JP3412942B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
能動素子面を基板に向けて接続するフリップチップ接続
方式の半導体装置に関する。
導体チップの能動素子面に低融点金属からなる複数の突
起電極(以下、バンプと称す)を形成し、これらバンプ
が形成された面を基板の所定の位置に合わせ、この後、
これらバンプを溶して一度に基板に接続する。Pb、S
nを主成分とするハンダ合金に代表されるような低融点
金属をバンプとして使用する場合、熱サイクルによって
バンプと半導体チップとの接続部やバンプと基板との接
続部が疲労し破壊する。この理由は、半導体チップと基
板との熱膨張係数が相違するためと考えられている。こ
の疲労破壊が発生する位置は、半導体チップの中央、正
確にはチップ上の前バンプの重心から離れた位置、特に
半導体チップのコーナー部や最外周部が多いことが知ら
れている。そこで、この疲労破壊の影響を減少するた
め、例えば半導体チップのコーナー部のバンプを取り除
いたり、コーナー部に電気的に機能しないダミーバンプ
を配置したり、コーナー部に位置するバンプを他の部分
のバンプより大きくする等の工夫がなされていた。
対策を施した場合、半導体チップが微細化されたり、多
ピン化の必要が生じた場合、バンプの数が不足するため
対応することができず、コーナー部のバンプも他の部分
のバンプと同様の設計を余儀無くされる可能性が大き
い。特に、電気的に機能しないダミーバンプは多ピン化
を阻害するだけであるため、使用しないことが望まし
い。このため、半導体チップの微細化や多ピン化とバン
プの不良発生の低減とを調和させ、半導体チップの長期
信頼性を確保することが困難となっている。
い、複数の出力端に同時に発生するスイッチング・ノイ
ズが問題となっている。このスイッチング・ノイズは主
として、出力バッファの出力端とバンプとを接続する配
線のインダクタンス、及び出力バッファの電源端子とバ
ンプとを接続する配線のインダクタンスが原因となって
発生する。このスイッチング・ノイズは半導体チップの
動作が高速化された場合、一層大きな問題となるため、
スイッチング・ノイズの低減が望まれている。
り、その目的とするところは、半導体チップの微細化や
多ピン化に容易に対応することが可能であるとともに、
スイッチング・ノイズを低減でき、しかも、長期信頼性
を確保し得る半導体装置を提供しようとするものであ
る。
は、能動素子が形成され、複数のコーナー部を有する周
辺部を持つ半導体チップと、前記半導体チップ内に配置
された電源配線と、前記半導体チップ内に配置された信
号配線と、前記半導体チップの周辺部の表面に沿って配
置され、前記半導体チップを基板に接続するための複数
の突起電極とを具備し、前記複数の突起電極のうち前記
コーナー部に形成された突起電極は前記電源配線に接続
され、前記コーナー部以外に形成された突起電極は前記
信号配線に接続される。
が形成され、複数のコーナー部を有する周辺部を持つ半
導体チップと、前記半導体チップ内に配置された電源配
線と、前記半導体チップ内に配置された信号配線と、前
記半導体チップの表面に亘って行及び列方向に配置さ
れ、前記半導体チップを基板に接続するため使用される
複数の突起電極とを具備し、前記複数の突起電極のうち
前記コーナー部に形成された突起電極は前記電源配線に
接続され、前記周辺部のコーナー部以外に形成された突
起電極は前記信号配線に接続される。
起電極の前記コーナー部に位置する3つは、前記電源配
線に接続される。前記突起電極の前記コーナー部から少
なくとも3番目までは、前記電源配線に接続される。前
記コーナー部に配置された突起電極は、インダクタンス
を低減するため前記電源配線に並列接続される。前記半
導体チップ内に配置された接地配線をさらに有し、前記
電源配線と接地配線は前記半導体チップの周辺に沿って
配置され、前記コーナー部に形成された突起電極は、前
記電源配線及び接地配線の一方に接続される。
出力端に接続される。 また、前記突起電極は、低融点金
属により形成されている。
前記突起電極は、3×3のマトリクスパターンに配置さ
れる。
形成され、複数のコーナー部を有する周辺部を持つ半導
体チップと、前記半導体チップ内に配置された第1の電
源配線と、前記半導体チップ内に配置された第2の電源
配線と、前記半導体チップ内に配置された信号配線と、
前記半導体チップの1つのコーナー部の表面に配置さ
れ、前記第1、第2の電源配線に交互に接続され、前記
半導体チップを基板に接続するための複数の突起電極か
らなる第1の突起電極群と、前記半導体チップの前記コ
ーナー部以外の表面に配置され、前記信号配線に接続さ
れた複数の突起電極からなる第2の突起電極群とを具備
している。
前記コーナー部から3番目までの突起電極は、前記第
1、第2の電源配線に接続される。前記電源配線に接続
される前記第1の突起電極群の突起電極は、3×3のマ
トリクスパターンに配置される。
の突起電極群の突起電極は、低融点金属により形成され
ている。前記第1の電源配線は接地配線であり、前記第
2の電源配線は高電位配線であり、前記第1、第2の電
源配線は、前記半導体チップの周辺に沿って配置され、
前記コーナー部に形成された突起電極は、前記第1、第
2の電源配線に接続される。
る位置は、半導体チップの中央から離れた位置、特に半
導体素子のコーナー部や最外周部が多い。こうした場所
に位置する突起電極を信号系の出力端、特に、クロック
信号系の出力端として使用した場合、この突起電極が破
壊すると半導体素子は致命的な動作不良に陥る虞があ
る。また、この突起電極が破壊するまでに至らないにし
ても、欠陥が生じている場合、半導体素子やシステムの
信頼性が低下することとなる。
ナー部や少なくとも最外周部に位置する複数の突起電極
を電源系の突起電極として使用することにより、突起電
極の破壊による半導体素子やシステムの信頼性の低下を
防止している。
して説明する。図1は、この発明の第1の実施例を示す
ものである。半導体チップ11の表面(能動素子面)且
つ周辺部には、複数のバンプ12が配置されている。こ
れらバンプ12は、例えばPb、Snを主成分とするハ
ンダ合金に代表される低融点金属によって構成されてい
る。これらバンプ12のうち、半導体チップ11の各コ
ーナー部に位置する例えば3つのバンプ1200、1
201、1210は電源系として使用され、他のバンプ12
02〜120n、1210〜12n0は信号系として使用される
(以下、図において電源系のバンプには斜線を付す)。
すなわち、これらバンプ12が配置された層より下方の
層には例えばバンプ12の配列に沿って第1、第2の電
源配線としての接地配線13、及び電源配線14が配設
されている。つまり、これら接地配線13、電源配線1
4は半導体チップ11の4辺に沿って配置されている。
前記バンプ1200は前記接地配線13に接続され、前記
バンプ1201、1210は電源配線14に接続されてい
る。
の層には、複数の出力バッファ151 〜15n が配設さ
れている。これら出力バッファ151 〜15n の各電源
端子は前記電源配線14に接続され、各接地端子は接地
配線13に接続されている。これら出力バッファ151
〜15n の各出力端は前記バンプ1220〜12n0にそれ
ぞれ接続されている。
2が形成された面を図示せぬ実装基板の所定の位置に合
わされ、この後、これらバンプ12を溶して一度に実装
基板に接続される。
ーナー部のみを示しているが、実際は残り3つのコーナ
ー部に位置するバンプもバンプ1200、1201、1210
と同様に電源系として使用され、接地配線13、電源配
線14に接続されている。
11の各コーナー部に位置する3つのバンプ1200、1
201、1210を電源系として使用している。したがっ
て、各コーナー部に位置する電源系の複数のバンプの一
部が破壊した場合においても、残りの電源系のバンプか
ら半導体チップ11に電源を供給することができるた
め、半導体チップ11は通常動作を続行でき、フェイル
セイフ機能を得ることができる。
1のコーナー部以外の位置に配置されているため、これ
らバンプの破壊する確率は低くなる。したがって、従来
と同一のバンプ数、同一のバンプサイズにも拘らず、バ
ンプの配置を考慮しない従来の半導体チップに比べて、
実質的な信頼性保証期間を長く設定でき、且つ、従来と
同一保証期間であれば、信頼性に対するマージンの大な
きシステムを提供できる。
は複数のバンプに接続されているため、各出力バッファ
の電源端子、及び接地端子には複数のインダクタが並列
に接続されたこととなる。したがって、電源端子、及び
接地端子のインダクタンスは実質的に低下するため、各
出力バッファが動作する際に発生するスイッチング・ノ
イズを低減することができる。
する。これら実施例において、第1の実施例と同一部分
には同一符号を付す。また、これら実施例において、出
力バッファは省略する。
のである。図2において、半導体チップ11の各コーナ
ー部から少なくとも3番目までのバンプ、すなわち、合
計5つのバンプ1200、1201、1202、1210、12
20は電源系として使用され、他のバンプは信号系として
使用される。これらバンプ12が配置された層より下方
の層には例えばバンプ12の配列に沿って接地配線1
3、及び電源配線14が配設されている。前記バンプ1
200、1202、1220は前記接地配線13に接続され、
前記バンプ1201、1210は電源配線14に接続されて
いる。
の効果を得ることができる。しかも、この実施例の構成
によれば、コーナー部に他の部分より大きなサイズのバ
ンプを配置したと同様の効果を得ることができ、且つ、
第1の実施例と比較して、電源系のバンプの数が多いた
め、電源系のノイズを低減できる。
のであり、バンプを所謂エリア配置した場合を示してい
る。すなわち、図3において、半導体チップ11の表面
全体には、所定間隔離間して複数のバンプが配置されて
いる。これらバンプのうち、半導体チップ11のコーナ
ー部から少なくとも3番目までのバンプ1200、1
201、1202、1210、1220は電源系として使用さ
れ、他のバンプは信号系として使用される。
した半導体チップにおいて、第2の実施例と同様の効果
を得ることができる。図4は、この発明の他の例を示す
ものである。この例は第3の実施例と同様に、バンプを
エリア配置し、半導体チップ11の最外周部に位置する
全バンプ1200〜120n、1201〜12n0(バンプ12
0n、12n0は図示していない)を電源系として使用し、
これらバンプより内側のバンプを信号系として使用して
いる。
位置するバンプのうち、例えばバンプ1200、1202、
1204、1206、1220、1240、1260は接地配線1
3に接続され、バンプ1201、1203、1205、1
210、1230、1250は電源配線14に接続されてい
る。尚、各バンプと接地配線13、電源配線14との接
続関係はこれに限定されない。
周部に位置する全バンプを電源系として使用しているた
め、フェイルセーフ機能を一層高めることができる。す
なわち、バンプをエリア配置した場合、半導体チップ1
1のコーナー部に配置されたバンプ以外に、周辺部に配
置されたバンプも疲労破壊が発生する確率が高くなる。
このため、周辺部のバンプを信号系とした場合、これら
バンプの破壊に伴い誤動作が発生し、システムレベルで
の信頼性を低下することとなる。しかし、この実施例の
ように、半導体チップ11の最外周部に位置する全バン
プを電源系とした場合、周辺部のバンプに破壊が発生し
た場合においても、これが致命的な不良とはならない。
したがって、システムの信頼性を向上できる。
内側に電源系のバンプを配置する場合に比較して、電源
系の配線の引き回しが容易且つ短くなり、電源系のノイ
ズを低減できる。
のである。この実施例はエリア配置した複数のバンプの
うち、半導体チップ11の各コーナー部に位置する少な
くとも3×3個のバンプを電源系として使用し、これら
以外のバンプを信号系として使用している。
置する3×3個のバンプ1200、1201、1202、12
10、1211、1212、1220、1221、1222のうち、
例えばバンプ1200、1202、1220は接地配線13に
接続され、バンプ1201、1210、1211、1212、1
221、1222は電源配線14に接続されている。
の各コーナー部に他の部分よりサイズの大きなダミーバ
ンプを配置した場合より、バンプの破壊に効果があり、
且つ、ダミーバンプと比較して、電源系のバンプの数を
多くできるため、電源系のノイズを低減できる。
り、図4の例を変形したものである。図6において、図
4と同一部分には同一符号を付す。図4の例は半導体チ
ップ11の最外周部に位置する全バンプを電源系として
使用し、これらバンプより内側のバンプを信号系として
使用している。これに対して、この実施例は最外周部及
び第2周部の全バンプを電源系として使用し、その他の
バンプを信号系として使用している。
位置するバンプのうち、例えばバンプ1200、1202、
1204、1206、1220、1240、1260、1202は接
地配線13に接続され、バンプ1201、1203、1
205、1210、1230、1250は電源配線14に接続さ
れている。さらに、最外周部より内側のバンプのうち、
バンプ1214、1216、1221、1241、1261は接地
配線13に接続され、バンプ1211、1213、1215、
1231、1251は電源配線14に接続されている。
フェイルセーフ機能を向上できる。さらに、半導体チッ
プの内側に電源系のバンプを設置する場合に比べて、チ
ップ上の電源系の配線の引き回しを短くでき、且つ配線
が容易となる。したがって、電源系のノイズを低減でき
る。
り、図5の例と図6の例を組み合わせたものである。図
7において、図5、図6と同一部分には同一符号を付
す。すなわち、この例は半導体チップ11の各コーナー
部に位置する3×3個のバンプを含み、且つ最外周部及
び第2周部の全バンプを電源系として使用し、その他の
バンプを信号系として使用している。
て一層フェイルセーフ機能を向上できるとともに、電源
系のノイズを低減でき、システムレベルの信頼性を向上
できる。
明の第5の実施例を示すものである。この実施例はバン
プ1200、1201、1202、1210、1211、1212を
電源系とし、残りのバンプを信号系としたものである。
すなわち、半導体チップ11の各コーナー部に、コーナ
ーを頂点とする三角形状に電源系のバンプを配置してい
る。このような構成とした場合においても、第4の実施
例と同様の効果を得ることができる。
の形状は正方形であっても長方形であってもよい。さら
に、電源系としたバンプにおいて、それを設置配線に接
続するか電源配線に接続するかは、電源系のバンプの総
数、ノイズマージン、及び他の回路配線との整合性等、
基本設計の容易性を考慮して決定すればよい。
=95/5%組成、共晶組成等のハンダ合金に限定され
るものではなく、Pb/Snを主成分とし、Ag、P
d、Sb、Bi等の添加合金を含むハンダ合金、又は合
金の主成分として、Pbを含まない低融点金属等、半導
体チップの用途、長期信頼性、形成プロセスを考慮して
適宜選択すればよい。その他、この発明の要旨を変えな
い範囲において、種々変形実施可能なことは勿論であ
る。
ば、複数の突起電極を電源系の突起電極として使用して
いるため、その一部が破壊した場合においても、残りの
電源系の突起電極から半導体素子に電源を供給すること
ができるため、フェイルセイフ機能を得ることができ
る。
る複数の突起電極を電源系の突起電極として使用してい
るため、電源系配線のインダクタンスを実質的に低下で
き、電源系のノイズを低減できる。
コーナー部以外の位置に配置されている。したがって、
従来と同数の突起電極、従来と同一サイズの突起電極に
よって信号系の突起電極の破壊を防止でき、長期信頼性
を確保できるとともに信頼性に対するマージンを大きく
することができる。
よりサイズの大きなダミーバンプを配置した場合と比較
して、不要なバンプの数を削減できるため、半導体素子
の微細化や多ピン化に容易に対応することが可能であ
る。
13…接地配線、14…電源配線。
Claims (15)
- 【請求項1】 能動素子が形成され、複数のコーナー部
を有する周辺部を持つ半導体チップと、 前記半導体チップ内に配置された電源配線と、 前記半導体チップ内に配置された信号配線と、 前記半導体チップの周辺部の表面に沿って配置され、前
記半導体チップを基板に接続するための複数の突起電極
とを具備し、 前記複数の突起電極のうち前記コーナー部に形成された
複数の突起電極は前記電源配線に接続され、前記コーナ
ー部以外に形成された突起電極は前記信号配線に接続さ
れることを特徴とする半導体装置。 - 【請求項2】 能動素子が形成され、複数のコーナー部
を有する周辺部を持つ半導体チップと、 前記半導体チップ内に配置された電源配線と、 前記半導体チップ内に配置された信号配線と、 前記半導体チップの表面に亘って行及び列方向に配置さ
れ、前記半導体チップを基板に接続するため使用される
複数の突起電極とを具備し、 前記複数の突起電極のうち前記コーナー部に形成された
複数の突起電極は前記電源配線に接続され、前記周辺部
のコーナー部以外に形成された突起電極は前記信号配線
に接続されることを特徴とする半導体装置。 - 【請求項3】 前記突起電極の前記コーナー部に位置す
る3つは、前記電源配線に接続されることを特徴とする
請求項1記載の半導体装置。 - 【請求項4】 前記突起電極の前記コーナー部から少な
くとも3番目までは、前記電源配線に接続されることを
特徴とする請求項2記載の半導体装置。 - 【請求項5】 前記コーナー部に配置された前記複数の
突起電極は、インダクタンスを低減するため前記電源配
線に並列接続されていることを特徴とする請求項1又は
2記載の半導体装置。 - 【請求項6】 前記半導体チップ内に配置された接地配
線をさらに有し、前記電源配線と接地配線は前記半導体
チップの周辺に沿って配置され、前記コーナー部に形成
された複数の突起電極は、前記電源配線及び接地配線の
一方に接続されることを特徴とする請求項1又は2記載
の半導体装置。 - 【請求項7】 前記信号配線は、出力バッファの出力端
に接続されることを特徴とする請求項1又は2記載の半
導体装置。 - 【請求項8】 前記突起電極は、低融点金属により形成
されていることを特徴とする請求項1又は2記載の半導
体装置。 - 【請求項9】 前記電源配線に接続される複数の前記突
起電極は、3×3のマトリクスパターンに配置されるこ
とを特徴とする請求項2記載の半導体装置。 - 【請求項10】 能動素子が形成され、複数のコーナー
部を有する周辺部を持つ半導体チップと、 前記半導体チップ内に配置された第1の電源配線と、 前記半導体チップ内に配置された第2の電源配線と、 前記半導体チップ内に配置された信号配線と、 前記半導体チップのコーナー部の表面に配置され、前記
第1、第2の電源配線に接続され、前記半導体チップを
基板に接続するための複数の突起電極からなる第1の突
起電極群と、 前記半導体チップの前記コーナー部以外の表面に配置さ
れ、前記信号配線に接続された複数の突起電極からなる
第2の突起電極群とを具備することを特徴とする半導体
装置。 - 【請求項11】 前記第1の突起電極群の前記コーナー
部から3番目までの突起電極は、前記第1、第2の電源
配線に接続されることを特徴とする請求項10記載の半
導体装置。 - 【請求項12】 前記第1、第2の電源配線に接続され
る前記第1の突起電極群の突起電極は、3×3のマトリ
クスパターンに配置されることを特徴とする請求項10
記載の半導体装置。 - 【請求項13】 前記信号配線は、出力バッファの出力
端に接続されることを特徴とする請求項10記載の半導
体装置。 - 【請求項14】 前記第1、第2の突起電極群の突起電
極は、低融点金属により形成されていることを特徴とす
る請求項10記載の半導体装置。 - 【請求項15】 前記第1の電源配線は接地配線であ
り、前記第2の電源配線は高電位配線であり、前記第
1、第2の電源配線は、前記半導体チップの周辺に沿っ
て配置され、前記コーナー部に形成された突起電極は、
前記第1、第2の電源配線に接続されることを特徴とす
る請求項10記載の半導体装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP00250995A JP3412942B2 (ja) | 1995-01-11 | 1995-01-11 | 半導体装置 |
US08/582,580 US5814891A (en) | 1995-01-11 | 1996-01-03 | Flip-chip connecting type semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP00250995A JP3412942B2 (ja) | 1995-01-11 | 1995-01-11 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08191071A JPH08191071A (ja) | 1996-07-23 |
JP3412942B2 true JP3412942B2 (ja) | 2003-06-03 |
Family
ID=11531350
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP00250995A Expired - Fee Related JP3412942B2 (ja) | 1995-01-11 | 1995-01-11 | 半導体装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5814891A (ja) |
JP (1) | JP3412942B2 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6317333B1 (en) * | 1997-08-28 | 2001-11-13 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Package construction of semiconductor device |
JP2000021939A (ja) | 1998-06-29 | 2000-01-21 | Mitsubishi Electric Corp | 突起電極付半導体チップおよびその検査方法 |
US6927491B1 (en) * | 1998-12-04 | 2005-08-09 | Nec Corporation | Back electrode type electronic part and electronic assembly with the same mounted on printed circuit board |
US6175160B1 (en) * | 1999-01-08 | 2001-01-16 | Intel Corporation | Flip-chip having an on-chip cache memory |
US6246121B1 (en) * | 1999-04-12 | 2001-06-12 | Vlsi Technology, Inc. | High performance flip-chip semiconductor device |
US6031293A (en) * | 1999-04-26 | 2000-02-29 | United Microelectronics Corporation | Package-free bonding pad structure |
US6242815B1 (en) * | 1999-12-07 | 2001-06-05 | Advanced Semiconductor Engineering, Inc. | Flexible substrate based ball grid array (BGA) package |
US6550665B1 (en) * | 2001-06-06 | 2003-04-22 | Indigo Systems Corporation | Method for electrically interconnecting large contact arrays using eutectic alloy bumping |
US6768206B2 (en) * | 2002-05-07 | 2004-07-27 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Organic substrate for flip chip bonding |
JP2004104102A (ja) * | 2002-08-21 | 2004-04-02 | Seiko Epson Corp | 半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器 |
JP3908148B2 (ja) * | 2002-10-28 | 2007-04-25 | シャープ株式会社 | 積層型半導体装置 |
US6960830B2 (en) * | 2002-10-31 | 2005-11-01 | Rohm Co., Ltd. | Semiconductor integrated circuit device with dummy bumps |
KR101113031B1 (ko) | 2009-09-25 | 2012-02-27 | 주식회사 실리콘웍스 | 드라이버 집적회로 칩의 패드 배치 구조 |
KR20130110959A (ko) * | 2012-03-30 | 2013-10-10 | 삼성전자주식회사 | 반도체 패키지 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4338621A (en) * | 1980-02-04 | 1982-07-06 | Burroughs Corporation | Hermetic integrated circuit package for high density high power applications |
JPS63245952A (ja) * | 1987-04-01 | 1988-10-13 | Hitachi Ltd | マルチチップモジュ−ル構造体 |
US5089881A (en) * | 1988-11-03 | 1992-02-18 | Micro Substrates, Inc. | Fine-pitch chip carrier |
US4994902A (en) * | 1988-11-30 | 1991-02-19 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor devices and electronic system incorporating them |
JP3185271B2 (ja) * | 1991-09-13 | 2001-07-09 | 日本電気株式会社 | 半導体集積回路 |
KR940704114A (ko) * | 1991-12-18 | 1994-12-12 | 마이클 레비스 | 필드 프로그래머블 게이트 어레이용 확장 구조(extended architecture for field programmable gate array) |
-
1995
- 1995-01-11 JP JP00250995A patent/JP3412942B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-01-03 US US08/582,580 patent/US5814891A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5814891A (en) | 1998-09-29 |
JPH08191071A (ja) | 1996-07-23 |
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