JP3421902B2 - ジメチルエーテルの製造方法 - Google Patents

ジメチルエーテルの製造方法

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JP3421902B2
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    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、一酸化炭素と水素
および水蒸気のいずれか一方または両方が含まれる混合
ガス、あるいはこれにさらに二酸化炭素が含まれる混合
ガスからジメチルエーテルを製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
(ジメチルエーテルの用途)ジメチルエーテルは、低毒
性で安定であり、フロンに代わる噴射剤(プロペラン
ト)、合成ガソリンの中間原料、LPGの代替燃料及び
ディーゼル機関の燃料などの用途がある。これらの用途
に用いる場合、高純度のジメチルエーテルが求められる
ので、製造プロセスのうちの精製プロセスの簡略化のた
めに、高選択率の反応でジメチルエーテルを合成するこ
とが望まれる。さらに、原料原単位の低減のためにも高
選択率の反応が望まれる。
【0003】(ジメチルエーテル合成)一酸化炭素、二
酸化炭素および水素の混合ガスからジメチルエーテルを
製造する方法は、以下に述べるように二段法と一段法が
ある。
【0004】(二段法)現在行われているジメチルエー
テルの工業的製造方法は二段法であり、これは先ず一段
目の反応としてCO/H2の合成ガスからメタノールを
合成し、次いで二段目としてこのメタノールの脱水反応
でジメチルエーテルを製造するものである。
【0005】(一段法)一方、最近になってCO/H2
から一段でジメチルエーテルを合成する技術の開発が行
われている。
【0006】特公昭54−32764号公報 触媒:アルミナに亜鉛およびクロムを担持したメタノー
ル脱水触媒を混合。 反応器型式:反応器に充填、あるいはこれらの触媒を交
互に層状にして反応器に充填し、これに一酸化炭素、二
酸化炭素および水素の混合ガスを供給して、ジメチルエ
ーテルを製造する方法が記載されている。
【0007】特公昭61−43332号公報 触媒:銅、亜鉛、クロムおよびアルミニウムの酸化物の
混合物を熱、高温水蒸気および機械的応力に耐えるよう
に、テトラエチルオルトシリケートなどのケイ素化合物
で処理し、その後成型した触媒。
【0008】特開平3−181453号公報 反応器型式:一酸化炭素と水素の混合ガス、あるいはこ
れに更に二酸化炭素および/または水蒸気が含まれる混
合ガスからジメチルエーテルを製造する方法において、
触媒を溶媒に懸濁してスラリー状態で使用する。
【0009】特表平5−810069(WO 93/1
0069)号公報 触媒:メタノール合成触媒、メタノール脱水触媒および
水性ガスシフト触媒を共粉砕した後、加圧密着させ、そ
の後再度粉砕した触媒。 反応器型式:一酸化炭素と水素および水蒸気のいずれか
一方または両方が含まれる混合ガス、あるいはこれにさ
らに二酸化炭素が含まれる混合ガスからジメチルエーテ
ルを製造する方法において、前記触媒を溶媒に懸濁して
スラリー状態で使用する。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】ジメチルエーテル合成
の困難性は高いCO転化率と高いジメチルエーテル選択
率の両方の達成にある。すなわち、二段法では反応中間
体であるメタノールを合成するもので、後述する様に、
平衡的に不利であり、CO転化率が大きくできないメタ
ノール合成反応を原料製造に用いるため、原料価格が高
くなり、一方、一段法ではジメチルエーテル選択率が低
いという問題があった。これらはジメチルエーテルの製
造コスト上大きな問題であり、特に、ジメチルエーテル
の選択率が低いとその後の分離精製工程に大きな負担が
かかるため、安価に大量生産される必要があるジメチル
エーテルにとっては極めて大きな問題になっていた。
【0011】本発明は、メタノール合成触媒、脱水触媒
を混合して用いる一段合成の高い原料ガスの転化率を維
持しつつ、そのジメチルエーテル選択率が低いことを解
決できるジメチルエーテルの製造方法を提供することを
目的としている。
【0012】
【課題を解決するための手段】ジメチルエーテルの合成
反応は、下記に示す3つの平衡反応により進行する。 CO+2H2 ⇔ CH3OH (1) (メタノール合成反応) 2CH3OH ⇔ CH3OCH3+H2O (2) (脱水反応) H2O+CO ⇔ H2+CO2 (3) (シフト反応)
【0013】反応(1)を単独で行う場合、これはいわゆ
るメタノール合成反応であり、これは平衡的な制約があ
り、所望の転化率を得るためには高圧の条件(80〜1
20kg/cm2)が必要となる。しかし、一段法では平
衡的に著しく有利な反応(2)が同一の反応器で続いて起
きることにより反応生成物のメタノールが消費されるの
で、(1)の不利な反応平衡が補われる。このことより、
従来のメタノール合成の場合に比べ、ジメチルエーテル
合成ははるかに容易である。即ち、これは一段法によっ
てCO/H2の転化率を向上させられるということを意
味する。
【0014】この反応の反応後の組成物は、未反応のC
O、H2、反応生成物のメタノール、ジメチルエーテ
ル、CO2およびアルカンなどの微量の副生物からな
る。これらの組成は、主に前記(1)〜(3)のそれぞれの
反応速度および平衡に支配されるので、一段法では目的
とする生成物のみの比率を高めることは困難である。特
に反応中間体であるメタノールの残存が避けられない。
【0015】メタノール合成触媒/脱水触媒/シフト触
媒の比率を変化させることにより、各反応の反応速度を
制御できる。このことで、反応生成物の組成は制御でき
る。しかし、3種類の反応が同時に進行し、3種類の反
応がすべて平衡反応であるため平衡上の制約により、こ
の制御には限界がある。この反応形式によって通常の反
応条件下では、CO2を除く選択率としてジメチルエー
テルの選択率は95%を越えることは極めて困難であ
る。
【0016】このことを、熱力学の平衡計算により説明
する。
【0017】図1に、反応(1)、(2)、および(3)の反
応平衡をもとにした、H2、CO、メタノール、CO2
水の反応平衡組成図を示す。一例として、反応温度30
0℃、反応圧力50気圧、初期のCO/H2比=1の条
件では、反応平衡達成時のジメチルエーテル選択率(出
発物質:CO、炭素モル基準、CO2を除外)は98%
である。しかし、反応平衡の達成は、実際には不可能で
あり反応中間体であるメタノールが残存することにより
ジメチルエーテル選択率はこの数値よりかなり低いもの
となる。また、これにより低温の条件、例えば、反応温
度240℃、反応圧力50気圧、初期のCO/H2比=
1の条件では、反応平衡達成時のジメチルエーテル選択
率は99%とやや大きくなるが、この条件では反応速
度、特にメタノール合成反応(1)の速度が小さく、反応
平衡には全く近づき得ないのが実際である。
【0018】本発明の方法は、一段目の反応で、メタノ
ール合成触媒、脱水触媒または脱水及びシフト触媒を混
合して用いることにより、粗ジメチルエーテルを生成さ
せ、これをさらに二段目の反応で脱水及び/またはシフ
ト触媒を用いることにより、残存メタノールの大部分を
ジメチルエーテルに転化させることにより、最終的にジ
メチルエーテルの選択率を高くするものである。
【0019】すなわち、一段目の反応で、メタノール合
成触媒+脱水触媒+シフト触媒を用いることにより、C
O/H2原料混合ガスの転化率を大きくすることができ
る。また、二段目の反応で、脱水触媒及び/またはシフ
ト触媒を用い、これらの反応に特に適した反応条件を選
択することにより、残存するメタノールの大部分をジメ
チルエーテルに転化させ、ジメチルエーテルの選択率を
大きくできる。
【0020】二段目の反応において、脱水及び/または
シフト触媒のみを用い、メタノール合成触媒を用いない
ようにし、脱水及び/またはシフト反応に特に適した反
応条件と選択すると、脱水及び/またはシフト反応のみ
の反応を進行させ、これらの反応のみを反応平衡に近づ
けることができる。このようなメタノール合成触媒の不
存在下の反応系では、新たにメタノールは生成せず、残
存メタノールはジメチルエーテルに転化し、結果的にジ
メチルエーテルの選択率を大きくすることができる。
【0021】すなわち、本発明は、原料ガスとして一酸
化炭素と水素及び水蒸気のいずれか一方または両方が含
まれる混合ガス、あるいはこれにさらに二酸化炭素が含
まれる混合ガスを用い、該原料ガスを一段目の反応とし
て、メタノール合成触媒、脱水触媒及びシフト触媒を含
む触媒に接触させ、次いで二段目の反応として、脱水触
媒及びシフト触媒の少なくとも一方を含む触媒に接触さ
せることを特徴とするジメチルエーテルの製造方法を提
供するものである。
【0022】
【発明の実施の形態】本発明の一段目で使用される触媒
は公知のメタノール合成触媒、脱水触媒および水性ガス
シフト触媒を組み合わせたものである。メタノール合成
触媒としては、通常工業的にメタノール合成に用いられ
る酸化銅−酸化亜鉛、酸化亜鉛−酸化クロム、酸化銅−
酸化亜鉛/酸化クロム、酸化銅−酸化亜鉛/アルミナ等
がある。脱水触媒としては酸塩基触媒であるγ−アルミ
ナ、シリカ、シリカ・アルミナ、ゼオライトなどがあ
る。ゼオライトの金属酸化物成分としてはナトリウム、
カリウム等のアルカリ金属の酸化物、カルシウム、マグ
ネシウム等のアルカリ土族の酸化物等である。水性ガス
シフト触媒としては酸化銅−酸化亜鉛、酸化銅−酸化ク
ロム−酸化亜鉛、酸化鉄−酸化クロムなどがある。メタ
ノール合成触媒は強いシフト触媒活性を有するので水性
ガスシフト触媒を兼ねることができる。脱水触媒及び水
性ガスシフト触媒を兼ねるものとしてアルミナ担持酸化
銅触媒を用いることができる。
【0023】前述のメタノール合成触媒、脱水触媒およ
び水性ガスシフト触媒の混合割合は、特に限定されるこ
となく各成分の種類あるいは反応条件等に応じて適宜選
定すればよいが、通常は重量比でメタノール合成触媒1
に対して脱水触媒は0.1〜5程度、好ましくは0.2
〜2程度、そして、水性ガスシフト触媒は、0.2〜5
程度、好ましくは0.5〜3程度の範囲が適当であるこ
とが多い。メタノール合成触媒に水性ガスシフト触媒を
兼ねさせた場合には、上記の水性ガスシフト触媒の量は
メタノール合成触媒の量に合算される。
【0024】二段目で使用される触媒は脱水触媒、脱水
シフト触媒及び脱水触媒+シフト触媒である。脱水触媒
には前述のものを使用できる。脱水シフト触媒には脱水
活性とシフト活性を兼ね備える触媒として、γ−アルミ
ナに酸化銅を担持した触媒を用いることができる。
【0025】好ましい触媒としては、一段目の脱水触
媒、シフト触媒及び脱水シフト触媒としてあげたものを
用いることができる。
【0026】上記の両触媒は粉末状態で使用され、平均
粒径が300μm以下、好ましくは1〜200μm程
度、特に好ましくは10〜150μm程度が適当であ
る。そのために必要によりさらに粉砕することができ
る。
【0027】触媒反応器の形式は、一段目及び二段目の
いずれも固定床、懸濁スラリー床のいずれであってもよ
い。触媒は、固定床で用いる場合には公知の方式により
適宜造粒して用いる。一方、スラリー床の場合の溶媒に
は、反応条件下において液体状態を呈するものであれ
ば、そのいずれもが使用可能である。例えば、脂肪族、
芳香族および脂環族の炭化水素、アルコール、エーテ
ル、エステル、ケトンおよびハロゲン化物、これらの化
合物の混合物等を使用できる。また、硫黄分を除去した
軽油、減圧軽油、水素化処理したコールタールの高沸点
留分等も使用できる。溶媒中に存在させる触媒量は溶媒
の種類、反応条件などによって適宜決定されるが、通常
は溶媒に対して1〜50重量%であり、2〜30重量%
程度が好ましい。
【0028】水素と一酸化炭素の混合割合はH2/CO
モル比で20〜0.1、好ましくは10〜0.2の混合
比のものを使用できる。一方、水素と一酸化炭素の割合
(H2/CO比)が著しく小さな(例えば、0.1以下)
混合ガスあるいは水素を含まない一酸化炭素の場合に
は、別途スチームを供給して反応器中でシフト反応(3)
を行わせ一酸化炭素の一部をスチームにより水素と二酸
化炭素に変換することが必要である。水蒸気の供給量は
CO供給量に対して1以下が好ましい。また、反応の結
果生ずる二酸化炭素の量は原料ガス組成として、50%
以下が好適である。
【0029】一段目の反応条件としては、反応温度は1
50〜400℃が好ましく、特に200〜350℃の範
囲が好ましい。反応温度が150℃より低くても、また
400℃より高くても一酸化炭素の転化率が低くなる。
反応圧力は10〜300kg/cm2、特に15〜15
0kg/cm2が好ましい。反応圧力が10kg/cm 2
より低いと一酸化炭素の転化率が低く、また300kg
/cm2より高いと反応器が特殊なものとなり、また昇
圧のために多大なエネルギーが必要であって経済的でな
い。空間速度(触媒1kgあたりの標準状態における混
合ガスの供給速度)は、100〜50000l/kg・
hが好ましく、特に500〜30000l/kg・hで
ある。空間速度が50000l/kg・hより大きいと
一酸化炭素の転化率が低くなり、また100l/kg・
hより小さいと反応器が極端に大きくなって経済的でな
い。
【0030】二段目の反応条件は、一段目と同じ条件を
用いることができる。また、本発明の大きな特長とし
て、別個に二段目の反応を行うため、特に脱水反応(2)
およびシフト反応(3)に好適な反応条件を選択すること
が可能である。即ち、(2)と(3)は、反応平衡の解析
によれば低温が有利であり、また(1)に比べ低温でも容
易に十分な反応速度が得られるため、一段目より低温条
件を用いることが好適である。また、反応圧力は、反応
平衡に影響しないので、低圧力を用いることも可能であ
る。
【0031】具体的な反応条件としては、反応温度は、
常温〜300℃、特に好ましくは100〜300℃であ
る。反応圧力は、常圧〜一段目の反応圧力の範囲が好ま
しい。高圧の条件の方が、容量の小さい反応器を用いる
ことができ、好適である。ただし、一段目の反応圧力よ
り大きい圧力を用いると、新たに昇圧のエネルギーを必
要とするので好ましくない。空間速度は、触媒の活性の
大きさにより決定されるが、通常は100〜50000
l/kg・hが好ましく、特に500〜3000l/k
g・hである。空間速度が50000l/kg・hより
大きいと、反応平衡に十分近づけることができず、ジメ
チルエーテルの選択率を大きくできないので好ましくな
い。
【0032】また、一段目と二段目の触媒量の好ましい
比率は、各触媒の活性の大きさによるが、通常重量比で
(一段目):(二段目)=1:10〜10:1、好まし
くは1:5〜5:1である。
【0033】尚、本明細書におけるCO転化率、ジメチ
ルエーテル選択率、メタノール選択率は次の通りであ
る。
【0034】 反応器に供給したCOガス流量(Nl/分):Fin(CO) 反応器より流出したCOガス流量(Nl/分):Fout(CO) 反応器より流出したDMEガス流量(Nl/分):Fout(DME) 反応器より流出したMeOHガス流量(Nl/分):Fout(MeOH) 反応器より流出したメタンガス流量(Nl/分):Fout(CH4) とすると、
【0035】
【数1】
【0036】
【数2】
【0037】
【数3】
【0038】
【実施例】
実施例1 図1に示す装置を使用した。この装置は懸濁スラリー床
型の一段目の反応器(1)と固定床型の二段目の反応器
(2)が直列に接続されている。一段目の反応器(1)の底
部にはマスフローコントローラー(図のFRCA)で流
量制御されたH2ガスの配管とCOガスの配管が自動圧
力制御弁を介して接続されている。一段目の反応器(1)
の頂部からは二段目の反応器(2)の底部に接続され、二
段目の反応器(2)の頂部からは冷却器(3)を介して気液
分離器(4)に接続されている。気液分離器(4)の気体出
口側はガスメーター(5)を介して排気側に接続され、液
体出口側は製品貯槽(6)へ接続されている。尚、反応器
(2)の出口と冷却器(3)の間にはガスクロマトグラフィ
ーに接続する分岐管が設けられ、この出口ガスの組成を
適宜分析できるようになっている。
【0039】触媒A:CuO−ZnO−Al23触媒 硝酸銅(Cu(NO32・3H2O)185g、硝酸亜
鉛(Zn(NO32・6H2O)117gおよび硝酸ア
ルミニウム(Al(NO3)2・9H2O)52gをイオン
交換水約1lに溶解した水溶液と、炭酸ナトリウム(N
2CO3)約1.4kgをイオン交換水約1lに溶解し
た水溶液とを、約60℃に保温したイオン交換水約3l
の入ったステンレス製容器中に、pHが7.0±0.5
に保持されるように調節しながら、約2時間かけて滴下
した。滴下終了後、そのまま約1時間保持して熟成を行
った。なお、この間にpHが7.0±0.5から外れるよ
うであれば、約1mol/lの炭酸ナトリウム水溶液を
滴下して、pHを7.0±0.5にあわせた。次に、生成
した沈殿をろ過した後、洗浄液に硝酸イオンが検出され
なくなるまでイオン交換水を用いて洗浄した。得られた
ケーキを120℃で24時間乾燥した後、さらに空気中
350℃で5時間焼成して目的の触媒を得た。得られた
触媒の組成はCuO:ZnO:Al23=61:32:
7(重量比)であった。
【0040】触媒B:CuO−Al23触媒 イオン交換水約200mlに酢酸銅(Cu(CH3CO
O)2・H2O)15.7gを溶解し、これにγ−アルミ
ナ(日揮化学製,N612)95gを投入した後、蒸発乾
固した。ついでこのものを空気中450℃で4時間焼成
した。さらに水素気流中、400℃で3時間処理して触
媒を得た。このものの組成はCu:Al23=5:95
(重量比)であった。
【0041】上記の各触媒は、ボールミルで粉砕して1
20μm以下として用いた。
【0042】反応器(1)に熱媒体油としてn−ヘキサデ
カン5584ml、触媒A430g、触媒B215g、
(触媒A/触媒B=2/1、触媒/熱媒体油15/10
0)を仕込んだ。反応器(2)には触媒Bのみを645g
を仕込んだ。
【0043】(予備還元)反応器圧力10kg/c
2、反応器温度220℃で、H2/N2=1/4とし
て、反応器にガスを50l/分の流量で12時間供給
し、予備還元を行った。
【0044】(実施例1〜4)反応系に、H2/CO=
1/1、80l/分として、ガスを流量で流通させた。
反応器(1)において、反応圧力50kg/cm2、反応
温度260℃とし、反応器(2)の反応条件を様々に変化
させ、ジメチルエーテル合成反応を行った。ガス組成の
分析にはガスクロマトグラフトを用い、反応系の出口の
ガス流量はガスメーターを用いて測定し、これによりC
O転化率および各生成物の選択率(炭素モル基準、CO
2を除外した数値として算出)を計算した。その結果を表
1に示す。
【0045】
【表1】 (実施例5〜8)反応系に、H2/CO=1.5/1、6
6.7l/分として、ガスを流量で流通させた。反応器
(1)において、反応圧力50kg/cm2、反応温度2
80℃とし、反応器(2)の反応条件を様々に変化させ、
ジメチルエーテル合成反応を行った。実施例1〜4と同
様の分析により、CO転化率および各生成物の選択率を
計算した。その結果を表2に示す。
【0046】
【表2】
【0047】
【発明の効果】本発明により、一酸化炭素と水素(又は
水蒸気)からジメチルエーテルを高い転化率及び選択率
で得ることができる。その結果、生成物からジメチルエ
ーテルを容易に高い純度で取得でき、ジメチルエーテル
を安価に大量生産することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施例で用いた装置の構成を示すフ
ローシートである。
【図2】 H2、CO、メタノール、CO2、水の反応平
衡組成図を示すグラフである。
【符号の説明】
1:反応器(1) 2:反応器(2) 3:冷却器 4:気液分離器 5:ガスメーター 6:製品貯槽
フロントページの続き (72)発明者 鹿田 勉 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日本鋼管株式会社内 (56)参考文献 特開 平3−52835(JP,A) 特開 昭49−94616(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07C 41/01 C07C 41/09 C07C 43/04

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 原料ガスとして一酸化炭素と水素及び水
    蒸気のいずれか一方または両方が含まれる混合ガス、あ
    るいはこれにさらに二酸化炭素が含まれる混合ガスを用
    い、該原料ガスを一段目の反応として、メタノール合成
    触媒、脱水触媒及びシフト触媒を含む触媒に接触させ、
    次いで二段目の反応として、脱水触媒及びシフト触媒の
    少なくとも一方を含む触媒に接触させることを特徴とす
    るジメチルエーテルの製造方法。
  2. 【請求項2】 二段目の反応の反応温度が一段目の反応
    温度以下である、請求項1のジメチルエーテル製造方
    法。
  3. 【請求項3】 二段目の反応の反応圧力が一段目の反応
    圧力以下である、請求項1のジメチルエーテル製造方
    法。
JP12666996A 1996-04-19 1996-05-22 ジメチルエーテルの製造方法 Expired - Lifetime JP3421902B2 (ja)

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