JP3432464B2 - ミラー式測定具 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、物品の外形寸法な
どを光学的に検査するのに用いられている投影機の治具
に関し、特にプリント基板に装着される半導体素子など
の電子部品における多数の端子の内の各々が該基板から
どの程度浮き上がるかを示す端子の浮き量を計測する際
に適用して好適なミラー式測定具に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体素子やコネクター等はプリント基
板へ半田付されるて用いられることが多い。これらの電
子部品のうちには、数百を越えるような多数の端子を有
するものも少なくない。各端子がプリント基板における
所定の導体へ適正な形で半田付けされるためには、それ
ら多数の端子が平面に揃っていることが必要である。

【０００３】各端子が平面に揃っている程度は次の方法
により測定できる。この測定方法では、電子部品を平面
に置き、その平面に平行は平行光を、例えば該電子部品
の左側から該端子に向けて投射し、該電子部品の右側に
おいて該平行光を光学系に入射し、該光学系により該平
行光を収束することにより該端子の輪郭影像を形成し、
輪郭影像をスクリーンに投影し、該輪郭影像における各
端子が所定の平面からどの程度ずれているかを測定す
る。

【０００４】電子部品などの物品の輪郭影像を得る手段
として、従来から用いられている装置に投影機がある。
一般的な投影機は、第1及び第2の平行光をそれぞれ出射
する第1及び第2の光源と、平らな上面を載置面とするガ
ラス等の透明な載置台と、該載置面に直交する入射光軸
を有する光学系と、該光学系で得た影像を投射するスク
リーンとを有し、該載置面に置かれた電子部品などの被
測定物に下面および上面から前記第1および第2の平行光
をそれぞれ投射し、該載置台を透過した前記第1の平行
光に基づく該被測定物の輪郭像および該被測定物の上面
で前記第2の平行光を反射させた上面反射光に基づく上
面像を前記スクリーンに投影する。

【０００５】この投影機は、第１の平行光を載置面の下
方から上方に向けて投射し、第２の平行光を載置面の上
方から下方に向けて投射する。そこで、載置面に載せら
れた被測定物の姿勢を正立姿勢とすると、この投影機で
は被測定物を底面から観た輪郭像および上方から観た平
面像は得られる。しかし、被測定物を載置面に正立させ
た姿勢では、被測定物を側面から観た像は得られない。
この投影機で被測定物を側面から観た像を得る1つの手
段として、正立姿勢から載置面に対し90度だけ傾けた姿
勢で、被測定物を載置面上に保持する治具が用いられて
いる。

【０００６】被測定電子部品を基板に装着したときに、
端子が基板からどの程度離れるかを現す量として、端子
の浮き量がある。端子の浮き量を投影機で計測するため
には、被測定電子部品を正立姿勢から載置面に対し90度
だけ傾け、被測定電子部品をその姿勢で保持する必要が
ある。被測定電子部品などの被測定物を正立姿勢から載
置面に対し90度だけ傾け、投影機の載置面上に保持する
治具の例としては、直角をなす2つの面を有するブロッ
クがある。

【０００７】このブロックにおいて互いに直角をなす2
つの面を第1および第2の平面とする。第1の平面を投影
機の載置面に置き、第2の平面に被測定電子部品を貼り
付けるか、または抑え込むかの何れかの方法により固定
する。かくして、該被測定電子部品は第2の平面に正立
した姿勢であって、投影機の載置面に対し90度傾いた姿
勢で該載置面に置かれるから、投影機により該第2の平
面に対する該電子部品の端子の浮き量が測定できる。こ
の様に直角ブロックを測定用治具として用いて、投影機
により端子の浮き量を測定する方法を以下、第１の従来
例と称することにする。

【０００８】図5は、投影機により端子の浮き量を測定
する第2の従来例を概念的に示す側面図である。図5の例
では、被測定電子部品を載置面に対し正立させた状態で
該被測定電子部品の端子の浮き量を測定できるようにす
るための治具としてプリズム測定具２０を投影機に適用
している。図５において、プリズム測定具２０は投影機
の載置面に載置され、プリズム測定具２０における該載
置面に平行な面に測定用台座9が載置され、測定用台座9
には被測定用電子部品としての被測定素子１０（例え
ば、多数の端子を備えるコネクター）が正立姿勢で載せ
られている。プリズム測定具２０には、光軸が水平面に
対して直角度を有するプリズム２１が設けてある。

【０００９】図5の端子浮き量測定方法では、外部光源
２２を必要とする。被測定素子１０の左側方より外部光
源２２からの光１０８を照射し、光１０８のうちで被測
定素子１０を過ぎ、被測定素子１０の右方に至った光１
０９をプリズム２１により反射させて、反射された透過
光１０９を、図６に示される投影機１３の光学系に対し
垂直方向に沿って上方に投射する。

【００１０】プリズム測定具２０は、被測定素子１０の
端子１０ａの浮き量を測定する際には、図６の投影機１
３の側断面概念図に示されるように、投影用として汎用
される投影機１３の基盤１４（前述の水平基盤）の上面
に設定されており、事前に投影機１３の基盤１４の位置
を上下に調整することにより、外部光源２２からの光１
０８の光軸と投影機13の光学系の光軸との軸合わせを必
要とする。

【００１１】図５において、符号１１０は焦点調整にお
ける基盤１４の位置調整方向を示す。同図において、点
線で示されるプリズム測定具２０の輪郭は、焦点調整の
ためにプリズム測定具２０を位置調整方向１１０に調整
する際に、プリズム測定具２０が置かれる当初の位置を
示している。前述のように、プリズム２１により反射さ
れて上方に投射される透過光１０９は、投影機１３の光
学系に入射する。この光学系は、透過光１０９を収束
し、端子10aの輪郭像をスクリーン１６に結ぶ。測定者
は、端子10aの輪郭像を観測し、端子１０ａの浮き量を
測定する。

【００１２】投影機１３では、内蔵の光源１７により、
光学系から下方に向けて平行光を照射し、被測定物で反
射された光の像を該光学系でスクリーン１６上に反射光
像として結ぶことができる。被測定素子１０の反射光像
を得るときには、投影機１３内の投射光源１７が光源と
なる。投射光源１７から出射された平行光は内部の光学
系を介して、投射光１０７としてプリズム２１へ入射
し、プリズム２１で反射され、被測定素子１０を照射す
る。被測定素子１０で反射された反射光は、プリズム２
１を介して投影機１３の光学系に入射される。そして、
輪郭像を得るときと同様に、反射光に基づく反射光像は
スクリーン１６上に投影される。この反射光像によって
も、被測定素子１０の端子１０ａの浮き量が測定され
る。但し、外部光源２２の平行光は被測定素子１０の左
側を照射し、投影機１３は被測定素子１０の輪郭影像光
を被測定素子１０の右側において観測し、輪郭像を得て
いるのに対し、投射光源１７の平行光は被測定素子１０
の右側を照射し、投影機１３は被測定素子１０の反射光
を被測定素子１０の右側において観測し、反射光像を得
ているので、端子１０ａの内で浮き量が測定される対象
は輪郭像と反射光像とでは相違している。

【００１３】更に、他の従来例（第３の従来例と云う）
としては、特公平７ー１１７３９２号公報に、フラット
パッケージのピン曲がりの検出装置が提案されている。
この従来例は、フラットパッケージをプリント基板に実
装する前段階において、該フラットパッケージの足ピン
に曲がりがなく、足ピンが正常に延びているか否かを判
別することを目的としている。そこで、第３の従来例
は、フラットパッケージの足ピンに、その並び方向に沿
って平行光を照射する光学系と、足ピンの付近を透過し
た該平行光の光束を足ピン突出方向に収束するシリンド
リカルレンズと、該シリンドリカルレンズを通過した光
を受ける二次元ＣＣＤセンサと、二次元ＣＣＤセンサで
得た二値化画像を記憶する第２画像メモリと、正規位置
に対する足ピンの上下方向の曲がりの有無判定をその二
値化画像の足ピンについて行う判定手段とを備えてい
る。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】上述した第1乃至第3の
従来の測定具を適用して、被測定物の浮き量を計測する
ときには、各測定具には次のような解決するべき課題が
ある。第１の従来例では、測定用のブロックに被測定素
子を固定するために、被測定素子をブロックに粘着物で
接着し、または被測定素子をブロックに抑え込み手段で
抑え込むから、被測定素子に粘着物が付着し、又は被測
定物に変形が生じる。被測定素子に粘着物が付着する
と、測定後における半田付が不完全になり易い。また、
被測定素子に変形が生じると、浮き量の測定値が不正確
になる。

【００１５】そして、プリズム測定具（治具）を用いる
第２の従来例の場合には、被測定素子に対し側方から投
射する光源を投影機の外に設けることが必要になる。更
に、第２の従来例では、投影機の光学系の焦点調節をす
る度に該外部光源による投射光の光軸は投影機の光学系
の光軸から外れるから、投影機の光学系の焦点調節をす
る度に該外部光源の光軸を調節して投影機の光学系の光
軸に合わせることが必要になり、甚だ不便である。

【００１６】更に、この第2の従来例を備えた投影機で
反射測定を行う際には、プリズムの上面において生じる
表面反射１１１が被測定物の反射像に重なるから、スク
リーン１６に投影される被測定物の反射像は全体が白っ
ぽくなり、反射像における明度差の範囲が小さく、被測
定物の輪郭の視認性が劣化し、浮き量測定における精度
の低下を招く。その上、第2の従来例は、高価なプリズ
ムを必要とするから、高価である。

【００１７】また、前記第３の従来例は、フラットパッ
ケージの足ピンが曲りがなく正常に延びているか否かを
判別することを目的としており、電子部品における端子
の浮き量測定は正確にはできない。更に、第３の従来例
は、特殊な基本構成要素から成る専用の曲がり検出装置
を用いるから、やはり高価である。

【００１８】そこで、本発明の目的は、上記の欠点を排
除して、被測定素子を基板上に実装された状態と同等の
状態にて所定の平面上に設定し、特殊な測定器類や外部
光源を必要とすることなく、一般の汎用投影機に治具と
して装備することによって、被測定素子の浮き量の計測
が正確且つ容易に行えるようにし、簡易な構造にして安
価なミラー式測定具を提供することにある。

【００１９】

【課題を解決するための手段】前述の課題を解決するた
めに本発明は次の手段を提供する。

【００２０】第1及び第2の平行光をそれぞれ出射する
第1及び第2の光源と、平らな上面を載置面とする透明な
載置台と、該載置面に直交する入射光軸を有する光学系
と、該光学系で得た影像を投射するスクリーンとを有
し、該載置面に置かれた電子部品などの被測定物に下面
および上面から前記第1および第2の平行光をそれぞれ投
射し、該載置台を透過した前記第1の平行光に基づく該
被測定物の輪郭像および該被測定物の上面で前記第2の
平行光を反射させた上面反射光に基づく反射光像を前記
スクリーンに投影する投影機に治具として付加され、該
載置台に置かれた状態と同じ姿勢における該被測定物の
側面影像を前記スクリーンに投影することを可能にする
測定具であって、前記載置台を透過した前記第1の平行
光を直角に反射する第1の平面ミラーと、該第1の平面ミ
ラーで反射された第1の反射光に直交する方向であっ
て、前記第1の平行光の進行方向に該第1の反射光を反射
する第2の平面ミラーと、該第２の平面ミラーで反射さ
れた第２の反射光に直交する方向であって、前記第1の
反射光の進行方向とは反対の方向に該第２の反射光を反
射する第３の平面ミラーと、該第３の平面ミラーで反射
された第３の反射光に直交する方向であって、該第1の
平行光の進行方向に該第３の反射光を反射する第４の平
面ミラーと、前記第3の反射光に平行な上面を載置平面
とする台部材とを有してなり、前記載置平面は前記第3
および第4の平面ミラーの間にあり、前記第3の反射光は
少なくとも前記被測定物の下端を照射することを特徴と
するミラー式測定具。

【００２１】電子部品等の被測定物に底面側から平行
光を投射し、被測定物の上面側において該平行光を光学
系に入射させ、該光学系に入射した該平行光を該光学系
で結像させて得た該被測定物の輪郭影像をスクリーンに
投影すると共に、該被測定物に上面側から投射した光の
反射光を該光学系で結像させて得た該被測定物の反射光
像を該スクリーンに投影する投影機に装着される治具で
あり、該投影機における水平基盤上に載置され、該被測
定物の側面形の測定を可能にするミラー式測定具であっ
て、前記被測定物が載置される水平載置面を有する台部
材と、前記投影機に内蔵される光源により、前記水平基
盤の下方より垂直線に沿って上方に投射される平行光を
受けて、該平行光を水平方向に反射させて第１の反射光
とする第1の平面ミラーと、前記第１の反射光を受け
て、該第１の反射光を垂直方向に反射させて第２の反射
光とする第２のミラーと、前記第２の反射光を受けて、
該第２の反射光を水平方向に反射させて第３の反射光と
し、前記水平載置面に載置される被測定物の内の少なく
とも底部に対して該第３の反射光を照射する第３のミラ
ーと、前記被測定物部を照射した第３の反射光を受け、
該第３の反射光を垂直方向に反射させて第４の反射光と
する第４のミラーとを有してなり、前記光学系における
入射光軸は、前記第４の反射光に平行であって、該第４
の反射光の光束内にあり、前記水平載置面は、前記第1
乃至第3の反射光で規定されるコの字形空間内に配置さ
れることを特徴とするミラー式測定具。

【００２２】前記第１および第４の平面ミラーは第１
の反射ブロックに装着され、前記第２および第３の平面
ミラーは第２の反射ブロックに装着され、該第１の反射
ブロックは該第１および第４の平面ミラー相互の反射面
の交差角を直角に保持し、該第２の反射ブロックは該第
２および第３の平面ミラー相互の反射面の交差角を直角
に保持し、前記第1および第3の反射光の進行方向におい
て前記台部材は該第１および第２の反射ブロックの中間
位置に配置されることを特徴とする前記に記載のミラ
ー式測定具。

【００２３】前記第１および第４の平面ミラーは、緩
衝用スプリングを介したフローティング構造により、前
記台部材でもって前記第１の反射ブロックに押し付けら
れて装着され、前記第２および第３の平面ミラーは、緩
衝用スプリングを介したフローティング構造により、前
記台部材でもって前記第２の反射ブロックに押し付けら
れて装着されることを特徴とする前記に記載のミラー
式測定具。

【００２４】前記第４の平面ミラーは、表面蒸着ミラ
ーにより構成されることを特徴とする前記乃至に記
載のミラー式測定具。

【００２５】前記第１、第２、第３および第４の平面
ミラーは、表面蒸着ミラーにより構成されることを特徴
とする前記乃至に記載のミラー式測定具。

【００２６】

【発明の実施の形態】次に、本発明について図面を参照
して説明する。

【００２７】図１は本発明になるミラー式測定具の第１
の実施形態を示す側断面図、図２は図１のミラー式測定
具１２の分解斜視図、図3は図１のミラー式測定具１２
を投影機１３に搭載した状態を概念的に示す断面図で
る。図１は、被測定素子１０の端子１０ａの浮き量を測
定する状態で示してある。

【００２８】図１に示されるように、本実施形態のミラ
ー式測定具１２においては、貫通孔１１を有するベース
５の上面に、正対向する形で反射ブロックＡおよび反射
ブロックＢが設けてある。反射ブロックＡには、表面蒸
着ミラーとして構成されて、反射面の交差角が相互に直
角を呈するミラー１及び４が装着され、また反射ブロッ
クＢには、同じく表面蒸着ミラーとして構成されて、反
射面の交差角が相互に直角を呈するミラー２及び３が装
着されている。台座８が反射ブロックＡ及びＢの間に配
置してあり、台座８には浮き量測定時に被測定素子が上
面に載置される。図２は、図1のミラー式測定具の構造
を概念的に示す分解斜視図である。反射ブロックＡ、反
射ブロックＢおよび台座８は、点線で示されるように、
ベース５の上面に組み立てられる。

【００２９】本実施形態のミラー式測定具１２を用いて
被測定素子１０の端子１０ａの浮き量を測定する際に
は、図１に示されるように、該被測定素子１０が、所定
の基板上に正式に実装されるときの状態と同等の状態
で、台座８の上面に、測定用台座９を介して設定されて
載置される。本実施形態のミラー式測定具１２は、図３
の投影機１３の模式断面図に示されるように、投影機１
３の基盤１４の上面に設定される。基盤１４（前述の載
置台に相当）は、ガラス製の板であり、本実施の形態を
搭載しないときは、投影機で測定する被測定物がこの基
盤１４上に載置される。図1の実施の形態を搭載した投
影機で、被測定素子１０の端子１０ａの浮き量などを測
定するときは、測定の事前段階において、ミラー４によ
り反射された光１０４と投影機１３における光学系の光
軸との位置合わせ、並びにその光学系の焦点合わせが行
われる。

【００３０】端子１０ａの浮き量の測定時には、図３の
投影機１３の側断面概念図に示されるように、投影機１
３に内蔵される投影機光源１５より基盤１４を介して、
下方より垂直方向に投射される平行光１００が、図１に
示されるミラー式測定具１２のベース５に設けられてい
る貫通孔１１を通して、反射ブロックＡに装着されるミ
ラー１に投射される。このミラー１は、反射面が、水平
面に対して４５度の迎角となるように反射ブロックＡに
装着されており、該ミラー１において反射された光１０
１は、水平方向に沿って反射ブロックＢのミラー２に入
射する。ミラー２は、反射面が、水平面に対して１３５
度の迎角となるように反射ブロックＢに装着されてお
り、該ミラー２において上方に反射された光１０２は、
垂直方向に沿ってミラー３に入射する。ミラー３は、反
射面が、水平面に対して４５度の迎角となるように反射
ブロックＢに装着されており、該ミラー３において反射
された光１０３ａは、水平方向に沿って被測定素子１０
の端子１０ａを含む領域を照射する。光１０３ａは端子
１０ａを通り過ぎたとき、光１０３ｂとなる。光１０３
ｂは端子１０ａの影像を含む。その光１０３ｂは反射ブ
ロック２のミラー４に入射する。ミラー４は、反射面
が、水平面に対して１３５度の迎角となるように反射ブ
ロックＡに装着されており、該ミラー４において反射さ
れた光１０４は、垂直方向に沿って、図３に示される投
影機１３内部の光学系に入射する。この光学系は、光１
０４を収束し、端子１０ａの輪郭像をスクリーン１６上
に結ぶ。測定者は、その輪郭像を観測し、被測定素子１
０の端子１０ａの浮き量を測定する。輪郭像の画像処理
によりその浮き量を自動的に測定することもできる。

【００３１】被測定素子１０の端子１０ａに対する反射
測定時には、投影機１３内の投射光源１７から出射され
た平行光は、内部の光学系を介して投射光１０７として
ミラー４に入射し、ミラー４で反射され、被測定素子１
０の端子１０ａを照射する。端子１０ａで反射された反
射光がミラー４を介して投影機１３の光学系に入射され
て、光１０４の場合と同様に、端子１０ａの反射光像が
スクリーン１６上に結ばれる。この反射光像によって
も、被測定素子１０の端子１０ａの浮き量が測定され
る。本実施の形態では、ミラー４が表面蒸着ミラーとし
て構成されているので、ミラー４の裏面が投射光１０７
を反射することはないから、ミラー４により像が二重に
なることは完全に排除される。これにより端子１０ａの
浮き量測定時における計測は正確に行われる。ミラー
１，２，３が表面蒸着ミラーであることは、輪郭像の鮮
明度の向上に寄与している。

【００３２】次に、本発明の第２の実施形態であるミラ
ー式測定具について説明する。この第２の実施形態が第
１の実施形態と異なる点は、図１における反射ブロック
Ａ及び反射ブロックＢに対するミラー1〜４の装着構造
にある。この装着構造以外の主要構成要素および動作内
容は、第２の実施形態は第１の実施形態と同様である。
したがって、第２の実施形態の斜視図は図２と同様にな
る。図４は、反射ブロックＡに対するミラー１及び４の
装着状態を示した第2の実施形態の側断面図（部分図）
である。

【００３３】図４に示されるように、第２の実施形態で
あるミラー式測定具では、反射ブロックＡは固定ネジ１
９により台座８に固定されている。反射ブロックＡに
は、固定ねじ挿入穴が設けてあり、符号２５は固定ねじ
挿入穴の大径部、符号２８は固定ねじ挿入穴の小径部を
それぞれ示す。固定ねじ挿入穴の大径部２５には固定ネ
ジ１９の頭部が挿入され、固定ねじ挿入穴の小径部２８
には固定ネジ１９の円筒部が挿入されている。固定ネジ
１９のねじ部が台座８の雌ねじ２６に螺合されている。

【００３４】図２の斜視図において、台座８における左
側縁部８１及び右側縁部８２には雌ねじ２６が設けてあ
り、反射ブロックＡにおける固定ねじ挿入穴の大径部２
５から挿入された固定ねじ１９は、左側縁部８１及び右
側縁部８２における雌ねじ２６に螺合される。図２にお
いて反射ブロックＢには固定ねじ挿入穴の小径部２８が
現れている。反射ブロックＢも反射ブロックＡと同様に
台座８の固定ねじ１９で固定される。右側縁部８２にお
ける上部８２ａの端面８２ａ１及び下部８２ｂの端面８
２ｂ１は互いに９０度の角度なす。そして、端面８２ａ
１は台座８の上面に対し正確に１３５度の角度をなし、
端面８２ｂ１台座８の上面に対し正確に４５度の角度を
なす。

【００３５】再び図４を参照して第２の実施の形態の説
明を続ける。反射ブロックＡには、ミラー１及び４にそ
れぞれ対応するスプリング１８が設けてある。反射ブロ
ックＡを台座８へ固定するときには、ミラー１及び４
は、スプリング１８により台座８における縁部８１及び
８２の端面へ押し付けられる。図２における端面８２ａ
１及び端面８２ｂ１が縁部８２の端面である。ミラー１
及び４をスプリング１８により台座８における縁部８１
及び８２の端面へ押し付ける構造は、いわばフローティ
ング状態でミラー１及び４を台座８に装着することを可
能にしている。

【００３６】本発明の第１の実施形態を示す図１の構造
では、反射ブロックＡと台座８とを固定ネジ１９により
締め付けても、台座８の上面に対するミラー１及びミラ
ー４の傾きを正確に４５度及び１３５度にするには、各
部材を高精度に加工する必要がある。これに対し、図４
の実施形態では、ミラー１及び４がスプリング１８によ
りフローティング状態で台座８における端部８１及び８
２の端面（図２参照）に押し付けられる構造を採用して
いるから、ミラー１及び４はその端面にに密着される。
台座８は１つの金属を加工して形成でき、部材の組合わ
せを要しないから、台座８における端部８１及び８２の
端面を台座８の上面に（水平面）に対し45度及び135度
の角度に設定することは容易である。そこで、台座８に
おける端部８１及び８２の端面に密着されたミラー１及
び４は、台座８の上面にに対し45度及び135度の迎え角
に容易に設定される。なお、ミラー１及び４を台座８に
押し付けるスプリング１８の弾性率は、これらのミラー
１及び４の重量を支え得る程度のものであれば足りる。
反射ブロックＢにおけるミラー２及び３の装着構造は、
反射ブロックＡにおけるミラー１及び４の装着構造と同
様であり、ミラー２及び３は台座８における端部８１及
び８２の端面８１ｅ及び８２ｅに押付けられ、台座８の
上面にに対し45度及び135度の迎え角に設定される。

【００３７】以上に詳しく説明した本発明の実施の形態
によれば、被測定素子を基板上に実装された状態と同等
の状態で所定の平面上に設定し、特殊な測定器類や外部
光源を必要とすることなく、一般の汎用投影機に治具と
して装備することによって、投影機による被測定素子の
浮き量の計測を正確且つ容易に行えるようにし、しかも
簡易な構造で安価なミラー式測定具が得られる。

【００３８】図５に示した従来の第２の測定具（プリズ
ム測定具）では、プリズム２１の上面で反射した光１１
１の影響で明度範囲の広い反射光像を得るのは困難であ
った。しかし、図１乃至４を参照して説明した本発明の
実施の形態では、光源１７から投影機１３の光学系を経
て投影機１３から下方に向けて出射される平行光はミラ
ー４より被測定物に向けて反射するから、反射光１１１
に相当する反射光は生ぜず、明度範囲の広い反射光像を
得ることが可能になる。

【００３９】なお、以上に挙げた実施の形態では、被測
定素子１０の端子１０ａの像を得て、端子１０ａの浮き
量を測定する例を説明したが、本発明の測定具を投影機
に搭載することにより、電子部品の端子に限らず、任意
の物品の側面形を測定できる。

【００４０】

【発明の効果】以上に説明したように、本発明のミラー
式測定具を投影機に搭載することにより、被測定素子を
基板上に実装された状態と同等の状態で所定の平面上に
設定し、特殊な測定器類や外部光源を必要とすることな
く、一般の汎用投影機に治具として装備することによっ
て、被測定物の側面形を投影機により正確且つ容易に計
測できるようにし、しかも簡易な構造で安価なミラー式
測定具が得られる。このミラー式測定具の採用により、
例えば集積回路やコネクタといった多端子の電子部品に
おける端子の浮き量を正確に、容易に測定できる。

【００４１】前述の第１の従来例（直角ブロック）では
端子に接着剤が付着したり、端子が変形したりする欠点
があったが、本発明のミラー式測定具では、本来の正立
姿勢において被測定物を平面に載置した状態で、被測定
物を何ら拘束することなく、被測定物の側面形を測定で
きるので、第１の従来例の欠点は全て解消する。

【００４２】前述の第２の従来例（図５のプリズム測定
具）では外部光源２２を必要とし、焦点調節の度に光軸
合わせを要するという面倒さがあり、プリズム２１の上
面における反射光１１１に起因して反射光像における明
度範囲が狭く、プリズム２１を備えるから高価であると
いう欠点があった。これに対し、本発明では、それらの
欠点は全て解消され、外部光源を要せず、投影機の内部
光源だけで足りるから、焦点調節をしても光軸がずれる
ことがなく、反射光１１１に相当する反射光は生ぜず、
高価な部品も要しない。

【００４３】前述の第３の従来例（フラットパッケージ
のピン曲がりの検出装置）は、電子部品の端子の浮き量
を正確に測定できず、高価であった。これに対し、本発
明のミラー式測定具は、前述の如くに正確に電子部品の
端子の浮き量を測定でき、しかも構造が簡単で安価であ
る。

【００４４】このように、本発明には従来の技術にはな
い優れた効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態を示す側断面図であ
る。

【図２】本発明の第１の実施形態の組立構造の概念を示
す分解斜視図である。

【図３】第１の実施形態を投影機の基盤１４上に搭載し
た状態を示す投影機の側断面概念図である。

【図４】本発明の第２の実施形態を示す側断面図（部分
図）である。

【図５】電子部品における端子の浮き量を測定する従来
の測定具の一例としてのプリズム測定具を示す側面図で
ある。

【図６】図５の従来例を投影機の基盤１４上に搭載した
状態を示す投影機の側断面概念図である。

【符号の説明】

Ａ,Ｂ・・・・・反射ブロック １，２，３，４・・・・・平面ミラー ５・・・・・ベース ８・・・・・台座 ９・・・・・測定用台座 １０・・・・・被測定素子 １０ａ・・・・・端子 １１・・・・・貫通孔 １２・・・・・ミラー式測定具 １３・・・・・投影機 １４・・・・・基盤 １５・・・・・投影機光源 １６・・・・・スクリーン １７・・・・・投射光源 １８・・・・・スプリング １９・・・・・固定ネジ ２０・・・・・プリズム測定具 ２１・・・・・プリズム ２２・・・・・外部光源 ２５・・・・・固定ねじ挿入穴の大径部 ２６・・・・・雌ねじ ２８・・・・・固定ねじ挿入穴の小径部 ８１，８２・・・・・台８の縁部 １００〜１０２，１０３ａ，１０３ｂ，１０４，１０７
〜１０９・・・・・光 １１０・・・・・位置調整方向 １１１・・・・・表面反射光

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平10−153413（ＪＰ，Ａ) 実開 平２−55106（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G01B 9/00 - 11/30

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】第1及び第2の平行光をそれぞれ出射する第
   1及び第2の光源と、平らな上面を載置面とする透明な載
   置台と、該載置面に直交する入射光軸を有する光学系
   と、該光学系で得た影像を投射するスクリーンとを有
   し、該載置面に置かれた電子部品などの被測定物に下面
   および上面から前記第1および第2の平行光をそれぞれ投
   射し、該載置台を透過した前記第1の平行光に基づく該
   被測定物の輪郭像および該被測定物の上面で前記第2の
   平行光を反射させた上面反射光に基づく反射光像を前記
   スクリーンに投影する投影機に治具として付加され、該
   載置台に置かれた状態と同じ姿勢における該被測定物の
   側面影像を前記スクリーンに投影することを可能にする
   測定具であって、 前記載置台を透過した前記第1の平行光を直角に反射す
   る第1の平面ミラーと、該第1の平面ミラーで反射された
   第1の反射光に直交する方向であって、前記第1の平行光
   の進行方向に該第1の反射光を反射する第2の平面ミラー
   と、該第２の平面ミラーで反射された第２の反射光に直
   交する方向であって、前記第1の反射光の進行方向とは
   反対の方向に該第２の反射光を反射する第３の平面ミラ
   ーと、該第３の平面ミラーで反射された第３の反射光に
   直交する方向であって、該第1の平行光の進行方向に該
   第３の反射光を反射する第４の平面ミラーと、前記第3
   の反射光に平行な上面を載置平面とする台部材とを有し
   てなり、 前記載置平面は前記第3および第4の平面ミラーの間にあ
   り、前記第3の反射光は少なくとも前記被測定物の下端
   を照射することを特徴とするミラー式測定具。
2. 【請求項２】電子部品等の被測定物に底面側から平行光
   を投射し、被測定物の上面側において該平行光を光学系
   に入射させ、該光学系に入射した該平行光を該光学系で
   結像させて得た該被測定物の輪郭影像をスクリーンに投
   影すると共に、該被測定物に上面側から投射した光の反
   射光を該光学系で結像させて得た該被測定物の反射光像
   を該スクリーンに投影する投影機に装着される治具であ
   り、該投影機における水平基盤上に載置され、該被測定
   物の側面形の測定を可能にするミラー式測定具であっ
   て、 前記被測定物が載置される水平載置面を有する台部材
   と、 前記投影機に内蔵される光源により、前記水平基盤の下
   方より垂直線に沿って上方に投射される平行光を受け
   て、該平行光を水平方向に反射させて第１の反射光とす
   る第1の平面ミラーと、 前記第１の反射光を受けて、該第１の反射光を垂直方向
   に反射させて第２の反射光とする第２のミラーと、 前記第２の反射光を受けて、該第２の反射光を水平方向
   に反射させて第３の反射光とし、前記水平載置面に載置
   される被測定物の内の少なくとも底部に対して該第３の
   反射光を照射する第３のミラーと、 前記被測定物部を照射した第３の反射光を受け、該第３
   の反射光を垂直方向に反射させて第４の反射光とする第
   ４のミラーとを有してなり、 前記光学系における入射光軸は、前記第４の反射光に平
   行であって、該第４の反射光の光束内にあり、 前記水平載置面は、前記第1乃至第3の反射光で規定され
   るコの字形空間内に配置されることを特徴とするミラー
   式測定具。
3. 【請求項３】前記第１および第４の平面ミラーは第１の
   反射ブロックに装着され、前記第２および第３の平面ミ
   ラーは第２の反射ブロックに装着され、該第１の反射ブ
   ロックは該第１および第４の平面ミラー相互の反射面の
   交差角を直角に保持し、該第２の反射ブロックは該第２
   および第３の平面ミラー相互の反射面の交差角を直角に
   保持し、前記第1および第3の反射光の進行方向において
   前記台部材は該第１および第２の反射ブロックの中間位
   置に配置されることを特徴とする請求項２に記載のミラ
   ー式測定具。
4. 【請求項４】前記第１および第４の平面ミラーは、緩衝
   用スプリングを介したフローティング構造により、前記
   台部材でもって前記第１の反射ブロックに押し付けられ
   て装着され、 前記第２および第３の平面ミラーは、緩衝用スプリング
   を介したフローティング構造により、前記台部材でもっ
   て前記第２の反射ブロックに押し付けられて装着される
   ことを特徴とする請求項３に記載のミラー式測定具。
5. 【請求項５】前記第４の平面ミラーは、表面蒸着ミラー
   により構成されることを特徴とする請求項１乃至４に記
   載のミラー式測定具。
6. 【請求項６】前記第１、第２、第３および第４の平面ミ
   ラーは、表面蒸着ミラーにより構成されることを特徴と
   する請求項１乃至５に記載のミラー式測定具。