JP3419951B2 - 錫又は半田光沢めっき浴 - Google Patents
錫又は半田光沢めっき浴Info
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- JP3419951B2 JP3419951B2 JP09319795A JP9319795A JP3419951B2 JP 3419951 B2 JP3419951 B2 JP 3419951B2 JP 09319795 A JP09319795 A JP 09319795A JP 9319795 A JP9319795 A JP 9319795A JP 3419951 B2 JP3419951 B2 JP 3419951B2
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、改良された錫又は半田
光沢電気めっき浴に関する。さらに詳しくは、本発明
は、２価のすず及び鉛の共通可溶性酸としてアルカンス
ルホン酸及び（又は）アルカノールスルホン酸を使用す
る錫又は半田光沢電気めっき浴及びめっき方法に関す
る。
光沢電気めっき浴に関する。さらに詳しくは、本発明
は、２価のすず及び鉛の共通可溶性酸としてアルカンス
ルホン酸及び（又は）アルカノールスルホン酸を使用す
る錫又は半田光沢電気めっき浴及びめっき方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術とその問題点】近年、錫−鉛合金めっきは
ハンダ付け性向上用皮膜及びエッチングレジスト用皮膜
として、弱電工業及び電子工業用部品等に広く利用され
ている。このような錫−鉛合金めっきには従来よりホウ
フッ化物浴が工業的に広く用いられている。しかしなが
ら、ホウフッ化物浴は腐食性、毒性が激しく、めっき設
備及び作業に大きな負担となるばかりでなく、排水処理
が非常に困難であり、かつ、多額の出費を伴い、経済的
損失も多大である。従来のホウフッ化物浴に代えて、公
害対策上問題の少ないアルカンスルホン酸又はアルカノ
ールスルホン酸及びそれらの錫塩及び鉛塩を主体とする
めっき浴を用い、しかもある種の界面活性剤と光沢剤を
併用添加してなる浴を使用することによって、ホウフッ
化物浴に匹敵し、又はそれ以上の性能を有すると共に、
均質で緻密な鏡面光沢を示す錫−鉛合金めっきを与える
めっき浴が出願されている（特公昭５７−２７１８８号
参照。）
ハンダ付け性向上用皮膜及びエッチングレジスト用皮膜
として、弱電工業及び電子工業用部品等に広く利用され
ている。このような錫−鉛合金めっきには従来よりホウ
フッ化物浴が工業的に広く用いられている。しかしなが
ら、ホウフッ化物浴は腐食性、毒性が激しく、めっき設
備及び作業に大きな負担となるばかりでなく、排水処理
が非常に困難であり、かつ、多額の出費を伴い、経済的
損失も多大である。従来のホウフッ化物浴に代えて、公
害対策上問題の少ないアルカンスルホン酸又はアルカノ
ールスルホン酸及びそれらの錫塩及び鉛塩を主体とする
めっき浴を用い、しかもある種の界面活性剤と光沢剤を
併用添加してなる浴を使用することによって、ホウフッ
化物浴に匹敵し、又はそれ以上の性能を有すると共に、
均質で緻密な鏡面光沢を示す錫−鉛合金めっきを与える
めっき浴が出願されている（特公昭５７−２７１８８号
参照。）
【０００３】さらに、従来の光沢錫、鉛又は半田めっき
浴には１−ナフトアルデヒドなどの芳香族アルデヒド、
ベンザルアセトンなどの芳香族ケトン、ホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒドなどの低沸点脂肪族アルデヒド
や、メタクリル酸などの重合しやすい脂肪族不飽和カル
ボン酸が併用添加されている（特開昭５８−４２７８６
号、特開昭６１−２２３１９３号）が、これらの浴は経
時安定性、特に高い浴温での安定性に欠けており、さら
には発泡性が高いために操業しにくく、まためっき物と
めっき浴との境界面が精度良く仕上がらないという欠点
を有する。また、従来の光沢めっき浴は高い浴温におけ
る安定性に欠けるために、２０〜２５℃以下の浴温でめ
っきしなければならない。電気めっきは発熱を伴い、冷
却しなければ自然に３０〜４０℃程度の浴温に上昇して
しまう。そのため、従来の光沢めっき浴は冷却装置と大
量の冷却水とを必要とし、浴の管理に多大の労力を要し
ている。また、従来の光沢めっき浴は、高電流密度領域
の光沢性を高めようとすると低電流密度領域の光沢性が
低下する傾向がある。さらに、めっき浴の温度を高くす
ると電流効率は良くなるが、特に低電流密度での光沢性
が極端に低下し、また中〜低電流密度領域にわたって全
く無光沢になってしまう欠点がある。
浴には１−ナフトアルデヒドなどの芳香族アルデヒド、
ベンザルアセトンなどの芳香族ケトン、ホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒドなどの低沸点脂肪族アルデヒド
や、メタクリル酸などの重合しやすい脂肪族不飽和カル
ボン酸が併用添加されている（特開昭５８−４２７８６
号、特開昭６１−２２３１９３号）が、これらの浴は経
時安定性、特に高い浴温での安定性に欠けており、さら
には発泡性が高いために操業しにくく、まためっき物と
めっき浴との境界面が精度良く仕上がらないという欠点
を有する。また、従来の光沢めっき浴は高い浴温におけ
る安定性に欠けるために、２０〜２５℃以下の浴温でめ
っきしなければならない。電気めっきは発熱を伴い、冷
却しなければ自然に３０〜４０℃程度の浴温に上昇して
しまう。そのため、従来の光沢めっき浴は冷却装置と大
量の冷却水とを必要とし、浴の管理に多大の労力を要し
ている。また、従来の光沢めっき浴は、高電流密度領域
の光沢性を高めようとすると低電流密度領域の光沢性が
低下する傾向がある。さらに、めっき浴の温度を高くす
ると電流効率は良くなるが、特に低電流密度での光沢性
が極端に低下し、また中〜低電流密度領域にわたって全
く無光沢になってしまう欠点がある。
【０００４】さらに、めっき工場においては、環境問題
の観点からめっき洗浄水の外部への排出を抑制すること
が望まれている。そのために、半光沢めっき浴において
既に検討されているような、洗浄槽を含めてめっきライ
ンを高温（３０℃以上）に保持し、洗浄槽の水を蒸発さ
せてリサイクル使用し、めっき排液を工場外に排出しな
いようにすることができる光沢めっき浴の開発が望まれ
ている。しかし、めっき浴の温度を高くすると、めっき
浴の寿命が低下したり、低電流密度領域での光沢性が損
なわれることになる。また、半光沢めっきでは、高い浴
温（３０℃以上）でめっきが実施されているが、光沢め
っきでは光沢剤の安定性、沸点などのために従来は高温
（３０℃以上）でめっきを実施することはできなかっ
た。
の観点からめっき洗浄水の外部への排出を抑制すること
が望まれている。そのために、半光沢めっき浴において
既に検討されているような、洗浄槽を含めてめっきライ
ンを高温（３０℃以上）に保持し、洗浄槽の水を蒸発さ
せてリサイクル使用し、めっき排液を工場外に排出しな
いようにすることができる光沢めっき浴の開発が望まれ
ている。しかし、めっき浴の温度を高くすると、めっき
浴の寿命が低下したり、低電流密度領域での光沢性が損
なわれることになる。また、半光沢めっきでは、高い浴
温（３０℃以上）でめっきが実施されているが、光沢め
っきでは光沢剤の安定性、沸点などのために従来は高温
（３０℃以上）でめっきを実施することはできなかっ
た。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、上
記のような従来技術の種々の問題点を解決することがで
きる錫又は半田光沢めっき浴及びめっき方法を提供する
ことを目的とする。
記のような従来技術の種々の問題点を解決することがで
きる錫又は半田光沢めっき浴及びめっき方法を提供する
ことを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】ここに、これらの従来技
術の問題点が、アルカンスルホン酸及び／又はアルカノ
ールスルホン酸、可溶性錫塩及び（又は）可溶性鉛塩を
含有してなる主めっき浴に、特定の構造の疎水性部分と
特定の比率のエチレンオキシド（ＥＯ）、プロピレンオ
キシド（ＰＯ）及びブチレンオキシド（ＢＯ）を持つ親
水性部分とを有するノニオン系界面活性剤及び特定の構
造を有する脂肪族炭化水素を併用添加することによって
解決できることを見出し、本発明を完成した。
術の問題点が、アルカンスルホン酸及び／又はアルカノ
ールスルホン酸、可溶性錫塩及び（又は）可溶性鉛塩を
含有してなる主めっき浴に、特定の構造の疎水性部分と
特定の比率のエチレンオキシド（ＥＯ）、プロピレンオ
キシド（ＰＯ）及びブチレンオキシド（ＢＯ）を持つ親
水性部分とを有するノニオン系界面活性剤及び特定の構
造を有する脂肪族炭化水素を併用添加することによって
解決できることを見出し、本発明を完成した。
【０００７】
【発明の概要】従って、本発明は、下記の成分
（ａ）可溶性錫塩及び可溶性錫塩と可溶性鉛塩との混合
物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の浴可溶性金
属塩、 （ｂ）アルカンスルホン酸又はアルカノールスルホン酸
の１種以上、 （ｃ）次式（Ｉ）〜（Ｖ）
物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の浴可溶性金
属塩、 （ｂ）アルカンスルホン酸又はアルカノールスルホン酸
の１種以上、 （ｃ）次式（Ｉ）〜（Ｖ）
【化６】
【化７】
【化８】
【化９】
【化１０】
［これらの式において、−（Ｒ−Ｏ）n −は、エチレン
オキシドとプロピレンオキシド若しくはブチレンオキシ
ドとのコポリマー又はエチレンオキシドとプロピレンオ
キシドとブチレンオキシドとのコポリマーを表わし、ｎ
は６〜１００の整数を表わし、Ｒ1 はＣ2 〜Ｃ18アルキ
ル基又はＣ3 〜Ｃ18アルキレン基を表わす］で表わされ
るノニオン系界面活性剤の１種以上、 （ｄ）分子内に少なくとも２個のホルミル基を有し、要
すればヒドロキシル基により置換されていてもよい２〜
１５個の炭素原子を含有する飽和又は不飽和の直鎖状、
分岐鎖状又は環状の脂肪族炭化水素の１種以上からなる
ことを特徴とする錫又は半田光沢めっき浴である。
オキシドとプロピレンオキシド若しくはブチレンオキシ
ドとのコポリマー又はエチレンオキシドとプロピレンオ
キシドとブチレンオキシドとのコポリマーを表わし、ｎ
は６〜１００の整数を表わし、Ｒ1 はＣ2 〜Ｃ18アルキ
ル基又はＣ3 〜Ｃ18アルキレン基を表わす］で表わされ
るノニオン系界面活性剤の１種以上、 （ｄ）分子内に少なくとも２個のホルミル基を有し、要
すればヒドロキシル基により置換されていてもよい２〜
１５個の炭素原子を含有する飽和又は不飽和の直鎖状、
分岐鎖状又は環状の脂肪族炭化水素の１種以上からなる
ことを特徴とする錫又は半田光沢めっき浴である。
【０００８】本発明の主めっき浴は、基本的には、アル
カンスルホン酸及び（又は）アルカノールスルホン酸の
１種以上と、可溶性錫塩及び可溶性錫塩と可溶性鉛塩と
の混合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の浴可
溶性金属塩とを含有するものである。
カンスルホン酸及び（又は）アルカノールスルホン酸の
１種以上と、可溶性錫塩及び可溶性錫塩と可溶性鉛塩と
の混合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の浴可
溶性金属塩とを含有するものである。
【０００９】使用することができるアルカンスルホン酸
及び／又はアルカノールスルホン酸は、次の一般式（V
I）及び（VII)を有するものである。 Ｒ2 −ＳＯ3 Ｈ （VI） （ここで、Ｒ2 はＣ1 〜Ｃ12アルキル基を表わす） ＨＯ−Ｒ3 −ＳＯ3 Ｈ （VII) （ここで、Ｒ3 はＣ1 〜Ｃ12アルキレン基を表わし、ヒ
ドロキシル基はアルキレン基の任意の位置にあってよ
い） アルカンスルホン酸の例としては、メタンスルホン酸、
エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、２−プロパン
スルホン酸、ブタンスルホン酸、２−ブタンスルホン
酸、ペンタンスルホン酸、ヘキサンスルホン酸、デカン
スルホン酸、ドデカンスルホン酸などが挙げられる。こ
れらのアルカンスルホン酸は単独で又は２種以上の混合
物として使用できる。アルカノールスルホン酸の例とし
ては、イセチオン酸（２−ヒドロキシエタン−１−スル
ホン酸）、２−ヒドロキシプロパン−１−スルホン酸、
１−ヒドロキシプロパン−２−スルホン酸、３−ヒドロ
キシプロパン−１−スルホン酸、２−ヒドロキシブタン
−１−スルホン酸、２−ヒドロキシペンタン−１−スル
ホン酸、２−ヒドロキシヘキサン−１−スルホン酸、２
−ヒドロキシデカン−１−スルホン酸、２−ヒドロキシ
デカン−１−スルホン酸などが挙げられる。これらのヒ
ドロキシ含有アルカンスルホン酸は単独で又は２種以上
の混合物として使用できる。
及び／又はアルカノールスルホン酸は、次の一般式（V
I）及び（VII)を有するものである。 Ｒ2 −ＳＯ3 Ｈ （VI） （ここで、Ｒ2 はＣ1 〜Ｃ12アルキル基を表わす） ＨＯ−Ｒ3 −ＳＯ3 Ｈ （VII) （ここで、Ｒ3 はＣ1 〜Ｃ12アルキレン基を表わし、ヒ
ドロキシル基はアルキレン基の任意の位置にあってよ
い） アルカンスルホン酸の例としては、メタンスルホン酸、
エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、２−プロパン
スルホン酸、ブタンスルホン酸、２−ブタンスルホン
酸、ペンタンスルホン酸、ヘキサンスルホン酸、デカン
スルホン酸、ドデカンスルホン酸などが挙げられる。こ
れらのアルカンスルホン酸は単独で又は２種以上の混合
物として使用できる。アルカノールスルホン酸の例とし
ては、イセチオン酸（２−ヒドロキシエタン−１−スル
ホン酸）、２−ヒドロキシプロパン−１−スルホン酸、
１−ヒドロキシプロパン−２−スルホン酸、３−ヒドロ
キシプロパン−１−スルホン酸、２−ヒドロキシブタン
−１−スルホン酸、２−ヒドロキシペンタン−１−スル
ホン酸、２−ヒドロキシヘキサン−１−スルホン酸、２
−ヒドロキシデカン−１−スルホン酸、２−ヒドロキシ
デカン−１−スルホン酸などが挙げられる。これらのヒ
ドロキシ含有アルカンスルホン酸は単独で又は２種以上
の混合物として使用できる。
【００１０】本発明の主めっき浴は、可溶性錫塩及び可
溶性錫塩と可溶性鉛塩との混合物よりなる群から選ばれ
る少なくとも１種の浴可溶性金属塩を含有する。このよ
うな錫塩及び鉛塩は、好ましくは、前記のようなアルカ
ンスルホン酸及びアルカノールスルホン酸の錫塩及び鉛
塩である。その他の錫塩及び鉛塩、例えば、第一錫及び
鉛の無機酸塩、例えば硫酸塩、塩酸塩、硝酸塩など、ま
た第一錫及び鉛の酸化物なども使用することができる。
溶性錫塩と可溶性鉛塩との混合物よりなる群から選ばれ
る少なくとも１種の浴可溶性金属塩を含有する。このよ
うな錫塩及び鉛塩は、好ましくは、前記のようなアルカ
ンスルホン酸及びアルカノールスルホン酸の錫塩及び鉛
塩である。その他の錫塩及び鉛塩、例えば、第一錫及び
鉛の無機酸塩、例えば硫酸塩、塩酸塩、硝酸塩など、ま
た第一錫及び鉛の酸化物なども使用することができる。
【００１１】錫塩及び鉛塩の総濃度は、金属（Ｓｎ及び
Ｐｂ）の濃度として表わして、０．５〜２００ｇ／ｌ、
好ましくは１０〜１００ｇ／ｌである。また、めっき浴
中に存在させる遊離のアルカンスルホン酸及び（又は）
アルカノールスルホン酸の濃度は、浴中の２価の錫及び
（又は）鉛イオンと化学量論的に少なくとも当量以上と
する。
Ｐｂ）の濃度として表わして、０．５〜２００ｇ／ｌ、
好ましくは１０〜１００ｇ／ｌである。また、めっき浴
中に存在させる遊離のアルカンスルホン酸及び（又は）
アルカノールスルホン酸の濃度は、浴中の２価の錫及び
（又は）鉛イオンと化学量論的に少なくとも当量以上と
する。
【００１２】本発明のめっき浴に添加することができる
ノニオン系界面活性剤は、前記のような式（Ｉ）で表わ
されるα−ナフトールのエチレンオキシド、プロピレン
オキシド及び（又は）ブチレンオキシド付加物である。
例えば、α−ナフトールのＥＯ１５モルＢＯ５モル付加
物、ＥＯ１３モルＰＯ５モル付加物などが挙げられる。
ノニオン系界面活性剤は、前記のような式（Ｉ）で表わ
されるα−ナフトールのエチレンオキシド、プロピレン
オキシド及び（又は）ブチレンオキシド付加物である。
例えば、α−ナフトールのＥＯ１５モルＢＯ５モル付加
物、ＥＯ１３モルＰＯ５モル付加物などが挙げられる。
【００１３】使用できる他のノニオン系界面活性剤は、
前記の式（II）で表わされるβ−ナフトールのエチレン
オキシド、プロピレンオキシド及び（又は）ブチレンオ
キシド付加物である。例えば、β−ナフトールのＰＯ３
モルＥＯ１８モルＢＯ３モル付加物、ＰＯ８モルＥＯ２
０モル付加物、ＰＯ５モルＥＯ１３モル付加物、ＰＯ８
モルＥＯ２０モル付加物などが挙げられる。
前記の式（II）で表わされるβ−ナフトールのエチレン
オキシド、プロピレンオキシド及び（又は）ブチレンオ
キシド付加物である。例えば、β−ナフトールのＰＯ３
モルＥＯ１８モルＢＯ３モル付加物、ＰＯ８モルＥＯ２
０モル付加物、ＰＯ５モルＥＯ１３モル付加物、ＰＯ８
モルＥＯ２０モル付加物などが挙げられる。
【００１４】さらに他のノニオン系界面活性剤は、前記
の式（III)で表わされるｐ−クミルフェノールのエチレ
ンオキシド、プロピレンオキシド及び（又は）ブチレン
オキシド付加物である。例えば、ｐ−クミルフェノール
のＥＯ１８モルＰＯ５モル付加物、ＥＯ１５モルＰＯ３
モルＢＯ３モル付加物などがあげられる。
の式（III)で表わされるｐ−クミルフェノールのエチレ
ンオキシド、プロピレンオキシド及び（又は）ブチレン
オキシド付加物である。例えば、ｐ−クミルフェノール
のＥＯ１８モルＰＯ５モル付加物、ＥＯ１５モルＰＯ３
モルＢＯ３モル付加物などがあげられる。
【００１５】本発明のめっき浴に添加することができる
ノニオン系界面活性剤は、前記の式（IV）で表わされる
ビスフェノールＡのビス（エチレンオキシド、プロピレ
ンオキシド及び（又は）ブチレンオキシド付加物）であ
る。例えば、ビスフェノールＡのＥＯ３０モルＰＯ８モ
ル付加物などが挙げられる。
ノニオン系界面活性剤は、前記の式（IV）で表わされる
ビスフェノールＡのビス（エチレンオキシド、プロピレ
ンオキシド及び（又は）ブチレンオキシド付加物）であ
る。例えば、ビスフェノールＡのＥＯ３０モルＰＯ８モ
ル付加物などが挙げられる。
【００１６】さらに使用できるノニオン系界面活性剤
は、前記の式（Ｖ）で表わされる脂肪族アミンのビス
（エチレンオキシド、プロピレンオキシド及び（又は）
ブチレンオキシド付加物）である。例えば、エチルアミ
ン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、
オクチルアミン、ラウリルアミン、パルミチルアミン、
ステアリルアミン、クロトニルアミン、オレイルアミン
などのビス（エチレンオキシド、プロピレンオキシド及
び（又は）ブチレンオキシド付加物）であり、具体的に
は、ラウリルアミンのＥＯ６モルＰＯ１０モル付加物な
どが挙げられる。
は、前記の式（Ｖ）で表わされる脂肪族アミンのビス
（エチレンオキシド、プロピレンオキシド及び（又は）
ブチレンオキシド付加物）である。例えば、エチルアミ
ン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、
オクチルアミン、ラウリルアミン、パルミチルアミン、
ステアリルアミン、クロトニルアミン、オレイルアミン
などのビス（エチレンオキシド、プロピレンオキシド及
び（又は）ブチレンオキシド付加物）であり、具体的に
は、ラウリルアミンのＥＯ６モルＰＯ１０モル付加物な
どが挙げられる。
【００１７】本発明で使用できるノニオン系界面活性剤
は、前記のように、特定の構造の疎水性部分、即ち１−
ナフチル、２−ナフチル、４−クミルフェニル、ビスフ
ェノールＡの残基及び脂肪族第一アミン基と、特定の比
率のエチレンオキシド（ＥＯ）、プロピレンオキシド
（ＰＯ）及びブチレンオキシド（ＢＯ）を持つ親水性部
分とを有するものである。それらのうちでも、特に有効
なものは、エチレンオキシドに対するプロピレンオキシ
ド、ブチレンオキシド、又はプロピレンオキシド＋ブチ
レンオキシドの比が２０〜７０％であるノニオン系界面
活性剤である。これらのノニオン系界面活性剤は１種以
上を組合せて添加することができる。その場合の添加総
濃度は、一般的に１．０〜５０ｇ／ｌ、好ましくは５〜
２０ｇ／ｌの範囲である。
は、前記のように、特定の構造の疎水性部分、即ち１−
ナフチル、２−ナフチル、４−クミルフェニル、ビスフ
ェノールＡの残基及び脂肪族第一アミン基と、特定の比
率のエチレンオキシド（ＥＯ）、プロピレンオキシド
（ＰＯ）及びブチレンオキシド（ＢＯ）を持つ親水性部
分とを有するものである。それらのうちでも、特に有効
なものは、エチレンオキシドに対するプロピレンオキシ
ド、ブチレンオキシド、又はプロピレンオキシド＋ブチ
レンオキシドの比が２０〜７０％であるノニオン系界面
活性剤である。これらのノニオン系界面活性剤は１種以
上を組合せて添加することができる。その場合の添加総
濃度は、一般的に１．０〜５０ｇ／ｌ、好ましくは５〜
２０ｇ／ｌの範囲である。
【００１８】本発明の主めっき浴は、特定のノニオン界
面活性剤に上で定義するような少なくとも２個のホルミ
ル基を含有する脂肪族炭化水素の１種以上を組合せて使
用する。このようなホルミル基含有脂肪族炭化水素とし
ては、エタンジアール、プロパンジアール、ブタンジア
ール、ペンタンジアール、３−イソプロピルペンタン−
１，５−ジアール、ヘキサンジアール、２−ヒドロキシ
ヘキサンジアール、ヘプタンジアール、オクタンジアー
ル、ブテンジアール、２−ペンテン−１，５−ジアー
ル、ブチンジアール、３−ホルミルペンタン−１，５−
ジアールなどが挙げられる。これらのホルミル基含有脂
肪族炭化水素は１種以上を組合せて使用でき、一般的に
０．１〜１０ｇ／ｌ、好ましくは０．５〜５．０ｇ／ｌ
の量で使用される。
面活性剤に上で定義するような少なくとも２個のホルミ
ル基を含有する脂肪族炭化水素の１種以上を組合せて使
用する。このようなホルミル基含有脂肪族炭化水素とし
ては、エタンジアール、プロパンジアール、ブタンジア
ール、ペンタンジアール、３−イソプロピルペンタン−
１，５−ジアール、ヘキサンジアール、２−ヒドロキシ
ヘキサンジアール、ヘプタンジアール、オクタンジアー
ル、ブテンジアール、２−ペンテン−１，５−ジアー
ル、ブチンジアール、３−ホルミルペンタン−１，５−
ジアールなどが挙げられる。これらのホルミル基含有脂
肪族炭化水素は１種以上を組合せて使用でき、一般的に
０．１〜１０ｇ／ｌ、好ましくは０．５〜５．０ｇ／ｌ
の量で使用される。
【００１９】また、本発明の光沢めっき浴は、さらに、
補助光沢剤として芳香族アルデヒド及び芳香族ケトンの
１種以上を含有することができる。このような化合物と
しては、ベンズアルデヒド、２−クロルベンズアルデヒ
ド、２，４−ジクロルベンズアルデヒド、１−又は２−
ナフトアルデヒド、２−ヒドロキシ−１−ナフトアルデ
ヒド、４−メチル−１−ナフトアルデヒド、フルフラー
ル、ベンジリデンアセトンなどが挙げられる。これらの
化合物は１種以上を組合せて使用でき、一般的に０．０
００１〜１．０ｇ／ｌ、好ましくは０．００１〜０．１
ｇ／ｌの量で使用される。
補助光沢剤として芳香族アルデヒド及び芳香族ケトンの
１種以上を含有することができる。このような化合物と
しては、ベンズアルデヒド、２−クロルベンズアルデヒ
ド、２，４−ジクロルベンズアルデヒド、１−又は２−
ナフトアルデヒド、２−ヒドロキシ−１−ナフトアルデ
ヒド、４−メチル−１−ナフトアルデヒド、フルフラー
ル、ベンジリデンアセトンなどが挙げられる。これらの
化合物は１種以上を組合せて使用でき、一般的に０．０
００１〜１．０ｇ／ｌ、好ましくは０．００１〜０．１
ｇ／ｌの量で使用される。
【００２０】本発明のめっき浴には、さらに必要に応じ
てレゾルシン、カテコール、ハイドロキノンなどの酸化
防止剤を本発明の効果を損なわない範囲で、例えば０．
０５〜１．０ｇ／ｌの量で添加することができる。
てレゾルシン、カテコール、ハイドロキノンなどの酸化
防止剤を本発明の効果を損なわない範囲で、例えば０．
０５〜１．０ｇ／ｌの量で添加することができる。
【００２１】
【発明の作用及び効果】本発明によれば、錫又は半田光
沢めっき浴に、特定の構造の疎水性部分と特定の比率の
エチレンオキシド（ＥＯ）、プロピレンオキシド（Ｐ
Ｏ）及びブチレンオキシド（ＢＯ）を持つ親水性部分と
を有するノニオン系界面活性剤及びホルミル基含有脂肪
族炭化水素を併用添加することによって、下記のような
効果が得られる。 １．経時安定性に優れ、浴温を３０℃以上にしても添加
剤成分の消耗が従来のめっき浴と比較して非常に少な
い。 ２．発泡が少なく、めっき境界面が精度良く仕上がる。 ３．広い電流密度範囲で良好な光沢が得られる。特に、
浴温を高めても低電流密度範囲まで光沢を維持すること
ができる。 ４．電流効率が極めて高く（９０％）、ガスの発生が少
なく、ピットの発生がない。 ５．高温で使用できるのでめっき浴を冷却する必要がな
く、浴を管理するのが非常に容易である。また、めっき
排液の量を少なくすることができると共に、電流効率を
さらに高めることができる。 なお、前記した各添加成分濃度は、バレルメッキ、ラッ
クメッキ、高速連続メッキ、スルホールメッキなどに対
応して任意に選択することができる。
沢めっき浴に、特定の構造の疎水性部分と特定の比率の
エチレンオキシド（ＥＯ）、プロピレンオキシド（Ｐ
Ｏ）及びブチレンオキシド（ＢＯ）を持つ親水性部分と
を有するノニオン系界面活性剤及びホルミル基含有脂肪
族炭化水素を併用添加することによって、下記のような
効果が得られる。 １．経時安定性に優れ、浴温を３０℃以上にしても添加
剤成分の消耗が従来のめっき浴と比較して非常に少な
い。 ２．発泡が少なく、めっき境界面が精度良く仕上がる。 ３．広い電流密度範囲で良好な光沢が得られる。特に、
浴温を高めても低電流密度範囲まで光沢を維持すること
ができる。 ４．電流効率が極めて高く（９０％）、ガスの発生が少
なく、ピットの発生がない。 ５．高温で使用できるのでめっき浴を冷却する必要がな
く、浴を管理するのが非常に容易である。また、めっき
排液の量を少なくすることができると共に、電流効率を
さらに高めることができる。 なお、前記した各添加成分濃度は、バレルメッキ、ラッ
クメッキ、高速連続メッキ、スルホールメッキなどに対
応して任意に選択することができる。
【００２２】
【実施例】次に、本発明の実施例によるメッキ液の組成
及びメッキ作業条件を示すが、本発明はこれらの数例に
限定されるものではなく、前述した目的の主旨に添って
メッキ液の組成及びメッキ条件は任意に変更することが
できる。これらの実施例及び比較例の各めっき浴から得
られためっきの外観についてハルセル試験で評価する。
また、同時に各めっき浴の発泡性についても試験する。
及びメッキ作業条件を示すが、本発明はこれらの数例に
限定されるものではなく、前述した目的の主旨に添って
メッキ液の組成及びメッキ条件は任意に変更することが
できる。これらの実施例及び比較例の各めっき浴から得
られためっきの外観についてハルセル試験で評価する。
また、同時に各めっき浴の発泡性についても試験する。
【００２３】実施例１〜３及び比較例１〜６
下記の組成
２価の錫（メタンスルホン酸第一錫として添加） ４５ｇ／ｌ
鉛（メタンスルホン酸鉛として添加） ５ｇ／ｌ
遊離メタンスルホン酸 １１０ｇ／ｌ
カテコール １ｇ／ｌ
を含有する主めっき浴を調製し、この基本浴に下記に示
すそれぞれの本発明に従うノニオン系界面活性剤、ホル
ミル基含有脂肪族炭化水素及びその他の成分を添加する
ことによって実施例１〜３のめっき浴を調製した。ま
た、上記の基本浴に本発明以外のノニオン系界面活性剤
と光沢剤との組合せを添加することにより比較例１〜６
のめっき浴を調製した。次いで、各めっき浴を使用し
て、ハルセル試験により銅板上にめっきを行った。ハル
セル条件は電流３Ａ、時間３分であり、無撹拌とした。
また、調製しためっき浴の発泡性を試験した。これは、
めっき液３０ｍｌを共栓付きメスシリンダーに採取し、
５秒間激しく振盪し、１０分間後の泡立ちの高さ（ｃ
ｍ）を測定することからなる。実施例１ α−ナフトールＥＯ１５モルＢＯ５モル付加物 ５．５ｇ／ｌ プロパンジアール １．５ｇ／ｌ ２−ヒドロキシ−１−ナフトアルデヒド ０．０２５ｇ／ｌ実施例２ β−ナフトールＰＯ３モルＥＯ１８モルＢＯ３モル付加物 ７．０ｇ／ｌ ペンタンジアール ２．０ｇ／ｌ ４−メチル−１−ナフトアルデヒド ０．０２ｇ／ｌ実施例３ クミルフェノールＥＯ１８モルＰＯ５モル付加物 ６．６ｇ／ｌ ブタンジアール ２．２ｇ／ｌ ２，４−ジクロルベンズアルデヒド ０．０１ｇ／ｌ比較例１ α−ナフトールＥＯ１５モル付加物 ５．５ｇ／ｌ プロパンジアール １．５ｇ／ｌ ２−ヒドロキシ−１−ナフトアルデヒド ０．０２５ｇ／ｌ比較例２ α−ナフトールＥＯ１５モルＢＯ５モル付加物 ５．５ｇ／ｌ ２−ヒドロキシ−１−ナフトアルデヒド ０．１２ｇ／ｌ比較例３ β−ナフトールＥＯ１８モル付加物 ７．０ｇ／ｌ ペンタンジアール ２．０ｇ／ｌ ４−メチル−１−ナフトアルデヒド ０．０２ｇ／ｌ比較例４ β−ナフトールＰＯ３モルＥＯ１８モルＢＯ３モル付加物 ７．０ｇ／ｌ ４−メチル−１−ナフトアルデヒド ０．１ｇ／ｌ比較例５ クミルフェノールＥＯ１８モル付加物 ６．６ｇ／ｌ ブタンジアール ２．２ｇ／ｌ ２，４−ジクロルベンズアルデヒド ０．０１ｇ／ｌ比較例６ クミルフェノールＥＯ１８モルＰＯ５モル付加物 ６．６ｇ／ｌ ２，４−ジクロルベンズアルデヒド ０．１２ｇ／ｌ
すそれぞれの本発明に従うノニオン系界面活性剤、ホル
ミル基含有脂肪族炭化水素及びその他の成分を添加する
ことによって実施例１〜３のめっき浴を調製した。ま
た、上記の基本浴に本発明以外のノニオン系界面活性剤
と光沢剤との組合せを添加することにより比較例１〜６
のめっき浴を調製した。次いで、各めっき浴を使用し
て、ハルセル試験により銅板上にめっきを行った。ハル
セル条件は電流３Ａ、時間３分であり、無撹拌とした。
また、調製しためっき浴の発泡性を試験した。これは、
めっき液３０ｍｌを共栓付きメスシリンダーに採取し、
５秒間激しく振盪し、１０分間後の泡立ちの高さ（ｃ
ｍ）を測定することからなる。実施例１ α−ナフトールＥＯ１５モルＢＯ５モル付加物 ５．５ｇ／ｌ プロパンジアール １．５ｇ／ｌ ２−ヒドロキシ−１−ナフトアルデヒド ０．０２５ｇ／ｌ実施例２ β−ナフトールＰＯ３モルＥＯ１８モルＢＯ３モル付加物 ７．０ｇ／ｌ ペンタンジアール ２．０ｇ／ｌ ４−メチル−１−ナフトアルデヒド ０．０２ｇ／ｌ実施例３ クミルフェノールＥＯ１８モルＰＯ５モル付加物 ６．６ｇ／ｌ ブタンジアール ２．２ｇ／ｌ ２，４−ジクロルベンズアルデヒド ０．０１ｇ／ｌ比較例１ α−ナフトールＥＯ１５モル付加物 ５．５ｇ／ｌ プロパンジアール １．５ｇ／ｌ ２−ヒドロキシ−１−ナフトアルデヒド ０．０２５ｇ／ｌ比較例２ α−ナフトールＥＯ１５モルＢＯ５モル付加物 ５．５ｇ／ｌ ２−ヒドロキシ−１−ナフトアルデヒド ０．１２ｇ／ｌ比較例３ β−ナフトールＥＯ１８モル付加物 ７．０ｇ／ｌ ペンタンジアール ２．０ｇ／ｌ ４−メチル−１−ナフトアルデヒド ０．０２ｇ／ｌ比較例４ β−ナフトールＰＯ３モルＥＯ１８モルＢＯ３モル付加物 ７．０ｇ／ｌ ４−メチル−１−ナフトアルデヒド ０．１ｇ／ｌ比較例５ クミルフェノールＥＯ１８モル付加物 ６．６ｇ／ｌ ブタンジアール ２．２ｇ／ｌ ２，４−ジクロルベンズアルデヒド ０．０１ｇ／ｌ比較例６ クミルフェノールＥＯ１８モルＰＯ５モル付加物 ６．６ｇ／ｌ ２，４−ジクロルベンズアルデヒド ０．１２ｇ／ｌ
【００２４】実施例４〜７及び比較例７〜１１
下記の組成
２価の錫（２−ヒドロキシエタンスルホン酸第一錫として） ４８ｇ／ｌ
鉛（２−ヒドロキシエタンスルホン酸鉛として添加） １２ｇ／ｌ
遊離２−ヒドロキシエタンスルホン酸 １２０ｇ／ｌ
ハイドロキノン ０．８ｇ／ｌ
を含有する主めっき浴を調製し、この基本浴に下記に示
すそれぞれの本発明に従うノニオン系界面活性剤、ホル
ミル基含有脂肪族炭化水素及びその他の成分を添加する
ことによって実施例４〜７のめっき浴を調製した。ま
た、上記の基本浴に本発明以外のノニオン系界面活性剤
と光沢剤との組合せを添加することにより比較例７〜１
０のめっき浴を調製した。次いで、各めっき浴を使用し
て、ハルセル試験により銅板上にめっきを行った。ハル
セル条件は電流３Ａ、時間３分であり、無撹拌とした。
また、前記と同様にして、調製しためっき浴の発泡性を
試験した。実施例４ ビスフェノールＡＥＯ３０モルＰＯ８モル付加物 ６．５ｇ／ｌ ブチンジアール １．８ｇ／ｌ ２−クロルベンズアルデヒド ０．０１５ｇ／ｌ実施例５ β−ナフトールＰＯ８モルＥＯ２０モル付加物 ５．０ｇ／ｌ ラウリルアミンＥＯ６モルＰＯ１０モル付加物 ３．５ｇ／ｌ ヘキサンジアール ３．０ｇ／ｌ ２−ナフトアルデヒド ０．０３ｇ／ｌ実施例６ α−ナフトールＥＯ１３モルＰＯ５モル付加物 ８．８ｇ／ｌ ブテンジアール ２．５ｇ／ｌ ２−ナフトアルデヒド ０．０３ｇ／ｌ実施例７ β−ナフトールＰＯ５モルＥＯ１３モル付加物 ７．２ｇ／ｌ ヘキサンジアール ２．２ｇ／ｌ ２−メトキシナフトアルデヒド ０．０１ｇ／ｌ ベンジリデンアセトン ０．０２ｇ／ｌ比較例７ ビスフェノールＡＥＯ３０モル付加物 ６．５ｇ／ｌ ブチンジアール １．８ｇ／ｌ ２−クロルベンズアルデヒド ０．０１５ｇ／ｌ比較例８ ビスフェノールＡＥＯ３０モルＰＯ８モル付加物 ６．５ｇ／ｌ ２−クロルベンズアルデヒド ０．１ｇ／ｌ比較例９ β−ナフトールＥＯ２０モル付加物 ５．０ｇ／ｌ ラウリルアミンＥＯ６モル付加物 ３．５ｇ／ｌ ヘキサンジアール ３．０ｇ／ｌ １−ナフトアルデヒド ０．０３ｇ／ｌ比較例１０ β−ナフトールＰＯ８モルＥＯ２０モル付加物 ５．０ｇ／ｌ ラウリルアミンＥＯ６モルＰＯ１０モル付加物 ３．５ｇ／ｌ １−ナフトアルデヒド ０．１２ｇ／ｌ比較例１１ スチレン化フェノールＥＯ１８モルＰＯ５モル付加物 ７．２ｇ／ｌ ブタンジアール ２．５ｇ／ｌ １−ナフトアルデヒド ０．０３ｇ／ｌ
すそれぞれの本発明に従うノニオン系界面活性剤、ホル
ミル基含有脂肪族炭化水素及びその他の成分を添加する
ことによって実施例４〜７のめっき浴を調製した。ま
た、上記の基本浴に本発明以外のノニオン系界面活性剤
と光沢剤との組合せを添加することにより比較例７〜１
０のめっき浴を調製した。次いで、各めっき浴を使用し
て、ハルセル試験により銅板上にめっきを行った。ハル
セル条件は電流３Ａ、時間３分であり、無撹拌とした。
また、前記と同様にして、調製しためっき浴の発泡性を
試験した。実施例４ ビスフェノールＡＥＯ３０モルＰＯ８モル付加物 ６．５ｇ／ｌ ブチンジアール １．８ｇ／ｌ ２−クロルベンズアルデヒド ０．０１５ｇ／ｌ実施例５ β−ナフトールＰＯ８モルＥＯ２０モル付加物 ５．０ｇ／ｌ ラウリルアミンＥＯ６モルＰＯ１０モル付加物 ３．５ｇ／ｌ ヘキサンジアール ３．０ｇ／ｌ ２−ナフトアルデヒド ０．０３ｇ／ｌ実施例６ α−ナフトールＥＯ１３モルＰＯ５モル付加物 ８．８ｇ／ｌ ブテンジアール ２．５ｇ／ｌ ２−ナフトアルデヒド ０．０３ｇ／ｌ実施例７ β−ナフトールＰＯ５モルＥＯ１３モル付加物 ７．２ｇ／ｌ ヘキサンジアール ２．２ｇ／ｌ ２−メトキシナフトアルデヒド ０．０１ｇ／ｌ ベンジリデンアセトン ０．０２ｇ／ｌ比較例７ ビスフェノールＡＥＯ３０モル付加物 ６．５ｇ／ｌ ブチンジアール １．８ｇ／ｌ ２−クロルベンズアルデヒド ０．０１５ｇ／ｌ比較例８ ビスフェノールＡＥＯ３０モルＰＯ８モル付加物 ６．５ｇ／ｌ ２−クロルベンズアルデヒド ０．１ｇ／ｌ比較例９ β−ナフトールＥＯ２０モル付加物 ５．０ｇ／ｌ ラウリルアミンＥＯ６モル付加物 ３．５ｇ／ｌ ヘキサンジアール ３．０ｇ／ｌ １−ナフトアルデヒド ０．０３ｇ／ｌ比較例１０ β−ナフトールＰＯ８モルＥＯ２０モル付加物 ５．０ｇ／ｌ ラウリルアミンＥＯ６モルＰＯ１０モル付加物 ３．５ｇ／ｌ １−ナフトアルデヒド ０．１２ｇ／ｌ比較例１１ スチレン化フェノールＥＯ１８モルＰＯ５モル付加物 ７．２ｇ／ｌ ブタンジアール ２．５ｇ／ｌ １−ナフトアルデヒド ０．０３ｇ／ｌ
【００２５】上記の実施例及び比較例で得られた各めっ
き皮膜についてハルセル試験で評価した結果並びに各め
っき液の発泡性試験の結果を下記の表１に要約する。
き皮膜についてハルセル試験で評価した結果並びに各め
っき液の発泡性試験の結果を下記の表１に要約する。
【表１】
【表２】
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 加登山 啓二
兵庫県神戸市兵庫区西柳原町５番26号石
原薬品株式会社内
(72)発明者 正木 征史
兵庫県明石市二見町南二見21−８株式会
社大和化成研究所内
(56)参考文献 特開 平４−83894（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−44074（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−240489（ＪＰ，Ａ)
特開 平１−242795（ＪＰ，Ａ)
特開 昭54−69534（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C25D 3/60
C25D 3/32
Claims (5)
- 【請求項１】 下記の成分 （ａ）可溶性錫塩及び可溶性錫塩と可溶性鉛塩との混合
物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の浴可溶性金
属塩、 （ｂ）アルカンスルホン酸又はアルカノールスルホン酸
の１種以上、 （ｃ）次式（Ｉ）〜（Ｖ） 【化１】 【化２】 【化３】 【化４】 【化５】 ［これらの式において、−（Ｒ−Ｏ）n −は、エチレン
オキシドとプロピレンオキシド若しくはブチレンオキシ
ドとのコポリマー又はエチレンオキシドとプロピレンオ
キシドとブチレンオキシドとのコポリマーを表わし、ｎ
は６〜１００の整数を表わし、Ｒ1 はＣ2 〜Ｃ18アルキ
ル基又はＣ3 〜Ｃ18アルキレン基を表わす］で表わされ
るノニオン系界面活性剤の１種以上、 （ｄ）分子内に少なくとも２個のホルミル基を有し、要
すればヒドロキシル基により置換されていてもよい２〜
１５個の炭素原子を含有する飽和又は不飽和の直鎖状、
分岐鎖状又は環状の脂肪族炭化水素の１種以上からなる
ことを特徴とする錫又は半田光沢めっき浴。 - 【請求項２】 エチレンオキシドに対するプロピレンオ
キシド、ブチレンオキシド、又はプロピレンオキシド＋
ブチレンオキシドの比が２０〜７０％であるノニオン系
界面活性剤を使用する請求項１記載のめっき浴。 - 【請求項３】 補助光沢剤として芳香族アルデヒド及び
芳香族ケトンの１種以上を添加した請求項１又は２記載
のめっき浴。 - 【請求項４】 酸化防止剤を添加した請求項１〜３のい
ずれかに記載のめっき浴。 - 【請求項５】 請求項１〜４のいずれかに記載のめっき
浴を使用して３０℃以上の浴温で電気めっきを実施する
ことを特徴とする、錫又は半田光沢電気めっき方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09319795A JP3419951B2 (ja) | 1995-03-28 | 1995-03-28 | 錫又は半田光沢めっき浴 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09319795A JP3419951B2 (ja) | 1995-03-28 | 1995-03-28 | 錫又は半田光沢めっき浴 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08269777A JPH08269777A (ja) | 1996-10-15 |
| JP3419951B2 true JP3419951B2 (ja) | 2003-06-23 |
Family
ID=14075861
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09319795A Expired - Lifetime JP3419951B2 (ja) | 1995-03-28 | 1995-03-28 | 錫又は半田光沢めっき浴 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3419951B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9666547B2 (en) | 2002-10-08 | 2017-05-30 | Honeywell International Inc. | Method of refining solder materials |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4669830B2 (ja) * | 2006-11-17 | 2011-04-13 | ムラキ株式会社 | 冷却液検査具及び冷却液の検査方法 |
| JP5337352B2 (ja) | 2007-04-24 | 2013-11-06 | ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ，エル．エル．シー． | 錫または錫合金電気めっき液 |
| CN113292715B (zh) * | 2021-05-25 | 2023-02-07 | 德锡化学(山东)有限公司 | Po/eo嵌段共聚物表面活性剂、制备方法及高速镀锡添加剂组合物 |
-
1995
- 1995-03-28 JP JP09319795A patent/JP3419951B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9666547B2 (en) | 2002-10-08 | 2017-05-30 | Honeywell International Inc. | Method of refining solder materials |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08269777A (ja) | 1996-10-15 |
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