JP3439066B2 - 半導体ウエハのダイシング方法 - Google Patents
半導体ウエハのダイシング方法Info
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Description
エハを数ミリ角のチツプ状にダイシングする方法に関
し、ダイシング用の回転刃の目詰まりが少ないと共に高
いチツピング性(ダイシング時に半導体ウエハが欠けず
にチツプ化される度合)を有する半導体ウエハのダイシ
ング方法に関する。
法としては、シートに積層された紫外線硬化型粘着剤に
半導体ウエハを貼り付けた後、該半導体ウエハを回転刃
によってダイシングして数ミリ角のチツプ状に形成する
ものである。また、このチツプ状に形成された半導体ウ
エハは、上記紫外線硬化型粘着剤の粘着力を紫外線照射
によって弱めてから、個々にピツクアツプされるもので
ある。
ては、半導体ウエハがダイシングされた際、ウエハだけ
でなく上記紫外線硬化型粘着剤までをも切断するため、
回転刃に目詰まり(該粘着剤が刃と刃の間に付着するこ
と)が生じ、回転刃を頻繁に交換しなければならないと
いう課題があった。
に貼り付けて半導体ウエハをダイシングする方法は、該
粘着剤の粘弾性により半導体ウエハが振動してしまい、
チツピング性(ダイシング時に半導体ウエハが欠けずに
チツプ化される度合)が低いという課題があった。
用の回転刃の目詰まりが少ないと共に高い上記チツピン
グ性を有する半導体ウエハのダイシング方法を提供する
ことにある。
討を行った結果、シートに積層された紫外線硬化型粘着
剤に半導体ウエハを貼り付ける貼付工程と、前記貼付工
程後に前記紫外線硬化型粘着剤に紫外線照射を行う紫外
線照射工程と、この紫外線照射工程後に前記シートに貼
り付けられた該半導体ウエハをダイシングするダイシン
グ工程を有する半導体ウエハのダイシング方法であっ
て、該紫外線硬化型粘着剤が、ベースポリマと、粘着付
与樹脂と、紫外線重合開始剤及び、オリゴマ又はモノマ
の少なくとも一方を備えた半導体ウエハのダイシング方
法において、上記紫外線照射工程後の該紫外線硬化型粘
着剤の180度剥離接着力が4〜100gf/25mm
とすることにより、上記課題を解決できることを見いだ
し、本発明を完成させた。
射工程後の該紫外線硬化型粘着剤の180度剥離接着力
が4〜100gf/25mmであることを特徴とする半
導体ウエハのダイシング方法である。
化型粘着剤の180度剥離接着力を4〜100gf/2
5mmとしたのは、180度接着力が4gf/mm未満
であると紫外線硬化型粘着剤の粘弾性が下がりすぎてし
まい、ダイシング時にチップが飛んでしまい、100g
f/mmを超えるとダイシング時にチップの破損が発生
してしまうためである。
化型粘着剤の粘着力の低下は、具体的には、紫外線照射
前には100〜3000gf/25mm(剥離速度30
0mm/分)の範囲内にある180度剥離接着力(JI
S Z 0237)が、紫外線照射後には4〜100g
f/25mm(剥離速度300mm/分)になることを
いう。また、かかる紫外線照射工程を受けることによる
凝集力の向上とは、回転刃に粘着剤が付着しにくい状態
にまで向上させることをいう。
段は、従来公知の紫外線照射装置を採用することができ
る。
を採用できる。その素材及び紫外線照射された際の作用
は、主剤であるベースポリマで粘着力を発揮させ、紫外
線を受けた紫外線重合開始剤でオリゴマ及び/又はモノ
マを三次元網目状構造にさせて硬化させる(粘着力を低
下させる)ものである。
ているアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤等を用いること
ができる。
リル系粘着剤を適宜選択して使用でき、一般的には、ア
クリル酸エステル系を主たる構成単量体単位とする単独
重合体(主モノマ)及びコモノマとの共重合体から選ば
れたアクリル系共重合体、その他の官能性単量体(官能
基含有モノマ)との共重合体及びこれら重合体の混合物
がある。ここで、上記主モノマとしては、エチルアクリ
レート、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアク
リレート等があり、上記コモノマとしては、酢酸ビニ
ル、アクリルニトリル、アクリルアマイド、スチレン、
メチルメタクリレート、メチルアクリレート等がある。
また、上記官能基含有モノマとしては、メタクリル酸、
アクリル酸、イタコン酸、ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、ジメチルア
ミノエチルメタクリレート、アクリルアマイド、メチロ
ールアクリルアマイド、グリシジルメタクリレート、無
水マレイン酸等がある。
ム、合成イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、ス
チレン・ブタジエンブロツク共重合体、スチレン・イソ
プレンブロツク共重合体、ブチルゴム、ポリイソブチレ
ン、ポリブタジエン、ポリビニルエーテル、シリコーン
ゴム、ポリビニルイソブチルエーテル、クロロプレンゴ
ム、ニトリルゴム、クラフトゴム、再生ゴム、スチレン
・エチレン・ブチレン・ブロツクコポリマ、スチレン・
プロピレン・ブチレン・ブロツクコポリマ、スチレン・
イソプレン・ブロツクポリマ、アクリロニトリル・ブタ
ジエン共重合体、アクリロニトリル・アクリルエステル
共重合体、メチル・メタアクリレート・ブタジエン共重
合体、ポリイソブチレン・エチレン・プロピレン共重合
体、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリイソブチレン・
シリコンゴム、ポリビニルイソブチルエーテル・クロロ
プレン等があり、これらの単独物のみならず混合物であ
ってもよい。
硬化剤を採用すると共にエラストマを採用するのが好ま
しい。これは、該エラストマ自身の分子骨格が軟らかい
ため、粘着剤が半導体ウエハにしっかりと貼り付き、ダ
イシング時にチツプをむやみに飛散させず安定してダイ
シングできるためであり、また、チツプが飛散しないこ
とからブレードの破損がなくなりブレードの耐久性や生
産性が向上するためである。
るため、粘着付与樹脂を加えることが好ましい。この粘
着付与樹脂としては、あまりに少ないとエラストマを主
成分とする粘着剤の粘着効果が出ず、あまりに多いと軟
らかくなりすぎて紫外線照射をされても粘着力が低下し
なくなるため、主剤(ゴム系粘着剤)100重量部に対
して5〜100重量部配合するのが好ましく、さらに好
ましくは10〜30重量部配合するのがよい。
テルペン系樹脂、脂肪族系石油樹脂、芳香族系石油樹
脂、水添石油樹脂、クロマン・インデン樹脂、スチレン
系樹脂、アルキルフエノール樹脂、キシレン樹脂等の単
独物又は混合物があり、エラストマとの相溶性を考慮す
るとテルペン系樹脂が好ましい。上記ロジン系樹脂とし
ては、ロジン、重合ロジン、水添ロジン、ロジンエステ
ル、水添ロジンエステル、ロジン変性フエノール樹脂等
があり、上記テルペン系樹脂としては、テルペン樹脂、
テルペンフエノール樹脂、芳香族変性テルペン樹脂、ロ
ジンフエノール樹脂等がある。また、上記水添石油樹脂
としては、芳香族系のもの、ジシクロペンンタジエン系
のもの、脂肪族系のもの等がある。
はベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベ
ンジルジフエニルサルフアイド、テトラメチルチウラム
モノサルフアイド、アゾビスイソブチロニトリル、ジベ
ンジル、ジアセチル、β−クロールアンスラキノン等が
ある。また、該紫外線重合開始剤には、必要に応じてト
リエチルアミン、テトラエチルペンタアミン、ジメチル
アミノエーテル等のアミン化合物を光重合促進剤として
併用しても良い。
することにより意図しない重合(例えば熱による重合)
を防止させることもできる。この重合禁止剤としては、
ピクリン酸、フエノール、ハイドロキノン、ハイドルキ
ノンモノメチルエーテル等がある。
紫外線照射を受けた紫外線重合開始剤によって三次元網
状化しうる分子内に、光重合性炭素−炭素二重結合を少
なくとも二個以上有する低分子量化合物があり、具体的
にはアクリレート系化合物、ウレタンアクリレート系オ
リゴマ等がある。
ばトリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメ
チロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラア
クリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペ
ンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレートあるいは1,4−ブチレングリコールジアクリ
レート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ポ
リエチレングリコールジアクリレート、オリゴエステル
アクリレート等がある。
は、炭素−炭素二重結合を少なくとも二個以上有する紫
外線硬化性化合物であり、例えばポリエステル型又はポ
リエーテル型等のポリオール化合物と、多価イソシアネ
ート化合物例えば2,4−トリレンジイソシアナート、
2,6−トリレンジイソシアナート、1,3−キシリレ
ンジイソシアナート、1,4−キシリレンジイソシアナ
ート、ジフエニルメタン4,4−ジイソシアナート等を
反応させて得られる末端イソシアナートウレタンプレポ
リマに、ヒドロキシル基を有するアクリレートあるい
は、メタクリレート例えば2−ヒドロキシエチルアクリ
レート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒ
ドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピ
ルメタクリレート、ポリエチレングリコールアクリレー
ト、ポリエチレングリコールメタクリレート等を反応さ
せて得られるものがある。
粘着剤には、初期粘着力を任意に設定するために、必要
に応じて硬化剤を配合することもできる。該硬化剤の採
用により、粘着剤として凝集力を高め、紫外線照射前
(未照射)の状態でも貼り合わせ時の汚染(一旦粘着さ
せたシートを剥離した際に、該シートの粘着剤が被粘着
部材に残る状態)が生じず、再剥離性を得ることができ
る。
ポキシ系、アジリジン系等のもの等があり、これらの単
独物のみならず混合物であってもよい。上記イソシアネ
ートとしては、多価イソシアネート化合物、例えば2,
4−トリレンジイソシアナート、2,6−トリレンジイ
ソシアナート、1,3−キシリレンジイソシアナート、
1,4−キシレンジイソシアナート、ジフエニルメタン
−4,4’−ジイソシアナート、ジフエニルメタン−
2,4’−ジイソシアナート、3−メチルジフエニルメ
タンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナー
ト、イソホロンジイソシアナート、ジシクロキシシルメ
タン−4,4’−ジイソシアナート、ジシクロヘキシル
メタン−2,4’−ジイソシアナート、リジンイソシア
ナート、フエニレンジイソシアネート、トリレンジイソ
シアネート、ジフエニルメタジイソシアネート、シクロ
ヘキサンジイソシアネート等がある。
70μmの厚みで形成される。これはあまりに厚いと紫
外線照射による硬化が遅くなりあまりに薄いと粘着力を
高く設定できないためである。また、該粘着剤には従来
公知の充填剤、老化防止剤、軟化剤、安定剤若しくは着
色剤などを適宜選択して添加することができる。
知の合成樹脂素材を採用できる、例えばポリ塩化ビニ
ル、ポリブテン、ポリブタジエン、ポリウレタン、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン、ポリプロピレン等の単独層又は複数
層があり、好ましくは上記素材で形成した紫外線透過シ
ートを採用することにより紫外線を粘着剤にまで届かせ
るものがよい。なお、一般該支持体の厚みは10〜50
0μmの範囲内から選択される。
イシング方法は、シートに積層された紫外線硬化型粘着
剤に半導体ウエハを貼り付ける貼付工程と、前記貼付工
程後に前記紫外線硬化型粘着剤に紫外線照射を行う紫外
線照射工程と、この紫外線照射工程後に前記シートに貼
り付けられた該半導体ウエハをダイシングするダイシン
グ工程を有する半導体ウエハのダイシング方法であっ
て、該紫外線硬化型粘着剤が、ベースポリマと、粘着付
与樹脂と、紫外線重合開始剤及び、オリゴマ又はモノマ
の少なくとも一方を備えた半導体ウエハのダイシング方
法において、上記紫外線照射工程後の該紫外線硬化型粘
着剤の180度剥離接着力が4〜100gf/25mm
であることを特徴とし、これにより、ダイシング時の回
転刃の目詰まりが少ないと共に高いチッピング性(ダイ
シング時に半導体ウエハが欠けずにチップ化される度
合)という効果を有する。
法の各実施例及びその比較例を表を用いて詳細に説明す
る。表1の実施例及びその比較例は、貼付工程とダイシ
ング工程の間に行った紫外線照射工程の紫外線照射量を
変えて測定した特性値を示したものである。表1におけ
る「紫外線照射量」の単位はmJ/cm2(365n
m)であり、「粘着力」の単位はgf/25mmであ
る。「チップ保持性」は半導体固定用シート上に厚さ4
00μmのシリコンウエハを貼り付けてから20分後に
0.5mm角チップへフルカットした後、エキスパンド
してもそのままチップを保持したものを○、1つでもチ
ップを落としたものを×とした。また、「チッピング
性」は上記チップ保持性測定後のチップを200倍の顕
微鏡で見てサンプル30個中1つも欠けていなかった場
合を○、そうでない場合を×とした。
紫外線硬化型粘着剤は、主剤としてのベースポリマ(ア
クリルゴムとしての日本ゼオン社製Nipol AR5
3L)100重量部、粘着付与樹脂(テルペン樹脂とし
てのヤスハラケミカル社製YS RESIN 125
0)20重量部、硬化剤(イソシアネート系硬化剤とし
ての日本ポリウレタン工業社製のコロネート L)3重
量部、紫外線重合開始剤(チバガイギー社製のイルガキ
ユアー651)3重量部、紫外線架橋性オリゴマ(荒川
化学工業社製ビームセツト575)30重量部、熱重合
禁止剤(ハイドロキノンモノメチルエーテル)が0.0
1重量部配合されたものである。また、該紫外線硬化型
粘着剤を積層しているシートはポリエチレンテレフタレ
ートを採用した。
好な値となったが、比較例1のような無照射の場合には
一部破損したチツプがあった。また、比較例2のよう
に、必要以上に紫外線照射を行うと、紫外線硬化型粘着
剤の粘弾性が下がりすぎてしまい、ダイシング時にチツ
プが飛んでしまった。また、この比較例2では、チツプ
が飛んでしまったため、チツピング性は測定不能であっ
た。なお、ダイシング用の回転刃の目詰まりの判断にあ
っては、チツピング性で判断した。
グ方法は、シートに積層された紫外線硬化型粘着剤に半
導体ウエハを貼り付ける貼付工程と、前記貼付工程後に
前記紫外線硬化型粘着剤に紫外線照射を行う紫外線照射
工程と、この紫外線照射工程後に前記シートに貼り付け
られた該半導体ウエハをダイシングするダイシング工程
を有する半導体ウエハのダイシング方法であって、該紫
外線硬化型粘着剤が、ベースポリマと、粘着付与樹脂
と、紫外線重合開始剤及び、オリゴマ又はモノマの少な
くとも一方を備えた半導体ウエハのダイシング方法にお
いて、上記紫外線照射工程後の該紫外線硬化型粘着剤の
180度剥離接着力が4〜100gf/25mmである
ことを特徴とし、これにより、ダイシング時の回転刃の
目詰まりが少ないと共に高いチッピング性(ダイシング
時に半導体ウエハが欠けずにチップ化される度合)とい
う効果を有する。請求項2記載の発明にあっては、上記
紫外線硬化型粘着剤に粘着付与樹脂を備えさせることに
より、粘着力を高めることができ、請求項3記載の発明
にあっては、上記紫外線硬化型粘着剤に硬化剤を備えさ
せることにより、初期粘着力を任意に設定することがで
きた。また、請求項4記載の発明にあっては、該紫外線
硬化型粘着剤に重合禁止剤を備えさせることにより、意
図しない重合を防止させることができた。
Claims (4)
- 【請求項1】 シートに積層された紫外線硬化型粘着剤
に半導体ウエハを貼り付ける貼付工程と、前記貼付工程
後に前記紫外線硬化型粘着剤に紫外線照射を行う紫外線
照射工程と、この紫外線照射工程後に前記シートに貼り
付けられた該半導体ウエハをダイシングするダイシング
工程を有する半導体ウエハのダイシング方法であって、
該紫外線硬化型粘着剤が、ベースポリマと、粘着付与樹
脂と、紫外線重合開始剤及び、オリゴマ又はモノマの少
なくとも一方を備えた半導体ウエハのダイシング方法に
おいて、上記紫外線照射工程後の該紫外線硬化型粘着剤
の180度剥離接着力が4〜100gf/25mmであ
ることを特徴とする半導体ウエハのダイシング方法。 - 【請求項2】 上記紫外線硬化型粘着剤が、ベースポリ
マ、粘着付与樹脂、紫外線重合開始剤、オリゴマ又はモ
ノマの少なくとも一方を備え、さらに、粘着付与樹脂を
備えることを特徴とする請求項1記載の半導体ウエハの
ダイシング方法。 - 【請求項3】 上記紫外線硬化型粘着剤が、ベースポリ
マ、粘着付与樹脂、紫外線重合開始剤、オリゴマ又はモ
ノマの少なくとも一方、粘着付与樹脂を備え、さらに、
硬化剤を備えることを特徴とする請求項1記載の半導体
ウエハのダイシング方法。 - 【請求項4】 上記紫外線硬化型粘着剤が、ベースポリ
マ、粘着付与樹脂、紫外線重合開始剤、オリゴマ又はモ
ノマの少なくとも一方、粘着付与樹脂、硬化剤を備え、
さらに、重合禁止剤を備えることを特徴とする請求項1
記載の半導体ウエハのダイシング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9834297A JP3439066B2 (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | 半導体ウエハのダイシング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9834297A JP3439066B2 (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | 半導体ウエハのダイシング方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH10284445A JPH10284445A (ja) | 1998-10-23 |
JP3439066B2 true JP3439066B2 (ja) | 2003-08-25 |
Family
ID=14217241
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP9834297A Expired - Fee Related JP3439066B2 (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | 半導体ウエハのダイシング方法 |
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-
1997
- 1997-03-31 JP JP9834297A patent/JP3439066B2/ja not_active Expired - Fee Related
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