JP3456303B2 - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JP3456303B2
JP3456303B2 JP12108295A JP12108295A JP3456303B2 JP 3456303 B2 JP3456303 B2 JP 3456303B2 JP 12108295 A JP12108295 A JP 12108295A JP 12108295 A JP12108295 A JP 12108295A JP 3456303 B2 JP3456303 B2 JP 3456303B2
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淳 荒木
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Fujitsu Ltd
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02DCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN INFORMATION AND COMMUNICATION TECHNOLOGIES [ICT], I.E. INFORMATION AND COMMUNICATION TECHNOLOGIES AIMING AT THE REDUCTION OF THEIR OWN ENERGY USE
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、メモリセルに対するデ
ータの書換えを行うことにより機能を変更することがで
きる半導体集積回路に関する。
【0002】
【従来の技術】たとえば、開発用あるいは汎用性を求め
るワンチップ・マイクロコンピュータは、動作周波数の
変更や、動作開始時のアイドリング時間の変更や、オー
プンドレイン形の出力回路の出力を受けるための抵抗を
チップ内部で接続するか否かの選択などを行うことがで
きるように構成されることが要請される。
【0003】そこで、開発用あるいは汎用性を求めるワ
ンチップ・マイクロコンピュータは、動作速度などの一
定の機能については変更できるものとし、このため、機
能設定データ(オプション・データ)発生回路を内蔵
し、電源投入時に、この機能設定データ発生回路から出
力される機能設定データに基づいた機能の設定を行うこ
とができるように構成される。
【0004】ここに、図6は、従来の開発用あるいは汎
用性を求めるワンチップ・マイクロコンピュータが内蔵
する機能設定データ発生回路の一例を示す回路図であ
る。
【0005】図6中、1は機能設定データを記憶させる
ための書換え可能な不揮発性メモリセルであるEPRO
M(Erasable and Programmable Read Only Menor
y)セル、WSはEPROMセル1が記憶する機能設定
データを読出すためのワードセレクト信号である。
【0006】また、2はEPROMセル1が記憶する機
能設定データを読出すための電流センス型センスアンプ
であり、VDDは電源電圧、3〜8はnMOSトランジ
スタ、9〜13はpMOSトランジスタである。
【0007】また、SA、/SAはセンスアンプ活性化
信号であり、センスアンプ活性化信号SAは、電源投入
時には高レベル(以下、Hレベルという)とされ、機能
設定データが出力されると、低レベル(以下、Lレベル
という)とされ、センスアンプ活性化信号/SAは、電
源投入時にはLレベルとされ、機能設定データが出力さ
れると、Hレベルとされる。
【0008】また、14は電流センス型センスアンプ2
から出力される機能設定データをラッチするためのラッ
チ回路である。
【0009】この機能設定データ発生回路においては、
電源投入時、センスアンプ活性化信号SA=Hレベル、
センスアンプ活性化信号/SA=Lレベルとされ、nM
OSトランジスタ3、4=オン状態、pMOSトランジ
スタ9、10=オン状態とされ、電流センス型センスア
ンプ2が活性状態とされると共に、ワードセレクタ信号
WS=Hレベルとされ、EPROMセル1が読出し状態
とされる。
【0010】この場合において、EPROMセル1に対
して書込みが行われている場合には、EPROMセル1
はオン状態とはならないので、EPROMセル1のドレ
イン・ソース間には電流が流れず、ノード15のレベル
=Hレベルとなる。
【0011】この結果、この場合には、ノード16のレ
ベル=Hレベル、pMOSトランジスタ11、12=オ
フ状態、nMOSトランジスタ6、7=オン状態、ノー
ド17のレベル=Lレベル、pMOSトランジスタ13
=オン状態、nMOSトランジスタ8=オフ状態とな
り、電流センス型センスアンプ2から機能設定データと
してHレベルが出力され、これがラッチ回路14にラッ
チされる。
【0012】これに対して、EPROMセル1に対して
書込みが行われていない場合には、EPROMセル1は
オン状態となるので、EPROMセル1のドレイン・ソ
ース間に電流が流れ、ノード15のレベル=Lレベルと
なる。
【0013】この結果、この場合には、ノード16のレ
ベル=Lレベル、pMOSトランジスタ11、12=オ
ン状態、nMOSトランジスタ6、7=オフ状態、ノー
ド17のレベル=Hレベル、pMOSトランジスタ13
=オフ状態、nMOSトランジスタ8=オン状態とな
り、電流センス型センスアンプ2から機能設定データと
してLレベルが出力され、これがラッチ回路14にラッ
チされる。
【0014】ここに、機能設定データがラッチ回路14
にラッチされると、センスアンプ活性化信号SA=Lレ
ベル、センスアンプ活性化信号/SA=Hレベルとさ
れ、nMOSトランジスタ3、4=オフ状態、pMOS
トランジスタ9、10=オフ状態とされ、電流センス型
センスアンプ2が非活性状態とされると共に、ワードセ
レクタ信号WS=Lレベルとされる。
【0015】この機能設定データ発生回路においては、
たとえば、EPROMセル1に書込みが行われていない
場合には、EPROMセル1を読出し状態にした場合、
読出し状態とした期間、常に、nMOSトランジスタ3
及びEPROMセル1に貫通電流が流れてしまうので、
消費電力が増加してしまうという問題点があった。
【0016】また、この機能設定データ発生回路におい
ては、電流センス型センスアンプ2が設けられている
が、電流センス型センスアンプ2は必要とする素子数が
多く、このため、チップサイズが大きくなり、価格の増
加を招いてしまうという問題点もあった。
【0017】そこで、また、従来、図7に示すような機
能設定データ発生回路が提案されており、従来の開発用
あるいは汎用性を求めるワンチップ・マイクロコンピュ
ータに内蔵されている。
【0018】図7中、19は機能設定データを記憶させ
るための機能設定データ記憶回路であり、20、21は
EPROMセル、22はEPROMセル20、21のコ
ントロール・ゲートにワードセレクト信号WSを供給す
るためのワード線、23はプリチャージ電圧にプリチャ
ージされるべきビット線である。
【0019】また、24は機能設定データ記憶回路19
が記憶する機能設定データを読出すためのプリチャージ
型センスアンプであり、25はビット線23をプリチャ
ージするためのプリチャージ回路、26はビット線23
の電圧をセンスして機能設定データを出力するセンス出
力回路である。
【0020】また、プリチャージ回路25において、2
7〜29はnMOSトランジスタであり、センス出力回
路26において、30はpMOSトランジスタ、31、
32はnMOSトランジスタである。
【0021】また、33はプリチャージ型センスアンプ
24から出力される機能設定データをラッチするラッチ
回路である。
【0022】また、34は外部から入力される外部クロ
ックCLKAを波形整形し、所定の内部回路から発生さ
れるクロック制御信号により指示される周波数の内部シ
ステム用クロックCLKBを出力する内部システム用ク
ロック発生回路である。
【0023】また、35は内部システム用クロック発生
回路34から出力される内部システム用クロックCLK
Bをクロック制御信号が指示する周波数に分周して、プ
リチャージ回路25に供給すべきプリチャージ制御パル
スPC及びラッチ回路33に供給すべきラッチ制御パル
スRTを生成するクロック分周回路である。
【0024】なお、この例では、クロック制御信号は、
機能設定データが出力される前に発生させなければなら
ないことから、製造過程での配線オプションにより内容
が固定されている。
【0025】この機能設定データ発生回路においては、
電源投入後、電源電圧VDDが安定すると、外部から外
部クロックCLKAが供給され、内部システム用クロッ
ク発生回路34から内部システム用クロックCLKB
出力され、クロック分周回路35からはHレベルのプリ
チャージ制御パルスPCが出力される。
【0026】この結果、プリチャージ回路25において
は、nMOSトランジスタ27、29がオン状態とな
り、nMOSトランジスタ27を介してビット線23に
対するプリチャージが開始される。
【0027】その後、プリチャージ制御パルスPCがL
レベルになると、プリチャージ回路25においては、n
MOSトランジスタ27、29がオフ状態となり、ビッ
ト線23に対するプリチャージが終了する。
【0028】続いて、ワードセレクト信号WSがHレベ
ルとされ、機能設定データ記憶回路19のEPROMセ
ル20、21が読出し状態とされる。
【0029】この場合において、EPROMセル20、
21に書込みが行われている場合には、EPROMセル
20、21はオン状態とはならないので、プリチャージ
回路25によるプリチャージによりビット線23に蓄積
されている電荷は引き抜かれず、ビット線23はプリチ
ャージ電圧を維持する。
【0030】この結果、この場合には、センス出力回路
26においては、pMOSトランジスタ30=オフ状
態、nMOSトランジスタ31、32=オン状態とな
り、センス出力回路26から機能設定データとしてLレ
ベルが出力され、これがラッチ回路33にラッチされ
る。
【0031】これに対して、EPROMセル20、21
に書込みが行われていない場合には、EPROMセル2
0、21はオン状態となるので、プリチャージ回路25
によるプリチャージによりビット線23に蓄積されてい
る電荷はEPROMセル20、21を介して接地側に引
き抜かれ、ビット線23の電圧は接地電圧に引き下げら
れる。
【0032】この結果、この場合には、センス出力回路
26においては、pMOSトランジスタ30=オン状
態、nMOSトランジスタ31、32=オフ状態とな
り、センス出力回路26から機能設定データとしてHレ
ベルが出力され、これがラッチ回路33にラッチされ
る。
【0033】ここに、プリチャージ型センスアンプ24
はビット線23をプリチャージすることによりEPRO
Mセル20、21の記憶データを読出すようにしている
ので、図6に示す電流センス型センスアンプ2よりも消
費電流が少なく、したがって、この機能設定データ発生
回路を内蔵する場合には、消費電力の低減化を図ること
ができる。
【0034】また、プリチャージ型センスアンプ24は
図6に示す電流センス型センスアンプ2よりも必要とす
る素子数が少ないので、この機能設定データ発生回路を
内蔵する場合には、チップサイズを縮小化し、価格の低
減化を図ることができる。
【0035】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この機能設定
データ発生回路は、外部クロックCLKAが供給される
ことにより発生させる内部システム用クロックCLKB
を分周してプリチャージ制御パルスPCを発生させると
しているが、外部クロックCLKAは、電源投入後、電
源電圧VDDが安定するまでは供給されることはない。
【0036】このため、この機能設定データ発生回路を
内蔵する場合には、電源投入後、直ちに機能設定データ
を発生させ、外部クロックCLKAが供給される前に機
能設定データに基づく機能設定を行うことができないと
いう問題点があった。
【0037】また、この機能設定データ発生回路におい
ては、内部システム用クロックCLKBの周波数を指示
するクロック制御信号は、製造過程の配線オプションに
より内容を固定されてしまうので、内部システム用クロ
ックCLKBの周波数を変更することができないという
問題点もあった。
【0038】本発明は、かかる点に鑑み、機能設定デー
タ発生回路における消費電流の低減化による消費電力の
低減化と、チップサイズの縮小化による価格の低減化
と、電源投入後の機能設定の高速化と、機能設定データ
による動作周波数の変更の可能化とを併せて図ることが
できるようにした半導体集積回路を提供することを目的
とする。
【0039】
【課題を解決するための手段】図1は本発明の原理説明
図であり、本発明による半導体集積回路は、初期化パル
ス発生回路37と、プリチャージ制御パルス供給路38
と、センスアンプ39と、所定の配線40と、メモリセ
ル41とを有してなる機能設定データ発生回路42を内
蔵して構成される。
【0040】ここに、初期化パルス発生回路37は、電
源電圧立ち上がり時に初期化のための初期化パルスを発
生するものであり、この初期化パルスは、初期化を必要
とする内部回路に供給される。
【0041】また、プリチャージ制御パルス供給路38
は、初期化パルス発生回路37から出力される初期化パ
ルスをプリチャージ制御パルスとしてセンスアンプ39
に供給するものである。
【0042】また、センスアンプ39は、プリチャージ
制御パルスとして供給される初期化パルスに制御されて
所定の配線40をプリチャージすると共に、所定の配線
40の電位を検出することにより、選択可能な機能を設
定するための機能設定データを出力するものである。
【0043】また、メモリセル41は、読出し状態とさ
れた場合において、書込みが行われている場合には、セ
ンスアンプ39によるプリチャージにより所定の配線4
0に蓄積されている電荷を引き抜かず、書込みが行われ
ていない場合には、センスアンプ39によるプリチャー
ジにより所定の配線40に蓄積されている電荷を引き抜
くようにされたものである。
【0044】
【作用】本発明においては、機能設定データ発生回路4
2は、プリチャージ制御パルスに制御されて所定の配線
40をプリチャージすると共に、所定の配線40の電位
を検出することにより機能設定データを出力するセンス
アンプ39、いわゆる、プリチャージ型センスアンプを
設けるとしているので、消費電流を低減化することがで
きると共に、チップサイズを縮小化することができる。
【0045】また、機能設定データ発生回路42は、電
源電圧立ち上がり時に初期化パルス発生回路37から出
力される初期化パルスをプリチャージ制御パルスとして
センスアンプ39に供給するようにしていることから、
外部から外部クロックが供給される前に機能設定データ
を出力させることができると共に、機能設定データによ
り動作周波数の変更を行うこともできる。
【0046】
【実施例】以下、図2〜図5を参照して、参考例の半導
体集積回路及び本発明の一実施例につき、ワンチップ・
マイクロコンピュータを例にして説明する。
【0047】(参考例の半導体集積回路・・図2〜図
4) 図2は参考例の半導体集積回路の要部を示す回路図であ
り、参考例の半導体集積回路が内蔵する機能設定データ
発生回路を示している。
【0048】図2中、44は機能設定データを記憶させ
るための機能設定データ記憶回路であり、45、46は
EPROMセル、47はEPROMセル45、46のコ
ントロール・ゲートにワードセレクト信号WSを供給す
るためのワード線、48はプリチャージ電圧にプリチャ
ージされるべきビット線である。
【0049】また、49は機能設定データ記憶回路44
が記憶する機能設定データを読出すためのプリチャージ
型センスアンプであり、50はビット線48をプリチャ
ージするためのプリチャージ回路、51はビット線48
の電圧をセンスして機能設定データを出力するセンス出
力回路である。
【0050】また、プリチャージ回路50において、5
2〜54はnMOSトランジスタであり、センス出力回
路51において、55はpMOSトランジスタ、56、
57はnMOSトランジスタである。
【0051】また、58はプリチャージ型センスアンプ
49から出力される機能設定データをラッチするラッチ
回路である。
【0052】また、59は内部回路の初期状態を設定す
る初期化パルスを発生する初期化パルス発生回路、いわ
ゆる、パワーオンリセットパルスPOを発生するパワー
オンリセットパルス発生回路である。
【0053】このパワーオンリセットパルス発生回路5
9において、60はパルス発生回路部であり、61、6
2はpMOSトランジスタ、63、64はnMOSトラ
ンジスタである。
【0054】また、65はパルス発生回路部60から出
力されるパルスを遅延する遅延回路部であり、66〜6
8はpMOSトランジスタ、69〜71はnMOSトラ
ンジスタ、72〜74はキャパシタである。
【0055】また、75は遅延回路部65から出力され
るパルスを波形整形してパワーオンリセットパルスPO
を出力するシュミットトリガ・インバータである。
【0056】また、76はビット線48のプリチャージ
電圧が十分な値になるようにパワーオンリセットパルス
POを遅延する遅延回路であり、77、78はインバー
タである。
【0057】ここに、図3、図4は、この機能設定デー
タ発生回路の動作を示す電圧波形図であり、特に、図3
はEPROMセル45、46に書込みが行われている場
合、図4はEPROMセル45、46に書込みが行われ
ていない場合である。
【0058】これら図3、図4において、実線80は電
源電圧VDDの波形、短破線81はパワーオンリセット
パルス発生回路59のパルス発生回路部60のノード8
2の電圧波形、一点鎖線83は遅延回路76の出力端の
電圧波形、二点鎖線84はビット線48の電圧波形、長
破線85はプリチャージ型センスアンプ49のセンス出
力回路51のノード86の電圧波形を示している。
【0059】即ち、この機能設定データ発生回路におい
ては、電源が投入されると、電源電圧VDDは、接地電
圧から動作電圧に向かって上昇を開始し、この結果、パ
ワーオンリセットパルス発生回路59のパルス発生回路
部60のノード82の電圧は、pMOSトランジスタ6
1からなるキャパシタのカップリング効果により上昇
し、所定電圧のパルスを発生する。
【0060】このパルスは、遅延回路部65により遅延
されて、更に、シュミットトリガ・インバータ75で波
形整形されて、パワーオンリセットパルスPOとしてパ
ワーオンリセットパルス発生回路59から出力され、初
期状態の設定を必要とする内部回路に供給されると共
に、遅延回路76により遅延されて、プリチャージ型セ
ンスアンプ49のプリチャージ回路50のnMOSトラ
ンジスタ52、54に供給される。
【0061】この結果、プリチャージ回路50において
は、nMOSトランジスタ52、54がオン状態とな
り、nMOSトランジスタ52を介して機能設定データ
記憶回路44のビット線48に対するプリチャージが開
始される。
【0062】その後、パワーオンリセットパルスPOは
Lレベルとなり、プリチャージ回路50においては、n
MOSトランジスタ52、54がオフ状態となり、ビッ
ト線48に対するプリチャージは終了する。
【0063】続いて、ワードセレクト信号WSがHレベ
ルとされ、機能設定データ記憶回路44のEPROMセ
ル45、46が読出し状態とされる。
【0064】この場合において、EPROMセル45、
46に書込みが行われている場合には、EPROMセル
45、46はオン状態とはならないので、プリチャージ
回路50によるプリチャージによりビット線48に蓄積
されている電荷は引き抜かれず、ビット線48はプリチ
ャージ電圧を維持する。
【0065】この結果、この場合には、センス出力回路
51においては、pMOSトランジスタ55=オフ状
態、nMOSトランジスタ56、57=オン状態とな
り、センス出力回路51から機能設定データとしてLレ
ベルが出力され、これがラッチ回路58にラッチされ
る。
【0066】これに対して、EPROMセル45、46
に書込みが行われていない場合には、EPROMセル4
5、46はオン状態となるので、プリチャージ回路50
によるプリチャージによりビット線48に蓄積されてい
る電荷はEPROMセル45、46を介して接地側に引
き抜かれ、ビット線48の電圧は接地電圧に引き下げら
れる。
【0067】この結果、この場合には、センス出力回路
51においては、pMOSトランジスタ55=オン状
態、nMOSトランジスタ56、57=オフ状態とな
り、センス出力回路51から機能設定データとしてHレ
ベルが出力され、これがラッチ回路58にラッチされ
る。
【0068】ここに、参考例の半導体集積回路によれ
ば、機能設定データ発生回路は、図6に示す電流センス
型センスアンプ2よりも消費電流が少なく、かつ、素子
数が少なくてすむプリチャージ型センスアンプ49を設
けているので、機能設定データ発生回路における消費電
流の低減化と、チップサイズの縮小化を図ることができ
る。
【0069】また、参考例の半導体集積回路において
は、電源投入後に直ちにパワーオンリセットパルス発生
回路59から出力されるパワーオンリセットパルスPO
をプリチャージ制御パルスとして、遅延回路76を介し
て、プリチャージ回路50に供給するようにしているの
で、外部から外部クロックが供給される前に機能設定デ
ータを出力させることができると共に、機能設定データ
により動作周波数の変更を行うことができる。
【0070】即ち、参考例の半導体集積回路によれば、
機能設定データ発生回路における消費電流の低減化によ
る消費電力の低減化と、チップサイズの縮小化による価
格の低減化と、電源投入後の機能設定の高速化と、機能
設定データによる動作周波数の変更の可能化とを併せて
図ることができる。
【0071】(本発明の一実施例・・図5) 図5は本発明の一実施例の要部を示す回路図であり、
発明の一実施例が内蔵する機能設定データ発生回路を示
している。
【0072】図5中、88は外部から供給される外部ク
ロックCLKAを波形整形し、所定の内部回路から発生
されるクロック制御信号により指示される周波数の内部
システム用クロックCLKBを出力する内部システム用
クロック発生回路である。
【0073】また、89は内部システム用クロック発生
回路88から出力される内部システム用クロックCLK
Bをクロック制御信号が指示する周波数に分周して、プ
リチャージ型センスアンプ49のプリチャージ回路50
に供給すべきプリチャージ制御パルスPC及びラッチ回
路58に供給すべきラッチ制御パルスRTを生成するク
ロック分周回路である。
【0074】この機能設定データ発生回路においては、
その構成上、クロック制御信号は、機能設定データによ
り内容を変更することができるようにされている。
【0075】また、90は電源投入後、まず、パワーオ
ンリセットパルス発生回路59から出力されるパワーオ
ンリセットパルスPOを通過させ、その後、クロック分
周回路89から出力されるプリチャージ制御パルスPC
を通過させるように構成された使用パルス切替え回路で
ある。
【0076】即ち、本発明の一実施例は、クロック分周
回路89と使用パルス切替え回路90とを参考例の半導
体集積回路に付加し、電源投入後、まず、パワーオンリ
セットパルス発生回路59から出力されるパワーオンリ
セットパルスPOを遅延回路76を介してプリチャージ
制御パルスとしてプリチャージ回路50に供給し、その
後、クロック分周回路89から出力されるプリチャージ
制御パルスPCを遅延回路76を介してプリチャージ回
路50に供給するようにし、その他については、参考例
の半導体集積回路と同様に構成したものである。
【0077】本発明の一実施例においては、電源が投入
されると、参考例の半導体集積回路の場合と同様にし
て、プリチャージ型センスアンプ49から機能設定デー
タが出力され、これがラッチ回路58にラッチされる。
【0078】この場合において、仮に、ビット線48の
プリチャージ電圧が低く、クロック制御信号の内容を設
定するための機能設定データを除く機能設定データが正
常に出力されなかったとしても、その後、クロック分周
回路89から出力されるプリチャージ制御パルスPCが
使用パルス切替え回路90及び遅延回路76を介してプ
リチャージ回路50に供給されるので、パワーオンリセ
ットパルスPOの供給では正常に出力させることができ
なかった機能設定データを正常に出力させることができ
る。
【0079】本発明の一実施例によれば、参考例の半導
体集積回路の場合と同様に、機能設定データ発生回路
は、図6に示す電流センス型センスアンプ2よりも消費
電流が少なく、かつ、素子数が少なくてすむプリチャー
ジ型センスアンプ49を設けているので、機能設定デー
タ発生回路における消費電流の低減化と、チップサイズ
の縮小化を図ることができる。
【0080】また、本発明の一実施例によれば、参考例
の半導体集積回路の場合と同様に、電源投入後に直ちに
パワーオンリセットパルス発生回路59から出力される
パワーオンリセットパルスPOをプリチャージ制御パル
スとして遅延回路76を介してプリチャージ回路50に
供給するようにしているので、外部から外部クロックC
LKAが供給される前に機能設定データを出力させるこ
とができると共に、機能設定データにより動作周波数の
変更を行うことができる。
【0081】即ち、本発明の一実施例によれば、参考例
の半導体集積回路の場合と同様に、機能設定データ発生
回路における消費電流の低減化による消費電力の低減化
と、チップサイズの縮小化による価格の低減化と、電源
投入後の機能設定の高速化と、機能設定データによる動
作周波数の変更の可能化とを併せて図ることができる。
【0082】また、特に、本発明の一実施例によれば、
パワーオンリセットパルスPO及びプリチャージ制御パ
ルスPCを順に、プリチャージ回路50に必要なプリチ
ャージ制御パルスとして供給するようにしているので、
機能設定データを参考例の半導体集積回路の場合よりも
確実に出力させることができ、動作の安定化を図ること
ができる。
【0083】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、機能設
定データ発生回路は、センスアンプとしてプリチャージ
型センスアンプを設けると共に、電源電圧立ち上がり時
に初期化パルス発生回路から出力される初期化パルスを
プリチャージ制御パルスとして利用するとしているの
で、機能設定データ発生回路における消費電流の低減化
による消費電力の低減化と、チップサイズの縮小化によ
る価格の低減化と、電源投入後の機能設定の高速化と、
機能設定データによる動作周波数の変更の可能化とを図
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の原理説明図である。
【図2】参考例の半導体集積回路の要部を示す回路図で
ある。
【図3】参考例の半導体集積回路が内蔵する機能設定デ
ータ発生回路の動作を示す電圧波形図である。
【図4】参考例の半導体集積回路が内蔵する機能設定デ
ータ発生回路の動作を示す電圧波形図である。
【図5】本発明の一実施例の要部を示す回路図である。
【図6】従来の開発用あるいは汎用性を求めるワンチッ
プ・マイクロコンピュータが内蔵する機能設定データ発
生回路の一例を示す回路図である。
【図7】従来の開発用あるいは汎用性を求めるワンチッ
プ・マイクロコンピュータが内蔵する機能設定データ発
生回路の他の例を示す回路図である。
【符号の説明】
PO パワーオンリセットパルス WS ワードセレクト信号 CLKA 外部クロック CLKB 内部システム用クロック PC プリチャージ制御パルス RT ラッチ制御パルス
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G06F 15/78 510 G11C 16/02 G11C 16/06

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】所定の配線と、 機能設定データを記憶し、該機能設定データの読み出し
    時、書き込みが行われている場合には、プリチャージさ
    れた前記所定の配線の電荷を引き抜かず、書き込みが行
    われていない場合には、プリチャージされた前記所定の
    配線の電荷を引き抜くメモリセルと、 前記機能設定データの読み出し前、プリチャージ制御パ
    ルスに応答して前記所定の配線をプリチャージし、前記
    機能設定データの読み出し時、前記所定の配線の電位を
    検出することにより、前記メモリセルから前記機能設定
    データを読み出すセンスアンプと、 電源電圧立ち上がり時に初期化のための初期化パルスを
    発生する初期化パルス発生回路を有する半導体集積回路
    において、 前記初期化パルス発生回路から出力される前記初期化パ
    ルスとクロック信号が供給され、電源投入後には前記初
    期化パルスを前記プリチャージ制御パルスとして前記セ
    ンスアンプに供給し、前記初期化パルスが供給された後
    には前記クロック信号を前記プリチャージ制御パルスと
    して前記センスアンプに供給する使用パルス切替え回路
    を有する ことを特徴とする半導体集積回路。
  2. 【請求項2】前記プリチャージ制御パルスが前記センス
    アンプに供給されるプリチャージ制御パルス供給路には
    遅延回路が配置されていることを特徴とする請求項1記
    載の半導体集積回路。
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