JP3427241B2 - Sticking structure of pellicle to photomask - Google Patents
Sticking structure of pellicle to photomaskInfo
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ペリクルを粘着剤
層を介してフォトマスクに貼着してある貼着構造におい
て、使用済みのペリクルをフォトマスクから容易に除去
（取りはずし）することを可能としたペリクルのフォト
マスクへの貼着構造に関する。TECHNICAL FIELD The present invention makes it possible to easily remove (remove) a used pellicle from a photomask in an attachment structure in which the pellicle is attached to the photomask via an adhesive layer. And a structure for attaching a pellicle to a photomask.
【０００２】[0002]
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年、
半導体デバイス及び液晶用デバイスは、高密度化、高集
積化され、それに伴ってパターンの微細化が進行してい
る。その結果、このリソグラフィー工程で用いられるフ
ォトマスク又はレチクルにはますます高レベルの清浄性
が要求され、微細な異物（ゴミ）も転写パターンの欠陥
になるおそれがあり、フォトマスクやレチクルにペリク
ルを装着して異物の付着を防止することが広く行われて
いる。2. Description of the Related Art In recent years,
2. Description of the Related Art Semiconductor devices and liquid crystal devices have been highly densified and highly integrated, and accordingly, patterns have been miniaturized. As a result, the photomask or reticle used in this lithography process is required to have an even higher level of cleanliness, and even fine foreign particles (dust) may cause defects in the transfer pattern. It is widely used to prevent foreign substances from being attached by mounting.
【０００３】ペリクルは高さが５ｍｍ程度の金属フレー
ムの片面に透明な薄膜（ペリクル膜）を張設したもの
で、これをフォトマスクに装着すると、透明薄膜とフォ
トマスク面との距離だけ露光時の焦点がずれるので、透
明薄膜上に比較的大きな異物が付着してもレジスト上に
異物が転写されないという効果がある。A pellicle has a transparent thin film (pellicle film) stretched on one side of a metal frame having a height of about 5 mm. When this is mounted on a photomask, only the distance between the transparent thin film and the photomask surface is exposed. Since the focal point is deviated, the foreign matter is not transferred onto the resist even if a relatively large foreign matter adheres to the transparent thin film.
【０００４】このペリクルはペリクル膜が張設されてい
ない方の端面に粘着剤層を形成し、この粘着剤層を介し
てフォトマスクに貼り付け、使用するものであるが、ペ
リクル使用後において、ペリクル膜の汚れがひどくなっ
たり、ペリクル膜が破損したり等した場合は、ペリクル
をフォトマスクから除去する（取り去る）必要がある。This pellicle is used by forming a pressure-sensitive adhesive layer on the end surface on which the pellicle film is not stretched, and sticking it to a photomask via this pressure-sensitive adhesive layer. When the pellicle film becomes heavily soiled or the pellicle film is damaged, the pellicle needs to be removed (removed) from the photomask.
【０００５】従来、フォトマスクよりペリクルを除去す
る方法としては、フレームの側面に設けた治具用くぼみ
に剥離用治具のピンを差し込み、治具を傾けて、てこの
原理で剥離する方法、フォトマスクとペリクルとの間に
くさび状の治具を差し込んでペリクルをフォトマスクか
ら剥離する方法、ペリクルの周囲に溶剤を流してペリク
ルの粘着剤層を膨潤させて粘着力を低下させた後、くさ
び状の治具を用いてペリクルをフォトマスクから剥離す
る方法が採用されている。Conventionally, as a method of removing the pellicle from the photomask, a pin of a peeling jig is inserted into a jig recess provided on the side surface of the frame, the jig is tilted, and peeling is performed by the lever principle. A method of inserting a wedge-shaped jig between the photomask and the pellicle and peeling the pellicle from the photomask, after flowing a solvent around the pellicle to swell the adhesive layer of the pellicle and reduce the adhesive strength, A method of peeling the pellicle from the photomask using a wedge-shaped jig is adopted.
【０００６】しかし、これらの方法はフォトマスク自身
に傷が付き易く、またフォトマスク自身が汚染されて洗
浄等の後処理に多大の労力を要するという問題がある。However, these methods have a problem that the photomask itself is easily scratched, and the photomask itself is contaminated, and a great deal of labor is required for post-processing such as cleaning.
【０００７】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、フォトマスクからペリクルを容易に、しかもフォト
マスク自身を傷付けたり汚染したりすることなく除去す
ることが可能なペリクルのフォトマスクへの貼着構造を
提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances. A pellicle that can be easily removed from a photomask without damaging or contaminating the photomask itself is attached to the photomask. The purpose is to provide a wearing structure.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するため、ペリクルフレームの一端面にペリクル膜を
張設したペリクルの上記フレーム他端面を粘着剤層を介
してフォトマスクに貼着してなるペリクルのフォトマス
クへの貼着構造において、上記粘着剤層に外方に突出す
る粘着剤層抜き取り用把持部を突設したことを特徴とす
るペリクルのフォトマスクへの貼着構造を提供する。In order to achieve the above object, the present invention attaches the other end surface of a pellicle having a pellicle film stretched to one end surface of a pellicle frame to a photomask via an adhesive layer. In the sticking structure of the pellicle to the photomask, the sticking structure of the pellicle to the photomask is characterized in that the gripping portion for sticking out the adhesive layer protruding outward is provided on the adhesive layer. provide.
【０００９】この場合、上記把持部は上記粘着剤層と同
材質によりこの粘着剤と一体に形成することが好まし
い。また粘着剤層の材質としては、シリコーン粘着剤を
用いることが好ましい。シリコーン粘着剤は、一般的な
粘着剤であるアクリル系粘着剤やゴム系粘着剤に比べ
て、引き伸ばしても切断しにくく、更にフォトマスクか
ら粘着剤を剥離した後にフォトマスクに粘着剤の残留物
が残りにくいという特徴がある。In this case, it is preferable that the grip portion is made of the same material as the pressure-sensitive adhesive layer and formed integrally with the pressure-sensitive adhesive. Further, it is preferable to use a silicone adhesive as the material of the adhesive layer. Silicone adhesives are more difficult to cut when stretched than general acrylic adhesives and rubber adhesives, and the adhesive residue remains on the photomask after the adhesive is peeled off from the photomask. Is difficult to remain.
【００１０】本発明によれば、ペリクルを除去する場
合、上記把持部を手、ピンセット、ペンチなどで把みこ
れを引張ることにより、粘着剤層がペリクル、フォトマ
スク間から連続的に引き出され、抜き取り、剥離するも
ので、これによりフォトマスクからペリクルが容易に分
離除去される。According to the present invention, when the pellicle is removed, the pressure-sensitive adhesive layer is continuously pulled out from between the pellicle and the photomask by grasping the grip portion with a hand, tweezers, pliers or the like and pulling the grip portion. The pellicle is extracted and peeled off, whereby the pellicle can be easily separated and removed from the photomask.
【００１１】このように、本発明においては、粘着剤層
を把持部から引き出し、抜き取るように剥離するので、
フォトマスクを傷付けたり、汚したりすることなく簡単
かつ確実にフォトマスクからペリクルを除去することが
できる。As described above, according to the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer is pulled out from the gripping portion and peeled off so as to be removed.
The pellicle can be easily and surely removed from the photomask without damaging or contaminating the photomask.
【００１２】[0012]
【発明の実施の形態及び実施例】以下、本発明の一実施
例につき図面を参照して説明すると、本発明におけるペ
リクルのフォトマスクへの貼着構造は、ペリクルフレー
ム２の一端面にペリクル膜３が張設され、他端面に粘着
剤層４が形成されたペリクル１の上記粘着剤層４の粘着
力でフォトマスク５に貼着されたものであり、この場
合、本発明においては、上記粘着剤層４に粘着剤層抜き
取り用把持部６を外方に突出した状態で突設したもので
ある。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The structure for adhering a pellicle to a photomask according to the present invention has a pellicle film on one end surface of a pellicle frame 2. 3 is attached to the photomask 5 by the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer 4 of the pellicle 1 having the pressure-sensitive adhesive layer 4 formed on the other end surface. In this case, in the present invention, An adhesive layer withdrawing grip portion 6 is provided on the adhesive layer 4 so as to project outward.
【００１３】ここで、ペリクルフレームの材質としては
一般にアルミニウムが用いられ、フォトマスクの材質と
しては一般に合成石英等のガラスが用いられる。また粘
着剤層の材質としては、シリコーン粘着剤が引き出し性
も良好で途中で切断が発生しにくいために好ましい。な
お、粘着剤層の粘着力は上記ペリクルフレームに対して
５〜１０ｋｇ／ｃｍ2で、上記フォトマスクに対して１
〜３ｋｇ／ｃｍ2が好適である。ペリクルフレームに対
する粘着剤層の粘着力が、フォトマスクに対する粘着力
より低くなると、ペリクルを剥離した際、粘着剤層がフ
ォトマスクに残存するので好ましくない。Here, aluminum is generally used as the material of the pellicle frame, and glass such as synthetic quartz is generally used as the material of the photomask. As a material for the pressure-sensitive adhesive layer, a silicone pressure-sensitive adhesive is preferable because it has good withdrawability and does not easily break during the process. The adhesive force of the adhesive layer is 5 to 10 kg / cm 2 with respect to the pellicle frame and 1 with respect to the photomask.
~ 3 kg / cm 2 is preferred. If the adhesive force of the adhesive layer to the pellicle frame is lower than the adhesive force to the photomask, the adhesive layer remains on the photomask when the pellicle is peeled off, which is not preferable.
【００１４】上記把持部は、上記粘着剤層に突設される
が、この把持部は手、ピンセット、ペンチなどの工具を
用いて把むものであり、そのサイズはかかる把持効果を
有する限り特に制限されないが、ペリクル収納容器のス
ペース、レチクルに貼り付けた後の大きさ、更に粘着剤
層抜き取り時の強度を考慮すると、幅２〜５ｍｍ、長さ
２〜５ｍｍ、厚さ０．５〜１ｍｍ程度とすることが好ま
しく、またその形状は四角形状が強度の点から好まし
い。The gripping part is provided so as to project from the pressure-sensitive adhesive layer, and the gripping part is gripped by using a tool such as a hand, tweezers or pliers, and its size is not particularly limited as long as it has such a gripping effect. However, considering the space of the pellicle storage container, the size after being attached to the reticle, and the strength when removing the adhesive layer, the width is 2 to 5 mm, the length is 2 to 5 mm, and the thickness is about 0.5 to 1 mm. It is preferable that the shape is quadrilateral, and a square shape is preferable from the viewpoint of strength.
【００１５】上記把持部の形成場所に特に制限はない
が、収納時や使用時のスペースなどの点から粘着剤層の
コーナー部が好ましく、またその形成個数も限定されな
いが、通常は１個で十分である。Although there is no particular limitation on the place where the grip portion is formed, the corner portion of the pressure-sensitive adhesive layer is preferable from the viewpoints of space during storage and use, and the number of formed portions is not limited, but it is usually one. It is enough.
【００１６】上記把持部の材質は、粘着剤層のそれと異
なっていても良いが、粘着剤層と同じ材質にすれば、製
造も容易でかつ粘着剤層との接着力も高く、特に粘着剤
層と一体に突設形成することがかかる点から推奨され
る。即ち、把持部は、粘着剤層と別個に作成し、その後
この把持部を粘着剤層に接合するようにしてもよいが、
粘着剤層の形成時に把持部も同時に成形することが好ま
しいものである。The material of the grip portion may be different from that of the pressure-sensitive adhesive layer, but if the same material as that of the pressure-sensitive adhesive layer is used, the production is easy and the adhesive strength with the pressure-sensitive adhesive layer is high. It is recommended to form the protrusion integrally with the above. That is, the grip portion may be formed separately from the adhesive layer, and then the grip portion may be bonded to the adhesive layer.
It is preferable that the grip portion is also formed at the same time when the pressure-sensitive adhesive layer is formed.
【００１７】上記のようにペリクルがフォトマスクに貼
着された状態において、ペリクルを除去する場合は、上
記把持部を手やピンセット、ペンチ等の適宜な工具で把
んでこれを粘着剤層のペリクル、フォトマスクへの粘着
力より大きい力で外方に引張るもので、これにより粘着
剤層は連続的にペリクル、フォトマスクから剥離して引
き出され、やがて完全に引き出されてフォトマスクとペ
リクルとが容易に分離するものである。この場合、シリ
コーン粘着剤を用いることにより、粘着剤残りもなく、
スムーズに粘着剤層が抜き取られる。なお万一、粘着剤
層がその引き出し時に破断した場合、破断端部を把持部
として引き出しを続ければよい。When the pellicle is attached to the photomask as described above, when the pellicle is to be removed, the gripping portion is grasped by an appropriate tool such as a hand, tweezers or pliers, and the pellicle is used as an adhesive layer pellicle. , It is pulled outward with a force larger than the adhesive force to the photomask, whereby the adhesive layer is continuously peeled off from the pellicle and the photomask and pulled out, and eventually the photomask and the pellicle are completely pulled out. It is easy to separate. In this case, by using a silicone adhesive, there is no adhesive remaining,
The adhesive layer is pulled out smoothly. If the pressure-sensitive adhesive layer breaks at the time of pulling it out, it is sufficient to continue pulling it out by using the broken end portion as a grip portion.
【００１８】次に実験例を示す。Next, an experimental example will be shown.
【００１９】〔実験例〕ペリクルフレームとして、外寸
が１２２ｍｍ×１４９ｍｍで、幅２．０ｍｍ、高さ５．
８ｍｍの四角形アルミフレームを用いた。このペリクル
フレームの一端面に、ペリクル膜を形成すると共に、他
端面にシリコーン粘着剤（信越化学社製）の０．５ｍｍ
の層を形成し、かつこのコーナー部に幅２．０ｍｍ、長
さ４．０ｍｍ、厚さ０．５ｍｍの同シリコーン粘着剤よ
りなる把持部を一体に形成した。Experimental Example As a pellicle frame, the outer dimensions are 122 mm × 149 mm, the width is 2.0 mm, and the height is 5.
An 8 mm square aluminum frame was used. A pellicle film is formed on one end surface of this pellicle frame, and 0.5 mm of silicone adhesive (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is formed on the other end surface.
And a gripping part made of the same silicone adhesive having a width of 2.0 mm, a length of 4.0 mm and a thickness of 0.5 mm was integrally formed at this corner.
【００２０】次にこのペリクルを合成石英製フォトマス
クに１５ｋｇ荷重で３分間圧着して貼り付けた。この場
合、シリコーン粘着剤のペリクルフレームに対する粘着
力は６ｋｇ／ｃｍ2であり、フォトマスクへの粘着力は
２ｋｇ／ｃｍ2であった。Next, this pellicle was attached to a synthetic quartz photomask by pressing under a load of 15 kg for 3 minutes. In this case, the adhesive force of the silicone adhesive to the pellicle frame was 6 kg / cm 2 , and the adhesive force to the photomask was 2 kg / cm 2 .
【００２１】このようにフォトマスクに貼着されたペリ
クルをフォトマスクから除去するため、把持部をピンセ
ットで把み、外方に引張って、粘着剤を引き出した。そ
の結果、粘着剤層を途中で破断することなく容易にペリ
クルとフォトマスクとの間から抜き出すことができ、フ
ォトマスクを傷付けたり、汚染したりすることなくフォ
トマスクよりペリクルを除去することができた。In order to remove the pellicle attached to the photomask in this manner from the photomask, the gripping portion was grasped with tweezers and pulled outward to pull out the adhesive. As a result, the adhesive layer can be easily extracted from between the pellicle and the photomask without breaking in the middle, and the pellicle can be removed from the photomask without damaging or contaminating the photomask. It was
【００２２】[0022]
【発明の効果】本発明によれば、ペリクルをフォトマス
クからフォトマスクを傷付けたり汚染することなく容易
に除去することができる。According to the present invention, the pellicle can be easily removed from the photomask without damaging or contaminating the photomask.
【図１】本発明の一実施例を示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of the present invention.
１ ペリクル ２ ペリクルフレーム ３ ペリクル膜 ４ 粘着剤層 ５ フォトマスク ６ 把持部 1 pellicle 2 pellicle frame 3 Pellicle membrane 4 Adhesive layer 5 photo mask 6 grip
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G03F 1/00 - 1/16 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G03F 1/00-1/16
Claims (3)
を張設したペリクルの上記フレーム他端面を粘着剤層を
介してフォトマスクに貼着してなるペリクルのフォトマ
スクへの貼着構造において、上記粘着剤層に外方に突出
する粘着剤層抜き取り用把持部を突設したことを特徴と
するペリクルのフォトマスクへの貼着構造。1. A sticking structure to a photomask of a pellicle, wherein the other end surface of the pellicle having a pellicle film stretched on one end surface of the pellicle frame is stuck to the photomask via an adhesive layer. A structure for adhering a pellicle to a photomask, characterized in that an adhesive layer extracting grip portion protruding outward is provided on the adhesive layer.
りこの粘着剤層と一体に形成された請求項１記載の貼着
構造。2. The adhesive structure according to claim 1, wherein the grip portion is formed integrally with the adhesive layer by using the same material as the adhesive layer.
された請求項１又は２記載の貼着構造。3. The adhesive structure according to claim 1, wherein the adhesive layer is formed of a silicone adhesive.
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|---|---|---|---|
| JP22858095A JP3427241B2 (en) | 1995-08-14 | 1995-08-14 | Sticking structure of pellicle to photomask |
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|---|---|---|---|
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Publications (2)
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|---|---|
| JPH0954424A JPH0954424A (en) | 1997-02-25 |
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| Country | Link |
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Families Citing this family (2)
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|---|---|---|---|---|
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1995
- 1995-08-14 JP JP22858095A patent/JP3427241B2/en not_active Expired - Fee Related
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