JP3454232B2 - 複合めっき皮膜 - Google Patents
複合めっき皮膜Info
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- JP3454232B2 JP3454232B2 JP2000218665A JP2000218665A JP3454232B2 JP 3454232 B2 JP3454232 B2 JP 3454232B2 JP 2000218665 A JP2000218665 A JP 2000218665A JP 2000218665 A JP2000218665 A JP 2000218665A JP 3454232 B2 JP3454232 B2 JP 3454232B2
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、銀、パラジウム、
白金、ロジウム、及びインジウムから選択される１種の
金属を表面に被覆した複合めっき皮膜に関する。
白金、ロジウム、及びインジウムから選択される１種の
金属を表面に被覆した複合めっき皮膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、銀などの貴金属は、装身具や
洋食器等の装飾用めっきとして用いられており、近年に
おいては、これら貴金属が有する機能性に着目し、電
子、通信機器の部品や機械部品などの工業用めっきとし
ても用いられている。
洋食器等の装飾用めっきとして用いられており、近年に
おいては、これら貴金属が有する機能性に着目し、電
子、通信機器の部品や機械部品などの工業用めっきとし
ても用いられている。
【０００３】例えば、コネクタやプリント回路基板、機
器スリップリング、スイッチ、バッテリ等の電流輸送デ
バイスの電気接点においては、安定した接続または断続
が継続維持される必要があり、これら電気接点の表面処
理として、接触電気抵抗が低く、且つ、耐摩耗性に優れ
た貴金属めっきが用いられている。
器スリップリング、スイッチ、バッテリ等の電流輸送デ
バイスの電気接点においては、安定した接続または断続
が継続維持される必要があり、これら電気接点の表面処
理として、接触電気抵抗が低く、且つ、耐摩耗性に優れ
た貴金属めっきが用いられている。
【０００４】これら貴金属めっきの中でも特に銀めっき
は、機械的性質に優れており、例えば荷重がかかる摺動
部材のめっきや、ボルトのめっきとして用いられてい
る。また、ロジウムめっきは優れた光沢性、反射特性を
有することから、光学機器の表面処理としても用いられ
ている。
は、機械的性質に優れており、例えば荷重がかかる摺動
部材のめっきや、ボルトのめっきとして用いられてい
る。また、ロジウムめっきは優れた光沢性、反射特性を
有することから、光学機器の表面処理としても用いられ
ている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このように、貴金属め
っきは、装飾用、工業用ともに多くの製品の表面処理と
して用いられているが、例えば、水分その他の汚れが付
着する可能性が高い環境下で使用される場合にあって
は、これら汚れに起因した錆などの腐食、変色等が生じ
易く、装飾の用途においては、本来の色調や光沢が損な
われ、また、電気接点に利用した場合には、容易に電気
瞬断等の接触不良が生じ、ネジ等の機械部品や光学機器
に用いた場合には、かじりや反射率の低下などの問題が
生じていた。
っきは、装飾用、工業用ともに多くの製品の表面処理と
して用いられているが、例えば、水分その他の汚れが付
着する可能性が高い環境下で使用される場合にあって
は、これら汚れに起因した錆などの腐食、変色等が生じ
易く、装飾の用途においては、本来の色調や光沢が損な
われ、また、電気接点に利用した場合には、容易に電気
瞬断等の接触不良が生じ、ネジ等の機械部品や光学機器
に用いた場合には、かじりや反射率の低下などの問題が
生じていた。
【０００６】本発明は係る現況に鑑みて為されたもので
あり、錆等の腐食や変色の原因となる汚れが付着し難
く、付着しても容易に除去することができ、万一、その
一部が剥離した場合であっても、その機能が長期間維持
される複合めっき皮膜を提供せんとするものである。
あり、錆等の腐食や変色の原因となる汚れが付着し難
く、付着しても容易に除去することができ、万一、その
一部が剥離した場合であっても、その機能が長期間維持
される複合めっき皮膜を提供せんとするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者は前述の課題を
解決するにあたり鋭意検討を進めた結果、これら貴金属
を被覆する際の下地に、ニッケル並びにフッ素系高分子
化合物が共析した複合ニッケルめっき層を予め設けてお
くことで、当該複合めっき皮膜の機能が長期間維持され
ることを見出し、本発明を完成するに至った。
解決するにあたり鋭意検討を進めた結果、これら貴金属
を被覆する際の下地に、ニッケル並びにフッ素系高分子
化合物が共析した複合ニッケルめっき層を予め設けてお
くことで、当該複合めっき皮膜の機能が長期間維持され
ることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】すなわち本発明は、素材表面に、ニッケル
並びにフッ素系高分子化合物が共析される複合ニッケル
めっき層を設け、これにめっき処理を施して、銀、パラ
ジウム、白金、ロジウム、及びインジウムから選択され
る１種の金属並びにフッ素系高分子化合物を共析させた
被覆層を表面に形成してなることを特徴とする複合めっ
き皮膜を提供する。
並びにフッ素系高分子化合物が共析される複合ニッケル
めっき層を設け、これにめっき処理を施して、銀、パラ
ジウム、白金、ロジウム、及びインジウムから選択され
る１種の金属並びにフッ素系高分子化合物を共析させた
被覆層を表面に形成してなることを特徴とする複合めっ
き皮膜を提供する。
【０００９】特に、前記複合ニッケルめっき層に置換め
っき処理を施し、選択された１種の金属を析出させ、そ
の表面にめっき処理を施し、前記選択された１種の金属
とフッ素系高分子化合物を共析させてなるものが好まし
い。
っき処理を施し、選択された１種の金属を析出させ、そ
の表面にめっき処理を施し、前記選択された１種の金属
とフッ素系高分子化合物を共析させてなるものが好まし
い。
【００１０】また、前記選択された１種の金属の表面に
被覆させた後、２２０〜３６０℃の温度で熱処理を施し
てなるものが好ましい。
被覆させた後、２２０〜３６０℃の温度で熱処理を施し
てなるものが好ましい。
【００１１】また本発明は、素材表面に、ニッケル並び
にフッ素系高分子化合物が共析される複合ニッケルめっ
き層を設け、これにめっき処理を施して、銀、パラジウ
ム、白金、ロジウム、及びインジウムから選択される１
種の金属を表面に被覆させた後、２２０〜３６０℃の温
度で熱処理を施してなることを特徴とする複合めっき皮
膜をも提供する。
にフッ素系高分子化合物が共析される複合ニッケルめっ
き層を設け、これにめっき処理を施して、銀、パラジウ
ム、白金、ロジウム、及びインジウムから選択される１
種の金属を表面に被覆させた後、２２０〜３６０℃の温
度で熱処理を施してなることを特徴とする複合めっき皮
膜をも提供する。
【００１２】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態を添付図
面に基づいて詳細に説明する。図１及び図２は、本発明
の第１実施形態、図３〜４は第２実施形態を示し、図中
符号１は複合めっき皮膜、２は被覆層、３は複合ニッケ
ルめっき層、４は素材をそれぞれ示している。
面に基づいて詳細に説明する。図１及び図２は、本発明
の第１実施形態、図３〜４は第２実施形態を示し、図中
符号１は複合めっき皮膜、２は被覆層、３は複合ニッケ
ルめっき層、４は素材をそれぞれ示している。
【００１３】本発明の複合めっき皮膜１は、図１に示す
ように、素材４の表面に、ニッケル３ｂ並びにフッ素系
高分子化合物３ｃが共析される複合ニッケルめっき層３
を設け、これにめっき処理を施して、銀、パラジウム、
白金、ロジウム、及びインジウムから選択される１種の
金属２ａを表面に被覆させたものであり、これら金属か
らなる被覆層２は、下地の複合ニッケルめっき層３に対
して強固に結合し、機械的強度等の耐久性が高く維持さ
れ、万一、その一部が剥離した場合であっても、その機
能が長期間維持されるものである。尚、以下の各実施形
態においては、前記金属として銀を選択した例について
述べるが、その他パラジウム、白金、ロジウム、インジ
ウムを選択した場合についても、同様にして処理するこ
とができる。
ように、素材４の表面に、ニッケル３ｂ並びにフッ素系
高分子化合物３ｃが共析される複合ニッケルめっき層３
を設け、これにめっき処理を施して、銀、パラジウム、
白金、ロジウム、及びインジウムから選択される１種の
金属２ａを表面に被覆させたものであり、これら金属か
らなる被覆層２は、下地の複合ニッケルめっき層３に対
して強固に結合し、機械的強度等の耐久性が高く維持さ
れ、万一、その一部が剥離した場合であっても、その機
能が長期間維持されるものである。尚、以下の各実施形
態においては、前記金属として銀を選択した例について
述べるが、その他パラジウム、白金、ロジウム、インジ
ウムを選択した場合についても、同様にして処理するこ
とができる。
【００１４】先ず、図１及び図２に基づき、本発明の第
１実施形態について説明する。
１実施形態について説明する。
【００１５】本実施形態の複合めっき皮膜１は、図１に
示すように、素材４に設けた複合ニッケルめっき層３の
表面に、さらに銀めっきを施したものであり、当該被覆
層２の表面には、後述の熱処理により移行析出したフッ
素系高分子化合物２ｃが存在している。
示すように、素材４に設けた複合ニッケルめっき層３の
表面に、さらに銀めっきを施したものであり、当該被覆
層２の表面には、後述の熱処理により移行析出したフッ
素系高分子化合物２ｃが存在している。
【００１６】このような複合めっき皮膜１は、図２に示
すように、先ず洗浄工程において素材４の表面上の不純
物４ｄが除去される。具体的には、（１）浸漬脱脂剤を
使用したアルカリ浸漬脱脂を常温で５分間行ない、
（２）水酸化ナトリウムを加えた電解脱脂剤を使用して
陰極電解脱脂を常温で５分間行ない、（３）１０重量％
の塩酸を使用した酸洗を常温で１分間行い、（４）塩化
ニッケルと塩酸を使用したニッケルストライクを常温で
１分間行なう。尚、これら各処理を終了する毎に、水洗
が行われる。
すように、先ず洗浄工程において素材４の表面上の不純
物４ｄが除去される。具体的には、（１）浸漬脱脂剤を
使用したアルカリ浸漬脱脂を常温で５分間行ない、
（２）水酸化ナトリウムを加えた電解脱脂剤を使用して
陰極電解脱脂を常温で５分間行ない、（３）１０重量％
の塩酸を使用した酸洗を常温で１分間行い、（４）塩化
ニッケルと塩酸を使用したニッケルストライクを常温で
１分間行なう。尚、これら各処理を終了する毎に、水洗
が行われる。
【００１７】次に、ＰＴＦＥ微粒子を界面活性剤で分散
させた無電解Ｎｉ−Ｐめっき浴を用いて、無電解めっき
処理により複合ニッケルめっき層３が形成される。
させた無電解Ｎｉ−Ｐめっき浴を用いて、無電解めっき
処理により複合ニッケルめっき層３が形成される。
【００１８】めっき処理時の浴条件は、（１）浴温が８
８〜９２℃、好ましくは９０〜９１℃、（２）浴比が
０．５〜１．５ｄｍ2／Ｌ、好ましくは略０．８ｄｍ2／
Ｌ、（３）ニッケル濃度が４．６〜５．１ｇ／Ｌ、好ま
しくは４．９〜５．０ｇ／Ｌ、（４）ｐＨが４．８〜
５．２、好ましくは４．９〜５．１である。
８〜９２℃、好ましくは９０〜９１℃、（２）浴比が
０．５〜１．５ｄｍ2／Ｌ、好ましくは略０．８ｄｍ2／
Ｌ、（３）ニッケル濃度が４．６〜５．１ｇ／Ｌ、好ま
しくは４．９〜５．０ｇ／Ｌ、（４）ｐＨが４．８〜
５．２、好ましくは４．９〜５．１である。
【００１９】前記フッ素系高分子化合物としては、炭化
水素基の水素部分を全て若しくはその一部をフッ素に置
換したパーフルオロアルキル基若しくはポリフルオロア
ルキル基を有する高分子化合物が好ましく、その中でも
ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロ
エチレン、ポリフッ化ビニリデン、テトラフルオロエチ
レン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体の１種若しく
は２種以上を用いることが好ましい。特に、前記ポリテ
トラフルオロエチレン（以下、単に「ＰＴＦＥ」と称
す。）を用いることが入手しやすい点で好ましい。
水素基の水素部分を全て若しくはその一部をフッ素に置
換したパーフルオロアルキル基若しくはポリフルオロア
ルキル基を有する高分子化合物が好ましく、その中でも
ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロ
エチレン、ポリフッ化ビニリデン、テトラフルオロエチ
レン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体の１種若しく
は２種以上を用いることが好ましい。特に、前記ポリテ
トラフルオロエチレン（以下、単に「ＰＴＦＥ」と称
す。）を用いることが入手しやすい点で好ましい。
【００２０】また、ニッケルめっき浴は、還元剤として
の次亜リン酸塩及び錯化剤を添加することで前記複合ニ
ッケルめっき層３中にリンを均一に析出させるものが好
ましい。このようにリンを均一に析出することで、複合
ニッケルめっき層３自体の耐食性は著しく向上する。
の次亜リン酸塩及び錯化剤を添加することで前記複合ニ
ッケルめっき層３中にリンを均一に析出させるものが好
ましい。このようにリンを均一に析出することで、複合
ニッケルめっき層３自体の耐食性は著しく向上する。
【００２１】この無電解めっき処理によって、略２．０
μｍ厚の複合ニッケルめっき層３が形成され、略３２体
積％のＰＴＦＥ微粒子３ｃが含有される。
μｍ厚の複合ニッケルめっき層３が形成され、略３２体
積％のＰＴＦＥ微粒子３ｃが含有される。
【００２２】次に、複合ニッケルめっき層３の表面に銀
めっき処理を行ない、これにより被覆層２が形成され
る。この銀めっき処理は、従来から行われている処理と
差異はなく、本例では、シアン化銀めっき浴を用いた電
解めっき処理により銀を析出しているが、その他の処理
として、無電解銀めっきや置換銀めっきなども当然に採
用できる。
めっき処理を行ない、これにより被覆層２が形成され
る。この銀めっき処理は、従来から行われている処理と
差異はなく、本例では、シアン化銀めっき浴を用いた電
解めっき処理により銀を析出しているが、その他の処理
として、無電解銀めっきや置換銀めっきなども当然に採
用できる。
【００２３】そして、本実施形態においては、以上のよ
うにして成膜された複合めっき皮膜１に対し、さらに２
２０〜３６０℃の温度で熱処理が施される。この熱処理
では、素材４、複合ニッケルめっき層３、及び被覆層２
を、２２０〜３６０℃でベーキングすることで、複合め
っき皮膜１中のＰＴＦＥ微粒子を溶融、拡散、更には表
面上で網目状に結合させた後、冷却固化している。これ
により、複合めっき皮膜１の表面上には、優れた撥水性
及び低摩擦性がもたらされるとともに、この熱処理によ
り複合ニッケルめっき層３の硬度が増大し、これにとも
ない複合めっき皮膜１全体の機械的強度も増大し、耐久
性が著しく向上するのである。
うにして成膜された複合めっき皮膜１に対し、さらに２
２０〜３６０℃の温度で熱処理が施される。この熱処理
では、素材４、複合ニッケルめっき層３、及び被覆層２
を、２２０〜３６０℃でベーキングすることで、複合め
っき皮膜１中のＰＴＦＥ微粒子を溶融、拡散、更には表
面上で網目状に結合させた後、冷却固化している。これ
により、複合めっき皮膜１の表面上には、優れた撥水性
及び低摩擦性がもたらされるとともに、この熱処理によ
り複合ニッケルめっき層３の硬度が増大し、これにとも
ない複合めっき皮膜１全体の機械的強度も増大し、耐久
性が著しく向上するのである。
【００２４】本実施形態の複合めっき皮膜１では、フッ
素系高分子化合物を表面上に被覆するのではなく、内部
から表面に移行析出させているため、該表面には銀本来
の輝きが維持されており、特に汗等の汚れが付着し易い
時計、眼鏡等の装飾銀めっきとして使用することも好ま
しい実施例である。また、複合めっき皮膜１の表面にバ
レル処理を施すことにより、表面硬化させておけば、硬
度および耐変色性がより向上するため好ましい。尚、本
発明の複合めっき皮膜は、上述の熱処理は必ずしも必要
ではなく、表面にフッ素系高分子化合物が存在していな
くても差し支えない。この場合、表面の撥水効果は熱処
理したものに比べて劣るが、万一被覆層２が腐食等によ
り破壊された場合であっても、下地の複合ニッケルめっ
き層３により腐食の拡大が抑制され、その機能は長期間
維持されるのである。
素系高分子化合物を表面上に被覆するのではなく、内部
から表面に移行析出させているため、該表面には銀本来
の輝きが維持されており、特に汗等の汚れが付着し易い
時計、眼鏡等の装飾銀めっきとして使用することも好ま
しい実施例である。また、複合めっき皮膜１の表面にバ
レル処理を施すことにより、表面硬化させておけば、硬
度および耐変色性がより向上するため好ましい。尚、本
発明の複合めっき皮膜は、上述の熱処理は必ずしも必要
ではなく、表面にフッ素系高分子化合物が存在していな
くても差し支えない。この場合、表面の撥水効果は熱処
理したものに比べて劣るが、万一被覆層２が腐食等によ
り破壊された場合であっても、下地の複合ニッケルめっ
き層３により腐食の拡大が抑制され、その機能は長期間
維持されるのである。
【００２５】次に、本発明の第２実施形態を、図３及び
図４に基づいて説明する。
図４に基づいて説明する。
【００２６】本実施形態の複合めっき皮膜１Ａは、図３
に示すように、素材４に設けた複合ニッケルめっき層３
に置換銀めっき処理を施し、銀５ａとフッ素系高分子化
合物５ｃが共析した置換銀めっき層５を設け、その表面
にさらに銀めっきを施したものであり、当該被覆層２Ａ
には、上述の第１実施形態の被覆層２と同様に、熱処理
により表面移行したフッ素系高分子化合物２ｃが存在し
ている。
に示すように、素材４に設けた複合ニッケルめっき層３
に置換銀めっき処理を施し、銀５ａとフッ素系高分子化
合物５ｃが共析した置換銀めっき層５を設け、その表面
にさらに銀めっきを施したものであり、当該被覆層２Ａ
には、上述の第１実施形態の被覆層２と同様に、熱処理
により表面移行したフッ素系高分子化合物２ｃが存在し
ている。
【００２７】本実施形態に係る複合めっき皮膜１Ａは、
図４に示すように、上述の第１実施形態と同様、まず洗
浄工程並びに無電解めっき処理により、素材４上に複合
ニッケルめっき層３が形成されている。
図４に示すように、上述の第１実施形態と同様、まず洗
浄工程並びに無電解めっき処理により、素材４上に複合
ニッケルめっき層３が形成されている。
【００２８】次に、複合ニッケルめっき層３に対して、
置換銀めっき処理が行われる。この置換銀めっき処理
は、めっき浴中に浸漬した複合ニッケルめっき層３にお
いて、ニッケル３ｂが溶出する際に遊離した電子により
溶液中の銀イオンが還元析出してなるものであり、これ
により生成される置換銀めっき層５の主成分は、銀５ａ
とフッ素系高分子化合物微粒子５ｃとなり、銀とフッ素
系高分子化合物の複合皮膜が実現されている。ただし、
前記ニッケル３ｂの溶出並びに銀イオンの析出は、複合
ニッケルめっき層３の接触表面が完全に銀５ａで被覆さ
れた時点で反応停止するため、当該置換銀めっき層５で
達成される層の厚みには限界が生じる。
置換銀めっき処理が行われる。この置換銀めっき処理
は、めっき浴中に浸漬した複合ニッケルめっき層３にお
いて、ニッケル３ｂが溶出する際に遊離した電子により
溶液中の銀イオンが還元析出してなるものであり、これ
により生成される置換銀めっき層５の主成分は、銀５ａ
とフッ素系高分子化合物微粒子５ｃとなり、銀とフッ素
系高分子化合物の複合皮膜が実現されている。ただし、
前記ニッケル３ｂの溶出並びに銀イオンの析出は、複合
ニッケルめっき層３の接触表面が完全に銀５ａで被覆さ
れた時点で反応停止するため、当該置換銀めっき層５で
達成される層の厚みには限界が生じる。
【００２９】そこで、本実施形態においては、更に銀め
っき処理を行うことにより、この置換銀めっき層５の表
面に被覆層２Ａが形成されている。この銀めっき処理
も、従来から行われている処理と差異はなく、本例で
は、シアン化銀めっき浴を用いた電解めっき処理により
銀を析出しているが、無電解銀めっき処理も当然に採用
できる。
っき処理を行うことにより、この置換銀めっき層５の表
面に被覆層２Ａが形成されている。この銀めっき処理
も、従来から行われている処理と差異はなく、本例で
は、シアン化銀めっき浴を用いた電解めっき処理により
銀を析出しているが、無電解銀めっき処理も当然に採用
できる。
【００３０】そして、本実施形態においても、成膜した
複合めっき皮膜１Ａに対し、２２０〜３６０℃の温度で
熱処理が施され、複合めっき皮膜１Ａの表面上には優れ
た撥水性及び低摩擦性がもたらされる。また、この熱処
理によって複合ニッケルめっき層３の硬度が増大し、こ
れに伴い複合めっき皮膜１全体の機械的強度も増大し、
耐久性が著しく向上している。
複合めっき皮膜１Ａに対し、２２０〜３６０℃の温度で
熱処理が施され、複合めっき皮膜１Ａの表面上には優れ
た撥水性及び低摩擦性がもたらされる。また、この熱処
理によって複合ニッケルめっき層３の硬度が増大し、こ
れに伴い複合めっき皮膜１全体の機械的強度も増大し、
耐久性が著しく向上している。
【００３１】以上のように、本発明の複合めっき皮膜１
（１Ａ）は、素材４の表面にニッケル並びにフッ素系高
分子化合物が共析される複合ニッケルめっき層３を設
け、これに電解めっきや無電解めっき、置換めっき等を
施し、銀、パラジウム、白金、ロジウム、又はインジウ
ムを被覆してなるものであり、銀以外の金属を採用した
場合も、上述の第１実施形態、第２実施形態で示すよう
な処理により複合めっき皮膜を作成することができる。
（１Ａ）は、素材４の表面にニッケル並びにフッ素系高
分子化合物が共析される複合ニッケルめっき層３を設
け、これに電解めっきや無電解めっき、置換めっき等を
施し、銀、パラジウム、白金、ロジウム、又はインジウ
ムを被覆してなるものであり、銀以外の金属を採用した
場合も、上述の第１実施形態、第２実施形態で示すよう
な処理により複合めっき皮膜を作成することができる。
【００３２】（１）パラジウム
パラジウムを複合ニッケルめっき層３に被覆して本発明
の複合めっき皮膜を得る場合には、例えば、従来から用
いられている化学めっき浴を適宜利用することができ、
還元剤は、次亜りん酸、ジメチルアミンボラン、水素化
ホウ素ナトリウム、ホルマリン、三塩化チタン、アスコ
ルビン酸、ヒドラジンなどの中から選択すればよい。
の複合めっき皮膜を得る場合には、例えば、従来から用
いられている化学めっき浴を適宜利用することができ、
還元剤は、次亜りん酸、ジメチルアミンボラン、水素化
ホウ素ナトリウム、ホルマリン、三塩化チタン、アスコ
ルビン酸、ヒドラジンなどの中から選択すればよい。
【００３３】（２）白金
白金を複合ニッケルめっき層３に被覆して本発明に複合
めっき皮膜を得る場合には、例えば塩化物浴やジアミノ
亜硝酸浴を用いた電解めっき処理が採用できる。
めっき皮膜を得る場合には、例えば塩化物浴やジアミノ
亜硝酸浴を用いた電解めっき処理が採用できる。
【００３４】（３）ロジウム
ロジウムを複合ニッケルめっき層３に被覆して本発明の
複合めっき皮膜を得る場合には、ロジウムめっき浴とし
て、一般的な硫酸浴やりん酸浴を用いることができる。
複合めっき皮膜を得る場合には、ロジウムめっき浴とし
て、一般的な硫酸浴やりん酸浴を用いることができる。
【００３５】（４）インジウム
インジウムを複合ニッケルめっき層３に被覆して本発明
の複合めっき皮膜を得る場合には、例えばメタンスルホ
ン酸インジウムを主剤とした電解めっき浴を用いること
ができる。
の複合めっき皮膜を得る場合には、例えばメタンスルホ
ン酸インジウムを主剤とした電解めっき浴を用いること
ができる。
【００３６】
【発明の効果】以上にしてなる本発明の複合めっき皮膜
によれば、錆等の腐食や変色の原因となる汚れが付着し
難く、付着しても容易に除去することができるととも
に、その下地となる複合ニッケルめっき層によって優れ
た耐久性が付与されており、万一、その一部が剥離した
場合であっても、その機能は長期間維持される。
によれば、錆等の腐食や変色の原因となる汚れが付着し
難く、付着しても容易に除去することができるととも
に、その下地となる複合ニッケルめっき層によって優れ
た耐久性が付与されており、万一、その一部が剥離した
場合であっても、その機能は長期間維持される。
【図１】本発明の第１実施形態に係る複合めっき皮膜を
示す説明図。
示す説明図。
【図２】同じく第１実施形態に係る複合めっき皮膜の製
造工程を示す説明図。
造工程を示す説明図。
【図３】本発明の第２実施形態に係る複合めっき皮膜を
示す説明図。
示す説明図。
【図４】同じく第２実施形態に係る複合めっき皮膜の製
造工程を示す説明図。
造工程を示す説明図。
１、１Ａ 複合めっき皮膜
２、２Ａ 被覆層
２ａ 銀
２ｃ フッ素系高分子化合物微粒子
３ 複合ニッケルめっき層
３ｂ ニッケル
３ｃ フッ素系高分子化合物微粒子
４ 素材
４ｄ 不純物
５ 置換銀めっき層
５ａ 銀
５ｃ フッ素系高分子化合物微粒子
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(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C25D 15/02
C23C 18/52
C25D 5/12
C25D 5/50
Claims (4)
- 【請求項１】 素材表面に、ニッケル並びにフッ素系高
分子化合物が共析される複合ニッケルめっき層を設け、
これにめっき処理を施して、銀、パラジウム、白金、ロ
ジウム、及びインジウムから選択される１種の金属並び
にフッ素系高分子化合物を共析させた被覆層を表面に形
成してなることを特徴とする複合めっき皮膜。 - 【請求項２】 前記複合ニッケルめっき層に置換めっき
処理を施し、選択された１種の金属を析出させ、その表
面にめっき処理を施し、前記選択された１種の金属とフ
ッ素系高分子化合物を共析させてなる請求項１記載の複
合めっき皮膜。 - 【請求項３】 前記選択された１種の金属を表面に被覆
させた後、２２０〜３６０℃の温度で熱処理を施してな
る請求項１又は２記載の複合めっき皮膜。 - 【請求項４】 素材表面に、ニッケル並びにフッ素系高
分子化合物が共析される複合ニッケルめっき層を設け、
これにめっき処理を施して、銀、パラジウム、白金、ロ
ジウム、及びインジウムから選択される１種の金属を表
面に被覆させた後、２２０〜３６０℃の温度で熱処理を
施してなることを特徴とする複合めっき皮膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000218665A JP3454232B2 (ja) | 2000-07-19 | 2000-07-19 | 複合めっき皮膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000218665A JP3454232B2 (ja) | 2000-07-19 | 2000-07-19 | 複合めっき皮膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002030489A JP2002030489A (ja) | 2002-01-31 |
| JP3454232B2 true JP3454232B2 (ja) | 2003-10-06 |
Family
ID=18713583
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000218665A Expired - Lifetime JP3454232B2 (ja) | 2000-07-19 | 2000-07-19 | 複合めっき皮膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3454232B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009054402A1 (ja) | 2007-10-24 | 2009-04-30 | Ihi Corporation | 耐摩耗補強方法及び摺動構造体 |
Families Citing this family (2)
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|---|---|---|---|---|
| KR20130055956A (ko) * | 2011-11-21 | 2013-05-29 | 삼성전기주식회사 | 무전해 팔라듐 도금액 |
| JP7157199B1 (ja) * | 2021-03-30 | 2022-10-19 | 株式会社神戸製鋼所 | 接点材料およびその製造方法 |
-
2000
- 2000-07-19 JP JP2000218665A patent/JP3454232B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
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