JP3412652B2 - ポリカーボネートの製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、いわゆるエステル交換
反応によるポリカーボネートの製造方法に関し、詳しく
は、色相、熱安定性に優れたポリカーボネートの製造方
法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来ポリカーボネートの製造方法として
は、芳香族ジヒドロキシ化合物とホスゲンとを直接反応
させる方法〔界面法〕、あるいは芳香族ジヒドロキシ化
合物と炭酸ジエステルとをエステル交換させる方法〔エ
ステル交換法〕がある。界面法は有害なホスゲンやハロ
ゲン系溶剤である塩化メチレンを使用するため、最近、
環境保全の面からエステル交換法が見直されている。

【０００３】エステル交換反応においては、通常触媒と
してアルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物など
を用いて行われる。しかしながら、これら触媒を用いる
方法では、重縮合中に反応生成物が着色し、色相、熱安
定性に問題を生じている。このため、エステル交換反応
時の触媒として、特殊な構造をもつ化合物の単独使用ま
たはアルカリ金属化合物類との併用、あるいはこれら触
媒にホウ素系化合物やリン系化合物とヒンダードフェノ
ール化合物等を併用することが知られている。例えば、

【０００４】（１）触媒として一般式ＭＢＨ_n Ｒ_4-n で
表されるホウ素含有化合物を使用する方法。（米国特許
第４３３０６６４号） （２）触媒としてＫＢＨ₄を使用し、フェニルホスホン
酸ジアルキルを併用する方法。（特開昭６２−１５８７
１９号） （３）触媒として，ＭＢＨ₄ を使用し、第４級アンモニ
ウムボロハイドライド等を併用する方法。（特開昭６３
−４３９２４号） （４）第４級チッソ化合物触媒の存在下、フォスフォナ
イト系化合物及びヒンダードフェノール系化合物を併用
する方法（特開昭６１−１５１２３６号） 等がある。

【０００５】また、重合終了後のポリカーボネートの熱
安定性を改良する方法として、 （５）特定のリン系化合物、フェノール系化合物を添加
する方法（特開平４−７７５４９号）。 （６）イオウ含有酸性化合物、リン化合物を添加する方
法（特開平４−３２８１２４号）等がある。 しかしながら、これらの方法でも、未だ色相、熱安定性
が十分に優れたポリカーボネートを得ることは困難であ
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、エス
テル交換法で得られる芳香族ポリカーボネートの品質上
の問題点を解決しようとするものであって、色相、熱安
定性が改良された芳香族ポリカーボネートの製造方法を
提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者等はこれらの問
題点を解決すべく、鋭意検討を行った結果、特定の触媒
系を用いた溶融重縮合法により製造した芳香族ポリカー
ボネート樹脂を、リン系化合物単独、または、更に、リ
ン系化合物とフェノール系化合物から選ばれる安定剤と
組み合わせることにより、色相、熱安定性が改良された
芳香族ポリカーボネートを提供できることを見いだし、
本発明の方法に到達した。

【０００８】すなわち、本発明は、芳香族ジヒドロキシ
化合物と炭酸ジエステルとを、下記一般式（１）で表さ
れるホウ素系化合物の金属塩と特定のフェノール系化合
物を含む触媒系を用いてエステル交換反応させて得られ
るポリカーボネート１００重量部に、（イ）リン系化合
物単独、または（ロ）リン系化合物とフェノール系化合
物を０．００１〜０．５重量部添加することを特徴とす
るポリカーボネートの製造方法に関する。 ＭＢ（Ｒ₁ ）_n （Ｒ₂ ）_4-n （１） （式中、Ｒ₁ ，Ｒ₂ はアルキル基、フェニル基またはア
ルキル置換フェニル基を表し、Ｒ₁ ，Ｒ₂ は同一または
相互に異なるものでも良く、Ｍはアルカリ金属化合物又
はアルカリ土類金属化合物を表し、ｎは０〜４の整数を
表す。）

【０００９】本発明に係るポリカーボネートの製造方法
によれば、反応性が向上し得られるポリマーの分子量が
十分に高くすることができると共に、重縮合直後及び加
熱溶融後の色相に優れた熱安定性の良好なポリカーボネ
ートが経済性よく得られる。

【００１０】本発明に係るポリカーボネートの製造方法
について、以下具体的に説明する。本発明で用いられる
芳香族ジヒドロキシ化合物類としては、下記一般式
（２）で示される化合物を挙げることができる。

【００１１】

【化３】

【００１２】（式中、Ａは単結合、炭素数１〜１５の置
換又は未置換の直鎖状、分岐状又は環状の２価の炭化水
素基、および−Ｏ−、−Ｓ−，−ＣＯ−，−ＳＯ−，−
ＳＯ₂−で示される２価の基からなる群から選ばれるも
のであり，Ｘ及びＹは同一または相互に異なるものであ
って、ハロゲン、又は炭素数１〜６の炭化水素基から選
ばれる物であり，ｐ及びｑは０〜２の整数である。）

【００１３】上記芳香族ジヒドロキシ化合物としては、
具体的には、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，
２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２
−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）
プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
エチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロ
キシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン、２，２−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）フェニルメタン、１，１−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４，４’
−ジヒドロキシジフェニルエ−テル、４，４’−ジヒド
ロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエ−テル、４，
４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’−
ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルフィ
ド、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、
４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニ
ルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシジフェニルス
ルホン、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチル
ジフェニルスルホン等を挙げることができる。これらの
うちでは、特に２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパンが好ましく用いられる。または、これらの
芳香族ジヒドロキシ化合物は、単独であるいは組み合わ
せて用いることができる。

【００１４】本発明で用いられる炭酸ジエステルは、下
記一般式（３）で表される化合物である。

【化４】

【００１５】上記一般式（３）で表される炭酸ジエステ
ルは、例えば、ジフェニルカーボネート及び置換ジフェ
ニルカーボネート、ジトリルカーボネート、ジメチルカ
ーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネ
ート、ジシクロヘキシルカーボネート等を挙げることが
できるが、特にジフェニルカーボネート、置換ジフェニ
ルカーボネートが好ましい。これらの炭酸ジエステル
は、単独あるいは２種以上を混合して用いてもよい。

【００１６】また、上記のような炭酸ジエステルと共
に、好ましくは５０モル％以下さらに好ましくは３０モ
ル％以下のジカルボン酸あるいはジカルボン酸エステル
を使用してもよい。このようなジカルボン酸あるいはジ
カルボン酸エステルとしては、テレフタル酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸ジフェニル、イソフタル酸ジフェニ
ル等が用いられる。このようなジカルボン酸あるいはジ
カルボン酸エステルを炭酸ジエステルと併用した場合に
は、ポリエステルカーボネートが得られる。

【００１７】これら炭酸ジエステル化合物は、芳香族ジ
ヒドロキシ化合物１モルに対して過剰に用いられるのが
一般的であり、１．０１〜１．３０モル、好ましくは
１．０２〜１．２０モルの量で用いることが望ましい。

【００１８】また本発明では、ポリカーボネートを製造
するに際して、上記のような芳香族ジヒドロキシ化合物
と炭酸ジエステルとともに、１分子中に３個以上の官能
基を有する多官能性化合物を用いることもできる。この
ような多官性能化合物としては、フェノール性水酸基ま
たはカルボキシル基を有する化合物が好ましく、特にフ
ェノール性水酸基を３個含有する化合物が好ましい。

【００１９】この多官能性化合物は具体的には、フロロ
グルシン、２，６−ジメチル−２，４，６−トリ（４−
ヒドロキシフェニル）ヘプテン−３、４，６−ジメチル
−２，４，６−トリ（４−ヒドロキシフェニル）ヘプテ
ン−２、１，３，５−トリ（２−ヒドロキシフェニル）
ベンゾール、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェ
ニル）エタン、２，６−ビス（２−ヒドロキシ−５−メ
チルベンジル）−４−メチルフェノール、３，３−ビス
（４−ヒドロキシアリール）オキシインド−ル（＝イサ
チンビスフェノール）、５−クロルイサチンビスフェノ
ール、５−ブロムイサチンビスフェノール、トリメリッ
ト酸、１，３，５−ベンゼントリカルボン酸、ピロメリ
ット酸等が挙げられる。多官能性化合物は芳香族ジオ−
ル化合物１モルに対して、通常０．０１〜３モル％、好
ましくは０．０５〜１モル％の範囲で用いられる。

【００２０】本発明の特徴は、前記一般式（１）で表さ
れるホウ素系化合物の金属塩をエステル交換触媒として
用いることにある。

【００２１】前記一般式（１）で表されるホウ素系化合
物の具体例としては、テトラメチルホウ素、テトラエチ
ルホウ素、テトラプロピルホウ素、テトラブチルホウ
素、トリメチルエチルホウ素、トリメチルベンジルホウ
素、トリメチルフェニルホウ素、トリエチルメチルホウ
素、トリエチルベンジルホウ素、トリエチルフェニルホ
ウ素、トリブチルメチルホウ素、トリブチルベンジルホ
ウ素、トリブチルフェニルホウ素、テトラフェニルホウ
素、ベンジルトリフェニルホウ素、メチルトリフェニル
ホウ素、エチルトリフェニルホウ素、ブチルトリフェニ
ルホウ素等のナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩、
カルシウム塩、マグネシウム塩、バリウム塩、ストロン
チウム塩等を挙げることができる。

【００２２】上記したホウ素系化合物の金属塩の中で
も、特に、テトラフェニルホウ素、ベンジルトリフェニ
ルホウ素、メチルトリフェニルホウ素、エチルトリフェ
ニルホウ素、ブチルトリフェニルホウ素等のナトリウム
塩、カリウム塩が好ましい。これらホウ素系化合物は単
独あるいは２種以上混合して用いてもよい。

【００２３】本発明の方法において使用されるホウ素系
化合物の使用量は、芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに
対して、１×１０^-9〜１×１０^-3モルの量で、好ましく
は１×１０^-7〜１×１０^-5モルの量で用いられる。

【００２４】また、本発明は、特定のフェノール系化合
物を溶融重縮合反応条件下に用いることがもう一つの特
徴である。この特定のフェノール系化合物は、２，２’
−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−
ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル
−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、
２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキ
シ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリ
レート、２−〔１−（２−ヒロドキシ−３，５−ジ−ｔ
−ペンチルフェニル）エチル〕−４，６−ジ−ｔ−ペン
チルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデンビス
（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’
−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル）、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−
ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート〕、ｎ−オクタデシル−３−（４’−ヒ
ドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロ
ピオネートから選ばれた少なくとも１種である。

【００２５】上記した特定のフェノール系化合物の中で
も、特に、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−
ｔ−ブチルフェノール）、２−ｔ−ブチル−６−（３−
ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−
４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデ
ンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、
１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト〕が好ましい。これら特定のフェノール系化合物は単
独あるいは２種以上混合して用いてもよい。

【００２６】本発明の方法において使用される特定のフ
ェノール系化合物の使用量は、エステル交換反応時にお
いてポリマーの色相悪化を実質的に阻止するに十分な量
である。その使用量は、一般的には芳香族ジヒドロキシ
化合物１モルに対して、１×１０^-7〜１×１０^-2モルの
量で、好ましくは１×１０^-5〜１×１０^-3モルの量で用
いられる。

【００２７】本発明の特定のフェノール系化合物の添加
時期は、エステル交換反応工程中であれば特に限定され
ないが、反応工程において最高温度に到達するまでに反
応系中に添加することが必要である。簡便には、反応の
初期から、すなわち原料モノマーである芳香族ジヒドロ
キシ化合物、炭酸ジエステル化合物と同時に添加混合す
る方法である。

【００２８】本発明におけるエステル交換反応は、反応
工程中に前記の一般式（１）で表されるホウ素系化合物
の金属塩を使用すること、および、特定のフェノール系
化合物を添加する以外は公知の芳香族ポリカーボネート
の溶融重縮合法により行うことができる。すなわち、前
記の原料を用いて、加熱下に常圧又は減圧下にエステル
交換反応により副生物を除去しながら溶融重縮合を行う
ものであるが、反応は一般には二段階以上の多段工程で
実施される。

【００２９】具体的には、第１段目の反応を１２０〜２
６０℃、好ましくは１８０〜２４０℃の温度で０〜５時
間好ましくは０．５〜３時間反応させる。次いで反応系
の減圧度をあげながら反応温度を高めて芳香族ジヒドロ
キシ化合物と炭酸ジエステルとの反応を行い、最終的に
は１ｍｍＨｇ以下の減圧下、２４０〜３２０℃の温度で
重縮合反応を行う。上記のような芳香族ジヒドロキシ化
合物と炭酸ジエステルとの反応は、連続式で行ってもよ
くまたバッチ式で行ってもよい。また、上記の反応を行
うに際して用いられる反応装置は、槽型であっても管型
であっても塔型であってもよい。

【００３０】次に、本発明において重合終了後に添加さ
れるリン系化合物およびフェノール系化合物について記
述する。

【００３１】リン系化合物としては、例えば、ビス
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリト
ール−ジ−ホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−
ホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ
−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、４，４’−
イソプロピリデン−ジフェノールアルキルホスファイ
ト、ジフェニルデシルホスファイト、ジフェニルイソオ
クチルホスファイト、フェニルイソオクチルホスファイ
ト、２−エチルヘキシルジフェニルホスファイト等のア
リールアルキルホスファイト；トリシクロヘキシルホス
ファイト等のトリシクロアルキルホスファイト；トリフ
ェニルホスファイト、トリクレジルホスファイト、トリ
ス（エチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−
ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（ノリ
ルフェニル）ホスファイト、トリス（ヒドロキシフェニ
ル）ホスファイト等のトリアリールホスファイト；トリ
メチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブ
チルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリデ
シルホスフェート、トリオクタデシルホスフェート、ジ
ステアリルペンタエリスリトールジホスフェート等のト
リアルキルホスフェート；トリシクロヘキシルホスフェ
ート等のトリシクロアルキルホスフェート；トリフェニ
ルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリス
（ノリルフェニル）ホスフェート、２−エチルフェニル
ジフェニルホスフェート等のトリアリールホスフェート
等、および亜リン酸が挙げられ、これらを単独で用いて
も２種以上混合してもよい。

【００３２】これらのうち、特にビス（２，４−ジ−ｔ
−ブチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスフ
ァイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフ
ェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、
２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）オクチルホスファイト、４，４’−イソプロピリデ
ン−ジフェノールアルキルホスファイト、トリス（２，
４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトが好ましく
用いられる。

【００３３】フェノール系化合物としては、前記した触
媒系に用いる化合物の他に、例えば、ペンタエリスリチ
ル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル
−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネ−ト、１，３，５−トリメチル−２，
４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）ベンゼン、４−ヒドロキシメチル−２，
６−ジ−ｔ−ブチルフェノール等が挙げられ、これらを
単独で用いても２種以上用いてもよい。

【００３４】これらのうち、特に、トリエチレングリコ
ール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１．６−ヘキ
サンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、ｎ−オク
タデシル−３−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−
ｔブチルフェニル）プロピオネート等が好適である。

【００３５】ポリカーボネートへの添加剤の組合せは、
リン系化合物単独及びリン系化合物とフェノール系化合
物の組合せが好ましく、フェノール系化合物単独は好ま
しくない。リン系化合物、及びフェノール系化合物は、
各々芳香族ポリカーボネート１００重量部に対して、
０．００１〜０．５重量部、好ましくは０．００５〜
０．１重量部が使用される。

【００３６】さらに本発明において、上記熱安定剤の他
に、顔料、染料、強化剤や充填剤、紫外線吸収剤、滑
剤、離型剤、結晶核剤、可塑剤、流動性改良剤、帯電防
止剤などを添加することができる。これら添加剤は、従
来から公知の方法で各成分を芳香族ポリカーボネート樹
脂に混合することができる。例えば、各成分をターンブ
ルミキサーやヘンシェルミキサー、リボンブレンダー、
スーパーミキサーで代表される高速ミキサーで分散混合
した後、押出機、バンバリ−ミキサ−、ロ−ル等で溶融
混練する方法が適宜選択される。

【００３７】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明は以下の実施例になんらの制限を受けるも
のではない。尚、得られたポリカーボネートの評価は、
以下の方法により行った。

【００３８】（１）分子量 ウベローデ粘度計を用いて、塩化メチレン中２０℃の極
限粘度［η］を測定し、以下の式より求めた。 ［η］＝１．１１×１０^-4（Ｍｖ）^0.83

【００３９】（２）色相 得られたポリカーボネート４ｇを塩化メチレン２５ｍｌ
に溶解し、ＡＰＨＡ標準液にて目視で判定した。（値が
小さい方が色相は良好）

【００４０】（３）末端ＯＨ量 四塩化チタン／酢酸法(Makromol Chem.88 215(1965))に
より比色定量を行った。

【００４１】実施例１ ２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１１
４ｇ（０．５０モル）、ジフェニルカーボネート１１８
ｇ（０．５５モル）、テトラフェニルホウ素ナトリウム
塩７．５×１０^-7モル、２，２′−メチレンビス（４−
エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）７．５×１０^-5モ
ルを１リットルの撹拌機及び留出装置付の反応器に入
れ、窒素雰囲気下、１８０℃で０．５時間保持した後、
減圧度を１００ｍｍＨｇに調整すると同時に、２５℃／
ｈｒの速度で２８０℃まで昇温を行った。昇温開始後約
１時間経過時に反応容器内の減圧度を５０ｍｍＨｇと
し、0らにその１時間経過後に減圧度を１ｍｍＨｇ以下
とし、合計約６時間撹拌下反応を行った。

【００４２】反応終了後、反応器内に窒素を吹き込み常
圧に戻し、生成ポリカーボネート樹脂１００重量部に対
し、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスフ
ァイト０．０５重量部、１．６−ヘキサンジオール−ビ
ス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオネート〕０．０５重量部を添加し、２
８０℃で１０分間撹拌混合した後、反応器よりポリカー
ボネートを抜き出し、押出機、ペレタイザーによりペレ
ット化した。得られたポリカーボネートは、Ｍｖ= ２４
０００、末端ＯＨ= ０．００９重量％、溶融前ＡＰＨＡ
５〜１０、溶融後ＡＰＨＡ１０と着色度は小さく、色
相、熱安定性は良好であった。

【００４３】実施例２〜４、及び比較例１ 触媒系を構成するソウ素系化合物類、特定のフェノール
系化合物の種類、量、および重合終了後に添加するリン
系化合物、フェノール系化合物の種類、量を表−１に示
したように用いる以外は、実施例１と同様に行った。結
果を表−１に示す。

【００４４】比較例２〜４ 触媒系のホウ素系化合物および特定のフェノール系化合
物の代わりに、アルカリ金属化合物またはアルカリ土類
金属化合物を使用し、また、重合終了後にリン系化合
物、およびフェノール系化合物を添加しない以外は、実
施例１と同様に行った。結果を表−２に示す。

【００４５】

【表１】

【００４６】但し、表中 溶融後のＡＰＨＡ；窒素気流下３２０℃で１時間加熱後
の色相を評価した。

【００４７】ホウ素系化合物の金属塩、、、
は、下記のものを示す。 ； テトラフェニルホウ素のカリウム塩、 ； ベンジルトリフェニルホウ素のナトリウム塩、 ； メチルトリフェニルホウ素のカリウム塩、 ； エチルトリフェニルホウ素のナトリウム塩、

【００４８】フェノ−ル系化合物Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、
Ｆは、下記の化合物を示す。 Ａ； ２，２′−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−
ブチルフェノール）、 Ｂ； ４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ
−ブチルフェノール）、 Ｃ； ２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒ
ドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニル
アクリレート、 Ｄ； １．６−ヘキサンジオ−ル−ビス〔３−（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート〕、 Ｅ； ｎ−オクタデシル−３−（４’−ヒドロキシ−
３’，５’−ジ−ｔブチルフェニル）プロピオネート、 Ｆ； トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−
ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オネート〕、

【００４９】リン系化合物イ、ロ、ハ、ニは、下記の化
合物を示す。 イ； ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタ
エリスリトール−ジ−ホスファイト、 ロ； ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェ
ニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、 ハ； ２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチル
フェニル）オクチルホスファイト、 ニ； ４，４’−イソプロピリデン−ジフェノ−ルアル
キルホスファイト、

【００５０】

【表２】

【００５１】

【本発明の効果】本発明の方法によれば、エステル交換
法により、色相、熱安定性に優れたポリカーボネートを
製造することができ、工業的にも極めて有効な方法であ
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−284916（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C08G 64/00 - 64/42

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエス
   テルとを、該芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対し、
   触媒系として、（ａ）下記一般式（１）で表されるホウ
   素系化合物の金属塩を１×１０ ^-9 〜１×１０ ^-3 モルと、
   （ｂ）特定のフェノール系化合物を１×１０ ^-7 〜１×１
   ０ ^-2 モル用いてエステル交換反応させて得られるポリカ
   ーボネート１００重量部に、（イ）リン系化合物単独、
   または（ロ）リン系化合物とフェノール系化合物を０．
   ００１〜０．５重量部添加することを特徴とするポリカ
   ーボネートの製造方法。 ＭＢ（Ｒ₁ ）_n （Ｒ₂ ）_4-n （１） （式中、Ｒ₁ ，Ｒ₂ はアルキル基、フェニル基またはア
   ルキル置換フェニル基を表し、Ｒ₁ ，Ｒ₂ は同一または
   相互に異なるものでも良く、Ｍはアルカリ金属化合物又
   はアルカリ土類金属化合物を表し、ｎは０〜４の整数を
   表す。）
2. 【請求項２】 ホウ素系化合物の金属塩が、テトラメチ
   ルホウ素、テトラエチルホウ素、テトラプロピルホウ
   素、テトラブチルホウ素、トリメチルエチルホウ素、ト
   リメチルベンジルホウ素、トリメチルフェニルホウ素、
   トリエチルメチルホウ素、トリエチルベンジルホウ素、
   トリエチルフェニルホウ素、トリブチルメチルホウ素、
   トリブチルベンジルホウ素、トリブチルフェニルホウ
   素、テトラフェニルホウ素、ベンジルトリフェニルホウ
   素、メチルトリフェニルホウ素、エチルトリフェニルホ
   ウ素、ブチルトリフェニルホウ素等のナトリウム塩、カ
   リウム塩、リチウム塩、カルシウム塩、マグネシウム
   塩、バリウム塩、ストロンチウム塩の少なくとも一種で
   ある請求項１記載の方法。
3. 【請求項３】 ホウ素系化合物の金属塩が、テトラフェ
   ニルホウ素、ベンジルトリフェニルホウ素、メチルトリ
   フェニルホウ素、エチルトリフェニルホウ素、ブチルト
   リフェニルホウ素等のナトリウム塩、カリウム塩の少な
   くとも一種である請求項１記載の方法。
4. 【請求項４】 リン系化合物が、アリールアルキルホス
   ファイト、トリアリールホスファイト、トリシクロアル
   キルホスファイト、トリアルキルホスフェート、トリシ
   クロアルキルホスフェート、トリアリールホスフェート
   および亜リン酸から選ばれる少なくとも一種である請求
   項１記載の方法。
5. 【請求項５】 リン系化合物が、ビス（２，４−ジ−ｔ
   −ブチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスフ
   ァイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフ
   ェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、
   ２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニ
   ル）オクチルホスファイト、４，４’−イソプロピリデ
   ン−ジフェノールアルキルホスファイト、ジフェニルデ
   シルホスファイト、ジフェニルイソオクチルホスファイ
   ト、フェニルイソオクチルホスファイト、２−エチルヘ
   キシルジフェニルホスファイト、トリシクロヘキシルホ
   スファイト、トリフェニルホスファイト、トリクレジル
   ホスファイト、トリス（エチルフェニル）ホスファイ
   ト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスフ
   ァイト、トリス（ノリルフェニル）ホスファイト、トリ
   ス（ヒドロキシフェニル）ホスファイト、トリメチルホ
   スフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホス
   フェート、トリオクチルホスフェート、トリデシルホス
   フェート、トリオクタデシルホスフェート、ジステアリ
   ルペンタエリスリトールジホスフェート、トリシクロヘ
   キシルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリ
   クレジルホスフェート、トリス（ノリルフェニル）ホス
   フェート、２−エチルフェニルジフェニルホスフェート
   および亜リン酸から選ばれる少なくとも一種である請求
   項１記載の方法。
6. 【請求項６】 リン系化合物が、ビス（２，４−ジ−ｔ
   −ブチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスフ
   ァイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフ
   ェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、
   ２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニ
   ル）オクチルホスファイト、４，４’−イソプロピリデ
   ン−ジフェノールアルキルホスファイト、トリス（２，
   ４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトから選ばれ
   る少なくとも一種である請求項１記載の方法。
7. 【請求項７】 特定のフェノール系化合物が、２，２’
   −メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
   ル）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−
   ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル
   −４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、
   ２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキ
   シ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリ
   レート、２−〔１−（２−ヒロドキシ−３，５−ジ−ｔ
   −ペンチルフェニル）エチル〕−４，６−ジ−ｔ−ペン
   チルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデンビス
   （３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’
   −チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
   ル）、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−
   ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
   オネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−
   （３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
   プロピオネート〕、ｎ−オクタデシル−３−（４’−ヒ
   ドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロ
   ピオネートから選ばれた少なくとも１種である請求項１
   記載の方法。
8. 【請求項８】 フェノール系化合物が、２，２’−メチ
   レンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、
   ２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキ
   シ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリ
   レート、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−
   ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メ
   チル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，６−ヘキサン
   ジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
   ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、ｎ−オクタデ
   シル−３−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−
   ブチルフェニル）プロピオネート、トリエチレングリコ
   ール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−
   ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕から選ばれた少
   なくとも一種である請求項１記載の方法。