JP3428129B2 - 定点検出装置 - Google Patents
定点検出装置Info
- Publication number
- JP3428129B2 JP3428129B2 JP6422494A JP6422494A JP3428129B2 JP 3428129 B2 JP3428129 B2 JP 3428129B2 JP 6422494 A JP6422494 A JP 6422494A JP 6422494 A JP6422494 A JP 6422494A JP 3428129 B2 JP3428129 B2 JP 3428129B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- pair
- fixed point
- diffraction grating
- diffraction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、回折格子による回折光
を検出することによって定点を求める定点検出装置に関
し、より詳細には、集積回路の多重露光における基板の
位置ずれ検出や、エンコーダ等の原点検出に使用して好
適な定点検出装置に関する。
を検出することによって定点を求める定点検出装置に関
し、より詳細には、集積回路の多重露光における基板の
位置ずれ検出や、エンコーダ等の原点検出に使用して好
適な定点検出装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】集積回路を製造するためのＸ線露光描画
装置や精密機械工作に使用される測長器では、正確な位
置又は距離を測定するために基準点又は原点が設定され
る。斯かる基準点又は原点を設定するために定点検出装
置が使用されている。
装置や精密機械工作に使用される測長器では、正確な位
置又は距離を測定するために基準点又は原点が設定され
る。斯かる基準点又は原点を設定するために定点検出装
置が使用されている。
【０００３】図１８に特開昭６１−１５３５０１号に開
示された従来の位置検出装置の例を示す。図１８に示す
ように、この位置検出装置はガイド１０１と斯かるガイ
ド１０１に対して移動可能な移動部材１０２と装置本体
１０５とを有する。移動部材１０２の上面には被検物体
１０３とマーク１０４が装着されている。装置本体１０
５は被検物体１０３を観察する観察装置とマーク１０４
によって定点を検出する定点検出装置とを有する。
示された従来の位置検出装置の例を示す。図１８に示す
ように、この位置検出装置はガイド１０１と斯かるガイ
ド１０１に対して移動可能な移動部材１０２と装置本体
１０５とを有する。移動部材１０２の上面には被検物体
１０３とマーク１０４が装着されている。装置本体１０
５は被検物体１０３を観察する観察装置とマーク１０４
によって定点を検出する定点検出装置とを有する。
【０００４】観察装置は対物レンズ１０６及び接眼レン
ズ１０７を含む。定点検出装置はレーザ発生装置１０８
とポジションセンサ１１０と演算回路１１１と表示装置
１１２とを有する。
ズ１０７を含む。定点検出装置はレーザ発生装置１０８
とポジションセンサ１１０と演算回路１１１と表示装置
１１２とを有する。
【０００５】図１９に示すように、マーク１０４は２つ
の部分１０４Ａ、１０４Ｂを有する。図１９Ａのマーク
１０４では、第１の部分１０４Ａは回折格子を含み、そ
の格子間隔又はピッチｄが測定方向（Ｘ方向）に沿って
連続的に変化している。図１９Ｂのマーク１０４では、
２つの部分１０４Ａ、１０４Ｂは格子間隔又はピッチｄ
1 、ｄ2 がそれぞれ異なる回折格子を有する。
の部分１０４Ａ、１０４Ｂを有する。図１９Ａのマーク
１０４では、第１の部分１０４Ａは回折格子を含み、そ
の格子間隔又はピッチｄが測定方向（Ｘ方向）に沿って
連続的に変化している。図１９Ｂのマーク１０４では、
２つの部分１０４Ａ、１０４Ｂは格子間隔又はピッチｄ
1 、ｄ2 がそれぞれ異なる回折格子を有する。
【０００６】レーザ発生装置１０８からのレーザ光１０
９Ａはマーク１０４の回折格子によって回折され、１次
回折光１０９Ｂ、１０９Ｂ’がポジションセンサ１１０
によって検出される。ガイド１０１に対して移動部材１
０２が測定方向（Ｘ方向）に移動するとき、ポジション
センサ１１０は回折光の強度が最大となる回折角θを検
出する。
９Ａはマーク１０４の回折格子によって回折され、１次
回折光１０９Ｂ、１０９Ｂ’がポジションセンサ１１０
によって検出される。ガイド１０１に対して移動部材１
０２が測定方向（Ｘ方向）に移動するとき、ポジション
センサ１１０は回折光の強度が最大となる回折角θを検
出する。
【０００７】回折光の強度が最大となる回折角θの値
は、レーザ光１０９Ａのビームスポットがマーク１０４
の２つの部分１０４Ａ、１０４Ｂの境界を通過すると
き、変化する。即ち、マーク１０４の２つの部分１０４
Ａ、１０４Ｂの境界の前後で、回折光１０９Ｂ、１０９
Ｂ’の強度が最大となる回折角θが変化する。斯かる回
折角θの変化によって定点が検出される。
は、レーザ光１０９Ａのビームスポットがマーク１０４
の２つの部分１０４Ａ、１０４Ｂの境界を通過すると
き、変化する。即ち、マーク１０４の２つの部分１０４
Ａ、１０４Ｂの境界の前後で、回折光１０９Ｂ、１０９
Ｂ’の強度が最大となる回折角θが変化する。斯かる回
折角θの変化によって定点が検出される。
【０００８】図２０に従来の定点検出装置の第２の例を
示す。この例は図１８及び図１９に示した第１の例を改
良したものである。この例では、回折格子として透過型
の体積型ホログラフィック回折格子１０４Ａ、１０４Ｂ
が使用され、また、受光装置として２つのフォトディテ
クタ１１０Ａ、１１０Ｂが使用されている。
示す。この例は図１８及び図１９に示した第１の例を改
良したものである。この例では、回折格子として透過型
の体積型ホログラフィック回折格子１０４Ａ、１０４Ｂ
が使用され、また、受光装置として２つのフォトディテ
クタ１１０Ａ、１１０Ｂが使用されている。
【０００９】透過型の体積型ホログラフィック回折格子
１０４Ａ、１０４Ｂでは、回折光は回折格子１０４Ａ、
１０４Ｂに関して入射光と反対側に出射される。従っ
て、フォトディテクタ１１０Ａ、１１０Ｂは回折格子１
０４Ａ、１０４Ｂに関してレーザ発生装置１０８と反対
側に配置されている。
１０４Ａ、１０４Ｂでは、回折光は回折格子１０４Ａ、
１０４Ｂに関して入射光と反対側に出射される。従っ
て、フォトディテクタ１１０Ａ、１１０Ｂは回折格子１
０４Ａ、１０４Ｂに関してレーザ発生装置１０８と反対
側に配置されている。
【００１０】２つのホログラフィック回折格子１０４
Ａ、１０４Ｂは互いに異なる格子間隔又は格子ピッチｄ
1 、ｄ2 を有する。２つのホログラフィック回折格子１
０４Ａ、１０４Ｂによって、０次回折光、＋１次回折光
１Ａ、１Ｂ、−１次回折光１ａ、１ｂ、高次回折光が得
られるが、フォトディテクタ１１０Ａ、１１０Ｂは＋１
次回折光１Ａ、１Ｂを検出する。
Ａ、１０４Ｂは互いに異なる格子間隔又は格子ピッチｄ
1 、ｄ2 を有する。２つのホログラフィック回折格子１
０４Ａ、１０４Ｂによって、０次回折光、＋１次回折光
１Ａ、１Ｂ、−１次回折光１ａ、１ｂ、高次回折光が得
られるが、フォトディテクタ１１０Ａ、１１０Ｂは＋１
次回折光１Ａ、１Ｂを検出する。
【００１１】図２１の実線Ｃ１、Ｃ２はそれぞれ２つの
フォトディテクタ１１０Ａ、１１０Ｂによって検出され
た回折光の強度曲線である。第１のフォトディテクタ１
１０Ａによって得られた光強度曲線Ｃ１と第２のフォト
ディテクタ１１０Ｂによって得られた光強度曲線Ｃ２の
交点Ｐが、この定点検出装置によって得られる定点であ
る。
フォトディテクタ１１０Ａ、１１０Ｂによって検出され
た回折光の強度曲線である。第１のフォトディテクタ１
１０Ａによって得られた光強度曲線Ｃ１と第２のフォト
ディテクタ１１０Ｂによって得られた光強度曲線Ｃ２の
交点Ｐが、この定点検出装置によって得られる定点であ
る。
【００１２】図２２に、本願出願人と同一の出願人によ
る特開平４−３２４３１６号に開示された従来の定点検
出装置の例を示す。この定点検出装置は、固定部１０と
測定方向（Ｘ方向）に沿って可動な可動部３０とを有
し、固定部１０は光学系１１と検出系２１とを含み、可
動部３０は基板３１とその上面に配置された２つの体積
型ホログラフィック回折格子３２、３３とを有する。
る特開平４−３２４３１６号に開示された従来の定点検
出装置の例を示す。この定点検出装置は、固定部１０と
測定方向（Ｘ方向）に沿って可動な可動部３０とを有
し、固定部１０は光学系１１と検出系２１とを含み、可
動部３０は基板３１とその上面に配置された２つの体積
型ホログラフィック回折格子３２、３３とを有する。
【００１３】光学系１１は半導体レーザ等のレーザ光を
出力する光源１２とコリメータレンズ１３と集光レンズ
１４と有する。検出系２１は２つの受光器２２、２３と
電気処理回路２９とを有する。
出力する光源１２とコリメータレンズ１３と集光レンズ
１４と有する。検出系２１は２つの受光器２２、２３と
電気処理回路２９とを有する。
【００１４】図２３にこの例に使用されるホログラフィ
ック回折格子３２、３３を示す。ホログラフィック回折
格子３２、３３は透過型の体積型ホログラムによって形
成されている。以下に、ホログラフィック回折格子３
２、３３を、随時単にホログラムと称する。図示のよう
に、各ホログラム３２、３３の格子間隔又は格子ピッチ
ｄは測定方向に順次連続的に変化している。また、各ホ
ログラム３２、３３の格子間隔又は格子ピッチｄを形成
する分布面４２、４３はホログラム３２、３３の上面に
対して傾斜しており、斯かる傾斜角は測定方向に順次連
続的に変化している。各ホログラム３２、３３によって
入射光を回折させると、回折効率が測定方向に連続的に
変化する。
ック回折格子３２、３３を示す。ホログラフィック回折
格子３２、３３は透過型の体積型ホログラムによって形
成されている。以下に、ホログラフィック回折格子３
２、３３を、随時単にホログラムと称する。図示のよう
に、各ホログラム３２、３３の格子間隔又は格子ピッチ
ｄは測定方向に順次連続的に変化している。また、各ホ
ログラム３２、３３の格子間隔又は格子ピッチｄを形成
する分布面４２、４３はホログラム３２、３３の上面に
対して傾斜しており、斯かる傾斜角は測定方向に順次連
続的に変化している。各ホログラム３２、３３によって
入射光を回折させると、回折効率が測定方向に連続的に
変化する。
【００１５】図２４に図２２の定点検出装置の主要部を
示す。図示のように、基板３１の上面３１Ａに２つのホ
ログラム３２、３３が横方向に互いに隣接して配置され
ている。斯かる２つのホログラム３２、３３は、中心面
１３５に対して互いに対称的に構成されている。即ち、
各ホログラム３２、３３の分布面４２、４３の傾斜角は
中心面１３５に対して対称的に両側に順次連続的に変化
しており、その格子間隔又は格子ピッチｄは中心面１３
５に対して対称的に両側に順次連続的に変化している。
２つのホログラム３２、３３は各々の回折効率が最大に
なる点が測定方向に互いに異なるように配置されてい
る。
示す。図示のように、基板３１の上面３１Ａに２つのホ
ログラム３２、３３が横方向に互いに隣接して配置され
ている。斯かる２つのホログラム３２、３３は、中心面
１３５に対して互いに対称的に構成されている。即ち、
各ホログラム３２、３３の分布面４２、４３の傾斜角は
中心面１３５に対して対称的に両側に順次連続的に変化
しており、その格子間隔又は格子ピッチｄは中心面１３
５に対して対称的に両側に順次連続的に変化している。
２つのホログラム３２、３３は各々の回折効率が最大に
なる点が測定方向に互いに異なるように配置されてい
る。
【００１６】可動部３０が固定部１０に対して相対的に
移動するとき、即ち、図２４にて、静止している受光器
２２、２３及び光源１２に対して可動部３０が移動する
とき、第１のホログラム３２によって回折された光は第
１の受光器２２によって検出され、第２のホログラム３
３によって回折された光は第２の受光器２３によって検
出される。
移動するとき、即ち、図２４にて、静止している受光器
２２、２３及び光源１２に対して可動部３０が移動する
とき、第１のホログラム３２によって回折された光は第
１の受光器２２によって検出され、第２のホログラム３
３によって回折された光は第２の受光器２３によって検
出される。
【００１７】２つのホログラム３２、３３は回折効率が
最大になる点が互いに異なるから、第１の受光器２２に
よって検出される回折光の光強度曲線のピーク位置と第
２の受光器２３によって検出される回折光の光強度曲線
のピーク位置は異なる。従って、２つの光強度曲線の交
差点、即ち、２つの光強度が等しくなる点が存在する。
斯かる点が本例の定点検出装置によって得られる定点で
ある。
最大になる点が互いに異なるから、第１の受光器２２に
よって検出される回折光の光強度曲線のピーク位置と第
２の受光器２３によって検出される回折光の光強度曲線
のピーク位置は異なる。従って、２つの光強度曲線の交
差点、即ち、２つの光強度が等しくなる点が存在する。
斯かる点が本例の定点検出装置によって得られる定点で
ある。
【００１８】図２５に電気処理回路２９の例を示す。電
気処理回路２９は第１及び第２の受光器２２、２３より
出力された電流信号をそれぞれ電圧信号に変換する電流
電圧変換器２９−１Ａ、２９−１Ｂと斯かる電流電圧変
換器２９−１Ａ、２９−１Ｂの出力信号の差を演算する
差動増幅器２９−２と差動増幅器２９−２の出力信号が
ゼロとなる位置を求める比較器２９−３とを有する。
気処理回路２９は第１及び第２の受光器２２、２３より
出力された電流信号をそれぞれ電圧信号に変換する電流
電圧変換器２９−１Ａ、２９−１Ｂと斯かる電流電圧変
換器２９−１Ａ、２９−１Ｂの出力信号の差を演算する
差動増幅器２９−２と差動増幅器２９−２の出力信号が
ゼロとなる位置を求める比較器２９−３とを有する。
【００１９】図２６Ａは受光器２２、２３によって検出
された回折光の強さの変化を表す光強度曲線を示し、横
軸は固定部１０に対する可動部３０の移動距離ｘ、縦軸
は受光器２２、２３より出力された電流信号Ｉの大きさ
である。第１の光強度曲線Ｃ１は第１の受光器２２によ
って検出された光の強さを表し、第２の光強度曲線Ｃ２
は第２の受光器２３によって検出された光の強さを表
す。
された回折光の強さの変化を表す光強度曲線を示し、横
軸は固定部１０に対する可動部３０の移動距離ｘ、縦軸
は受光器２２、２３より出力された電流信号Ｉの大きさ
である。第１の光強度曲線Ｃ１は第１の受光器２２によ
って検出された光の強さを表し、第２の光強度曲線Ｃ２
は第２の受光器２３によって検出された光の強さを表
す。
【００２０】図２６Ｂの曲線Ｃ３は差動増幅器２９−２
によって得られた光強度差曲線である。光強度差曲線Ｃ
３は図２６Ａの第１の光強度曲線Ｃ１と第２の光強度曲
線Ｃ２の差を示す。従って、光強度差曲線Ｃ３は、２つ
の曲線Ｃ１、Ｃ２の交点Ｐに相当する位置にて、ゼロと
なる。斯かるゼロとなる位置がこの定点検出装置によっ
て得られた定点である。
によって得られた光強度差曲線である。光強度差曲線Ｃ
３は図２６Ａの第１の光強度曲線Ｃ１と第２の光強度曲
線Ｃ２の差を示す。従って、光強度差曲線Ｃ３は、２つ
の曲線Ｃ１、Ｃ２の交点Ｐに相当する位置にて、ゼロと
なる。斯かるゼロとなる位置がこの定点検出装置によっ
て得られた定点である。
【００２１】
【発明が解決しようとする課題】図１８及び図１９を参
照して説明した第１の従来例では受光装置としてポジシ
ョンセンサ１１０を使用していた。ポジションセンサ１
１０は回折光の強度が最大となる回折角θを検出するよ
うに構成されており、分解能が低い欠点があった。ま
た、正確な回折角θを検出することができるポジション
センサ１１０は高価である欠点があった。
照して説明した第１の従来例では受光装置としてポジシ
ョンセンサ１１０を使用していた。ポジションセンサ１
１０は回折光の強度が最大となる回折角θを検出するよ
うに構成されており、分解能が低い欠点があった。ま
た、正確な回折角θを検出することができるポジション
センサ１１０は高価である欠点があった。
【００２２】図２０及び図２１を参照して説明した第２
の従来例では、反射型の回折格子の代わりに２つの透過
型のホログラフィック回折格子１０４Ａ、１０４Ｂを使
用する。また、１つのポジションセンサ１１０を使用す
る代わりに２つのフォトディテクタ１１０Ａ、１１０Ｂ
を使用する。
の従来例では、反射型の回折格子の代わりに２つの透過
型のホログラフィック回折格子１０４Ａ、１０４Ｂを使
用する。また、１つのポジションセンサ１１０を使用す
る代わりに２つのフォトディテクタ１１０Ａ、１１０Ｂ
を使用する。
【００２３】この例では、２つのホログラフィック回折
格子１０４Ａ、１０４Ｂは互いに異なる格子間隔又は格
子ピッチｄ1 、ｄ2 を有し、＋１次回折光１Ａ、１Ｂと
−１次回折光１ａ、１ｂは入射光の方向に対して両側に
出射される。従って、２つの＋１次回折光１Ａ、１Ｂを
検出するために２つのフォトディテクタ１１０Ａ、１１
０Ｂを近接して配置しなければならない。
格子１０４Ａ、１０４Ｂは互いに異なる格子間隔又は格
子ピッチｄ1 、ｄ2 を有し、＋１次回折光１Ａ、１Ｂと
−１次回折光１ａ、１ｂは入射光の方向に対して両側に
出射される。従って、２つの＋１次回折光１Ａ、１Ｂを
検出するために２つのフォトディテクタ１１０Ａ、１１
０Ｂを近接して配置しなければならない。
【００２４】また、２つの＋１次回折光１Ａ、１Ｂを完
全に分離させて、各フォトディテクタ１１０Ａ、１１０
Ｂで検出する必要があった。２つの＋１次回折光１Ａ、
１Ｂを完全に分離させるためには、第１のホログラム１
０４Ａの格子間隔ｄ1 と第２のホログラム１０４Ｂの格
子間隔ｄ2 の差を大きくすればよい。しかしながら、２
つのホログラム１０４Ａ、１０４Ｂの格子間隔ｄ1 、ｄ
2 の差を大きくすると、光源１２からの光の波長λが変
動すると、誤差が大きくなる欠点があった。
全に分離させて、各フォトディテクタ１１０Ａ、１１０
Ｂで検出する必要があった。２つの＋１次回折光１Ａ、
１Ｂを完全に分離させるためには、第１のホログラム１
０４Ａの格子間隔ｄ1 と第２のホログラム１０４Ｂの格
子間隔ｄ2 の差を大きくすればよい。しかしながら、２
つのホログラム１０４Ａ、１０４Ｂの格子間隔ｄ1 、ｄ
2 の差を大きくすると、光源１２からの光の波長λが変
動すると、誤差が大きくなる欠点があった。
【００２５】斯かる誤差について図２０を参照して説明
する。一般に、格子間隔ｄと入射光の波長λの関係は次
の式（ブラッグの式）によって表される。
する。一般に、格子間隔ｄと入射光の波長λの関係は次
の式（ブラッグの式）によって表される。
【００２６】
【数１】
ｓｉｎθ＝ｍλ／ｄ （ｍ＝０、±１、±２、・・）
【００２７】第１のホログラム１０４Ａの格子間隔をｄ
1 ＝ｄ、第２のホログラム１０４Ｂの格子間隔をｄ2 ＝
２ｄ、入射光の波長をλ＝５００ｎｍ、光源１０８の波
長λの変動をΔλ＝０．５ｎｍとする。斯かる波長の変
動Δλによる第１のホログラム１０４Ａの回折角θ1 の
変動Δθ1 及び第２のホログラム１０４Ｂの回折角θ 2
の変動Δθ2 を求めると次のようになる。
1 ＝ｄ、第２のホログラム１０４Ｂの格子間隔をｄ2 ＝
２ｄ、入射光の波長をλ＝５００ｎｍ、光源１０８の波
長λの変動をΔλ＝０．５ｎｍとする。斯かる波長の変
動Δλによる第１のホログラム１０４Ａの回折角θ1 の
変動Δθ1 及び第２のホログラム１０４Ｂの回折角θ 2
の変動Δθ2 を求めると次のようになる。
【００２８】Δθ1 ＝５．２分
Δθ2 ＝１．６分
【００２９】例えば、第１のホログラム１０４Ａによっ
て得られる１次回折光１Ａの光路の長さをＳ1 ＝１００
ｍｍとすると、第１のフォトディテクタ１１０Ａの受光
面のビームスポットの変動量はΔＬ1 ＝０．１５ｍｍと
なる。同様に、第２のホログラム１０４Ｂによって得ら
れる１次回折光１Ｂの光路の長さをＳ2 ＝１００ｍｍと
すると、第２のフォトディテクタ１１０Ｂの受光面のビ
ームスポットの変動量はΔＬ2 ＝０．０５ｍｍとなる。
て得られる１次回折光１Ａの光路の長さをＳ1 ＝１００
ｍｍとすると、第１のフォトディテクタ１１０Ａの受光
面のビームスポットの変動量はΔＬ1 ＝０．１５ｍｍと
なる。同様に、第２のホログラム１０４Ｂによって得ら
れる１次回折光１Ｂの光路の長さをＳ2 ＝１００ｍｍと
すると、第２のフォトディテクタ１１０Ｂの受光面のビ
ームスポットの変動量はΔＬ2 ＝０．０５ｍｍとなる。
【００３０】一般に、光源１０８からの光は光量分布を
有する。従って、第１及び第２のフォトディテクタ１１
０Ａ、１１０Ｂによって受光される回折光も光量分布を
有する。光源１０８の波長λが変動し、第１及び第２の
フォトディテクタ１１０Ａ、１１０Ｂの受光面のビーム
スポットが変動すると、第１及び第２のフォトディテク
タ１１０Ａ、１１０Ｂによって受光される光量分布も変
化する。
有する。従って、第１及び第２のフォトディテクタ１１
０Ａ、１１０Ｂによって受光される回折光も光量分布を
有する。光源１０８の波長λが変動し、第１及び第２の
フォトディテクタ１１０Ａ、１１０Ｂの受光面のビーム
スポットが変動すると、第１及び第２のフォトディテク
タ１１０Ａ、１１０Ｂによって受光される光量分布も変
化する。
【００３１】図２１の破線の光強度曲線Ｃ１’、Ｃ２’
は光源１０８の波長λが変動した場合に、第１及び第２
のフォトディテクタ１１０Ａ、１１０Ｂによって受光さ
れる回折光１Ａ、１Ｂの強度の変化を示す。光源１０８
の波長λが変動すると、強度曲線Ｃ１’、Ｃ２’も変化
することがわかる。従って、定点Ｐの位置もＰ’に変化
する。尚、回折光１Ｂの光強度曲線の変化は小さく、Ｃ
２’≒Ｃ２である。
は光源１０８の波長λが変動した場合に、第１及び第２
のフォトディテクタ１１０Ａ、１１０Ｂによって受光さ
れる回折光１Ａ、１Ｂの強度の変化を示す。光源１０８
の波長λが変動すると、強度曲線Ｃ１’、Ｃ２’も変化
することがわかる。従って、定点Ｐの位置もＰ’に変化
する。尚、回折光１Ｂの光強度曲線の変化は小さく、Ｃ
２’≒Ｃ２である。
【００３２】光源１０８の波長λが変動しても、第１及
び第２のフォトディテクタ１１０Ａ、１１０Ｂによって
得られる光強度曲線Ｃ１、Ｃ２を一定にするためには、
フォトディテクタ１１０Ａ、１１０Ｂの受光面の（測定
方向の）長さ又は面積を充分大きくすればよい。しかし
ながら、一般に、フォトディテクタ１１０Ａ、１１０Ｂ
の受光面の面積は小さいほうが分解能が高い。従って、
所定の分解能を得るためには、フォトディテクタ１１０
Ａ、１１０Ｂの受光面の面積を所定値より大きくするこ
とができない。
び第２のフォトディテクタ１１０Ａ、１１０Ｂによって
得られる光強度曲線Ｃ１、Ｃ２を一定にするためには、
フォトディテクタ１１０Ａ、１１０Ｂの受光面の（測定
方向の）長さ又は面積を充分大きくすればよい。しかし
ながら、一般に、フォトディテクタ１１０Ａ、１１０Ｂ
の受光面の面積は小さいほうが分解能が高い。従って、
所定の分解能を得るためには、フォトディテクタ１１０
Ａ、１１０Ｂの受光面の面積を所定値より大きくするこ
とができない。
【００３３】図２２〜図２６を参照して説明した第３の
従来例では、２つのホログラム３２、３３は中心面１３
５に対して互いに対称的な構成を有するため、光源１０
８の波長λが変動しても、定点は変化しない利点があっ
た。これは、２つの受光器２２、２３によって得られる
光強度曲線Ｃ１、Ｃ２は変化するが、両者の変化は対称
的であり、２つの光強度曲線Ｃ１、Ｃ２の交点Ｐの位置
は変化しないためである。
従来例では、２つのホログラム３２、３３は中心面１３
５に対して互いに対称的な構成を有するため、光源１０
８の波長λが変動しても、定点は変化しない利点があっ
た。これは、２つの受光器２２、２３によって得られる
光強度曲線Ｃ１、Ｃ２は変化するが、両者の変化は対称
的であり、２つの光強度曲線Ｃ１、Ｃ２の交点Ｐの位置
は変化しないためである。
【００３４】しかしながら、この第３の例でも、２つの
受光器２２、２３の位置を正確に配置しなければならな
い欠点があった。即ち、２つの受光器２２、２３を２つ
のホログラム３２、３３に対して正確な位置に配置しな
ければ、分解能が低下する欠点があった。
受光器２２、２３の位置を正確に配置しなければならな
い欠点があった。即ち、２つの受光器２２、２３を２つ
のホログラム３２、３３に対して正確な位置に配置しな
ければ、分解能が低下する欠点があった。
【００３５】図２４及び図２７を参照して説明する。２
つのホログラム３２、３３の格子ベクトルの傾斜角は中
心面１３５より外方に行くに従って変化する。可動部３
０が測定方向（ｘ方向）に移動すると、第１のホログラ
ム３２からの回折光１Ａはα方向に移動し、第２のホロ
グラム３３からの回折光１Ｂはβ方向に移動する。
つのホログラム３２、３３の格子ベクトルの傾斜角は中
心面１３５より外方に行くに従って変化する。可動部３
０が測定方向（ｘ方向）に移動すると、第１のホログラ
ム３２からの回折光１Ａはα方向に移動し、第２のホロ
グラム３３からの回折光１Ｂはβ方向に移動する。
【００３６】従って、ホログラム３２、３３の下面から
２つの受光器２２、２３の受光面までの距離ｔが変化す
ると、図２７に示すように光強度曲線及び光強度差曲線
が変化する。図２７Ａの破線は正常な光強度曲線Ｃ１又
はＣ２であり実線は距離ｔが変化した場合の光強度曲線
Ｃ１’又はＣ２’である。光強度曲線Ｃ１’又はＣ２’
のピーク位置は正常な光強度曲線Ｃ１又はＣ２のピーク
位置より移動する。
２つの受光器２２、２３の受光面までの距離ｔが変化す
ると、図２７に示すように光強度曲線及び光強度差曲線
が変化する。図２７Ａの破線は正常な光強度曲線Ｃ１又
はＣ２であり実線は距離ｔが変化した場合の光強度曲線
Ｃ１’又はＣ２’である。光強度曲線Ｃ１’又はＣ２’
のピーク位置は正常な光強度曲線Ｃ１又はＣ２のピーク
位置より移動する。
【００３７】２つの光強度曲線Ｃ１’又はＣ２’の交点
Ｐ’はピーク位置付近であり、交点Ｐ’の位置の精度が
低下する。図２７Ｂの破線は正常な光強度差曲線Ｃ３で
あり実線は距離ｔが変化した場合の光強度差曲線Ｃ３’
である。光強度差曲線Ｃ３’のゼロクロス点Ｐの分解能
が低下する。
Ｐ’はピーク位置付近であり、交点Ｐ’の位置の精度が
低下する。図２７Ｂの破線は正常な光強度差曲線Ｃ３で
あり実線は距離ｔが変化した場合の光強度差曲線Ｃ３’
である。光強度差曲線Ｃ３’のゼロクロス点Ｐの分解能
が低下する。
【００３８】また、距離ｔが大きいほど、受光器２２、
２３の位置合わせ即ち２つの受光器２２、２３の間の距
離Ｌの調節が困難であるという欠点があった。
２３の位置合わせ即ち２つの受光器２２、２３の間の距
離Ｌの調節が困難であるという欠点があった。
【００３９】特に、ホログラム３２、３３として体積型
のホログラムを使用する場合には、製造中にゼラチン層
が膨張し又は収縮し、格子ベクトルの傾斜が一定しない
ため、２つの受光器２２、２３の間の距離Ｌの調節が困
難であるという欠点があった。
のホログラムを使用する場合には、製造中にゼラチン層
が膨張し又は収縮し、格子ベクトルの傾斜が一定しない
ため、２つの受光器２２、２３の間の距離Ｌの調節が困
難であるという欠点があった。
【００４０】一般に、２つのホログラム３２、３３を接
続して形成されたホログラフィック回折格子は、その接
続部又は境界部にて不要な回折光が生成される。従っ
て、従来の定点検出装置では、受光器２２、２３は、斯
かる不要な回折光を検出し、それによって誤差が生ずる
欠点があった。
続して形成されたホログラフィック回折格子は、その接
続部又は境界部にて不要な回折光が生成される。従っ
て、従来の定点検出装置では、受光器２２、２３は、斯
かる不要な回折光を検出し、それによって誤差が生ずる
欠点があった。
【００４１】本発明は、斯かる点に鑑み、光源１２から
の光の波長が変化しても、常に一定の定点が得られる定
点検出装置を提供することを目的とする。
の光の波長が変化しても、常に一定の定点が得られる定
点検出装置を提供することを目的とする。
【００４２】本発明は、斯かる点に鑑み、受光器２２、
２３の位置合わせが容易な定点検出装置を提供すること
を目的とする。
２３の位置合わせが容易な定点検出装置を提供すること
を目的とする。
【００４３】本発明は、斯かる点に鑑み、２つのホログ
ラム３２、３３の境界部にて生ずる不要な回折光に起因
する誤差が生じない定点検出装置を提供することを目的
とする。
ラム３２、３３の境界部にて生ずる不要な回折光に起因
する誤差が生じない定点検出装置を提供することを目的
とする。
【００４４】
【課題を解決するための手段】本発明によると、例えば
図１に示すように、定点検出装置において、隣接して配
置された第１及び第２の回折格子と該２つの回折格子に
光を出力する光源と上記第１の回折格子によって生成さ
れた正負の１次回折光をそれぞれ検出する第１の対の受
光器と上記第２の回折格子によって生成された正負の１
次回折光をそれぞれ検出する第２の対の受光器とを有
し、上記２つの回折格子の格子ベクトルは互いに異なる
方向を向いており、上記第１の回折格子によって生成さ
れる正負の１次回折光を含む面は上記第２の回折格子に
よって生成される正負の１次回折光を含む面と平行とな
らないように構成され、上記２つの回折格子による正負
の同次回折の回折角の絶対値は等しく且つ測定軸に沿っ
て変化しないように構成され、上記２つ回折格子を上記
光源及び受光器に対して相対的に測定方向に沿って移動
させるとき、上記第１の対の受光器の出力信号の和と上
記第２の対の受光器の出力信号の和が等しくなる点を求
めることによって定点を得るように構成されている。
図１に示すように、定点検出装置において、隣接して配
置された第１及び第２の回折格子と該２つの回折格子に
光を出力する光源と上記第１の回折格子によって生成さ
れた正負の１次回折光をそれぞれ検出する第１の対の受
光器と上記第２の回折格子によって生成された正負の１
次回折光をそれぞれ検出する第２の対の受光器とを有
し、上記２つの回折格子の格子ベクトルは互いに異なる
方向を向いており、上記第１の回折格子によって生成さ
れる正負の１次回折光を含む面は上記第２の回折格子に
よって生成される正負の１次回折光を含む面と平行とな
らないように構成され、上記２つの回折格子による正負
の同次回折の回折角の絶対値は等しく且つ測定軸に沿っ
て変化しないように構成され、上記２つ回折格子を上記
光源及び受光器に対して相対的に測定方向に沿って移動
させるとき、上記第１の対の受光器の出力信号の和と上
記第２の対の受光器の出力信号の和が等しくなる点を求
めることによって定点を得るように構成されている。
【００４５】本発明によると、例えば図１に示すよう
に、定点検出装置において、上記第１の回折格子の格子
ベクトルは上記測定方向に垂直な第１の面内にあり、上
記第２の回折格子の格子ベクトルは上記測定方向に平行
で且つ上記第１の面に垂直な第２の面内にあるように構
成されている。。
に、定点検出装置において、上記第１の回折格子の格子
ベクトルは上記測定方向に垂直な第１の面内にあり、上
記第２の回折格子の格子ベクトルは上記測定方向に平行
で且つ上記第１の面に垂直な第２の面内にあるように構
成されている。。
【００４６】本発明によると、例えば図４に示すよう
に、定点検出装置において、上記２つの回折格子に隣接
して配置された第３及び第４の回折格子と、上記第３の
回折格子によって生成された正負の１次回折光をそれぞ
れ検出する第３の対の受光器と上記第４の回折格子によ
って生成された正負の１次回折光をそれぞれ検出する第
４の対の受光器とを有し、上記４つの回折格子の格子ベ
クトルは互いに異なる方向を向いており、上記第１、第
２、第３及び第４の回折格子によって生成される正負の
１次回折光を含む面は互いに平行とならないように構成
され、上記４つ回折格子を上記光源及び受光器に対して
相対的に測定方向に沿って移動させるとき、上記第１の
対の受光器の出力信号の和と上記第２の対の受光器の出
力信号の和との差と上記第３の対の受光器の出力信号の
和と上記第４の対の受光器の出力信号の和との差を求
め、該２つの差が等しくなる点を求めることによって定
点を得るように構成されている。
に、定点検出装置において、上記２つの回折格子に隣接
して配置された第３及び第４の回折格子と、上記第３の
回折格子によって生成された正負の１次回折光をそれぞ
れ検出する第３の対の受光器と上記第４の回折格子によ
って生成された正負の１次回折光をそれぞれ検出する第
４の対の受光器とを有し、上記４つの回折格子の格子ベ
クトルは互いに異なる方向を向いており、上記第１、第
２、第３及び第４の回折格子によって生成される正負の
１次回折光を含む面は互いに平行とならないように構成
され、上記４つ回折格子を上記光源及び受光器に対して
相対的に測定方向に沿って移動させるとき、上記第１の
対の受光器の出力信号の和と上記第２の対の受光器の出
力信号の和との差と上記第３の対の受光器の出力信号の
和と上記第４の対の受光器の出力信号の和との差を求
め、該２つの差が等しくなる点を求めることによって定
点を得るように構成されている。
【００４７】本発明によると、定点検出装置において、
上記回折格子は反射型であり、上記受光器は上記回折格
子に関して上記光源と同じ側に配置されている。
上記回折格子は反射型であり、上記受光器は上記回折格
子に関して上記光源と同じ側に配置されている。
【００４８】本発明によると、例えば図１３に示すよう
に、検出すべき定点の両側に対称的に配置された２つの
回折格子板とそれに対応した２つの定点検出部とを有
し、上記２つの回折格子板の各々は互いに隣接して配置
された１対の回折格子を有し、上記定点検出部の各々は
上記１対の回折格子に光を出力する光源と上記回折格子
によって回折された光をそれぞれ検出する受光器とを有
し、上記２つの回折格子を上記２つの定点検出部に対し
て相対的に移動させるとき、上記２つの定点検出部の受
光器によって検出される光強度信号によって定点を検出
するように構成された定点検出装置において、上記定点
検出部の各々の受光器は上記１対の回折格子の一方によ
る正負の１次回折光を検出する第１の対の受光器と上記
１対の回折格子の他方による正負の１次回折光を検出す
る第２の対の受光器とを含み、上記第１の対の受光器の
出力信号の和と上記第２の対の受光器の出力信号の和が
等しくなる点を求めることによって定点を求めるように
構成されている。
に、検出すべき定点の両側に対称的に配置された２つの
回折格子板とそれに対応した２つの定点検出部とを有
し、上記２つの回折格子板の各々は互いに隣接して配置
された１対の回折格子を有し、上記定点検出部の各々は
上記１対の回折格子に光を出力する光源と上記回折格子
によって回折された光をそれぞれ検出する受光器とを有
し、上記２つの回折格子を上記２つの定点検出部に対し
て相対的に移動させるとき、上記２つの定点検出部の受
光器によって検出される光強度信号によって定点を検出
するように構成された定点検出装置において、上記定点
検出部の各々の受光器は上記１対の回折格子の一方によ
る正負の１次回折光を検出する第１の対の受光器と上記
１対の回折格子の他方による正負の１次回折光を検出す
る第２の対の受光器とを含み、上記第１の対の受光器の
出力信号の和と上記第２の対の受光器の出力信号の和が
等しくなる点を求めることによって定点を求めるように
構成されている。
【００４９】
【作用】２つの回折格子３２、３３は、互いに異なる格
子ベクトルを有し、２つの回折格子３２、３３によって
生成される回折光は異なる面に沿って出射される。従っ
て、２つの回折格子ム３２、３３によって生成される回
折光は完全に分離されて受光器２２Ａ、２２Ｂ、２３
Ａ、２３Ｂによって検出される。
子ベクトルを有し、２つの回折格子３２、３３によって
生成される回折光は異なる面に沿って出射される。従っ
て、２つの回折格子ム３２、３３によって生成される回
折光は完全に分離されて受光器２２Ａ、２２Ｂ、２３
Ａ、２３Ｂによって検出される。
【００５０】第１の回折格子３２によって生成される正
負の１次回折光を検出する第１の対の受光器２２Ａ、２
２Ｂと第２のホログラム３３によって生成される正負の
１次回折光を検出する第２の対の受光器２３Ａ、２３Ｂ
が設けられ、第１の対の受光器２２Ａ、２２Ｂの出力信
号が加算され、第２の対の受光器２３Ａ、２３Ｂの出力
信号が加算される。
負の１次回折光を検出する第１の対の受光器２２Ａ、２
２Ｂと第２のホログラム３３によって生成される正負の
１次回折光を検出する第２の対の受光器２３Ａ、２３Ｂ
が設けられ、第１の対の受光器２２Ａ、２２Ｂの出力信
号が加算され、第２の対の受光器２３Ａ、２３Ｂの出力
信号が加算される。
【００５１】第１の対の受光器２２Ａ、２２Ｂの出力信
号の和によって、第１の回折格子３２による正負の１次
回折光の光強度曲線が得られ、第２の対の受光器２３
Ａ、２３Ｂの出力信号の和によって、第２の回折格子３
３による正負の１次回折光の光強度曲線が得られる。こ
うして得られた２つの光強度曲線より光強度差曲線が得
られる。
号の和によって、第１の回折格子３２による正負の１次
回折光の光強度曲線が得られ、第２の対の受光器２３
Ａ、２３Ｂの出力信号の和によって、第２の回折格子３
３による正負の１次回折光の光強度曲線が得られる。こ
うして得られた２つの光強度曲線より光強度差曲線が得
られる。
【００５２】第１の対の受光器２２Ａ、２２Ｂの出力信
号の和と第２の対の受光器２３Ａ、２３Ｂの出力信号の
和が等しくなる点が定点である。光強度差曲線がゼロと
なる点が定点である。
号の和と第２の対の受光器２３Ａ、２３Ｂの出力信号の
和が等しくなる点が定点である。光強度差曲線がゼロと
なる点が定点である。
【００５３】各対の受光器２２Ａ、２２Ｂ、２３Ａ、２
３Ｂによって正負の１次回折光が検出され、それによっ
て光強度曲線及び光強度差曲線を求めるため、一定の且
つ正確な定点が得られる。
３Ｂによって正負の１次回折光が検出され、それによっ
て光強度曲線及び光強度差曲線を求めるため、一定の且
つ正確な定点が得られる。
【００５４】
【実施例】以下に図１〜図１７を参照して本発明の実施
例について説明する。尚図１〜図１７において図１８〜
図２７に対応する部分には同一の参照符号を付してその
詳細な説明は省略する。
例について説明する。尚図１〜図１７において図１８〜
図２７に対応する部分には同一の参照符号を付してその
詳細な説明は省略する。
【００５５】図１は本発明による定点検出装置の第１の
例の構成を示す。本例の定点検出装置は２つの回折格子
３２、３３とその上側に配置された光源１２及び集光レ
ンズ１４とその下側に配置された２対の受光器２２Ａ、
２２Ｂ、２３Ａ、２３Ｂと電気処理回路２９とを有す
る。回折格子３２、３３は透過型であり、受光器２２
Ａ、２２Ｂ、２３Ａ、２３Ｂは回折格子３２、３３に関
して光源１２と反対側に配置されている。
例の構成を示す。本例の定点検出装置は２つの回折格子
３２、３３とその上側に配置された光源１２及び集光レ
ンズ１４とその下側に配置された２対の受光器２２Ａ、
２２Ｂ、２３Ａ、２３Ｂと電気処理回路２９とを有す
る。回折格子３２、３３は透過型であり、受光器２２
Ａ、２２Ｂ、２３Ａ、２３Ｂは回折格子３２、３３に関
して光源１２と反対側に配置されている。
【００５６】回折格子３２、３３は可動部を構成し、光
源１２及び集光レンズ１４と受光器２２Ａ、２２Ｂ、２
３Ａ、２３Ｂと電気処理回路２９は固定部を構成する。
電気処理回路２９は図２４に示したものと同様の構成で
あってよい。
源１２及び集光レンズ１４と受光器２２Ａ、２２Ｂ、２
３Ａ、２３Ｂと電気処理回路２９は固定部を構成する。
電気処理回路２９は図２４に示したものと同様の構成で
あってよい。
【００５７】回折格子３２、３３が測定方向（Ｘ方向）
に沿って移動するとき、光源１２からの光が回折格子３
２、３３によって回折され、斯かる回折光は受光器２２
Ａ、２２Ｂ、２３Ａ、２３Ｂによって受光される。
に沿って移動するとき、光源１２からの光が回折格子３
２、３３によって回折され、斯かる回折光は受光器２２
Ａ、２２Ｂ、２３Ａ、２３Ｂによって受光される。
【００５８】光源１２からの光による照射点又は照射領
域（ビームスポット）が回折格子３２、３３の境界を通
過するとき、第１の回折格子３２による正負の（±１
次）回折光が一方の対の受光器２２Ａ、２２Ｂによって
それぞれ検出され、第２の回折格子３３による正負の
（±１次）回折光が他方の対の受光器２３Ａ、２３Ｂに
よってそれぞれ検出される。第１の対の受光器２２Ａ、
２２Ｂの出力は加算され、第２の対の受光器２３Ａ、２
３Ｂの出力は加算されて、電気処理回路２９に供給され
る。それによって定点が検出される。
域（ビームスポット）が回折格子３２、３３の境界を通
過するとき、第１の回折格子３２による正負の（±１
次）回折光が一方の対の受光器２２Ａ、２２Ｂによって
それぞれ検出され、第２の回折格子３３による正負の
（±１次）回折光が他方の対の受光器２３Ａ、２３Ｂに
よってそれぞれ検出される。第１の対の受光器２２Ａ、
２２Ｂの出力は加算され、第２の対の受光器２３Ａ、２
３Ｂの出力は加算されて、電気処理回路２９に供給され
る。それによって定点が検出される。
【００５９】図２を参照して本例の回折格子３２、３３
の構成例を説明する。図２Ａ及び図２Ｂはそれぞれ回折
格子３２、３３の平面構成を示す。
の構成例を説明する。図２Ａ及び図２Ｂはそれぞれ回折
格子３２、３３の平面構成を示す。
【００６０】図２Ａに示す例では、第１の回折格子３２
の屈折率の分布面４２は測定軸（Ｘ方向）に平行に延在
し、第２の回折格子３３の屈折率の分布面４３は測定軸
（Ｘ方向）に垂直に延在している。図２Ｂに示す例で
は、第１の回折格子３２の屈折率の分布面４２と第２の
回折格子３３の屈折率の分布面４３は測定軸（Ｘ方向）
に垂直な面に関して対称的に配置されており、且つ測定
軸（Ｘ軸）に対して傾斜して延在している。
の屈折率の分布面４２は測定軸（Ｘ方向）に平行に延在
し、第２の回折格子３３の屈折率の分布面４３は測定軸
（Ｘ方向）に垂直に延在している。図２Ｂに示す例で
は、第１の回折格子３２の屈折率の分布面４２と第２の
回折格子３３の屈折率の分布面４３は測定軸（Ｘ方向）
に垂直な面に関して対称的に配置されており、且つ測定
軸（Ｘ軸）に対して傾斜して延在している。
【００６１】光源１２からの光を２つの回折格子３２、
３３の上面に対して垂直に入射すると、各回折格子３
２、３３による正負の１次回折光は格子ベクトルＶを含
む面に沿って出射される。従って、各対の受光器２２
Ａ、２２Ｂ又は２３Ａ、２３Ｂは斯かる格子ベクトルＶ
を含む面に沿って配置される。
３３の上面に対して垂直に入射すると、各回折格子３
２、３３による正負の１次回折光は格子ベクトルＶを含
む面に沿って出射される。従って、各対の受光器２２
Ａ、２２Ｂ又は２３Ａ、２３Ｂは斯かる格子ベクトルＶ
を含む面に沿って配置される。
【００６２】例えば、図２Ａの如き２つの回折格子３
２、３３を使用する場合には、第１の回折格子３２の格
子ベクトルＶは測定軸（Ｘ方向）に垂直な面に沿って配
置されているから、第１の回折格子３２による正負の１
次回折光を検出するための第１の対の受光器２２Ａ、２
２Ｂは測定軸（Ｘ方向）に垂直な面に沿って配置され
る。同様に、第２の回折格子３３の格子ベクトルＶは回
折格子３２、３３の上面に垂直且つ測定軸（Ｘ方向）に
平行な面に沿って配置されているから、第２の回折格子
３３による正負の１次回折光を検出するための第２の対
の受光器２３Ａ、２３Ｂは斯かる面に沿って配置され
る。
２、３３を使用する場合には、第１の回折格子３２の格
子ベクトルＶは測定軸（Ｘ方向）に垂直な面に沿って配
置されているから、第１の回折格子３２による正負の１
次回折光を検出するための第１の対の受光器２２Ａ、２
２Ｂは測定軸（Ｘ方向）に垂直な面に沿って配置され
る。同様に、第２の回折格子３３の格子ベクトルＶは回
折格子３２、３３の上面に垂直且つ測定軸（Ｘ方向）に
平行な面に沿って配置されているから、第２の回折格子
３３による正負の１次回折光を検出するための第２の対
の受光器２３Ａ、２３Ｂは斯かる面に沿って配置され
る。
【００６３】本例によると正の１次（＋１次）回折光ば
かりでなく負の１次（−１次）回折光を検出し、各対の
受光器２２Ａ、２２Ｂ又は２３Ａ、２３Ｂの出力を加算
するから、より精度の高い定点が得られる。
かりでなく負の１次（−１次）回折光を検出し、各対の
受光器２２Ａ、２２Ｂ又は２３Ａ、２３Ｂの出力を加算
するから、より精度の高い定点が得られる。
【００６４】図３に、図２５と同様に、２対の受光器２
２Ａ、２２Ｂ及び２３Ａ、２３Ｂによって得られた２つ
の光強度曲線Ｃ１、Ｃ２と、差動増幅器２９−２によっ
て得られた光強度差曲線Ｃ３とを示す。
２Ａ、２２Ｂ及び２３Ａ、２３Ｂによって得られた２つ
の光強度曲線Ｃ１、Ｃ２と、差動増幅器２９−２によっ
て得られた光強度差曲線Ｃ３とを示す。
【００６５】図３の２つの光強度曲線Ｃ１、Ｃ２は、光
の強度信号が増加した後、一定となる。これは、本例に
よる定点検出装置によって、回折光の検出効率が改善さ
れることが示されている。本発明によると、第１の対の
受光器２２Ａ、２２Ｂの出力は加算されるから、第１の
回折格子３２による正負の１次回折光による光強度曲線
Ｃ１が得られる。同様に、第２の対の受光器２３Ａ、２
３Ｂの出力は加算されるから、第２の回折格子３３によ
る正負の１次回折光による光強度曲線Ｃ２が得られる。
こうして光強度差曲線Ｃ３も、ゼロクロス点の前後に
て、一定となる。
の強度信号が増加した後、一定となる。これは、本例に
よる定点検出装置によって、回折光の検出効率が改善さ
れることが示されている。本発明によると、第１の対の
受光器２２Ａ、２２Ｂの出力は加算されるから、第１の
回折格子３２による正負の１次回折光による光強度曲線
Ｃ１が得られる。同様に、第２の対の受光器２３Ａ、２
３Ｂの出力は加算されるから、第２の回折格子３３によ
る正負の１次回折光による光強度曲線Ｃ２が得られる。
こうして光強度差曲線Ｃ３も、ゼロクロス点の前後に
て、一定となる。
【００６６】図４に本発明による定点検出装置の第２の
例の主要部を示す。この第２の例は第１の例の変形例で
ある。この第２の例は互いに直交する２つの測定軸に沿
って定点の位置を検出することができるように構成され
ている。即ち、定点のＸ方向の位置及びＹ方向の位置を
検出することができる。
例の主要部を示す。この第２の例は第１の例の変形例で
ある。この第２の例は互いに直交する２つの測定軸に沿
って定点の位置を検出することができるように構成され
ている。即ち、定点のＸ方向の位置及びＹ方向の位置を
検出することができる。
【００６７】本例では、４つの回折格子３２、３３、３
４、３５とそれに対応した４対の受光器２２Ａ、２２
Ｂ、２３Ａ、２３Ｂ、２４Ａ、２４Ｂ、２５Ａ、２５Ｂ
が使用されている。４つの回折格子３２、３３、３４、
３５は互いに異なる方向を向いた格子ベクトルを有す
る。
４、３５とそれに対応した４対の受光器２２Ａ、２２
Ｂ、２３Ａ、２３Ｂ、２４Ａ、２４Ｂ、２５Ａ、２５Ｂ
が使用されている。４つの回折格子３２、３３、３４、
３５は互いに異なる方向を向いた格子ベクトルを有す
る。
【００６８】第１の対の受光器２２Ａ、２２Ｂによって
第１の回折格子３２による正負の１次回折光が検出さ
れ、第２の対の受光器２３Ａ、２３Ｂによって第２の回
折格子３３による正負の１次回折光が検出され、第３の
対の受光器２４Ａ、２４Ｂによって第３の回折格子３３
による正負の１次回折光が検出され、第４の対の受光器
２５Ａ、２５Ｂによって第４の回折格子３５による正負
の１次回折光が検出されるように構成されている。
第１の回折格子３２による正負の１次回折光が検出さ
れ、第２の対の受光器２３Ａ、２３Ｂによって第２の回
折格子３３による正負の１次回折光が検出され、第３の
対の受光器２４Ａ、２４Ｂによって第３の回折格子３３
による正負の１次回折光が検出され、第４の対の受光器
２５Ａ、２５Ｂによって第４の回折格子３５による正負
の１次回折光が検出されるように構成されている。
【００６９】図５に４つの回折格子３２、３３、３４、
３５の配置例を示す。図示のように測定軸に沿ってＸ軸
をとりそれに垂直にＹ軸をとる。図５Ａ及び図５Ｂに示
す例では４つの回折格子３２、３３、３４、３５は略正
方形又は矩形に形成されており、互いに隣接する２つの
回折格子の境界はＸ軸又はＹ軸に沿って延在している。
図５Ｃ及び図５Ｄに示す例では４つの回折格子３２、３
３、３４、３５は２等辺直角三角形に形成されており、
互いに隣接する２つの回折格子の境界はＸ軸又はＹ軸に
４５°傾斜して延在している。
３５の配置例を示す。図示のように測定軸に沿ってＸ軸
をとりそれに垂直にＹ軸をとる。図５Ａ及び図５Ｂに示
す例では４つの回折格子３２、３３、３４、３５は略正
方形又は矩形に形成されており、互いに隣接する２つの
回折格子の境界はＸ軸又はＹ軸に沿って延在している。
図５Ｃ及び図５Ｄに示す例では４つの回折格子３２、３
３、３４、３５は２等辺直角三角形に形成されており、
互いに隣接する２つの回折格子の境界はＸ軸又はＹ軸に
４５°傾斜して延在している。
【００７０】図６に図４及び図５の第２の例の電気処理
回路２９の構成例を示す。第１の回折格子３２による正
負の１次回折光は第１の対の受光器２２Ａ、２２Ｂによ
ってそれぞれ検出され、斯かる第１の対の受光器２２
Ａ、２２Ｂの出力は加算されて第１の端子３２ａを経由
して電気処理回路２９に供給される。第２の回折格子３
３による正負の１次回折光は第２の対の受光器２３Ａ、
２３Ｂによってそれぞれ検出され、斯かる第２の対の受
光器２３Ａ、２３Ｂの出力は加算されて第２の端子３３
ａを経由して電気処理回路２９に供給される。
回路２９の構成例を示す。第１の回折格子３２による正
負の１次回折光は第１の対の受光器２２Ａ、２２Ｂによ
ってそれぞれ検出され、斯かる第１の対の受光器２２
Ａ、２２Ｂの出力は加算されて第１の端子３２ａを経由
して電気処理回路２９に供給される。第２の回折格子３
３による正負の１次回折光は第２の対の受光器２３Ａ、
２３Ｂによってそれぞれ検出され、斯かる第２の対の受
光器２３Ａ、２３Ｂの出力は加算されて第２の端子３３
ａを経由して電気処理回路２９に供給される。
【００７１】第３の回折格子３４による正負の１次回折
光は第３の対の受光器２４Ａ、２４Ｂによってそれぞれ
検出され、斯かる第３の対の受光器２４Ａ、２４Ｂの出
力は加算されて第３の端子３４ａを経由して電気処理回
路２９に供給される。第４の回折格子３５による正負の
１次回折光は第４の対の受光器２５Ａ、２５Ｂによって
それぞれ検出され、斯かる第４の対の受光器２５Ａ、２
５Ｂの出力は加算されて第４の端子３５ａを経由して電
気処理回路２９に供給される。
光は第３の対の受光器２４Ａ、２４Ｂによってそれぞれ
検出され、斯かる第３の対の受光器２４Ａ、２４Ｂの出
力は加算されて第３の端子３４ａを経由して電気処理回
路２９に供給される。第４の回折格子３５による正負の
１次回折光は第４の対の受光器２５Ａ、２５Ｂによって
それぞれ検出され、斯かる第４の対の受光器２５Ａ、２
５Ｂの出力は加算されて第４の端子３５ａを経由して電
気処理回路２９に供給される。
【００７２】従って、第１の差動増幅器２９−２Ａは互
いに対抗して配置された第１の回折格子３２による光強
度曲線と第２の回折格子３３による光強度曲線の差を演
算する。同様に、第２の差動増幅器２９−２Ｂは互いに
対抗して配置された第３の回折格子３４による光強度曲
線と第４の回折格子３５による光強度曲線の差を演算す
る。
いに対抗して配置された第１の回折格子３２による光強
度曲線と第２の回折格子３３による光強度曲線の差を演
算する。同様に、第２の差動増幅器２９−２Ｂは互いに
対抗して配置された第３の回折格子３４による光強度曲
線と第４の回折格子３５による光強度曲線の差を演算す
る。
【００７３】こうして、第１の差動増幅器２９−２Ａに
よって得られた光強度差曲線によってＸ軸方向の定点位
置が求められ、第２の差動増幅器２９−２Ｂによって得
られた光強度差曲線によってＹ軸方向の定点位置が求め
られる。
よって得られた光強度差曲線によってＸ軸方向の定点位
置が求められ、第２の差動増幅器２９−２Ｂによって得
られた光強度差曲線によってＹ軸方向の定点位置が求め
られる。
【００７４】図７に本発明による定点検出装置の第３の
例の主要部を示す。この第３の例は図４の第２の例の変
形例である。この第３の例では、回折格子３２、３３、
３４、３５は反射型の回折格子である。従って、正負の
１次回折光は入射光と同じ側に出射される。受光器２２
Ａ、２２Ｂ、２３Ａ、２３Ｂ、２４Ａ、２４Ｂ、２５
Ａ、２５Ｂは回折格子３２、３３、３４、３５に対して
光源１２と同一側に配置されている。
例の主要部を示す。この第３の例は図４の第２の例の変
形例である。この第３の例では、回折格子３２、３３、
３４、３５は反射型の回折格子である。従って、正負の
１次回折光は入射光と同じ側に出射される。受光器２２
Ａ、２２Ｂ、２３Ａ、２３Ｂ、２４Ａ、２４Ｂ、２５
Ａ、２５Ｂは回折格子３２、３３、３４、３５に対して
光源１２と同一側に配置されている。
【００７５】４つの回折格子は図５に示したように配置
してよい。電気処理回路２９は図６に示した例が使用さ
れてよい。
してよい。電気処理回路２９は図６に示した例が使用さ
れてよい。
【００７６】図８は本発明による定点検出装置の第４の
例の主要部を示す。この第４の例は図４の第２の例の変
形例である。この第４の例では、回折格子３２、３３は
透過型の回折格子である。４つの回折格子３２、３３、
３４、３５の下側に４対の光屈折器６２Ａ、６２Ｂ、６
３Ａ、６３Ｂ、６４Ａ、６４Ｂ、６５Ａ、６５Ｂと４対
の受光器２２Ａ、２２Ｂ、２３Ａ、２３Ｂ、２４Ａ、２
４Ｂ、２５Ａ、２５Ｂが設けられている。
例の主要部を示す。この第４の例は図４の第２の例の変
形例である。この第４の例では、回折格子３２、３３は
透過型の回折格子である。４つの回折格子３２、３３、
３４、３５の下側に４対の光屈折器６２Ａ、６２Ｂ、６
３Ａ、６３Ｂ、６４Ａ、６４Ｂ、６５Ａ、６５Ｂと４対
の受光器２２Ａ、２２Ｂ、２３Ａ、２３Ｂ、２４Ａ、２
４Ｂ、２５Ａ、２５Ｂが設けられている。
【００７７】光源１２より出力された光は４つの回折格
子３２、３３、３４、３５によって回折され、正負の１
次回折光は各光屈折器によってその光路が変更されて、
入射光と平行となる。斯かる入射光と平行な回折光は下
側の対応した各対の受光器２２Ａ、２２Ｂ、２３Ａ、２
３Ｂ、２４Ａ、２４Ｂ、２５Ａ、２５Ｂによって検出さ
れる。
子３２、３３、３４、３５によって回折され、正負の１
次回折光は各光屈折器によってその光路が変更されて、
入射光と平行となる。斯かる入射光と平行な回折光は下
側の対応した各対の受光器２２Ａ、２２Ｂ、２３Ａ、２
３Ｂ、２４Ａ、２４Ｂ、２５Ａ、２５Ｂによって検出さ
れる。
【００７８】４つの回折格子は図５に示したように配置
してよい。電気処理回路２９は図６に示した例が使用さ
れてよい。
してよい。電気処理回路２９は図６に示した例が使用さ
れてよい。
【００７９】図９は光屈折器６２Ａ、６２Ｂ、６３Ａ、
６３Ｂ、６４Ａ、６４Ｂ、６５Ａ、６５Ｂの例を示す。
光屈折器は図９Ａに示すように透過型回折格子６９Ａで
あってよく、又は、図９Ｂに示すようにプリズムレンズ
６９Ｂであってよい。
６３Ｂ、６４Ａ、６４Ｂ、６５Ａ、６５Ｂの例を示す。
光屈折器は図９Ａに示すように透過型回折格子６９Ａで
あってよく、又は、図９Ｂに示すようにプリズムレンズ
６９Ｂであってよい。
【００８０】図１０に本発明による定点検出装置の第５
の例の主要部を示す。この第５の例は図８の第４の例の
変形例である。この第５の例では、回折格子３２、３
３、３４、３５は反射型の回折格子である。従って、正
負の１次回折光は入射光と同じ側に出射される。受光器
２２Ａ、２２Ｂ、２３Ａ、２３Ｂ、２４Ａ、２４Ｂ、２
５Ａ、２５Ｂ及び光屈折器６２Ａ、６２Ｂ、６３Ａ、６
３Ｂ、６４Ａ、６４Ｂ、６５Ａ、６５Ｂは回折格子３
２、３３、３４、３５に対して光源１２と同一側に配置
されている。
の例の主要部を示す。この第５の例は図８の第４の例の
変形例である。この第５の例では、回折格子３２、３
３、３４、３５は反射型の回折格子である。従って、正
負の１次回折光は入射光と同じ側に出射される。受光器
２２Ａ、２２Ｂ、２３Ａ、２３Ｂ、２４Ａ、２４Ｂ、２
５Ａ、２５Ｂ及び光屈折器６２Ａ、６２Ｂ、６３Ａ、６
３Ｂ、６４Ａ、６４Ｂ、６５Ａ、６５Ｂは回折格子３
２、３３、３４、３５に対して光源１２と同一側に配置
されている。
【００８１】４つの回折格子は図５に示したように配置
してよい。電気処理回路２９は図６に示した例が使用さ
れてよい。
してよい。電気処理回路２９は図６に示した例が使用さ
れてよい。
【００８２】図１１に本発明による定点検出装置の第６
の例の主要部を示す。この第６の例は第２の例の変形例
である。本例では、３つの回折格子３２、３３、３４と
それに対応した３対の受光器２２Ａ、２２Ｂ、２３Ａ、
２３Ｂ、２４Ａ、２４Ｂが使用されている。３つの回折
格子３２、３３、３４は互いに異なる方向を向いた格子
ベクトルを有する。
の例の主要部を示す。この第６の例は第２の例の変形例
である。本例では、３つの回折格子３２、３３、３４と
それに対応した３対の受光器２２Ａ、２２Ｂ、２３Ａ、
２３Ｂ、２４Ａ、２４Ｂが使用されている。３つの回折
格子３２、３３、３４は互いに異なる方向を向いた格子
ベクトルを有する。
【００８３】この第６の例は第２の例と同様に、互いに
直交する２つの測定軸に沿って定点の位置を検出するこ
とができるように構成されている。即ち、定点のＸ方向
の位置及びＹ方向の位置を検出することができる。
直交する２つの測定軸に沿って定点の位置を検出するこ
とができるように構成されている。即ち、定点のＸ方向
の位置及びＹ方向の位置を検出することができる。
【００８４】第１の対の受光器２２Ａ、２２Ｂによって
第１の回折格子３２による正負の１次回折光が検出さ
れ、第２の対の受光器２３Ａ、２３Ｂによって第２の回
折格子３３による正負の１次回折光が検出され、第３の
対の受光器２４Ａ、２４Ｂによって第３の回折格子３３
による正負の１次回折光が検出されるように構成されて
いる。
第１の回折格子３２による正負の１次回折光が検出さ
れ、第２の対の受光器２３Ａ、２３Ｂによって第２の回
折格子３３による正負の１次回折光が検出され、第３の
対の受光器２４Ａ、２４Ｂによって第３の回折格子３３
による正負の１次回折光が検出されるように構成されて
いる。
【００８５】図１２に図１１の第６の例の電気処理回路
２９の構成例を示す。第１の回折格子３２による正負の
１次回折光は第１の対の受光器２２Ａ、２２Ｂによって
それぞれ検出され、斯かる第１の対の受光器２２Ａ、２
２Ｂの出力は加算されて第１の端子３２ａを経由して電
気処理回路２９に供給される。第２の回折格子３３によ
る正負の１次回折光は第２の対の受光器２３Ａ、２３Ｂ
によってそれぞれ検出され、斯かる第２の対の受光器２
３Ａ、２３Ｂの出力は加算されて第２の端子３３ａを経
由して電気処理回路２９に供給される。
２９の構成例を示す。第１の回折格子３２による正負の
１次回折光は第１の対の受光器２２Ａ、２２Ｂによって
それぞれ検出され、斯かる第１の対の受光器２２Ａ、２
２Ｂの出力は加算されて第１の端子３２ａを経由して電
気処理回路２９に供給される。第２の回折格子３３によ
る正負の１次回折光は第２の対の受光器２３Ａ、２３Ｂ
によってそれぞれ検出され、斯かる第２の対の受光器２
３Ａ、２３Ｂの出力は加算されて第２の端子３３ａを経
由して電気処理回路２９に供給される。
【００８６】第３の回折格子３４による正負の１次回折
光は第３の対の受光器２４Ａ、２４Ｂによってそれぞれ
検出され、斯かる第３の対の受光器２４Ａ、２４Ｂの出
力は加算されて第３の端子３４ａを経由して電気処理回
路２９に供給される。
光は第３の対の受光器２４Ａ、２４Ｂによってそれぞれ
検出され、斯かる第３の対の受光器２４Ａ、２４Ｂの出
力は加算されて第３の端子３４ａを経由して電気処理回
路２９に供給される。
【００８７】第１の差動増幅器２９−２Ａは第１の回折
格子３２による光強度曲線と第２の回折格子３３による
光強度曲線の差を演算する。同様に、第２の差動増幅器
２９−２Ｂは第２の回折格子３３による光強度曲線と第
３の回折格子３４による光強度曲線の差を演算する。第
３の差動増幅器２９−２Ｃは第３の回折格子３５による
光強度曲線と第１の回折格子３２による光強度曲線の差
を演算する。
格子３２による光強度曲線と第２の回折格子３３による
光強度曲線の差を演算する。同様に、第２の差動増幅器
２９−２Ｂは第２の回折格子３３による光強度曲線と第
３の回折格子３４による光強度曲線の差を演算する。第
３の差動増幅器２９−２Ｃは第３の回折格子３５による
光強度曲線と第１の回折格子３２による光強度曲線の差
を演算する。
【００８８】こうして、第１の差動増幅器２９−２Ａに
よって得られた光強度差曲線によってＸ軸方向の定点位
置が求められ、第２又は第３の差動増幅器２９−２Ｂ、
２９−２Ｃによって得られた光強度差曲線によってＹ軸
方向の定点位置が求められる。
よって得られた光強度差曲線によってＸ軸方向の定点位
置が求められ、第２又は第３の差動増幅器２９−２Ｂ、
２９−２Ｃによって得られた光強度差曲線によってＹ軸
方向の定点位置が求められる。
【００８９】図１３は本発明による定点検出装置の第７
の例の外観を示す。本例の定点検出装置は２つの定点検
出部を含むように構成されている。本例の定点検出装置
は例えばＸ線露光描画装置に使用されてよい。Ｘ線露光
描画装置は２本のレール７１、７１と斯かるレールの上
を測定方向（Ｘ方向）に可動なステージ７３とを有す
る。
の例の外観を示す。本例の定点検出装置は２つの定点検
出部を含むように構成されている。本例の定点検出装置
は例えばＸ線露光描画装置に使用されてよい。Ｘ線露光
描画装置は２本のレール７１、７１と斯かるレールの上
を測定方向（Ｘ方向）に可動なステージ７３とを有す
る。
【００９０】ステージ７３の上面７３Ａには被検物体７
５例えば感光剤が装着されており、被検物体７５は検出
すべき定点Ｐを有する。例えば感光剤に２重露光する場
合、定点検出装置によって定点Ｐが正確に検出される必
要がある。従来、斯かる定点の検出は１台の定点検出装
置によって検出されていた。従って、ステージ７３が測
定方向（Ｘ方向）に対してヨーイング（矢印Ｙで示
す。）すると、定点を正確に検出することができなかっ
た。
５例えば感光剤が装着されており、被検物体７５は検出
すべき定点Ｐを有する。例えば感光剤に２重露光する場
合、定点検出装置によって定点Ｐが正確に検出される必
要がある。従来、斯かる定点の検出は１台の定点検出装
置によって検出されていた。従って、ステージ７３が測
定方向（Ｘ方向）に対してヨーイング（矢印Ｙで示
す。）すると、定点を正確に検出することができなかっ
た。
【００９１】本例では２台の定点検出部によって定点を
検出するから、斯かるヨーイングに起因する誤差を排除
することができる。
検出するから、斯かるヨーイングに起因する誤差を排除
することができる。
【００９２】本例によると、ステージ７３の上面にて被
検物体７５の両側に、回折格子７７Ａ、７７Ｂが装着さ
れている。各回折格子７７Ａ、７７Ｂは例えば図１の第
の例のように２つの回折格子３２、３３を含む。２つの
回折格子３２、３３は測定方向に沿って配置され、両者
は互いに異なる方向に向いた格子ベクトルを有する。２
つの回折格子３２、３３は反射型であってよい。しかし
ながら、２つの回折格子３２、３３が透過型の場合に
は、その下面に反射膜が装着される。
検物体７５の両側に、回折格子７７Ａ、７７Ｂが装着さ
れている。各回折格子７７Ａ、７７Ｂは例えば図１の第
の例のように２つの回折格子３２、３３を含む。２つの
回折格子３２、３３は測定方向に沿って配置され、両者
は互いに異なる方向に向いた格子ベクトルを有する。２
つの回折格子３２、３３は反射型であってよい。しかし
ながら、２つの回折格子３２、３３が透過型の場合に
は、その下面に反射膜が装着される。
【００９３】２つの回折格子７７Ａ、７７Ｂに対してそ
れぞれ定点検出部が配置されている。各定点検出部は光
源１２と２対の受光器２２Ａ、２２Ｂ、２３Ａ、２３Ｂ
と電気処理回路８０を有する。
れぞれ定点検出部が配置されている。各定点検出部は光
源１２と２対の受光器２２Ａ、２２Ｂ、２３Ａ、２３Ｂ
と電気処理回路８０を有する。
【００９４】図１４に電気処理回路８０の構成例を示
す。電気処理回路８０は１対の電流電圧変換器８０−１
Ａ、８０−２Ｂと差動増幅器８０−２とを有する。第１
の電流電圧変換器８０−１Ａは第１の対の受光器２２
Ａ、２２Ｂの出力信号を加算して入力し、第２の電流電
圧変換器８０−１Ｂは第２の対の受光器２３Ａ、２３Ｂ
の出力信号を加算して入力する。
す。電気処理回路８０は１対の電流電圧変換器８０−１
Ａ、８０−２Ｂと差動増幅器８０−２とを有する。第１
の電流電圧変換器８０−１Ａは第１の対の受光器２２
Ａ、２２Ｂの出力信号を加算して入力し、第２の電流電
圧変換器８０−１Ｂは第２の対の受光器２３Ａ、２３Ｂ
の出力信号を加算して入力する。
【００９５】本例の定点検出装置は更に差動増幅器８０
−２の出力信号を加算する加算器８１と加算器８１の出
力を入力する比較器８３とを有する。
−２の出力信号を加算する加算器８１と加算器８１の出
力を入力する比較器８３とを有する。
【００９６】図１５に２つの差動増幅器８０−２及び加
算器８１の出力信号を示す。図１５Ａの実線の曲線Ｃ３
−１は第１の差動増幅器８０−２の出力信号であり、図
１５Ｂの実線の曲線Ｃ３−２は第２の差動増幅器８０−
２の出力信号であり、図１５Ｃの実線の曲線Ｃ４は加算
器８１の出力信号である。
算器８１の出力信号を示す。図１５Ａの実線の曲線Ｃ３
−１は第１の差動増幅器８０−２の出力信号であり、図
１５Ｂの実線の曲線Ｃ３−２は第２の差動増幅器８０−
２の出力信号であり、図１５Ｃの実線の曲線Ｃ４は加算
器８１の出力信号である。
【００９７】次に、図１６を参照してヨーイングに起因
する誤差及びそれを補償する機能について説明する。図
示のように、被検物体７５の定点Ｐを通り測定方向に沿
ってＸ軸をとる。Ｘ線露光描画装置のステージ７３の上
面に装着された回折格子７７Ａ、７７Ｂは、Ｘ軸に対し
て対称的に配置されていると仮定する。Ｘ軸からの距離
をｔとする。各定点検出部は被検物体７５の両側の各回
折格子７７Ａ、７７Ｂに対応して配置されている。
する誤差及びそれを補償する機能について説明する。図
示のように、被検物体７５の定点Ｐを通り測定方向に沿
ってＸ軸をとる。Ｘ線露光描画装置のステージ７３の上
面に装着された回折格子７７Ａ、７７Ｂは、Ｘ軸に対し
て対称的に配置されていると仮定する。Ｘ軸からの距離
をｔとする。各定点検出部は被検物体７５の両側の各回
折格子７７Ａ、７７Ｂに対応して配置されている。
【００９８】Ｘ線露光描画装置のステージ７３がヨーイ
ングすると、ステージ７３の上面に装着された回折格子
７７Ａ、７７Ｂも図示のようにヨーイングする。それに
よって、回折格子７７Ａ、７７Ｂは定点Ｐの周りを回転
運動する。即ち、２つの回折格子７７Ａ、７７Ｂは互い
に反対方向に同一距離だけ移動する。第１の回折格子７
７ＡはＸ軸の負の方向にΔＸだけ移動し、第２の回折格
子７７ＢはＸ軸の正の方向にΔＸだけ移動する。
ングすると、ステージ７３の上面に装着された回折格子
７７Ａ、７７Ｂも図示のようにヨーイングする。それに
よって、回折格子７７Ａ、７７Ｂは定点Ｐの周りを回転
運動する。即ち、２つの回折格子７７Ａ、７７Ｂは互い
に反対方向に同一距離だけ移動する。第１の回折格子７
７ＡはＸ軸の負の方向にΔＸだけ移動し、第２の回折格
子７７ＢはＸ軸の正の方向にΔＸだけ移動する。
【００９９】図１５の破線の曲線はヨーイングした場合
の２つの差動増幅器８０−２及び加算器８１の出力信号
を示す。図１５Ａの破線の曲線Ｃ３−１’は第１の差動
増幅器８０−２の出力信号であり、図１５Ｂの破線の曲
線Ｃ３−２’は第２の差動増幅器８０−２の出力信号で
あり、図１５Ｃの破線の曲線Ｃ４’は加算器８１の出力
信号である。
の２つの差動増幅器８０−２及び加算器８１の出力信号
を示す。図１５Ａの破線の曲線Ｃ３−１’は第１の差動
増幅器８０−２の出力信号であり、図１５Ｂの破線の曲
線Ｃ３−２’は第２の差動増幅器８０−２の出力信号で
あり、図１５Ｃの破線の曲線Ｃ４’は加算器８１の出力
信号である。
【０１００】加算器８１の出力信号は比較器８３に供給
されてゼロクロス点が得られる。図１５Ｃの破線の曲線
Ｃ４’に示されるように、ヨーイングによって加算器８
１の出力信号は変化するが、ゼロクロス点は変化しな
い。本例では、ヨーイングによって２つの差動増幅器８
０−２の出力信号は変化するが、斯かる差動増幅器８０
−２の出力信号は加算器８１にて加算され、その変化分
は相殺される。
されてゼロクロス点が得られる。図１５Ｃの破線の曲線
Ｃ４’に示されるように、ヨーイングによって加算器８
１の出力信号は変化するが、ゼロクロス点は変化しな
い。本例では、ヨーイングによって２つの差動増幅器８
０−２の出力信号は変化するが、斯かる差動増幅器８０
−２の出力信号は加算器８１にて加算され、その変化分
は相殺される。
【０１０１】図１７に本発明による定点検出装置がリニ
アエンコーダに使用された例を示す。リニアエンコーダ
はスケール基板７５−１を有し、その上面には測定軸
（Ｘ軸）に沿って変位検出用の回折格子７５−２が配置
されている。斯かる回折格子７５−２によって測定軸
（Ｘ軸）方向の変位が検出される。変位検出用の回折格
子７５−２の両側に対称的に偏光板７７Ａ、７７Ｂが装
着されている。
アエンコーダに使用された例を示す。リニアエンコーダ
はスケール基板７５−１を有し、その上面には測定軸
（Ｘ軸）に沿って変位検出用の回折格子７５−２が配置
されている。斯かる回折格子７５−２によって測定軸
（Ｘ軸）方向の変位が検出される。変位検出用の回折格
子７５−２の両側に対称的に偏光板７７Ａ、７７Ｂが装
着されている。
【０１０２】尚、本例の定点検出装置は２つの偏光板７
７Ａ、７７Ｂに対応して２つの定点検出部が配置されて
おり、各定点検出部は光学系と検出系とを含む。尚斯か
る定点検出部の光学系及び検出系は図１３の本発明の第
７の例のものと同様であってよい。こうして、本例の定
点検出装置によると第７の例のと同様にスケール基板７
５−１のヨーイングによる誤差を排除することができ
る。
７Ａ、７７Ｂに対応して２つの定点検出部が配置されて
おり、各定点検出部は光学系と検出系とを含む。尚斯か
る定点検出部の光学系及び検出系は図１３の本発明の第
７の例のものと同様であってよい。こうして、本例の定
点検出装置によると第７の例のと同様にスケール基板７
５−１のヨーイングによる誤差を排除することができ
る。
【０１０３】以上本発明の実施例について詳細に説明し
てきたが、本発明は上述の実施例に限ることなく本発明
の要旨を逸脱することなく他の種々の構成が採り得るこ
とは当業者にとって容易に理解されよう。
てきたが、本発明は上述の実施例に限ることなく本発明
の要旨を逸脱することなく他の種々の構成が採り得るこ
とは当業者にとって容易に理解されよう。
【０１０４】
【発明の効果】本発明によれば、２つの回折格子３２、
３３は互いに異なる方向の格子ベクトルを有し、斯かる
２つの回折格子３２、３３によって互いに異なる方向に
１次回折光が出射されるから、各回折格子３２、３３に
よって生成された正負の１次回折光は各受光器２２Ａ、
２２Ｂ、２３Ａ、２３Ｂによって完全に分離されて検出
される利点がある。
３３は互いに異なる方向の格子ベクトルを有し、斯かる
２つの回折格子３２、３３によって互いに異なる方向に
１次回折光が出射されるから、各回折格子３２、３３に
よって生成された正負の１次回折光は各受光器２２Ａ、
２２Ｂ、２３Ａ、２３Ｂによって完全に分離されて検出
される利点がある。
【０１０５】本発明によれば、各回折格子３２、３３に
よって生成される正の１次回折光と負の１次回折光の両
者が検出され加算されて光強度曲線が求められるように
構成されているから高い精度にて定点を検出することが
できる利点がある。
よって生成される正の１次回折光と負の１次回折光の両
者が検出され加算されて光強度曲線が求められるように
構成されているから高い精度にて定点を検出することが
できる利点がある。
【０１０６】本発明によれば、光源１２の波長が変化し
ても受光器に入射される光のビームスポットの変化量が
等しいから常に検出される定点位置が変化しない利点が
ある。
ても受光器に入射される光のビームスポットの変化量が
等しいから常に検出される定点位置が変化しない利点が
ある。
【０１０７】本発明によると、４つの回折格子３２、３
３、３４、３５と各回折格子による正負の１次回折光を
検出する４対の受光器２２Ａ、２２Ｂ、２３Ａ、２３
Ｂ、２４Ａ、２４Ｂ、２５Ａ、２５Ｂを設けることによ
って２つの測定軸方向の定点位置を検出することができ
る利点がある。
３、３４、３５と各回折格子による正負の１次回折光を
検出する４対の受光器２２Ａ、２２Ｂ、２３Ａ、２３
Ｂ、２４Ａ、２４Ｂ、２５Ａ、２５Ｂを設けることによ
って２つの測定軸方向の定点位置を検出することができ
る利点がある。
【０１０８】本発明によると、各々１対の回折格子３
２、３３を含む２つの回折格子７７Ａ、７７Ｂとそれに
対応した２つの定点検出部を有するように構成すること
によって、測定軸上より隔置された位置に定点検出装置
を配置することができるから、測定軸上に被検物体を配
置することができる利点がある。
２、３３を含む２つの回折格子７７Ａ、７７Ｂとそれに
対応した２つの定点検出部を有するように構成すること
によって、測定軸上より隔置された位置に定点検出装置
を配置することができるから、測定軸上に被検物体を配
置することができる利点がある。
【０１０９】本発明によると、２つの回折格子７７Ａ、
７７Ｂとそれに対応した２つの定点検出部を有するよう
に構成することによって、より精度が高い定点検出装置
を提供することができる利点がある。
７７Ｂとそれに対応した２つの定点検出部を有するよう
に構成することによって、より精度が高い定点検出装置
を提供することができる利点がある。
【図１】本発明による定点検出装置の第１の例の構成を
示す図である。
示す図である。
【図２】本発明による定点検出装置の第１の例の回折格
子の構成を示す図である。
子の構成を示す図である。
【図３】本発明による定点検出装置の第１の例の光強度
曲線及び光強度差曲線の例を示す図である。
曲線及び光強度差曲線の例を示す図である。
【図４】本発明による定点検出装置の第２の例の構成を
示す図である。
示す図である。
【図５】本発明による定点検出装置の第２の例の回折格
子の構成を示す図である。
子の構成を示す図である。
【図６】本発明による定点検出装置の第２の例の電気処
理回路の構成例を示す図である。
理回路の構成例を示す図である。
【図７】本発明による定点検出装置の第３の例の構成を
示す図である。
示す図である。
【図８】本発明による定点検出装置の第４の例の構成を
示す図である。
示す図である。
【図９】本発明による定点検出装置の第４の例の光屈折
器の構成例を示す図である。
器の構成例を示す図である。
【図１０】本発明による定点検出装置の第５の例の構成
を示す図である。
を示す図である。
【図１１】本発明による定点検出装置の第６の例の構成
を示す図である。
を示す図である。
【図１２】本発明による定点検出装置の第６の例の電気
処理回路の構成例を示す図である。
処理回路の構成例を示す図である。
【図１３】本発明による定点検出装置の第７の例の構成
を示す図である。
を示す図である。
【図１４】本発明による定点検出装置の第７の例の電気
処理回路の構成例を示す図である。
処理回路の構成例を示す図である。
【図１５】本発明による定点検出装置の第７の例の光強
度曲線及び光強度差曲線を示す図である。
度曲線及び光強度差曲線を示す図である。
【図１６】本発明による定点検出装置の第７の例の機能
を説明する説明図である。
を説明する説明図である。
【図１７】本発明による定点検出装置をリニアエンコー
ダに使用した場合を説明する説明図である。
ダに使用した場合を説明する説明図である。
【図１８】従来の定点検出装置の第１の例の構成を示す
図である。
図である。
【図１９】従来の定点検出装置の第１の例の回折格子を
示す図である。
示す図である。
【図２０】従来の定点検出装置の第２の例の主要部を示
す図である。
す図である。
【図２１】従来の定点検出装置による光強度差曲線を示
す図である。
す図である。
【図２２】従来の定点検出装置の第３の例の構成を示す
図である。
図である。
【図２３】従来の定点検出装置の第３の例の回折格子の
構成を示す図である。
構成を示す図である。
【図２４】従来の定点検出装置の第３の例の主要部を示
す図である。
す図である。
【図２５】従来の定点検出装置の第３の例の電気処理回
路の構成例を示す図である。
路の構成例を示す図である。
【図２６】従来の定点検出装置の第３の例の光強度曲線
及び光強度差曲線を示す図である。
及び光強度差曲線を示す図である。
【図２７】従来の定点検出装置による誤差の説明する説
明図である。
明図である。
１Ａ、１Ｂ ＋１次回折光
１０ 固定部
１１ 光学系
１２ 光源
１３ コリメータレンズ
１４、１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃ 集光レンズ
２１ 検出系
２２、２３ 受光器
２２Ａ、２２Ｂ、２３Ａ、２３Ｂ、２４Ａ、２４Ｂ、２
５Ａ、２５Ｂ 受光器 ２９ 電気処理回路 ２９−１Ａ、２９−１Ｂ 電流電圧変換器 ２９−２ 差動増幅器 ２９−３ 比較器 ３１ 基板 ３２、３３、３４、３５ 回折格子 ３９ 反射板 ４１ 基板 ４１Ａ 上面 ４２、４３ 分布面 ６１Ａ、６１Ｂ、６２Ａ、６２Ｂ、６３Ａ、６３Ｂ、６
３Ａ、６４Ｂ、６５Ａ、６５Ｂ 光屈折器 ６９Ａ 回折格子 ６９Ｂ プリズムレンズ ７１ レール ７３ ステージ ７３Ａ 上面 ７５ 被検物体 ７７Ａ、７７Ｂ 回折格子板 ８０ 電気処理回路 ８０−１Ａ、８０−１Ｂ 電流電圧変換器 ８０−２ 差動増幅器 ８１ 加算器 ８３ 比較器 １０１ ガイド １０２ 移動部材 １０３ 被検物体 １０４ マーク １０４Ａ、１０４Ｂ 部分、回折格子 １０５ 装置本体 １０６ 対物レンズ １０７ 接眼レンズ １０８ レーザ発生器 １０９Ａ 入射光 １０９Ｂ、１０９Ｂ’ 回折光 １１０ ポジションセンサ １１０Ａ、１１０Ｂ フォトディテクタ １１１ 演算回路 １１２ 表示装置 １３５ 中心面、境界
５Ａ、２５Ｂ 受光器 ２９ 電気処理回路 ２９−１Ａ、２９−１Ｂ 電流電圧変換器 ２９−２ 差動増幅器 ２９−３ 比較器 ３１ 基板 ３２、３３、３４、３５ 回折格子 ３９ 反射板 ４１ 基板 ４１Ａ 上面 ４２、４３ 分布面 ６１Ａ、６１Ｂ、６２Ａ、６２Ｂ、６３Ａ、６３Ｂ、６
３Ａ、６４Ｂ、６５Ａ、６５Ｂ 光屈折器 ６９Ａ 回折格子 ６９Ｂ プリズムレンズ ７１ レール ７３ ステージ ７３Ａ 上面 ７５ 被検物体 ７７Ａ、７７Ｂ 回折格子板 ８０ 電気処理回路 ８０−１Ａ、８０−１Ｂ 電流電圧変換器 ８０−２ 差動増幅器 ８１ 加算器 ８３ 比較器 １０１ ガイド １０２ 移動部材 １０３ 被検物体 １０４ マーク １０４Ａ、１０４Ｂ 部分、回折格子 １０５ 装置本体 １０６ 対物レンズ １０７ 接眼レンズ １０８ レーザ発生器 １０９Ａ 入射光 １０９Ｂ、１０９Ｂ’ 回折光 １１０ ポジションセンサ １１０Ａ、１１０Ｂ フォトディテクタ １１１ 演算回路 １１２ 表示装置 １３５ 中心面、境界
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G01B 11/00 - 11/30
Claims (5)
- 【請求項１】 隣接して配置された第１及び第２の回折
格子と該２つの回折格子に光を出力する光源と上記第１
の回折格子によって生成された正負の１次回折光をそれ
ぞれ検出する第１の対の受光器と上記第２の回折格子に
よって生成された正負の１次回折光をそれぞれ検出する
第２の対の受光器とを有し、 上記２つの回折格子の格子ベクトルは互いに異なる方向
を向いており、上記第１の回折格子によって生成される
正負の１次回折光を含む面は上記第２の回折格子によっ
て生成される正負の１次回折光を含む面と平行とならな
いように構成され、上記２つの回折格子による正負の同
次回折の回折角の絶対値は等しく且つ測定軸に沿って変
化しないように構成され、 上記２つ回折格子を上記光源及び受光器に対して相対的
に測定方向に沿って移動させるとき、上記第１の対の受
光器の出力信号の和と上記第２の対の受光器の出力信号
の和が等しくなる点を求めることによって定点を得るよ
うに構成されている定点検出装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の定点検出装置において、 上記第１の回折格子の格子ベクトルは上記測定方向に垂
直な第１の面内にあり、上記第２の回折格子の格子ベク
トルは上記測定方向に平行で且つ上記第１の面に垂直な
第２の面内にあるように構成されていることを特徴とす
る定点検出装置。 - 【請求項３】 請求項１記載の定点検出装置において、 上記２つの回折格子に隣接して配置された第３及び第４
の回折格子と、上記第３の回折格子によって生成された
正負の１次回折光をそれぞれ検出する第３の対の受光器
と上記第４の回折格子によって生成された正負の１次回
折光をそれぞれ検出する第４の対の受光器とを有し、 上記４つの回折格子の格子ベクトルは互いに異なる方向
を向いており、上記第１、第２、第３及び第４の回折格
子によって生成される正負の１次回折光を含む面は互い
に平行とならないように構成され、 上記４つ回折格子を上記光源及び受光器に対して相対的
に測定方向に沿って移動させるとき、上記第１の対の受
光器の出力信号の和と上記第２の対の受光器の出力信号
の和との差と上記第３の対の受光器の出力信号の和と上
記第４の対の受光器の出力信号の和との差を求め、該２
つの差が等しくなる点を求めることによって定点を得る
ように構成されている定点検出装置。 - 【請求項４】 請求項１、２又は３記載の定点検出装置
において、 上記回折格子は反射型であり、上記受光器は上記回折格
子に関して上記光源と同じ側に配置されていることを特
徴とする定点検出装置。 - 【請求項５】 検出すべき定点の両側に対称的に配置さ
れた２つの回折格子板とそれに対応した２つの定点検出
部とを有し、上記２つの回折格子板の各々は互いに隣接
して配置された１対の回折格子を有し、上記定点検出部
の各々は上記１対の回折格子に光を出力する光源と上記
回折格子によって回折された光をそれぞれ検出する受光
器とを有し、上記２つの回折格子を上記２つの定点検出
部に対して相対的に移動させるとき、上記２つの定点検
出部の受光器によって検出される光強度信号によって定
点を検出するように構成された定点検出装置において、 上記定点検出部の各々の受光器は上記１対の回折格子の
一方による正負の１次回折光を検出する第１の対の受光
器と上記１対の回折格子の他方による正負の１次回折光
を検出する第２の対の受光器とを含み、上記第１の対の
受光器の出力信号の和と上記第２の対の受光器の出力信
号の和が等しくなる点を求めることによって定点を求め
るように構成されていることを特徴とする定点検出装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6422494A JP3428129B2 (ja) | 1994-03-31 | 1994-03-31 | 定点検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6422494A JP3428129B2 (ja) | 1994-03-31 | 1994-03-31 | 定点検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07270723A JPH07270723A (ja) | 1995-10-20 |
| JP3428129B2 true JP3428129B2 (ja) | 2003-07-22 |
Family
ID=13251926
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6422494A Expired - Lifetime JP3428129B2 (ja) | 1994-03-31 | 1994-03-31 | 定点検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3428129B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2023095A3 (en) * | 2007-07-24 | 2013-12-25 | Magnescale Co., Ltd. | Fixed-point detector and displacement-measuring apparatus |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7577076B2 (en) | 2003-03-14 | 2009-08-18 | Ricoh Company, Ltd. | Tilt sensor using diffraction grating |
| GB0404829D0 (en) * | 2004-03-04 | 2004-04-07 | Renishaw Plc | Optical readhead |
| KR102255150B1 (ko) * | 2018-08-22 | 2021-05-24 | 주식회사 엘지화학 | 회절 도광판 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 |
| CN111091850A (zh) * | 2019-12-31 | 2020-05-01 | 广东紫晶信息存储技术股份有限公司 | 一种盘式全息存储介质中增加存储容量的复用方法 |
-
1994
- 1994-03-31 JP JP6422494A patent/JP3428129B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2023095A3 (en) * | 2007-07-24 | 2013-12-25 | Magnescale Co., Ltd. | Fixed-point detector and displacement-measuring apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07270723A (ja) | 1995-10-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0146244B1 (en) | Optical instrument for measuring displacement | |
| US7561280B2 (en) | Displacement measurement sensor head and system having measurement sub-beams comprising zeroth order and first order diffraction components | |
| US7502127B2 (en) | Sensor device and stage device | |
| KR100363034B1 (ko) | 격자-격자간섭계정렬장치 | |
| WO2020216325A1 (zh) | 位移测量装置、位移测量方法及光刻设备 | |
| US4955718A (en) | Photoelectric measuring system with integrated optical circuit including and illuminating system | |
| US8243279B2 (en) | Displacement measurement apparatus | |
| US5127733A (en) | Integrated optical precision measuring device | |
| CN113701640B (zh) | 一种三轴光栅尺 | |
| JP3395339B2 (ja) | 定点検出装置 | |
| EP0682230A2 (en) | Apparatus for measuring displacement for object using diffraction grating | |
| US5196711A (en) | Deviation measuring device including a mask having a grating pattern and a zone plate pattern | |
| JPH0652170B2 (ja) | 光結像式非接触位置測定装置 | |
| JP3428129B2 (ja) | 定点検出装置 | |
| US4113388A (en) | Optical apparatus for determining relative positioning of two members | |
| JP3358286B2 (ja) | 定点検出装置 | |
| JP3384097B2 (ja) | 定点検出装置 | |
| JP3387196B2 (ja) | 定点検出装置 | |
| JP2827251B2 (ja) | 位置検出装置 | |
| JP2827250B2 (ja) | 位置検出装置 | |
| JPH0799325B2 (ja) | 微小変位測定方法および微小変位測定装置 | |
| JP2677662B2 (ja) | 相対位置合せ方法および装置 | |
| JPH07122566B2 (ja) | 光学式変位測定装置 | |
| JP2723502B2 (ja) | 位置決め方法 | |
| JPH021512A (ja) | 間隔測定装置及び間隔測定方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
| R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 5 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080516 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080516 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090516 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090516 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 7 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100516 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 7 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100516 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110516 Year of fee payment: 8 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110516 Year of fee payment: 8 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 8 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110516 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110516 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 9 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120516 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 10 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130516 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |