次以上の高次回折光の波面収
    差を小さくするように格子周期が決められていることを
    特徴とする複数ビーム生成用回折格子。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の複数ビーム生成用回折
    格子において、 前記格子に対し直角方向をy座標に取り、前記第2の
    称軸上のy座標を0とし、さらにy=0からの回折格子
    番号をnとしたとき、 回折格子番号nのy座標が、 f(y,n)=0 を満たしており、f(y,n)が a・y−b・y3−c・n (ただし、a,b,cは定数で同符号、n=±1,±
    2,±3,…)なる項を含む多項式からなることを特徴
    とする複数ビーム生成用回折格子。
  3. 【請求項3】 請求項1に記載の複数ビーム生成用回折
    格子において、 前記回折格子の周期が階段状に変化していることを特徴
    とする複数ビーム生成用回折格子。
  4. 【請求項4】 回折格子の±2次以上の高次回折光を用
    いて、光源から出射される出射光をメインビーム及び複
    数のサブビームに分割し、光学系を介して前記メインビ
    ーム及び前記サブビームを光記録媒体に照射すること
    で、該光記録媒体の複数のトラックに対して同時に情報
    を記録または再生するマルチビーム光ピックアップにお
    いて、 前記回折格子は格子形状が直線で形成されており、光学
    系全体での前記メインビーム及び前記サブビームの波面
    収差が小さくなるよう、格子周期が変調されていること
    を特徴とするマルチビーム光ピックアップ。
  5. 【請求項5】 回折格子の±2次以上の高次回折光を用
    いて、光源から出射される出射光をメインビーム及び複
    数のサブビームに分割し、前記メインビーム及び前記サ
    ブビームを光記録媒体に照射して、該光記録媒体の複数
    のトラックに対して同時に情報を記録または再生するマ
    ルチビーム光ピックアップにおいて、 前記回折格子形成面上に直交する2つの対称軸を有し、
    格子形状が直線で形成され、前記2つの対称軸のうち第
    1の対称軸は格子に直角で、第2の対称軸は格子に平行
    であり、前記第2の対称軸により分割された部分の格子
    周期が中心部で小さく周辺に行くにつれて大きく形成さ
    れていることを特徴とするマルチビーム光ピックアッ
    プ。
  6. 【請求項6】 請求項5に記載のマルチビーム光ピック
    アップにおいて、 前記格子に対し直角方向をy座標に取り、前記第2の
    称軸上のy座標を0とし、さらにy=0からの回折格子
    番号をnとしたとき、 回折格子番号nのy座標が、 f(y,n)=0 を満たしており、f(y,n)が a・y−b・y3−c・n (ただし、a,b,cは定数で同符号、n=±1,±
    2,±3,…)なる項を含む多項式からなることを特徴
    とするマルチビーム光ピックアップ。
  7. 【請求項7】 請求項4乃至請求項6のいずれかに記載
    のマルチビーム光ピックアップにおいて、 前記回折格子は、前記光源からの出射光を透過して、前
    記出射光を前記メインビーム及び前記サブビームに分割
    することを特徴とするマルチビーム光ピックアップ。
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