JP3412653B2 - ポリカーボネートの製造方法 - Google Patents
ポリカーボネートの製造方法Info
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- JP3412653B2 JP3412653B2 JP04008394A JP4008394A JP3412653B2 JP 3412653 B2 JP3412653 B2 JP 3412653B2 JP 04008394 A JP04008394 A JP 04008394A JP 4008394 A JP4008394 A JP 4008394A JP 3412653 B2 JP3412653 B2 JP 3412653B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、いわゆるエステル交換
反応によるポリカーボネートの製造方法に関し、詳しく
は、色相、熱安定性に優れたポリカーボネートの製造方
法に関する。
反応によるポリカーボネートの製造方法に関し、詳しく
は、色相、熱安定性に優れたポリカーボネートの製造方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来ポリカーボネートの製造方法として
は、芳香族ジヒドロキシ化合物とホスゲンとを直接反応
させる方法〔界面法〕、あるいは芳香族ジヒドロキシ化
合物と炭酸ジエステルとをエステル交換させる方法〔エ
ステル交換法〕がある。界面法は有害なホスゲンやハロ
ゲン系溶剤である塩化メチレンを使用するため、最近、
環境保全の面からエステル交換法が見直されている。
は、芳香族ジヒドロキシ化合物とホスゲンとを直接反応
させる方法〔界面法〕、あるいは芳香族ジヒドロキシ化
合物と炭酸ジエステルとをエステル交換させる方法〔エ
ステル交換法〕がある。界面法は有害なホスゲンやハロ
ゲン系溶剤である塩化メチレンを使用するため、最近、
環境保全の面からエステル交換法が見直されている。
【０００３】エステル交換反応においては、通常触媒と
してアルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物など
を用いて行われる。しかしながら、これら触媒を用いる
方法では、重縮合中に反応生成物が着色し、色相、熱安
定性に問題を生じている。
してアルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物など
を用いて行われる。しかしながら、これら触媒を用いる
方法では、重縮合中に反応生成物が着色し、色相、熱安
定性に問題を生じている。
【０００４】このため、エステル交換反応時の触媒とし
て、特殊な構造をもつ化合物の単独使用またはアルカリ
金属化合物類との併用、あるいはこれら触媒にホウ素系
化合物やリン系化合物とヒンダードフェノール化合物等
を併用することが知られている。
て、特殊な構造をもつ化合物の単独使用またはアルカリ
金属化合物類との併用、あるいはこれら触媒にホウ素系
化合物やリン系化合物とヒンダードフェノール化合物等
を併用することが知られている。
【０００５】例えば、
（１）触媒として一般式ＭＢＨn Ｒ4-n で表されるホウ
素含有化合物を使用する方法。（米国特許第４３３０６
６４号） （２）触媒としてＫＢＨ4を使用し、フェニルホスホン
酸ジアルキルを併用する方法。（特開昭６２−１５８７
１９号） （３）触媒として，ＭＢＨ4 を使用し、第４級アンモニ
ウムボロハイドライド等を併用する方法。（特開昭６３
−４３９２４号） （４）第４級チッソ化合物触媒の存在下、フォスフォナ
イト系化合物及びヒンダードフェノール系化合物を併用
する方法（特開昭６１−１５１２３６号） （５）エステル交換反応金属化合物触媒の存在下、亜リ
ン酸及び亜リン酸エステル化合物を併用する方法。（特
開平５−７８４６９号）等である。
素含有化合物を使用する方法。（米国特許第４３３０６
６４号） （２）触媒としてＫＢＨ4を使用し、フェニルホスホン
酸ジアルキルを併用する方法。（特開昭６２−１５８７
１９号） （３）触媒として，ＭＢＨ4 を使用し、第４級アンモニ
ウムボロハイドライド等を併用する方法。（特開昭６３
−４３９２４号） （４）第４級チッソ化合物触媒の存在下、フォスフォナ
イト系化合物及びヒンダードフェノール系化合物を併用
する方法（特開昭６１−１５１２３６号） （５）エステル交換反応金属化合物触媒の存在下、亜リ
ン酸及び亜リン酸エステル化合物を併用する方法。（特
開平５−７８４６９号）等である。
【０００６】また、重合終了後のポリカーボネートの熱
安定性を改良する方法として、 （６）特定のリン系化合物、フェノ−ル系化合物を添加
する方法（特開平４−７７５４９号）。 （７）イオウ含有酸性化合物、リン化合物を添加する方
法（特開平４−３２８１２４号）等がある。 しかしながら、これらの方法でも、未だ色相、熱安定性
が十分に優れたポリカーボネートを得ることは困難であ
る。
安定性を改良する方法として、 （６）特定のリン系化合物、フェノ−ル系化合物を添加
する方法（特開平４−７７５４９号）。 （７）イオウ含有酸性化合物、リン化合物を添加する方
法（特開平４−３２８１２４号）等がある。 しかしながら、これらの方法でも、未だ色相、熱安定性
が十分に優れたポリカーボネートを得ることは困難であ
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、エス
テル交換法で得られる芳香族ポリカーボネートの品質上
の問題点を解決しようとするものであって、色相、熱安
定性が改良された芳香族ポリカーボネートの製造方法を
提供することにある。
テル交換法で得られる芳香族ポリカーボネートの品質上
の問題点を解決しようとするものであって、色相、熱安
定性が改良された芳香族ポリカーボネートの製造方法を
提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者等はこれらの問
題点を解決すべく、鋭意検討を行った結果、特定の触媒
系を用いた溶融重縮合法により製造した芳香族ポリカー
ボネート樹脂を、リン系化合物単独、または、これとフ
ェノール系化合物から選ばれる安定剤と組み合わせるこ
とにより、色相、熱安定性が改良された芳香族ポリカー
ボネートを提供できることを見いだし、本発明の方法に
到達した。
題点を解決すべく、鋭意検討を行った結果、特定の触媒
系を用いた溶融重縮合法により製造した芳香族ポリカー
ボネート樹脂を、リン系化合物単独、または、これとフ
ェノール系化合物から選ばれる安定剤と組み合わせるこ
とにより、色相、熱安定性が改良された芳香族ポリカー
ボネートを提供できることを見いだし、本発明の方法に
到達した。
【０００９】すなわち、本発明は、芳香族ジヒドロキシ
化合物と炭酸ジエステルとをアルカリ金属化合物および
／またはアルカリ土類金属化合物および下記一般式
（１）で表される第４級ホスホニウム化合物、さらに特
定のフェノール系化合物を含む触媒系を用いてエステル
交換反応させて得られるポリカーボネート１００重量部
に、（イ）リン系化合物または（ロ）リン系化合物とフ
ェノール系化合物を０．００１〜０．５重量部添加する
ことを特徴とするポリカーボネートの製造方法に関す
る。
化合物と炭酸ジエステルとをアルカリ金属化合物および
／またはアルカリ土類金属化合物および下記一般式
（１）で表される第４級ホスホニウム化合物、さらに特
定のフェノール系化合物を含む触媒系を用いてエステル
交換反応させて得られるポリカーボネート１００重量部
に、（イ）リン系化合物または（ロ）リン系化合物とフ
ェノール系化合物を０．００１〜０．５重量部添加する
ことを特徴とするポリカーボネートの製造方法に関す
る。
【化２】（Ｒ1 ）n （Ｒ2 ）4-n ＰＢ（Ｒ3 ）m （Ｒ
4 ）4-m （１） （式中、Ｒ1 、Ｒ2 はアルキル基、フェニル基またはア
ルキル置換フェニル基を表し、Ｒ3 、Ｒ4 は水素、アル
キル基、フェニル基を表し、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 は
同一または相互に異なるものでも良く、ｍ、ｎはそれぞ
れ０〜４の整数である。）
4 ）4-m （１） （式中、Ｒ1 、Ｒ2 はアルキル基、フェニル基またはア
ルキル置換フェニル基を表し、Ｒ3 、Ｒ4 は水素、アル
キル基、フェニル基を表し、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 は
同一または相互に異なるものでも良く、ｍ、ｎはそれぞ
れ０〜４の整数である。）
【００１０】本発明に係るポリカーボネートの製造方法
によれば、反応性が向上し得られるポリマーの分子量が
十分に高くなると共に、重縮合直後及び加熱溶融後の色
相に優れた熱安定性の良好なポリカーボネートを経済性
よく得ることができる。
によれば、反応性が向上し得られるポリマーの分子量が
十分に高くなると共に、重縮合直後及び加熱溶融後の色
相に優れた熱安定性の良好なポリカーボネートを経済性
よく得ることができる。
【００１１】本発明に係るポリカーボネートの製造方法
について、以下具体的に説明する。本発明で用いられる
芳香族ジヒドロキシ化合物類としては、下記式（２）で
示される化合物を挙げることができる。
について、以下具体的に説明する。本発明で用いられる
芳香族ジヒドロキシ化合物類としては、下記式（２）で
示される化合物を挙げることができる。
【００１２】
【化３】
【００１３】（式中、Ａは単結合、炭素数１〜１５の置
換又は未置換の直鎖状、分岐状又は環状の２価の炭化水
素基、および−Ｏ−、−Ｓ−，−ＣＯ−，−ＳＯ−，−
ＳＯ2−で示される２価の基からなる群から選ばれるも
のであり，Ｘ及びＹは同一または相互に異なるものであ
って、ハロゲン、又は炭素数１〜６の炭化水素基から選
ばれる物であり，ｐ及びｑは０〜２の整数である。）
換又は未置換の直鎖状、分岐状又は環状の２価の炭化水
素基、および−Ｏ−、−Ｓ−，−ＣＯ−，−ＳＯ−，−
ＳＯ2−で示される２価の基からなる群から選ばれるも
のであり，Ｘ及びＹは同一または相互に異なるものであ
って、ハロゲン、又は炭素数１〜６の炭化水素基から選
ばれる物であり，ｐ及びｑは０〜２の整数である。）
【００１４】上記芳香族ジヒドロキシ化合物として具体
的には、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，
１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビ
ス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロ
パン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジエチ
ルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ
−３，５−ジブロモフェニル）プロパン、２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）フェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４，４’−ジヒ
ドロキシジフェニルエ−テル、４，４’−ジヒドロキシ
−３，３’−ジメチルジフェニルエ−テル、４，４’−
ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’−ジヒド
ロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルフィド、
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，
４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルス
ルホキシド、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ン、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフ
ェニルスルホン等を挙げることができる。これらのうち
では、特に２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパンが好ましく用いられる。また、これらの芳香族ジ
ヒドロキシ化合物は、単独であるいは組み合わせて用い
ることができる。
的には、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，
１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビ
ス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロ
パン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジエチ
ルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ
−３，５−ジブロモフェニル）プロパン、２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）フェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４，４’−ジヒ
ドロキシジフェニルエ−テル、４，４’−ジヒドロキシ
−３，３’−ジメチルジフェニルエ−テル、４，４’−
ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’−ジヒド
ロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルフィド、
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，
４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルス
ルホキシド、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ン、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフ
ェニルスルホン等を挙げることができる。これらのうち
では、特に２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパンが好ましく用いられる。また、これらの芳香族ジ
ヒドロキシ化合物は、単独であるいは組み合わせて用い
ることができる。
【００１５】本発明で用いられる炭酸ジエステルは、下
記の一般式（３）で表される化合物である。
記の一般式（３）で表される化合物である。
【００１６】
【化４】
【００１７】上記一般式（３）で表される炭酸ジエステ
ルは、例えば、ジフェニルカーボネート及び置換ジフェ
ニルカーボネート、ジトリルカーボネート、ジメチルカ
ーボネ−ト、ジエチルカ−ボネ−ト、ジブチルカ−ボネ
−ト、ジシクロヘキシルカーボネート等を挙げることが
できるが、特にジフェニルカーボネート、置換ジフェニ
ルカーボネートが好ましい。これらの炭酸ジエステル
は、単独あるいは２種以上を混合して用いてもよい。
ルは、例えば、ジフェニルカーボネート及び置換ジフェ
ニルカーボネート、ジトリルカーボネート、ジメチルカ
ーボネ−ト、ジエチルカ−ボネ−ト、ジブチルカ−ボネ
−ト、ジシクロヘキシルカーボネート等を挙げることが
できるが、特にジフェニルカーボネート、置換ジフェニ
ルカーボネートが好ましい。これらの炭酸ジエステル
は、単独あるいは２種以上を混合して用いてもよい。
【００１８】また、上記のような炭酸ジエステルと共
に、好ましくは５０モル％以下さらに好ましくは３０モ
ル％以下のジカルボン酸あるいはジカルボン酸エステル
を使用してもよい。このようなジカルボン酸あるいはジ
カルボン酸エステルとしては、テレフタル酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸ジフェニル、イソフタル酸ジフェニ
ル等が用いられる。このようなジカルボン酸あるいはジ
カルボン酸エステルを炭酸ジエステルと併用した場合に
は、ポリエステルカーボネートが得られる。
に、好ましくは５０モル％以下さらに好ましくは３０モ
ル％以下のジカルボン酸あるいはジカルボン酸エステル
を使用してもよい。このようなジカルボン酸あるいはジ
カルボン酸エステルとしては、テレフタル酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸ジフェニル、イソフタル酸ジフェニ
ル等が用いられる。このようなジカルボン酸あるいはジ
カルボン酸エステルを炭酸ジエステルと併用した場合に
は、ポリエステルカーボネートが得られる。
【００１９】これら炭酸ジエステル化合物は、芳香族ジ
オ−ル化合物１モルに対して過剰に用いられるのが一般
的であり、１．０１〜１．３０モル、好ましくは１．０
２〜１．２０モルの量で用いることが望ましい。
オ−ル化合物１モルに対して過剰に用いられるのが一般
的であり、１．０１〜１．３０モル、好ましくは１．０
２〜１．２０モルの量で用いることが望ましい。
【００２０】また、本発明では、ポリカーボネートを製
造するに際して、上記のような芳香族ジヒドロキシ化合
物と炭酸ジエステルとともに、１分子中に３個以上の官
能基を有する多官能性化合物を用いることもできる。多
官能性化合物は芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対し
て、通常０．０１〜３モル％、好ましくは０．０５〜１
モル％の範囲で用いられる。
造するに際して、上記のような芳香族ジヒドロキシ化合
物と炭酸ジエステルとともに、１分子中に３個以上の官
能基を有する多官能性化合物を用いることもできる。多
官能性化合物は芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対し
て、通常０．０１〜３モル％、好ましくは０．０５〜１
モル％の範囲で用いられる。
【００２１】このような多官能性化合物としては、フェ
ノール性水酸基またはカルボキシル基を有する化合物が
好ましく、特にフェノール性水酸基を３個含有する化合
物が好ましい。具体的には、フロログルシン、２，６−
ジメチル−２，４，６−トリ（４−ヒドロキシフェニ
ル）ヘプテン−３、４，６−ジメチル−２，４，６−ト
リ（４−ヒドロキシフェニル）ヘプテン−２、１，３，
５−トリ（２−ヒドロキシフェニル）ベンゾール、１，
１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、
２，６−ビス（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）
−４−メチルフェノール、３，３−ビス（４−ヒドロキ
シアリ−ル）オキシインド−ル（＝イサチンビスフェノ
ール）、５−クロルイサチンビスフェノール、５−ブロ
ムイサチンビスフェノール、トリメリット酸、１，３，
５−ベンゼントリカルボン酸、ピロメリット酸等が挙げ
られる。
ノール性水酸基またはカルボキシル基を有する化合物が
好ましく、特にフェノール性水酸基を３個含有する化合
物が好ましい。具体的には、フロログルシン、２，６−
ジメチル−２，４，６−トリ（４−ヒドロキシフェニ
ル）ヘプテン−３、４，６−ジメチル−２，４，６−ト
リ（４−ヒドロキシフェニル）ヘプテン−２、１，３，
５−トリ（２−ヒドロキシフェニル）ベンゾール、１，
１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、
２，６−ビス（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）
−４−メチルフェノール、３，３−ビス（４−ヒドロキ
シアリ−ル）オキシインド−ル（＝イサチンビスフェノ
ール）、５−クロルイサチンビスフェノール、５−ブロ
ムイサチンビスフェノール、トリメリット酸、１，３，
５−ベンゼントリカルボン酸、ピロメリット酸等が挙げ
られる。
【００２２】本発明で用いられるエステル交換反応触媒
であるアルカリ金属化合物としては、具体的には、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、酢
酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、ステアリ
ン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸
リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチ
ウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウ
ム、安息香酸カリウム、安息香酸リチウム、リン酸水素
２ナトリウム、リン酸水素２カリウム、リン酸水素２リ
チウム、フェニルリン酸２ナトリウム、フェニルリン酸
２カリウム、フェニルリン酸２リチウム、ビスフェノー
ルＡの２ナトリウム塩、２カリウム塩、２リチウム塩、
フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩等
が用いられる。
であるアルカリ金属化合物としては、具体的には、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、酢
酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、ステアリ
ン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸
リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチ
ウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウ
ム、安息香酸カリウム、安息香酸リチウム、リン酸水素
２ナトリウム、リン酸水素２カリウム、リン酸水素２リ
チウム、フェニルリン酸２ナトリウム、フェニルリン酸
２カリウム、フェニルリン酸２リチウム、ビスフェノー
ルＡの２ナトリウム塩、２カリウム塩、２リチウム塩、
フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩等
が用いられる。
【００２３】また、アルカリ土類金属化合物としては、
具体的には、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸
化マグネシウム、水酸化ストロンチウム、炭酸水素カル
シウム、炭酸水素バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭
酸水素ストロンチウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウ
ム、炭酸マグネシウム、炭酸ストロンチウム、酢酸カル
シウム、酢酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸ストロ
ンチウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリ
ウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸ストロ
ンチウム等が用いられる。これらの触媒は原料として用
いられる芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対して１０
-9〜１０-3モルの量で、好ましくは１０-7〜１０-5モル
の量で用いられる。
具体的には、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸
化マグネシウム、水酸化ストロンチウム、炭酸水素カル
シウム、炭酸水素バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭
酸水素ストロンチウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウ
ム、炭酸マグネシウム、炭酸ストロンチウム、酢酸カル
シウム、酢酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸ストロ
ンチウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリ
ウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸ストロ
ンチウム等が用いられる。これらの触媒は原料として用
いられる芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対して１０
-9〜１０-3モルの量で、好ましくは１０-7〜１０-5モル
の量で用いられる。
【００２４】本発明の特徴の一つは、前記の一般式
（１）で表される第４級ホスホニウム化合物をエステル
交換触媒として用いることにある。
（１）で表される第４級ホスホニウム化合物をエステル
交換触媒として用いることにある。
【００２５】前記一般式（１）で表される第４級ホスホ
ニウム化合物の具体例としては、テトラメチルホスホニ
ウムテトラフェニルボレート、テトラエチルホスホニウ
ムテトラフェニルボレート、テトラプロピルホスホニウ
ムテトラフェニルボレート、テトラブチルホスホニウム
テトラフェニルボレート、トリメチルエチルホスホニウ
ムテトラフェニルボレート、トリメチルベンジルホスホ
ニウムテトラフェニルボレート、トリメチルフェニルホ
スホニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルホ
スホニウムテトラフェニルボレート、ベンジルトリフェ
ニルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリ
フェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、エチル
トリフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、ブ
チルトリフェニルホスホニウムテトラフェニルボレー
ト、テトラメチルホスホニウムメチルトリフェニルボレ
ート、テトラエチルホスホニウムエチルトリフェニルボ
レート、テトラプロピルホスホニウムプロピルトリフェ
ニルボレート、テトラブチルホスホニウムブチルトリフ
ェニルボレート、トリメチルエチルホスホニウムトリメ
チルフェニルボレート、トリメチルベンジルホスホニウ
ムベンジルトリフェニルボレート、トリメチルフェニル
ホスホニウムメチルトリフェニルボレート、ベンジルト
リフェニルホスホニウムメチルトリフェニルボレート、
メチルトリフェニルホスホニウムベンジルトリフェニル
ボレート、エチルトリフェニルホスホニウムベンジルト
リフェニルボレート、ブチルトリフェニルホスホニウム
トリメチルフェニルボレート等を挙げることができる。
ニウム化合物の具体例としては、テトラメチルホスホニ
ウムテトラフェニルボレート、テトラエチルホスホニウ
ムテトラフェニルボレート、テトラプロピルホスホニウ
ムテトラフェニルボレート、テトラブチルホスホニウム
テトラフェニルボレート、トリメチルエチルホスホニウ
ムテトラフェニルボレート、トリメチルベンジルホスホ
ニウムテトラフェニルボレート、トリメチルフェニルホ
スホニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルホ
スホニウムテトラフェニルボレート、ベンジルトリフェ
ニルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリ
フェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、エチル
トリフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、ブ
チルトリフェニルホスホニウムテトラフェニルボレー
ト、テトラメチルホスホニウムメチルトリフェニルボレ
ート、テトラエチルホスホニウムエチルトリフェニルボ
レート、テトラプロピルホスホニウムプロピルトリフェ
ニルボレート、テトラブチルホスホニウムブチルトリフ
ェニルボレート、トリメチルエチルホスホニウムトリメ
チルフェニルボレート、トリメチルベンジルホスホニウ
ムベンジルトリフェニルボレート、トリメチルフェニル
ホスホニウムメチルトリフェニルボレート、ベンジルト
リフェニルホスホニウムメチルトリフェニルボレート、
メチルトリフェニルホスホニウムベンジルトリフェニル
ボレート、エチルトリフェニルホスホニウムベンジルト
リフェニルボレート、ブチルトリフェニルホスホニウム
トリメチルフェニルボレート等を挙げることができる。
【００２６】上記した第４級ホスホニウム化合物の中で
も、特に、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニル
ボレート、ベンジルトリフェニルホスホニウムテトラフ
ェニルボレート、メチルトリフェニルホスホニウムテト
ラフェニルボレート、エチルトリフェニルホスホニウム
テトラフェニルボレート、ブチルトリフェニルホスホニ
ウムテトラフェニルボレートが好ましい。これら第４級
ホスホニウム化合物は単独あるいは２種以上混合して用
いてもよい。
も、特に、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニル
ボレート、ベンジルトリフェニルホスホニウムテトラフ
ェニルボレート、メチルトリフェニルホスホニウムテト
ラフェニルボレート、エチルトリフェニルホスホニウム
テトラフェニルボレート、ブチルトリフェニルホスホニ
ウムテトラフェニルボレートが好ましい。これら第４級
ホスホニウム化合物は単独あるいは２種以上混合して用
いてもよい。
【００２７】本発明の方法において使用される第４級ホ
スホニウム化合物の使用量は、エステル交換反応時にお
いてポリマーの色相悪化を実質的に阻止するに十分な量
である。その使用量は、芳香族ジヒドロキシ化合物１モ
ルに対して、１０-8〜１０-2モルの量で、好ましくは１
０-7〜１０-4モルの量で用いることが好ましい。
スホニウム化合物の使用量は、エステル交換反応時にお
いてポリマーの色相悪化を実質的に阻止するに十分な量
である。その使用量は、芳香族ジヒドロキシ化合物１モ
ルに対して、１０-8〜１０-2モルの量で、好ましくは１
０-7〜１０-4モルの量で用いることが好ましい。
【００２８】また、本発明は、特定のフェノール系化合
物を溶融重縮合反応条件下に用いて芳香族ポリカーボネ
ートを製造することも特徴の一つである。
物を溶融重縮合反応条件下に用いて芳香族ポリカーボネ
ートを製造することも特徴の一つである。
【００２９】特定のフェノール系化合物は、２，２’−
メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−
ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル
−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、
２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキ
シ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリ
レート、２−〔１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ
−ペンチルフェニル）エチル〕−４，６−ジ−ｔ−ペン
チルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデンビス
（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’
−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル）、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−
ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート〕、ｎ−オクタデシル−３−（４’−ヒ
ドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロ
ピオネートから選ばれた少なくとも１種である。
メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−
ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル
−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、
２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキ
シ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリ
レート、２−〔１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ
−ペンチルフェニル）エチル〕−４，６−ジ−ｔ−ペン
チルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデンビス
（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’
−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル）、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−
ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート〕、ｎ−オクタデシル−３−（４’−ヒ
ドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロ
ピオネートから選ばれた少なくとも１種である。
【００３０】上記した特定のフェノール系化合物のう
ち、特に、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−
ｔ−ブチルフェノール）、２−ｔ−ブチル−６−（３−
ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−
４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデ
ンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、
１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト〕が好ましい。これら特定のフェノール系化合物は単
独あるいは２種以上混合して用いてもよい。
ち、特に、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−
ｔ−ブチルフェノール）、２−ｔ−ブチル−６−（３−
ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−
４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデ
ンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、
１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト〕が好ましい。これら特定のフェノール系化合物は単
独あるいは２種以上混合して用いてもよい。
【００３１】本発明の方法において使用される特定のフ
ェノール系化合物の使用量は、エステル交換反応時にお
いてポリマーの色相悪化を実質的に阻止するに十分な量
である。その使用量は、一般的には芳香族ジヒドロキシ
化合物１モルに対して、１×１０-7〜１×１０-2モルの
量で、好ましくは１×１０-5〜１×１０-3モルの量で用
いられる。
ェノール系化合物の使用量は、エステル交換反応時にお
いてポリマーの色相悪化を実質的に阻止するに十分な量
である。その使用量は、一般的には芳香族ジヒドロキシ
化合物１モルに対して、１×１０-7〜１×１０-2モルの
量で、好ましくは１×１０-5〜１×１０-3モルの量で用
いられる。
【００３２】本発明の第４級ホスホニウム化合物および
／または特定のフェノール系化合物の添加時期は、エス
テル交換反応工程中であれば特に限定されないが、反応
工程において最高温度に到達するまでに反応系中に添加
することが必要である。簡便には、反応の初期から、す
なわち原料モノマーである芳香族ジヒドロキシ化合物、
炭酸ジエステル化合物と同時に添加混合する方法であ
る。
／または特定のフェノール系化合物の添加時期は、エス
テル交換反応工程中であれば特に限定されないが、反応
工程において最高温度に到達するまでに反応系中に添加
することが必要である。簡便には、反応の初期から、す
なわち原料モノマーである芳香族ジヒドロキシ化合物、
炭酸ジエステル化合物と同時に添加混合する方法であ
る。
【００３３】本発明におけるエステル交換反応は、反応
工程中に前記の一般式（１）で表される第４級ホスホニ
ウム化合物およびアルカリ金属化合物および／またはア
ルカリ土類金属化合物触媒を使用すること、また、特定
のフェノール系化合物を添加する以外は公知の芳香族ポ
リカーボネートの溶融重縮合法により行うことができ
る。すなわち、前記の原料を用いて、加熱下に常圧又は
減圧下にエステル交換反応により副生物を除去しながら
溶融重縮合を行うものであるが、反応は一般には二段階
以上の多段工程で実施される。
工程中に前記の一般式（１）で表される第４級ホスホニ
ウム化合物およびアルカリ金属化合物および／またはア
ルカリ土類金属化合物触媒を使用すること、また、特定
のフェノール系化合物を添加する以外は公知の芳香族ポ
リカーボネートの溶融重縮合法により行うことができ
る。すなわち、前記の原料を用いて、加熱下に常圧又は
減圧下にエステル交換反応により副生物を除去しながら
溶融重縮合を行うものであるが、反応は一般には二段階
以上の多段工程で実施される。
【００３４】具体的には、第１段目の反応を１２０〜２
６０℃、好ましくは１８０〜２４０℃の温度で０〜５時
間好ましくは０．５〜３時間反応させる。次いで反応系
の減圧度を上げながら反応温度を高めて芳香族ジヒドロ
キシ化合物と炭酸ジエステルとの反応を行い、最終的に
は１ｍｍＨｇ以下の減圧下、２４０〜３２０℃の温度で
重縮合反応を行う。上記のような芳香族ジヒドロキシ化
合物と炭酸ジエステルとの反応は、連続式で行ってもよ
くまたバッチ式で行ってもよい。又、上記の反応を行う
に際して用いられる反応装置は、槽型であっても管型で
あっても塔型であってもよい。
６０℃、好ましくは１８０〜２４０℃の温度で０〜５時
間好ましくは０．５〜３時間反応させる。次いで反応系
の減圧度を上げながら反応温度を高めて芳香族ジヒドロ
キシ化合物と炭酸ジエステルとの反応を行い、最終的に
は１ｍｍＨｇ以下の減圧下、２４０〜３２０℃の温度で
重縮合反応を行う。上記のような芳香族ジヒドロキシ化
合物と炭酸ジエステルとの反応は、連続式で行ってもよ
くまたバッチ式で行ってもよい。又、上記の反応を行う
に際して用いられる反応装置は、槽型であっても管型で
あっても塔型であってもよい。
【００３５】次に、本発明の重合終了後に添加するリン
系化合物、フェノール系化合物について述べる。
系化合物、フェノール系化合物について述べる。
【００３６】リン系化合物としては、例えば、ビス
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリト
ール−ジ−ホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−
ホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ
−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、４，４’−
イソプロピリデン−ジフェノールアルキルホスファイ
ト、ジフェニルデシルホスファイト、ジフェニルイソオ
クチルホスファイト、フェニルイソオクチルホスファイ
ト、２−エチルヘキシルジフェニルホスファイト等のア
リールアルキルホスファイト； トリシクロヘキシルホ
スファイト等のトリシクロアルキルホスファイト； ト
リフェニルホスファイト、トリクレジルホスファイト、
トリス（エチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，
４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス
（ノリルフェニル）ホスファイト、トリス（ヒドロキシ
フェニル）ホスファイト等のトリアリールホスファイ
ト； トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェー
ト、トリブチルホスフェート、トリオクチルホスフェー
ト、トリデシルホスフェート、トリオクタデシルホスフ
ェート、ジステアリルペンタエリスリトールジホスフェ
ート等のトリアルキルホスフェート； トリシクロヘキ
シルホスフェート等のトリシクロアルキルホスフェー
ト； トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフ
ェート、トリス（ノリルフェニル）ホスフェート、２−
エチルフェニルジフェニルホスフェート等のトリアリー
ルホスフェート等、及び亜リン酸が挙げられ、これらを
単独で用いても２種以上混合してもよい。
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリト
ール−ジ−ホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−
ホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ
−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、４，４’−
イソプロピリデン−ジフェノールアルキルホスファイ
ト、ジフェニルデシルホスファイト、ジフェニルイソオ
クチルホスファイト、フェニルイソオクチルホスファイ
ト、２−エチルヘキシルジフェニルホスファイト等のア
リールアルキルホスファイト； トリシクロヘキシルホ
スファイト等のトリシクロアルキルホスファイト； ト
リフェニルホスファイト、トリクレジルホスファイト、
トリス（エチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，
４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス
（ノリルフェニル）ホスファイト、トリス（ヒドロキシ
フェニル）ホスファイト等のトリアリールホスファイ
ト； トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェー
ト、トリブチルホスフェート、トリオクチルホスフェー
ト、トリデシルホスフェート、トリオクタデシルホスフ
ェート、ジステアリルペンタエリスリトールジホスフェ
ート等のトリアルキルホスフェート； トリシクロヘキ
シルホスフェート等のトリシクロアルキルホスフェー
ト； トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフ
ェート、トリス（ノリルフェニル）ホスフェート、２−
エチルフェニルジフェニルホスフェート等のトリアリー
ルホスフェート等、及び亜リン酸が挙げられ、これらを
単独で用いても２種以上混合してもよい。
【００３７】これらのうち、特にビス（２，４−ジ−ｔ
−ブチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスフ
ァイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフ
ェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、
２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）オクチルホスファイト、４，４’−イソプロピリデ
ン−ジフェノールアルキルホスファイト、トリス（２，
４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトが好適に用
いられる。
−ブチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスフ
ァイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフ
ェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、
２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）オクチルホスファイト、４，４’−イソプロピリデ
ン−ジフェノールアルキルホスファイト、トリス（２，
４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトが好適に用
いられる。
【００３８】フェノール系化合物としては、前記した触
媒系に用いる化合物の他に、例えば、ペンタエリスリチ
ル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル
−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネート、１，３，５−トリメチル−２，
４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）ベンゼン、４−ヒドロキシメチル−２，
６−ジ−ｔ−ブチルフェノール等が挙げられ、これらを
単独で用いても２種以上用いてもよい。
媒系に用いる化合物の他に、例えば、ペンタエリスリチ
ル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル
−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネート、１，３，５−トリメチル−２，
４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）ベンゼン、４−ヒドロキシメチル−２，
６−ジ−ｔ−ブチルフェノール等が挙げられ、これらを
単独で用いても２種以上用いてもよい。
【００３９】これらのうち、特に、トリエチレングリコ
ール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１．６−ヘキ
サンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、ｎ−オク
タデシル−３−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−
ｔブチルフェニル）プロピオネート等を挙げることがで
きる。
ール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１．６−ヘキ
サンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、ｎ−オク
タデシル−３−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−
ｔブチルフェニル）プロピオネート等を挙げることがで
きる。
【００４０】芳香族ポリカーボネートへの添加剤の組合
せは、リン系化合物単独またはリン系化合物とフェノー
ル系化合物の組合せが好ましく、フェノール系化合物単
独は好ましくない。リン系化合物およびフェノール系化
合物は、各々芳香族ポリカーボネート１００重量部に対
して、０．００１〜０．５重量部、好ましくは０．００
５〜０．１重量部が使用される。
せは、リン系化合物単独またはリン系化合物とフェノー
ル系化合物の組合せが好ましく、フェノール系化合物単
独は好ましくない。リン系化合物およびフェノール系化
合物は、各々芳香族ポリカーボネート１００重量部に対
して、０．００１〜０．５重量部、好ましくは０．００
５〜０．１重量部が使用される。
【００４１】さらに本発明において、上記熱安定剤の他
に、顔料、染料、強化剤や充填剤、紫外線吸収剤、滑
剤、離型剤、結晶核剤、可塑剤、流動性改良剤、帯電防
止剤などを添加することができる。これら添加剤は、従
来から公知の方法で各成分を芳香族ポリカーボネート樹
脂に混合することができる。例えば、各成分をターンブ
ルミキサーやヘンシェルミキサー、リボンブレンダー、
スーパーミキサーで代表される高速ミキサーで分散混合
した後、押出機、バンバリーミキサー、ロール等で溶融
混練する方法が適宜選択される。
に、顔料、染料、強化剤や充填剤、紫外線吸収剤、滑
剤、離型剤、結晶核剤、可塑剤、流動性改良剤、帯電防
止剤などを添加することができる。これら添加剤は、従
来から公知の方法で各成分を芳香族ポリカーボネート樹
脂に混合することができる。例えば、各成分をターンブ
ルミキサーやヘンシェルミキサー、リボンブレンダー、
スーパーミキサーで代表される高速ミキサーで分散混合
した後、押出機、バンバリーミキサー、ロール等で溶融
混練する方法が適宜選択される。
【００４２】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明は以下の実施例になんらの制限を受けるも
のではない。尚、得られたポリカーボネートの評価は、
以下の方法により行った。
るが、本発明は以下の実施例になんらの制限を受けるも
のではない。尚、得られたポリカーボネートの評価は、
以下の方法により行った。
【００４３】（１）分子量
ウベローデ粘度計を用いて、塩化メチレン中２０℃の極
限粘度［η］を測定し、以下の式より求めた。 ［η］＝１．１１×１０-4（Ｍｖ）0.83
限粘度［η］を測定し、以下の式より求めた。 ［η］＝１．１１×１０-4（Ｍｖ）0.83
【００４４】（２）色相
得られたポリカーボネート４ｇを塩化メチレン２５ｍｌ
に溶解し、ＡＰＨＡ標準液にて目視で判定した。（値が
小さい方が色相は良好）
に溶解し、ＡＰＨＡ標準液にて目視で判定した。（値が
小さい方が色相は良好）
【００４５】（３）末端ＯＨ量
四塩化チタン／酢酸法(Makromol Chem.88 215(1965))に
より比色定量を行った。
より比色定量を行った。
【００４６】実施例１
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１１
４ｇ（０．５０モル）、ジフェニルカーボネート１１８
ｇ（０．５５モル）、水酸化カルシウム７．５×１０-7
モル、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレ
ート７．５×１０-6モル、および２，２’−メチレンビ
ス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）７．５×
１０-5モルを１リットルの撹拌機及び留出装置付の反応
器に入れ、窒素雰囲気下、１８０℃で０．５時間保持し
た後、減圧度を１００ｍｍＨｇに調整すると同時に、２
５℃／ｈｒの速度で２８０℃まで昇温を行った。昇温開
始後約１時間経過時に反応容器内の減圧度を５０ｍｍＨ
ｇとし、さらにその１時間経過後に減圧度を１ｍｍＨｇ
以下とし、合計約６時間撹拌下反応を行った。
４ｇ（０．５０モル）、ジフェニルカーボネート１１８
ｇ（０．５５モル）、水酸化カルシウム７．５×１０-7
モル、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレ
ート７．５×１０-6モル、および２，２’−メチレンビ
ス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）７．５×
１０-5モルを１リットルの撹拌機及び留出装置付の反応
器に入れ、窒素雰囲気下、１８０℃で０．５時間保持し
た後、減圧度を１００ｍｍＨｇに調整すると同時に、２
５℃／ｈｒの速度で２８０℃まで昇温を行った。昇温開
始後約１時間経過時に反応容器内の減圧度を５０ｍｍＨ
ｇとし、さらにその１時間経過後に減圧度を１ｍｍＨｇ
以下とし、合計約６時間撹拌下反応を行った。
【００４７】反応終了後、反応器内に窒素を吹き込み常
圧に戻し、生成したポリカーボネート１００重量部に対
し、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスフ
ァイト０．０５重量部、１，６−ヘキサンジオール−ビ
ス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオネート〕０．０５重量部を添加し、２
８０℃で１０分間撹拌混合した後、反応器の底よりポリ
カーボネートを抜き出し、押出機、ペレタイザーにより
ペレットとした。その結果、得られたポリカーボネート
は、Ｍｖ= ２３５００、末端ＯＨ= ０．０１５重量% ，
溶融前ＡＰＨＡ５〜１０、溶融後ＡＰＨＡ１０と着色度
は小さく、色相、熱安定性は良好であった。
圧に戻し、生成したポリカーボネート１００重量部に対
し、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスフ
ァイト０．０５重量部、１，６−ヘキサンジオール−ビ
ス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオネート〕０．０５重量部を添加し、２
８０℃で１０分間撹拌混合した後、反応器の底よりポリ
カーボネートを抜き出し、押出機、ペレタイザーにより
ペレットとした。その結果、得られたポリカーボネート
は、Ｍｖ= ２３５００、末端ＯＨ= ０．０１５重量% ，
溶融前ＡＰＨＡ５〜１０、溶融後ＡＰＨＡ１０と着色度
は小さく、色相、熱安定性は良好であった。
【００４８】実施例２〜５
触媒系を構成するアルカリ金属化合物および／またはア
ルカリ土類金属化合物、第４級ホスホニウム化合物、特
定のフェノール系化合物の種類、量、および重合終了後
に添加するリン系化合物、フェノール系化合物の種類、
量を表−１に記載した通り用いる以外は実施例１と同様
に行った。結果を表−１に示す。
ルカリ土類金属化合物、第４級ホスホニウム化合物、特
定のフェノール系化合物の種類、量、および重合終了後
に添加するリン系化合物、フェノール系化合物の種類、
量を表−１に記載した通り用いる以外は実施例１と同様
に行った。結果を表−１に示す。
【００４９】比較例１〜３
触媒系のアルカリ金属化合物および／またはアルカリ土
類金属化合物、第４級ホスホニウム化合物および特定の
フェノール系化合物の代わりに、アルカリ金属化合物ま
たはアルカリ土類金属化合物のみを使用し、また、重合
終了後にリン系化合物、およびフェノール系化合物を添
加しない以外は、実施例１と同様に行った。結果を表−
２に示す。
類金属化合物、第４級ホスホニウム化合物および特定の
フェノール系化合物の代わりに、アルカリ金属化合物ま
たはアルカリ土類金属化合物のみを使用し、また、重合
終了後にリン系化合物、およびフェノール系化合物を添
加しない以外は、実施例１と同様に行った。結果を表−
２に示す。
【００５０】
【表１】
【００５１】但し、表中
溶融後のＡＰＨＡ；窒素気流下３２０℃で１時間加熱後
の色相を評価。
の色相を評価。
【００５２】第４級ホスホニウム化合物 、、、
は、下記の化合物を示す。 ； ベンジルトリフェニルホスホニウムテトラフェニ
ルボレート、 ； メチルトリフェニルホスホニウムテトラフェニル
ボレート、 ； エチルトリフェニルホスホニウムテトラフェニル
ボレート、 ； ブチルトリフェニルホスホニウムテトラフェニル
ボレート、
は、下記の化合物を示す。 ； ベンジルトリフェニルホスホニウムテトラフェニ
ルボレート、 ； メチルトリフェニルホスホニウムテトラフェニル
ボレート、 ； エチルトリフェニルホスホニウムテトラフェニル
ボレート、 ； ブチルトリフェニルホスホニウムテトラフェニル
ボレート、
【００５３】フェノ−ル系化合物Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、
Ｆは、下記の化合物を示す。 Ａ； ２，２′−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−
ブチルフェノール）、 Ｂ； ４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ
−ブチルフェノール）、 Ｃ； ２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒ
ドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニル
アクリレート、 Ｄ； １．６−ヘキサンジオ−ル−ビス〔３−（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート〕、 Ｅ； ｎ−オクタデシル−３−（４’−ヒドロキシ−
３’，５’−ジ−ｔブチルフェニル）プロピオネート、 Ｆ； トリエチレングリコ−ル−ビス〔３−（３−ｔ−
ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オネート〕、
Ｆは、下記の化合物を示す。 Ａ； ２，２′−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−
ブチルフェノール）、 Ｂ； ４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ
−ブチルフェノール）、 Ｃ； ２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒ
ドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニル
アクリレート、 Ｄ； １．６−ヘキサンジオ−ル−ビス〔３−（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート〕、 Ｅ； ｎ−オクタデシル−３−（４’−ヒドロキシ−
３’，５’−ジ−ｔブチルフェニル）プロピオネート、 Ｆ； トリエチレングリコ−ル−ビス〔３−（３−ｔ−
ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オネート〕、
【００５４】リン系化合物イ、ロ、ハ、ニは、下記の化
合物を示す。 イ； ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタ
エリスリトール−ジ−ホスファイト、 ロ； ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェ
ニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、 ハ； ２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチル
フェニル）オクチルホスファイト、 ニ； ４，４’−イソプロピリデン−ジフェノールアル
キルホスファイト、
合物を示す。 イ； ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタ
エリスリトール−ジ−ホスファイト、 ロ； ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェ
ニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、 ハ； ２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチル
フェニル）オクチルホスファイト、 ニ； ４，４’−イソプロピリデン−ジフェノールアル
キルホスファイト、
【００５５】
【表２】
【００５６】
【本発明の効果】本発明の方法によれば、エステル交換
法により、色相、熱安定性に優れた芳香族ポリカーボネ
ートを製造することができ、工業的にも極めて有効な方
法である。
法により、色相、熱安定性に優れた芳香族ポリカーボネ
ートを製造することができ、工業的にも極めて有効な方
法である。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平２−175723（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C08G 64/00 - 64/42
Claims (6)
- 【請求項１】 芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエス
テルとをアルカリ金属化合物および／またはアルカリ土
類金属化合物および下記一般式（１）で表される第４級
ホスホニウム化合物、さらに特定のフェノール系化合物
を含む触媒系を用いてエステル交換反応させて得られる
ポリカーボネート１００重量部に、（イ）リン系化合物
または（ロ）リン系化合物とフェノール系化合物を０．
００１〜０．５重量部添加することを特徴とするポリカ
ーボネートの製造方法。 【化１】（Ｒ1 ）n （Ｒ2 ）4-n ＰＢ（Ｒ3 ）m （Ｒ
4 ）4-m （１） （式中、Ｒ1 、Ｒ2 はアルキル基、フェニル基またはア
ルキル置換フェニル基を表し、Ｒ3 、Ｒ4 は水素、アル
キル基、フェニル基を表し、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 は
同一または相互に異なるものでも良く、ｍ、ｎはそれぞ
れ０〜４の整数である。） - 【請求項２】 芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対
し、（ａ）アルカリ金属化合物、又はアルカリ土類金属
化合物が１０-3〜１０-3モル、（ｂ）第４級ホスホニウ
ム化合物が１０-8〜１０-2モル、（ｃ）特定のフェノー
ル系化合物が１０-7〜１０-2モルであることを特徴とす
る請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 一般式（１）で表される第４級ホスホニ
ウム化合物が、テトラメチルホスホニウムテトラフェニ
ルボレート、テトラエチルホスホニウムテトラフェニル
ボレート、テトラプロピルホスホニウムテトラフェニル
ボレート、テトラブチルホスホニウムテトラフェニルボ
レート、トリメチルエチルホスホニウムテトラフェニル
ボレート、トリメチルベンジルホスホニウムテトラフェ
ニルボレート、トリメチルフェニルホスホニウムテトラ
フェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラ
フェニルボレート、ベンジルトリフェニルホスホニウム
テトラフェニルボレート、メチルトリフェニルホスホニ
ウムテトラフェニルボレート、エチルトリフェニルホス
ホニウムテトラフェニルボレート、ブチルトリフェニル
ホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラメチルホ
スホニウムメチルトリフェニルボレート、テトラエチル
ホスホニウムエチルトリフェニルボレート、テトラプロ
ピルホスホニウムプロピルトリフェニルボレート、テト
ラブチルホスホニウムブチルトリフェニルボレート、ト
リメチルエチルホスホニウムトリメチルフェニルボレー
ト、トリメチルベンジルホスホニウムベンジルトリフェ
ニルボレート、トリメチルフェニルホスホニウムメチル
トリフェニルボレート、ベンジルトリフェニルホスホニ
ウムメチルトリフェニルボレート、メチルトリフェニル
ホスホニウムベンジルトリフェニルボレート、エチルト
リフェニルホスホニウムベンジルトリフェニルボレー
ト、ブチルトリフェニルホスホニウムトリメチルフェニ
ルボレートから選ばれる少なくとも一種である請求項１
記載の方法。 - 【請求項４】一般式（１）で表される第４級ホスホニウ
ム化合物が、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニ
ルボレート、ベンジルトリフェニルホスホニウムテトラ
フェニルボレート、トリメチルフェニルホスホニウムテ
トラフェニボレート、メチルトリフェニルホスホニウム
テトラフェニルボレート、エチルトリフェニルホスホニ
ウムテトラフェニルボレート、ブチルトリフェニルホス
ホニウムテトラフェニルボレートから選ばれる少なくと
も一種である請求項１記載の方法。 - 【請求項５】 リン系化合物が、アリールアルキルホス
ファイト、トリシクロアルキルホスファイト、トリアリ
ールホスファイト、トリアルキルホスフェート、トリシ
クロアルキルホスフェー、トリアリールホスフェート及
び亜リン酸から選ばれる少なくとも一種である請求項１
記載の方法。 - 【請求項６】 リン系化合物が、ビス（２，４−ジ−ｔ
−ブチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスフ
ァイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフ
ェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、
２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）オクチルホスファイト、４，４’−イソプロピリデ
ン−ジフェノールアルキルホスファイト、トリス（２，
４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトから選ばれ
る一種である請求項１記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04008394A JP3412653B2 (ja) | 1994-03-10 | 1994-03-10 | ポリカーボネートの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04008394A JP3412653B2 (ja) | 1994-03-10 | 1994-03-10 | ポリカーボネートの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07247354A JPH07247354A (ja) | 1995-09-26 |
| JP3412653B2 true JP3412653B2 (ja) | 2003-06-03 |
Family
ID=12571013
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04008394A Expired - Lifetime JP3412653B2 (ja) | 1994-03-10 | 1994-03-10 | ポリカーボネートの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3412653B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6316575B1 (en) * | 1996-06-26 | 2001-11-13 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Processes for the production of polycarbonate |
| JP5145622B2 (ja) * | 2001-07-30 | 2013-02-20 | 住友ベークライト株式会社 | ポリカーボネート樹脂組成物およびシート状成形品 |
-
1994
- 1994-03-10 JP JP04008394A patent/JP3412653B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07247354A (ja) | 1995-09-26 |
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