JP3436213B2 - プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル及びその製造方法に係り、詳しくは、前面基
板と後面基板との間の隔壁構造を改良して輝度及び発光
効率を向上させたプラズマディスプレイパネル及びその
製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】電界により電子を加速してガス原子又は
ガス分子に衝突させ、発生した紫外光を蛍光体により可
視光変換して画像表示を行うプラズマディスプレイパネ
ル（以下ＰＤＰと称す）は、大画面、大容量表示の可能
なフラットパネルディスプレイとして知られている。従
来、高輝度な画像表示が得られるＰＤＰとしては、反射
性能を有する略すり鉢状の隔壁に蛍光体層を設けたもの
がある。

【０００３】図１２は、上記の隔壁の応用例を示す平面
図及び断面図である。この図を用いて従来技術の構成を
説明する。前面基板Ａは、透明な絶縁性基板７の下側に
コモン電極８が設けられ、その下側に透明誘電体層９が
設けられ、その下側に保護層１０が設けられて構成され
ている。一方、後面基板Ｂは、透明あるいは不透明な絶
縁性基板１の上側にデータ電極２が設けられ、その上側
に白色誘電体層３が設けられ、その上側にスキャン電極
４が設けられ、その上側に白色誘電体層５が設けられ、
その上側に保護層６が設けられて構成されている。そし
て、前面基板Ａと後面基板Ｂとの間に隔壁Ｄが設けられ
ている。隔壁Ｄには、上部が開口した略すり鉢状の凹部
５０が形成されており、この凹部５０の内壁に蛍光体層
５１が設けられている。これにより、図１２に示すよう
なセルＣが構成されている。

【０００４】このような構造のＰＤＰでは、セルＣの下
部のデータ電極２とスキャン電極４とが交差する部分で
面放電による書込放電１４を起こして書込動作（所定の
セルを選択し、発光予備状態にする動作）を行った後、
セルＣの上部に設けたコモン電極８とセルＣの下部に設
けたスキャン電極４との間で対向放電による維持放電１
５を起こして維持動作（選択されたセルを発光表示状態
にする動作）を行うようになっている。そして、維持放
電１５のプラズマより生じた紫外光２３を隔壁Ｄの凹部
５０に形成した蛍光体層５１により可視光変換し、その
光を表示光として前面基板Ａの表示面側に出射させる構
成となっている。上記のような略すり鉢状の凹部５０を
有する隔壁Ｄを備えたＰＤＰは、例えば特開平６−３６
６６８９号公報にも開示されている。該公報には、スペ
ーサ（隔壁）に前面へ向かって孔径の大きくなる孔部を
設け、この孔部の内壁に光反射層と蛍光体層を設ける技
術が記載されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
略すり鉢状の凹部５０を有する隔壁Ｄを備えたＰＤＰに
は、以下に説明するように、励起Ｘｅ（キセノン）原子
から放射される１４７ｎｍの共鳴線の利用効率が低いと
いう課題があった。また、書込放電１４や予備放電（書
込放電１４や維持放電１５を起こしやすくするための放
電）等にともなう可視発光によってバックグラウンドの
輝度が上がりやすく、コントラスト比が低いという課題
もあった。ＰＤＰに用いられる放電用のガスとしては、
一般にＸｅを含むガス混合希ガス、例えばＮｅ（ネオ
ン）とＸｅとから成る混合希ガス等を用いることが多
く、主に励起Ｘｅ原子や励起Ｘｅ分子から放射される紫
外光を用いて蛍光体を可視発光させている。励起Ｘｅ原
子から放射される紫外光は、主として１４７ｎｍにピー
ク(中心波長)を持つ幅の狭いスペクトルとなっている。
この紫外光は、基底状態にあるＸｅ原子を励起する作用
を有するため、共鳴線と呼ばれている。一方、励起Ｘｅ
分子から放射される紫外光は、主として１７２ｎｍにピ
ーク(中心波長)を持つ幅の広いスペクトルとなってい
る。これは、励起状態が分子であるために、振動や回転
といった様々な励起準位を持つためである。この紫外光
は、分子線と呼ばれ、緩和によって紫外光を放射した後
は、解離して分子状態としての基底状態を持たない。し
たがって、共鳴線のような吸収作用はない。これを図１
３を用いてさらに詳しく説明する。

【０００６】図１３は、プラズマ１００から放射された
共鳴線１０１と分子線１０２が蛍光体層１０３にたどり
着くまでの様子を示したものである。上記したように、
分子線１０２は、共鳴吸収作用がないため、そのまま蛍
光体層１０３に入射し、可視発光に寄与することができ
る。一方、共鳴線１０１は、プラズマ１００から蛍光体
層１０３までたどり着く間に基底状態のＸｅ原子にあた
ってそれを励起し、励起状態になったＸｅ原子が基底状
態に遷移する際に再び共鳴線を放射するといった共鳴吸
収過程を繰り返すことになる。この過程は、プラズマ１
００から蛍光体層１０３までの距離が短いと少なくて済
むが、プラズマ１００から蛍光体層１０３までの距離が
長いと共鳴吸収の過程が多くなり、蛍光体層１０３まで
たどり着く間に高速の電子（ｅ）やイオン（Ｍ ⁺ ）等と
衝突する機会が増えてしまう。

【０００７】励起Ｘｅ原子が、緩和過程を経て共鳴線を
放射する前に荷電粒子衝突等によってさらにエネルギー
を得てしまうと、そこで電離等が生じて共鳴線を放射す
る作用を失ってしまう。つまり、その時点で共鳴線１０
１が蛍光体層１０３までたどり着くことは無くなってし
まう。このため、結果的に可視光変換に寄与できる紫外
光量が減少し、輝度や発光効率が低下してしまう。した
がって、プラズマ１００と蛍光体層１０３との面は、で
きるだけ近接していた方が輝度や発光効率に関しては好
ましいことになる。

【０００８】上記した従来のＰＤＰでは、略すり鉢状の
凹部５０により可視光を表示面側へ反射させることがで
きるものの、表示面側へ行くにしたがって隔壁Ｄの間口
が広がってしまい、維持放電１５のプラズマから蛍光体
層５１までの距離が次第に長くなって共鳴線の利用効率
が低下する結果となっていた。このため、輝度や発光効
率が減少し、消費電力が大きくなるという問題があっ
た。また、上記した従来のＰＤＰでは、セルＣの底部で
発生させる書込放電１４や予備放電等の際に、セルＣの
底部に形成した蛍光体層５１が可視発光してしまい、こ
の表示に寄与しない不要光によって黒輝度が上がってし
まうため、結果的にコントラスト（白輝度／黒輝度）比
の低下を招いていた。しかし、コントラスト比の低下を
抑制しようとして書込放電１４や予備放電等を弱めてし
まうと、壁電荷やプライミング粒子（放電開始電圧を下
げる作用をする電子やイオン）の量が減少してしまい、
維持放電１５が起こりにくくなる結果となっていた。す
なわち、書込動作から維持動作への遷移性が低下してし
まい、駆動マージンが狭くなるという問題があった。

【０００９】本発明は、上述の事情に鑑みなされたもの
で、プラズマから放射される紫外光の利用効率を改善
し、輝度及び発光効率の向上を図るとともに、不要な可
視発光によるコントラスト比の低下を抑制するプラズマ
ディスプレイパネル及びその製造方法を提供することを
目的としている。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項１記載の発明は、前面基板と後面基板との間
に隔壁が構成され、該隔壁により画成された放電空間を
有するプラズマディスプレイパネルであって、前記隔壁
は、前記前面基板側に向かって拡開する形状の凹部が形
成された反射隔壁と中央領域に貫通孔を有する前記凹部
内に埋め込まれた透明隔壁とから成り、前記貫通孔の内
壁には、蛍光体層が設けられて放電セルが形成されてい
ることを特徴としている。

【００１１】請求項２記載の発明は、請求項１記載のプ
ラズマディスプレイパネルに係り、前記隔壁は、独立し
た隔壁シートから成ることを特徴としている。

【００１２】請求項３記載の発明は、請求項１又は２記
載のプラズマディスプレイパネルに係り、前記前面基板
は、絶縁性の透明基板にコモン電極が形成された構成で
あり、前記後面基板は、絶縁性の基板に列方向に伸長す
るデータ電極と行方向に伸長するスキャン電極とが形成
された構成であることを特徴としている。

【００１３】請求項４記載の発明は、請求項１乃至３の
いずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルに係
り、前記貫通孔は、垂直孔もしくは前記反射隔壁に接し
ない傾斜角度を有した傾斜孔であり、前記貫通孔の下端
部と前記反射隔壁の下端部とが同一面上にあることを特
徴としている。

【００１４】請求項５記載の発明は、請求項１乃至４の
いずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルに係
り、前記貫通孔は、下部の小口径部に段差を介して上部
の大口径部が連接された形状であり、前記大口径部の内
壁に前記蛍光体層が形成されていることを特徴としてい
る。

【００１５】請求項６記載の発明は、請求項１乃至５の
いずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルに係
り、前記透明隔壁の下部と前記反射隔壁の内側とで囲ま
れた書込放電空間部が形成されていることを特徴として
いる。

【００１６】請求項７記載の発明は、請求項１乃至６の
いずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルに係
り、前記凹部は、略すり鉢形状であり、該凹部の内壁の
傾斜面の角度は、３０°以上６０°以下の範囲であるこ
とを特徴としている。

【００１７】請求項８記載の発明は、請求項５又は６記
載のプラズマディスプレイパネルに係り、前記貫通孔の
小口径部の高さ及び前記書込放電空間部の高さｈ２と前
記反射隔壁の高さｈ１との比（ｈ２／ｈ１）が、０．２
以上０．４以下の範囲であることを特徴としている。

【００１８】請求項９記載の発明は、請求項１乃至８の
いずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルに係
り、維持放電又は維持放電空間部の中心軸から前記蛍光
体層の表面までの距離ｒ２と前記維持放電又は前記維持
放電空間部の中心軸から前記維持放電の表面までの距離
ｒ１との比（ｒ２／ｒ１）が、１．０以上２．０以下の
範囲であることを特徴としている。

【００１９】請求項１０記載の発明は、請求項１乃至９
のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルに係
り、前記蛍光体層の厚さは、５μｍ以上１５μｍ以下の
範囲であることを特徴としている。

【００２０】請求項１１記載の発明は、請求項１乃至１
０のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルに
係り、前記反射隔壁は、酸化チタン（ＴｉＯ₂）、酸化
ジルコニウム（ＺｒＯ₂ ）、酸化アルミニウム（Ａｌ₂
Ｏ₃ ）のいずれか１つ以上を含むことを特徴としてい
る。

【００２１】請求項１２記載の発明は、請求項１乃至１
１のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルに
係り、前記反射隔壁は、前記凹部の内壁の傾斜面上に銀
（Ａｇ）層、アルミニウム（Ａｌ）層のいずれか１つ以
上が形成されていることを特徴とする。

【００２２】請求項１３記載の発明は、請求項１乃至１
２のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルに
係り、前記透明隔壁は、酸化鉛（ＰｂＯ）、酸化亜鉛
（ＺｎＯ）、酸化ホウ素（Ｂ_２Ｏ_３）のいずれか１つ以
上を含むことを特徴としている。

【００２３】請求項１４記載の発明は、隔壁を介して前
面基板と後面基板とを組み合わせるプラズマディスプレ
イパネルの製造方法であって、前記前面基板側に向かっ
て拡開する形状の凹部を有する反射隔壁を形成し、前記
凹部に透明材料を埋め込んで透明隔壁を形成し、該透明
隔壁の中央部に貫通孔を形成し、該貫通孔の内壁に蛍光
体層を形成することを特徴としている。

【００２４】請求項１５記載の発明は、請求項１４記載
のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、前記
隔壁は、独立した隔壁シートで構成し、前記前面基板と
前記後面基板との間に狭持して組み立てることを特徴と
している。

【００２５】請求項１６記載の発明は、請求項１４又は
１５記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係
り、前記反射隔壁は、白色絶縁体を印刷法、感光性樹脂
法、真空成膜法、アディティブ法、サンドブラスト法、
プレス成型法のいずれかを用いて形成することを特徴と
している。

【００２６】請求項１７記載の発明は、請求項１４乃至
１６のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネル
の製造方法に係り、前記反射隔壁は、絶縁体を印刷法、
感光性樹脂法、真空成膜法、アディティブ法、サンドブ
ラスト法、プレス成型法のいずれかを用いて形成し、金
属から成る反射層を印刷法、感光性樹脂法、真空成膜
法、メッキ法、描画法のいずれかを用いて形成すること
を特徴としている。

【００２７】請求項１８記載の発明は、請求項１４乃至
１７のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネル
の製造方法に係り、前記透明隔壁は、前記反射隔壁の絶
縁体よりも軟化点の低い透明絶縁体を印刷法、感光性樹
脂法、真空成膜法、アディティブ法、ビーズ法のいずれ
かを用いて前記凹部に埋め込んで形成し、機械切削法、
サンドブラスト法、レーザー・ビーム法、化学エッチン
グ法、バーンアウト法、型抜き法のいずれかを用いて前
記貫通孔を形成することを特徴としている。

【００２８】請求項１９記載の発明は、請求項１４乃至
１７のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネル
の製造方法に係り、前記透明隔壁は、前記凹部にポジ型
の透明感光性材料を埋め込み、遮光性を有する前記反射
隔壁をフォトマスクに用いて前記凹部の小径孔側から前
記ポジ型の透明感光性材料を露光して前記貫通孔を自己
整合的に形成することを特徴としている。

【００２９】請求項２０記載の発明は、請求項１４乃至
１７のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネル
の製造方法に係り、前記透明隔壁は、前記凹部にネガ型
の感光性レジスト材料を埋め込み、遮光性を有する前記
反射隔壁をフォトマスクに用いて前記凹部の小径孔側か
ら前記ネガ型の感光性レジスト材料を露光してレジスト
パターンを形成し、該レジストパターンをマスクに用い
て前記凹部に透明材料を埋め込み、前記レジストパター
ンを除去して前記貫通孔を自己整合的に形成することを
特徴としている。

【００３０】請求項２１記載の発明は、請求項１４乃至
１７のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネル
の製造方法に係り、前記透明隔壁は、前記凹部に透明材
料を埋め込み、前記凹部の小径孔側の面にポジ型の感光
性レジスト材料を形成し、遮光性を有する前記反射隔壁
をフォトマスクに用いて前記凹部の大径孔側から前記ポ
ジ型の感光性レジスト材料を露光してレジストパターン
を形成し、該レジストパターンをマスクに用いて前記透
明材料を削除して前記貫通孔を自己整合的に形成するこ
とを特徴としている。

【００３１】請求項２２記載の発明は、請求項１４乃至
２１のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネル
の製造方法に係り、前記貫通孔に印刷法、感光性樹脂
法、描画法のいずれかを用いて赤色発光用、緑色発光
用、青色発光用の蛍光体層を各々形成することを特徴と
している。

【００３２】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照してこの発明の
実施の形態について説明する。図１は、この発明のプラ
ズマディスプレイパネルの第１の実施の形態に係わる一
部切欠斜視図、図２は、図１のセル部分の平面図及び断
面図である。プラズマディスプレイパネルＰは、前面基
板Ａと後面基板Ｂとが隔壁Ｄを介して結合された構成で
ある。

【００３３】後面基板Ｂは、絶縁性を有する基板１（透
明である必要はない。特に可視光反射率の高い材料であ
れば反射輝度が上げられる）上に金属から成るデータ電
極２が基板列方向に設けられ、その上に白色誘電体層３
（透明でも良いが、可視光散乱率の高い材料であれば反
射輝度が上げられる）が設けられ、その上に金属から成
るスキャン電極４が基板行方向に設けられ、その上に白
色誘電体層５（透明でも良いが、可視光散乱率の高い材
料であれば反射輝度が上げられる）が設けられその上に
保護層６が設けられた構成である。

【００３４】前面基板Ａは、絶縁性を有する基板７（透
明である必要がある。特に可視光透過率の高い材料であ
れば透過輝度が上げられる）の下に金属あるいは一部金
属と接続する透明導電材料から成るコモン電極８が基板
列方向に設けられ、その下には透明誘電体層９が設けら
れ、その下に保護層１０が設けられた構成である。隔壁
Ｄは、前面基板Ａと後面基板Ｂとの間に設けられてお
り、反射隔壁１１と透明隔壁１２とで大略構成されてい
る。反射隔壁１１には、下部（後面基板Ｂ側）が小口径
で上部（前面基板Ａ側）が大口径となった略すり鉢状の
凹部２０が形成されている。この凹部２０内には、中央
部に貫通孔２１が形成された透明隔壁１２が埋め込まれ
ている。そして、貫通孔２１の内壁には、蛍光体層１３
が設けられている。前記凹部２０の内壁である傾斜面２
０ａは、可視光を反射・散乱させる働きを有し、また、
透明隔壁１２は、可視光を透過する働きを有している。
この透明隔壁１２の貫通孔２１及び蛍光体層１３によっ
て囲まれた領域で放電空間２５が形成され、この放電空
間２５と透明隔壁１２とでセルＣが構成される。

【００３５】この発明では、スキャン電極４とコモン電
極８との間で対向放電による維持放電１５が起こり、プ
ラズマから放射された紫外光が蛍光体層１３によって可
視光変換され、その光（可視光１６）が透明隔壁１２を
通過して反射隔壁１１において表示面側に反射される構
成となっている。このような構成では、蛍光体層１３の
表面が維持放電１５に平行して接近するため、プラズマ
から放射される１４７ｎｍの共鳴線の利用効率が大幅に
改善される。さらに、維持放電１５を発生させる電界と
蛍光体層１３との面が平行となっているために、蛍光体
層１３へ入射する荷電粒子数が減少し、いわゆる荷電粒
子衝撃による蛍光体層１３の劣化が少ない利点もある。
その上、セルＣの底部に蛍光体層１３が形成されていて
もセル垂直方向に出射する可視光量が少なくて済むた
め、書込放電１４やその他の予備放電等に付随して起こ
る不要発光に起因したコントラスト比の低下も抑えるこ
とができる。そして、可視光に関しては、透明隔壁１２
での減衰が小さいので、反射隔壁１１の可視光反射率を
高めれば蛍光体層１３全面で可視光変換された光をより
効果的にセルＣから取り出すことが可能となる。以上の
ように、この発明の構造では、従来よりも輝度や発光効
率が飛躍的に向上する。

【００３６】上記の貫通孔２１を垂直にすると、維持放
電１５の電界と蛍光体層１３との面が平行になり、高エ
ネルギーの荷電粒子(イオンや電子)が蛍光体層１３に入
射しにくくなるため、蛍光体層１３の劣化にともなう輝
度の低下を抑えることができる。但し、貫通孔２１は、
完全な垂直でなくても良い。例えば貫通孔２１に凹部２
０の傾斜面２０ａに接近するような傾斜角を持たせる
と、蛍光体層１３の表示面側への投影面積が増加し、且
つ蛍光体層１３面における可視光の多重反射が促進され
てより輝度が向上する。しかし、プラズマ表面から離れ
すぎると、逆に輝度の低下を招くので、セルサイズに応
じた最適条件がある。

【００３７】この発明では、反射隔壁１１における凹部
２０の傾斜面２０ａの傾斜角度によって輝度が変化す
る。図３は、図中に示す構造のテストセル（図２の構造
と同型）を用いたときの凹部２０の傾斜面２０ａの傾斜
角度θに対する維持放電周波数１ｋＨｚ当たりの輝度の
変化を示したグラフである。なお、ここで使用したテス
トセルは、フォトリソグラフィープロセス（成膜工程と
フォトレジストをマスクに用いたエッチング工程とから
成るパターニングプロセス）を用いて高精度に作製し
た。後面基板Ｂ側および前面基板Ａ側の絶縁性基板１，
７には、ソーダライムガラス基板を用いた。そして、後
面基板Ｂ側に形成したデータ電極２とスキャン電極４な
らびに前面基板Ａ側に形成したコモン電極８には、Ｃｒ
（クロム）を用いた。これらの設計膜厚及び幅は、それ
ぞれ２００ｎｍと５０μｍである。

【００３８】後面基板Ｂ側の白色誘電体層３，５には、
ＴｉＯ₂（酸化チタン）を含むＰｂＯ（酸化鉛）を主構
成要素とする白色誘電体ペーストを用いた。これらの設
計層厚は、１０μｍである。そして、前面基板Ａ側の透
明誘電体層９には、ＰｂＯ（酸化鉛）を主構成要素とす
る透明誘電体ペーストを用いた。この設計層厚は、１０
μｍである。また、両基板側に形成した保護層６，１０
には、ＭｇＯ（酸化マグネシウム）を用いた。これらの
設計層厚は、１μｍである。

【００３９】反射隔壁１１と透明隔壁１２には、それぞ
れＴｉＯ₂を含むＰｂＯを主構成要素とする白色誘電体
ペーストとＰｂＯを主構成要素とする透明誘電体ペース
トを用いた。これらの設計高は、２００μｍである。ま
た、放電ガスには、Ｎｅ（９６％）−Ｘｅ（４％）の混
合ガスを用いた。この設計圧力は、６０ｋＰａである。
そして、蛍光体層１３の設計層厚は、１０μｍである。
なお、透明隔壁１２の設計外径（直径)は、実験の都合
上、３００〜４００μｍの間で可変とした。但し、透明
隔壁１２の設計内径(直径）、すなわち、貫通孔２１の
直径は、１００μｍで固定とした。したがって、傾斜角
度θが５０°以下では、反射隔壁１１の内側面に略垂直
面が生じ、５０°以上では、反射隔壁１１の外径（直
径）が４００μｍよりも小さくなることに留意する必要
がある。図３より、テストセルにおける輝度は、傾斜角
度θが３０°以上６０°以下の範囲で極大を示すことが
わかる。したがって、この発明の構造における凹部２０
の傾斜面２０ａの傾斜角度θは、３０°以上６０°以下
の範囲が好ましいことになる。

【００４０】この発明では、上記したように、プラズマ
から蛍光体層１３までの距離が重要となる。図４は、図
３で使用したテストセルと同じものを用いたときの（孔
半径ｒ2／放電半径ｒ1）の比（以下Ｑと称す）に対する
輝度比の変化を示したグラフである。なお、縦軸は、孔
半径ｒ２が放電半径ｒ１にほぼ等しいときの輝度を１と
して規格化したものである。ここに、放電半径ｒ１と
は、維持放電１５によるプラズマの占有面積半径で、ス
キャン電極４とコモン電極８の交差面積半径に大略一致
するものとしている。そして、このときの放電半径ｒ1
は、３０〜４０μｍ程度である。また、孔半径ｒ２と
は、水準振りをした貫通孔２１の半径である。但し、貫
通孔２１の内壁には、蛍光体層１３が形成されているた
め、実際の孔半径ｒ２は、蛍光体層１３の厚さ分を差し
引いたものとなる。なお、透明隔壁１２の外径（直径）
は、４００μｍで固定とした。したがって、貫通孔２１
の半径が大きくなると、凹部２０の傾斜面２０ａの傾斜
角度θが増加してしまうことに留意する必要がある。

【００４１】図４から、比Ｑが１．０〜１．５位までは
輝度が向上することがわかる。これは、貫通孔２１の半
径を広げたことによって蛍光体層１３の形成面積が増加
したことに加えて、維持放電１５のプラズマ半径もやや
広がったために、放射紫外光量もまた増加し、これらの
結果として可視発光量が増加したためと考えられる。し
かしながら、比Ｑが２．０へ近づくにしたがい、輝度は
徐々に低下し始め、比Ｑが２．０以上では、急激に輝度
が低下することがわかる。これは、維持放電１５の広が
りが止まり、プラズマから蛍光体層１３までの距離が増
加したことに加えて、貫通孔２１の半径ｒ２の広がりと
ともに、凹部２０の傾斜面２０ａの傾斜角度θが増加し
てしまい、反射隔壁１１の表示面側への投影面積が減少
して可視光を効果的に表示面側へ反射できなくなったた
めであると思われる。以上の結果から、比Ｑは、１．０
以上２．０以下の範囲が好ましいことになる。なお、
（孔半径ｒ2／放電半径ｒ1）の比Ｑで評価を行ったの
は、本実験結果を多様なセルに拡張して当てはめること
ができるからである。

【００４２】この発明では、可視光が蛍光体層１３中を
通過して反射隔壁１１に到達するようになっているた
め、蛍光体層１３の厚さもまた重要となる。図５は、図
３で使用したテストセルと同じものを用いたときの蛍光
体層１３の厚さに対する維持放電周波数１ｋＨｚ当たり
の輝度の変化を示したグラフである。なお、透明隔壁１
２の設計外径（直径）と設計内径（直径）は、それぞれ
４００μｍと１００μｍで固定とした。このときの凹部
２０の傾斜面２０ａの傾斜角度θは、約５０°である。
図５から、蛍光体層１３の厚さが５〜１５μｍの範囲で
は輝度が高く、それ以外の領域では低いことがわかる。
これは、５μｍ以下の厚さでは薄すぎて可視発光量が少
なく、１５μｍを超えると厚すぎて蛍光体層１３中の可
視光透過量が減少していくためであると考えられる。一
般にプラズマディスプレイパネルとしては、維持放電周
波数１ｋＨｚ当たりの輝度が８ｃｄ／ｃｍ² 以上である
ことが望ましいとされているが、蛍光体層１３の厚さが
大略５〜１５μｍの範囲でそれが実現されている。以上
のことから、蛍光体層１３の厚さとしては、５μｍ以上
１５μｍ以下が好ましいことになる。

【００４３】図６は、この発明のプラズマディスプレイ
パネルの第２の実施の形態を示す平面図及び断面図であ
る。第２の実施の形態では、透明隔壁１２の貫通孔２１
が、下部（後面基板Ｂ側）の小口径部２１ａと段差部２
２を介して形成された上部（前面基板Ａ側）の大口径部
２１ｂとの２段で構成されている。このように、大口径
部２１ｂを形成することにより、蛍光体層１３を貫通孔
２１に塗り込みやすくなると同時に、段差部２２のとこ
ろで蛍光体をせき止め、基板底部まで到達することを防
ぐことができるため、凹部２０の底部での書込放電１４
やその他の予備放電等にともなう可視発光に起因したコ
ントラスト比の低下をより低減させることができる。な
お、段差部２２の数は、２段以上でもかまわず、貫通孔
２１部が全体的に傾斜していても良い。この場合、蛍光
体層１３の表示面側への投影面積が増加し、且つ蛍光体
層１３面における可視光１６の多重反射が促進されてよ
り輝度が向上する。しかし、プラズマ表面から離れすぎ
ると、逆に輝度の低下を招くので、セルサイズに応じた
最適条件がある。

【００４４】図７は、図中に示す構造のテストセル（図
６の構造と同型）を用いたときの（小口径部高さｈ2／
隔壁高さｈ1）の比（以下Ｒと称す）に対する暗所での
コントラスト比の変化を示したグラフである。ここに、
隔壁高さｈ1 とは、隔壁Ｄの高さであり、小口径部高さ
ｈ2 とは、蛍光体層１３を設けない小口径部２１ａの高
さである。なお、貫通孔２１部以外は、図５で使用した
テストセルと同じである。そして、このときの蛍光体層
１３の設計層厚は、１０μｍである。図７から、Ｒが
０．２以上０．４以下の範囲でコントラスト比が極大を
示すことがわかる。これは、小口径部高さｈ2 が低すぎ
る場合では、蛍光体層１３と基板底部との距離が近くな
るために、書込放電１４やその他の予備放電等にともな
う可視発光が表示発光に影響してしまい、逆に高すぎる
場合では、維持放電１５によって可視発光させる蛍光体
層１３の形成面積が減少し、全体の輝度を下げてしまう
ためであると考えられる。以上の結果から、比Ｒとして
は、０．２以上０．４以下の範囲が好ましいことにな
る。なお、小口径部高さｈ2／隔壁高さｈ1 の比Ｒで評
価を行ったのは、本実験結果を多様なセルに拡張して当
てはめることができるからである。

【００４５】図８は、この発明の第３の実施の形態を示
す平面図及び断面図である。この第３の実施の形態で
は、反射隔壁１１の底部の内側に垂直壁部１１ａを形成
するとともに、透明隔壁１２の下端に切除部１２ａを形
成することにより、蛍光体層１３の内側に形成される維
持放電空間部２５とは別に、蛍光体層１３が設けられて
いない書込放電空間部２６を形成している。したがっ
て、書込放電空間部２６の口径は、維持放電空間部２５
の口径よりも広くなっている。これにより、書込放電１
４やその他の予備放電等に起因した不要な可視発光によ
るコントラスト比の低下を抑制できる。

【００４６】さらに、書込放電１４を発生させる空間が
広がるため、放電の面積効果及び体積効果（放電面積や
体積によって統計的な絶縁破壊径路が増減し、火花発生
電圧が変化する効果）によって統計的な絶縁破壊経路が
増加して、より低い電圧で書込放電１４を起こすことが
可能となる。また、それにともなって壁電荷やプライミ
ング粒子（放電開始電圧を下げる作用をする電子やイオ
ン）が多く供給されるため、より低い電圧で維持放電１
５を起こすことが可能となる。この結果、書込放電１４
から維持放電１５への遷移性が改善され、駆動マージン
を拡大させることができるようになる。図８中には、書
込放電空間部２６の側面が垂直な場合を例示している
が、別に基板底部側に向かって書込放電空間が広がるよ
うな傾斜角度を持たせても良い。この場合、書込放電１
４やその他の予備放電等による可視発光が一段と外部に
漏れにくくなり、コントラスト比の低下をより抑制でき
るようになる。さらに、紫外光や可視光の閉じこめ効果
が増すために、それらの光が基板底部側の保護層６へ入
射する頻度が増加し、その結果として保護層６からの光
電子放出量が増加するため、より一層放電を起こしやす
くなる利点もある。

【００４７】上記の反射隔壁１１としては、波長が３６
０ｎｍ以上８３０ｎｍ以下の可視光を効率よく反射する
ものが好ましい。その理由は、蛍光体により可視光変換
された光を効果的に表示光として取り出すことができる
ようになるからである。さらに、波長が１２０ｎｍ以上
３６０ｎｍ以下の紫外光を反射できればより望ましい。
その理由は、紫外光等の閉じこめ効果が増して、蛍光体
をより効果的に可視発光させることができるのに加え
て、保護層６からの光電子放出が増加し、より放電を起
こしやすくなるからである。また、透明隔壁１２として
は、波長が３６０ｎｍ以上８３０ｎｍ以下の可視光を効
率よく透過するものが好ましい。その理由は、蛍光体に
より可視光変換された光を効果的に透過して反射隔壁１
１まで導くことができるようになるからである。さら
に、波長が１２０ｎｍ以上３６０ｎｍ以下の紫外光を透
過できればより望ましい。その理由は、反射隔壁１１で
反射された紫外光によって蛍光体を効果的に可視発光さ
せることができるようになるのに加えて、保護層１０か
らの光電子放出が増加し、より放電を起こしやすくなる
からである。

【００４８】図９は、図４で使用したテストセルと同じ
ものを用いたときの（孔半径ｒ2 ／放電半径ｒ1 ）の比
Ｑ（以下Ｑと称す）に対する書込電圧（書込放電を起こ
すのに必要な電位差）と維持電圧（維持放電を起こすの
に必要な電位差）の変化を示したグラフである。なお、
縦軸は、孔半径ｒ2 が放電半径ｒ1 にほぼ等しいときの
書込電圧値と維持電圧値を１として規格化したものであ
る。図９から、間接的ではあるものの、放電空間が広が
ることによって書込電圧ならびに維持電圧が減少してい
くことがわかる。実際に維持放電空間部２５とは別に、
書込放電空間部２６を設ける場合には、平面方向（径方
向）に対してはセルサイズ近くまでその大きさを広げる
ことができるが、垂直方向（軸方向）に対しては図７で
与えられるような高さ制限が発生してしまうことに留意
する必要がある。

【００４９】以上、この発明の実施の形態を図面を用い
て詳述してきたが、具体的な構成は、それら実施の形態
に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない
範囲の設計の変更等があってもこの発明に含まれること
は言うまでもない。例えばコモン電極８は、基板行方向
に伸長して形成しても良いし、透明導電材料から成るコ
モン電極８を前面基板Ａ全体に広げて形成してもかまわ
ない。この場合、コモン電極８のパターニングに係わる
工程が省略できる。さらに、金属から成るバス電極を非
表示部に形成してコモン電極と接続させればコモン電極
８の低抵抗化と高開口率化が実現できる。また、前面基
板Ａ側にも蛍光体層を設ければ表示面側での可視発光が
加算されるため、より輝度や発光効率が向上できる。

【００５０】さらに、反射隔壁１１における凹部２の存
在しない部分、つまり、蛍光体からの光を前方出射させ
ることのない平坦な部分に低反射率材料を設ければ明所
でのコントラスト比をより一層改善することができる。
一方、凹部２０の平面形状は、上記した実施の形態で例
示したような真円形状でなくても良い。例えば三角以上
の多角形状であっても良いし、楕円形状であって良い。
但し、維持放電１５の中心軸からの距離が同じである方
が紫外光や可視光の利用効率が高いので、真円形状のも
のが最も適している。そして、凹部２０の断面形状は、
上記した実施の形態で例示したような略すり鉢状でなく
て良い。例えば無数の段差を有したような階段形状であ
っても良い。

【００５１】また、図２、図６、図８に例示した構造を
組み合わして用いても良い。この場合、各々の特徴を同
時に持たせることができる。さらに、セルＣの配列も制
限されるものではない。なお、この発明の隔壁構造は、
３電極型のＰＤＰ以外にも２電極型のＰＤＰにも適用で
きる。特に維持放電（表示放電）を対向放電（セル垂直
方向の放電）で行うＰＤＰには、最適である。

【００５２】次に、図１０及び図１１に基づいて、この
発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法の実施の
形態を説明する。説明は、実施例を用いて具体的に行
う。 （実施例１）図１０は、プラズマディスプレイパネルの
製造方法の実施例１の工程を示す断面図である。最初
に、前面基板Ａ側の工程について説明する（工程（ａ）
及び（ｂ））。まず、絶縁性基板７上にコモン電極８を
形成する。このコモン電極８の形成法は、例えば塗布法
（スプレーやスピンコーター、コンマコーター等を用い
た被着法）、印刷法（スクリーン印刷や凸版印刷等を用
いた選択的パターン形成法）、感光性樹脂法（感光性樹
脂の露光による選択的パターン形成法）、真空成膜法
（蒸着、スパッタリング、化学気相成膜等による被着工
程及びフォトリソグラフィーとエッチング等による加工
工程とから成るパターン形成法）、メッキ法（電界及び
無電解メッキによる選択的パターン形成法あるいはフォ
トリソグラフィー等による加工工程とを組み合わせたパ
ターン形成法）、描画法（インクジェット等による選択
的、且つ直接的パターン形成法）等、周知の方法を用い
て形成できる（工程（ａ））。次いで、コモン電極８上
に透明誘電体層９を形成する。この透明誘電体層９の形
成法は、例えば上記塗布法、印刷法、感光性樹脂法、真
空成膜法等、周知の方法を用いて形成する。そして、透
明誘電体層９上に保護層１０を真空成膜法や塗布法等を
用いて形成することにより、前面基板Ａが作製される
（工程（ｂ））。

【００５３】次に、後面基板Ｂ側の工程について説明す
る（工程（ｃ）〜（ｅ））。まず、絶縁性基板１上にデ
ータ電極２を上記印刷法、感光性樹脂法、真空成膜法、
メッキ法、描画法等を用いて形成した後、データ電極２
上に白色誘電体層３を塗布法、印刷法、感光性樹脂法、
真空成膜法等を用いて形成する（工程（ｃ））。次い
で、白色誘電体層３上にスキャン電極４を印刷法、感光
性樹脂法、真空成膜法、メッキ法、描画法等を用いて形
成した後、スキャン電極４上に白色誘電体層５を塗布
法、印刷法、感光性樹脂法、真空成膜法等を用いて形成
する。そして、白色誘電体層５上に保護層６を真空成膜
法や塗布法等を用いて形成する（工程（ｄ））。

【００５４】次に、隔壁Ｄを形成する。隔壁Ｄの形成方
法としては、後面基板Ｂと一体化させて形成する方法
と、別途形成した隔壁シートを後面基板Ｂと前面基板Ａ
との間に狭持させる方法とがある。最初に、隔壁Ｄを後
面基板Ｂと一体化させて形成する方法について説明する
（工程（ｅ））。上記（ｄ）に示す工程の後、ＴｉＯ₂
（酸化チタン）等を含む白色絶縁体（反射隔壁１１材
料）を印刷法、感光性樹脂法、真空成膜法、アディティ
ブ法(感光性樹脂等により形成した凹パターン部に材料
を埋め込むパターン形成法）、サンドブラスト法（マス
クを用いた切削によるパターン形成法）、プレス成型法
（鋳型や金型等を用いた一括パターン形成法）等を用い
て形成する。あるいは、上述のようにして作製した隔壁
上にＡｌ（アルミニウム）やＡｇ（銀）からなる反射層
を印刷法、感光性樹脂法、真空成膜法、メッキ法、描画
法等を用いて形成する。この反射層は、隔壁傾斜面に選
択的に形成しても良いし、後工程において余計な部分
（放電面や非表示部）の反射層を除去しても良い。この
ように、反射層を別途設ける場合には、反射隔壁１１の
べ一ス材料は透明であっても良い。

【００５５】次に、先に形成した反射隔壁１１よりも軟
化点の低い透明絶縁体（透明隔壁１２材料）を印刷法、
感光性樹脂法、アディティブ法、真空成膜法、ビーズ法
（反射隔壁１１における凹部２０の容積と同程度の容積
を待つガラスビーズを反射隔壁１１の凹部２０を利用し
て選択的に落とし込み、熱溶融させることによって反射
隔壁１１の凹部２０に透明隔壁１２の材料を埋め込むパ
ターン形成法）等を用いて反射隔壁１１の凹部２０に形
成した後、サンドブラスト法、機械切削法（マイクロド
リルによるパターン形成法）、レーザー・ビーム法（レ
ーザーや電子・イオンビーム等を用いたパターン形成
法）、化学エッチング法（化学反応を利用したパターン
形成法）等を用いて孔開け加工を行う。

【００５６】あるいは、バーンアウト法（孔位置に感光
性有機レジストパターンを形成し、それをマスクに透明
隔壁１２材料を反射隔壁１１の凹部２０に埋め込んだ
後、透明隔壁１２材料の乾燥・焼成を兼ねながらレジス
トパターンの燃焼除去を行うパターン形成法）や型抜き
法（孔位置に所定形状の型をあてがい、それをマスクに
透明隔壁１２材料を反射隔壁１１の凹部２０に埋め込ん
だ後、透明隔壁１２材料の乾燥あるい焼成を行い、型抜
きするパターン形成法）等を用いて別途孔空け加工行わ
ずに透明隔壁１２ならびに貫通孔２１を形成しても良
い。

【００５７】以上のようにして反射隔壁１１ならびに透
明隔壁１２を作製した後、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青
（Ｂ）の各色に対応したセルにそれぞれ赤色発光用、緑
色発光用、青色発光用の各蛍光体層１３を印刷法、感光
性樹脂法、描画法等を用いて形成する。このようにして
後面基板Ｂが作製される（工程（ｅ））。次に、パネル
組立工程について説明する（工程（ｆ））。まず、前面
基板Ａあるいは後面基板Ｂのどちらか一方の基板周辺部
にフリットガラスシール２７を設け、対をなすスキャン
電極４とコモン電極８とが互いに対面するように、前面
基板Ａと後面基板Ｂとを貼り合わせて気密封止する。そ
の後、パネル周辺部に設けたガス排気及びガス吸気用の
管路（図示せず）からパネル内部の残留不純物(有機物
等)をべ一キングや放電洗浄等を用いて除去し、パネル
内部の真空排気を行う。最後に、同管路から放電用のガ
スを導入し、同管路を気密封止してパネル製造工程を終
了する。

【００５８】（実施例２）次に、隔壁シートを用いる実
施例２の製造方法を図１１を用いて説明する。なお、図
１１の（ａ）〜（ｄ）の工程は、図１０の（ａ）〜
（ｄ）の工程と同一であるので説明を省略する。図１１
（ｅ）の工程において、反射隔壁１１用のシート部材と
貫通孔２１を有する透明隔壁１２とが一体化された隔壁
シートＳを形成する。この隔壁シートＳの形成方法とし
ては、図１０（ｅ）の説明で述べた方法がそのまま適用
できる。また、反射隔壁１１だけの形成方法としては、
あらかじめ赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各セルに対
応した開口部を一括成形したセラミックシートやガラス
シート等を用いることも可能である。なお、透明隔壁１
２の孔開け加工に関しては、以下に述べるような自己整
合的な加工方法が実施可能である。

【００５９】自己整合的な孔空け加工としては、例えば
反射隔壁１１の凹部２０にポジ型（露光された部分が除
去される）の透明感光性材料（透明隔壁１２の材料）を
埋め込んだ後、遮光性を有する反射隔壁１１をフォトマ
スクに用いて小径孔側からポジ型の透明感光性材料を露
光して自己整合的に所定の貫通孔２１を有した透明隔壁
１２を形成することができる。また、反射隔壁１１の凹
部２０にネガ型（露光されない部分が除去される）の感
光性有機レジストを埋め込み、遮光性を有する反射隔壁
１１をフォトマスクに用いて小径孔側からネガ型の感光
性有機レジストを露光して所定の孔径を有したレジスト
パターンを形成した後、このレジストパターンをマスク
に用いて凹部２０に透明隔壁１２材料を埋め込み、レジ
ストパターンを除去して自己整合的に所定の貫通孔２１
を有した透明隔壁１２を形成することもできる。

【００６０】さらに、反射隔壁１１の凹部２０に透明隔
壁１２材料を埋め込んだ後、小径孔側の面にポジ型の感
光性有機レジストを形成し、遮光性を有する反射隔壁１
１をフォトマスクに用いて大径孔側からポジ型の感光性
有機レジストを露光して所定の孔径を有したレジストパ
ターンを形成した後、このレジストパターンをマスクに
用いてサンドブラスト法等により透明隔壁１２材料を除
去して自己整合的に所定の貫通孔２１を有した透明隔壁
１２を形成することができる。

【００６１】このような自己整合的なパターン形成法を
用いると、パターン同士の目合わせが不要になるので、
高精度のパターンアライメントが可能となり、プロセス
マージンの拡大による歩留まりの向上を達成することが
できるようになる。なお、上記した３つの方法の内、は
じめの２つは、後面基板Ｂを構成する部材が全て透明で
あれば隔壁Ｄを後面基板Ｂと一体化させて形成する場合
にも適用することができる。しかしながら、この場合に
は、データ電極２やスキャン電極４に透明導電材料を用
いなければならなくなるので、低抵抗化という点で問題
が生じる。

【００６２】以上のようにして隔壁シートＳを作製した
後、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各色に対応したセ
ルにそれぞれ赤色発光用、緑色発光用、青色発光用の各
蛍光体層１３を印刷法、感光性樹脂法、描画法等を用い
て形成することにより、工程（ｅ）に示す隔壁シートＳ
が得られる。パネル組立工程（工程（ｆ））において
は、前面基板Ａあるいは後面基板Ｂのどちらか一方に上
述の隔壁シートＳを配置して図１０（ｆ）の工程と同様
にして組み立てを行う。上記した反射隔壁１１の材料と
しては、ＴｉＯ₂（酸化チタン）、ＺｒＯ₂（酸化ジルコ
ニウム）、Ａｌ₂Ｏ₃（酸化アルミニウム）のいずれか１
つ以上を含む（好ましくは１０ｗｔ％以上）ものが好適
に使用される。また、透明隔壁１２の材料としては、反
射隔壁１１よりも軟化点が低い材料であって、ＰｂＯ
（酸化鉛）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）、Ｂ_２Ｏ_３ （酸化ホ
ウ素）のいずれか１つ以上を含む（好ましくは２０ｗｔ
％以上）ものが好適に使用される。さらに、反射層に用
いるＡｌやＡｇの膜厚としては、５０ｎｍ以上のものが
好適に使用される。但し、実際に使用する材料は、ここ
で述べた以外の材料でも良く、反射隔壁１１及び透明隔
壁１２ならびに反射層の材料を限定するものではない。

【００６３】

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれば
蛍光体層がプラズマに接近して設けられているため、励
起Ｘｅ原子から放射される１４７ｎｍの共鳴線の利用効
率が大幅に改善される。さらに、蛍光体層で可視光変換
された光を反射隔壁によって効果的に表示面側へと反射
させることができるため、輝度や発光効率を飛躍的に向
上できる。輝度や発光効率が高ければ少ない電力でも明
るい画像表示が可能となるので、結果的に低消費電力化
が可能となる。また、蛍光体層は、貫通孔の内壁に形成
され、書込放電が起こる部位には形成されていないた
め、データ電極とスキャン電極とが交差するセル底部で
書込放電やその他の予備放電等が起こっても、それによ
る蛍光体層の可視発光が抑制でき、それら不要発光に起
因したコントラスト比の低下を低減することができる。
その上、維持放電空間とは別に書込放電空間が広く設け
られているので、書込放電が起こしやすくなり、書込動
作に要する時間が短縮できることに加えて、より多くの
壁電荷やプライミング粒子も生成されるので、書込放電
から維持放電への遷移性が改善される。この結果、従来
よりも駆動マージンを拡大することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明のプラズマディスプレイパネルの第１
の実施の形態を示す一部切欠斜視図である。

【図２】第１の実施の形態のプラズマディスプレイパネ
ルにおけるセル部分を示す（ａ）平面図及び（ｂ）断面
図である。

【図３】第１の実施の形態のセルにおける凹部の傾斜角
度と輝度の関係を示すグラフである。

【図４】第１の実施の形態のセルにおける（貫通孔半径
／放電半径）比と輝度比の関係を示すグラフである。

【図５】第１の実施の形態のセルにおける蛍光体層厚さ
と輝度の関係を示すグラフである。

【図６】第２の実施の形態のプラズマディスプレイパネ
ルにおけるセル部分を示す（ａ）平面図及び（ｂ）断面
図である。

【図７】第２の実施の形態のセルにおける（貫通孔の小
口径部高さ／隔壁高さ）比とコントラスト比の関係を示
すグラフである。

【図８】第３の実施の形態のプラズマディスプレイパネ
ルにおけるセル部分を示す（ａ）平面図及び（ｂ）断面
図である。

【図９】第１の実施の形態のセルにおける（貫通孔半径
／放電半径）比と書込電圧比及び維持電圧比の関係を示
すグラフである。

【図１０】この発明のプラズマディスプレイパネルの製
造方法の第１の実施の形態を示す工程断面図である。

【図１１】この発明のプラズマディスプレイパネルの製
造方法の第２の実施の形態を示す工程断面図である。

【図１２】従来の略すり鉢状の隔壁構造を有するプラズ
マディスプレイパネルにおけるセル部分を示す（ａ）平
面図及び（ｂ）断面図である。

【図１３】プラズマから放射された紫外光が蛍光体層に
たどり着くまでの様子を示した説明図である。

【符号の説明】

１，７ 絶縁性基板 ２ データ電極 ４ スキャン電極 ８ コモン電極 １１ 反射隔壁 １２ 透明隔壁 １３ 蛍光体層 ２０ 凹部 ２０ａ 傾斜面 ２１ 貫通孔 ２１ａ 小口径部 ２１ｂ 大口径部 ２６ 書込放電空間部 Ａ 前面基板 Ｂ 後面基板 Ｄ 隔壁

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−36689（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−181633（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−120776（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−139933（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−301631（ＪＰ，Ａ) 特公 昭63−62133（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01J 11/00 - 17/64

Claims (22)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 前面基板と後面基板との間に隔壁が構成
   され、該隔壁により画成された放電空間を有するプラズ
   マディスプレイパネルであって、 前記隔壁は、前記前面基板側に向かって拡開する形状の
   凹部が形成された反射隔壁と中央領域に貫通孔を有する
   前記凹部内に埋め込まれた透明隔壁とから成り、前記貫
   通孔の内壁には、蛍光体層が設けられて放電セルが形成
   されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネ
   ル。
2. 【請求項２】 前記隔壁は、独立した隔壁シートから成
   ることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレ
   イパネル。
3. 【請求項３】 前記前面基板は、絶縁性の透明基板にコ
   モン電極が形成された構成であり、前記後面基板は、絶
   縁性の基板に列方向に伸長するデータ電極と行方向に伸
   長するスキャン電極とが形成された構成であることを特
   徴とする請求項１又は２記載のプラズマディスプレイパ
   ネル。
4. 【請求項４】 前記貫通孔は、垂直孔もしくは前記反射
   隔壁に接しない傾斜角度を有した傾斜孔であり、前記貫
   通孔の下端部と前記反射隔壁の下端部とが同一面上にあ
   ることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１に記載
   のプラズマディスプレイパネル。
5. 【請求項５】 前記貫通孔は、下部の小口径部に段差を
   介して上部の大口径部が連接された形状であり、前記大
   口径部の内壁に前記蛍光体層が形成されていることを特
   徴とする請求項１乃至４のいずれか１に記載のプラズマ
   ディスプレイパネル。
6. 【請求項６】 前記透明隔壁の下部と前記反射隔壁の内
   側とで囲まれた書込放電空間部が形成されていることを
   特徴とする請求項１乃至５のいずれか１に記載のプラズ
   マディスプレイパネル。
7. 【請求項７】 前記凹部は、略すり鉢形状であり、該凹
   部の内壁の傾斜面の角度は、３０°以上６０°以下の範
   囲であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１
   に記載のプラズマディスプレイパネル。
8. 【請求項８】 前記貫通孔の小口径部の高さ及び前記書
   込放電空間部の高さｈ２と前記反射隔壁の高さｈ１との
   比（ｈ２／ｈ１）が、０．２以上０．４以下の範囲であ
   ることを特徴とする請求項５又は６記載のプラズマディ
   スプレイパネル。
9. 【請求項９】 維持放電又は維持放電空間部の中心軸か
   ら前記蛍光体層の表面までの距離ｒ２と前記維持放電又
   は前記維持放電空間部の中心軸から前記維持放電の表面
   までの距離ｒ１との比（ｒ２／ｒ１）が、１．０以上
   ２．０以下の範囲であることを特徴とする請求項１乃至
   ８のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネル。
10. 【請求項１０】 前記蛍光体層の厚さは、５μｍ以上１
    ５μｍ以下の範囲であることを特徴とする請求項１乃至
    ９のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネル。
11. 【請求項１１】 前記反射隔壁は、酸化チタン（ＴｉＯ
    ₂ ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）、酸化アルミニウ
    ム（Ａｌ₂Ｏ₃ ）のいずれか１つ以上を含むことを特徴
    とする請求項１乃至１０のいずれか１に記載のプラズマ
    ディスプレイパネル。
12. 【請求項１２】 前記反射隔壁は、前記凹部の内壁の傾
    斜面上に銀（Ａｇ）層、アルミニウム（Ａｌ）層のいず
    れか１つ以上が形成されていることを特徴とする請求項
    １乃至１１のいずれか１に記載のプラズマディスプレイ
    パネル。
13. 【請求項１３】 前記透明隔壁は、酸化鉛（ＰｂＯ）、
    酸化亜鉛（ＺｎＯ、酸化ホウ素（Ｂ_２Ｏ_３ ）のいずれ
    か１つ以上を含むことを特徴とする請求項１乃至１２の
    いずれか１に記載のプラズマディスプレイパネル。
14. 【請求項１４】 隔壁を介して前面基板と後面基板とを
    組み合わせるプラズマディスプレイパネルの製造方法で
    あって、 前記前面基板側に向かって拡開する形状の凹部を有する
    反射隔壁を形成し、前記凹部に透明材料を埋め込んで透
    明隔壁を形成し、該透明隔壁の中央部に貫通孔を形成
    し、該貫通孔の内壁に蛍光体層を形成することを特徴と
    するプラズマディスプレイパネルの製造方法。
15. 【請求項１５】 前記隔壁は、独立した隔壁シートで構
    成し、前記前面基板と前記後面基板との間に狭持して組
    み立てることを特徴とする請求項１４記載のプラズマデ
    ィスプレイパネルの製造方法。
16. 【請求項１６】 前記反射隔壁は、白色絶縁体を印刷
    法、感光性樹脂法、真空成膜法、アディティブ法、サン
    ドブラスト法、プレス成型法のいずれかを用いて形成す
    ることを特徴とする請求項１４又は１５記載のプラズマ
    ディスプレイパネルの製造方法。
17. 【請求項１７】 前記反射隔壁は、絶縁体を印刷法、感
    光性樹脂法、真空成膜法、アディティブ法、サンドブラ
    スト法、プレス成型法のいずれかを用いて形成し、金属
    から成る反射層を印刷法、感光性樹脂法、真空成膜法、
    メッキ法、描画法のいずれかを用いて形成することを特
    徴とする請求項１４乃至１６のいずれか１に記載のプラ
    ズマディスプレイパネルの製造方法。
18. 【請求項１８】 前記透明隔壁は、前記反射隔壁の絶縁
    体よりも軟化点の低い透明絶縁体を印刷法、感光性樹脂
    法、真空成膜法、アディティブ法、ビーズ法のいずれか
    を用いて前記凹部に埋め込んで形成し、機械切削法、サ
    ンドブラスト法、レーザー・ビーム法、化学エッチング
    法、バーンアウト法、型抜き法のいずれかを用いて前記
    貫通孔を形成することを特徴とする請求項１４乃至１７
    のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製
    造方法。
19. 【請求項１９】 前記透明隔壁は、前記凹部にポジ型の
    透明感光性材料を埋め込み、遮光性を有する前記反射隔
    壁をフォトマスクに用いて前記凹部の小径孔側から前記
    ポジ型の透明感光性材料を露光して前記貫通孔を自己整
    合的に形成することを特徴とする請求項１４乃至１７の
    いずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造
    方法。
20. 【請求項２０】 前記透明隔壁は、前記凹部にネガ型の
    感光性レジスト材料を埋め込み、遮光性を有する前記反
    射隔壁をフォトマスクに用いて前記凹部の小径孔側から
    前記ネガ型の感光性レジスト材料を露光してレジストパ
    ターンを形成し、該レジストパターンをマスクに用いて
    前記凹部に透明材料を埋め込み、前記レジストパターン
    を除去して前記貫通孔を自己整合的に形成することを特
    徴とする請求項１４乃至１７のいずれか１に記載のプラ
    ズマディスプレイパネルの製造方法。
21. 【請求項２１】 前記透明隔壁は、前記凹部に透明材料
    を埋め込み、前記凹部の小径孔側の面にポジ型の感光性
    レジスト材料を形成し、遮光性を有する前記反射隔壁を
    フォトマスクに用いて前記凹部の大径孔側から前記ポジ
    型の感光性レジスト材料を露光してレジストパターンを
    形成し、該レジストパターンをマスクに用いて前記透明
    材料を削除して前記貫通孔を自己整合的に形成すること
    を特徴とする請求項１４乃至１７のいずれか１に記載の
    プラズマディスプレイパネルの製造方法。
22. 【請求項２２】 前記貫通孔に印刷法、感光性樹脂法、
    描画法のいずれかを用いて赤色発光用、緑色発光用、青
    色発光用の蛍光体層を各々形成することを特徴とする請
    求項１４乃至２１のいずれか１に記載のプラズマディス
    プレイパネルの製造方法。