JP3387615B2 - カチオン電着塗料組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、電着塗料組成物、特
に、カチオン電着塗料組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】カチオン電着塗料組成物は、一般に、カ
チオン性基を含む基体樹脂と、ブロックイソシアネート
系硬化剤と、ブロックイソシアネート系硬化剤の解離触
媒とを含んでいる。ここで、解離触媒は、ブロックイソ
シアネート系硬化剤のブロック部を解離させてイソシア
ネート基の再生を促進するための成分である。

【０００３】ところで、この種のカチオン電着塗料組成
物は、主として自動車の車体や部品のプライマー用に用
いられており、高耐食性の塗膜が形成可能な塗膜形成能
が求められている。このような塗膜形成能を実現するた
めに、一般的なカチオン電着塗料組成物は、防錆顔料と
しての塩基性鉛顔料を更に含んでいる。ところが、鉛系
の顔料は、環境汚染を防止する観点から使用が回避され
つつある。このため、カチオン電着塗料組成物に関して
は、鉛系化合物を用いずに鉛系化合物を用いた場合と同
等の耐食性を実現可能な塗膜形成能が求められている。

【０００４】一方、カチオン電着塗料組成物に関して
は、低温硬化性も要求されている。これは、電着塗装時
の浴温を低く設定することにより、電着塗装時にかかる
エネルギーコストの低減を図るためである。

【０００５】上述の要求を同時に実現するためのカチオ
ン電着塗料組成物として、ポリアミドを変性剤とした特
定のエポキシ−ポリアミン系樹脂と、ブロックイソシア
ネート系硬化剤と、ベンゾエート系有機錫化合物と、ビ
スマス系化合物またはジルコニウム系化合物とを含むも
のが提案されている（特開平５−３１１０９９号）。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】前記従来のカチオン電
着塗料組成物は、鉛系化合物を含んでいないにもかかわ
らず、耐食性の良好な塗膜が形成でき、また低温硬化性
も良好であるが、ビスマス系化合物やジルコニウム系化
合物等の高価な材料を用いる必要があるので、コスト高
である。また、ビスマス系化合物やジルコニウム系化合
物は、それぞれ単独では塗料中に均一に混ざりにくいの
で、カチオン電着塗料の取扱い性を損なう。

【０００７】本発明の目的は、鉛系化合物を用いずに、
低温硬化性と高耐食性とを同時にかつ安価に実現するこ
とにある。

【０００８】

【課題を解決しようとする課題】本発明のカチオン電着
塗料組成物は、オキサゾリドン環含有エポキシ樹脂と、
イソシアヌレート環を含むブロックイソシアネート系硬
化剤と、ブロックイソシアネート系硬化剤の解離触媒と
を含んでいる。ここで、解離触媒は、有機錫化合物と、
コバルト，ニッケルまたは亜鉛の有機酸塩およびジケト
ン金属錯体からなる群から選ばれた少なくとも１種の金
属化合物とを含んでいる。また、このカチオン電着塗料
組成物は、鉛系化合物を含まない。

【０００９】ここで、有機錫化合物は、例えば下記の一
般式（１）および（２）で示される有機錫化合物群から
選ばれた少なくとも１種の有機錫化合物である。また、
有機酸塩は、例えば下記の一般式（３）で示される有機
酸金属塩である。

【００１０】

【化４】

【００１１】

【化５】

【００１２】一般式（１）および（２）中、Ｒ¹ および
Ｒ³ は、それぞれ炭素数が１〜１２個のアルキル基また
はアリール基である。Ｒ² は、水素原子、または炭素数
が１〜２１個のアルキル基，アルケニル基，アラルキル
基，シクロアルキル基，アルコキシアルキル基またはア
リール基である。ＸおよびＹは、ＯＣＯＲ² 、ＯＨ、ハ
ロゲン、Ｏ１／２またはＳ１／２である。Ｚは、Ｏ、Ｓ
または２価のカルボン酸残基である。ｐは、０または１
の整数である。

【００１３】

【化６】

【００１４】一般式（３）中、Ｒ⁴ は、水素原子、また
は炭素数が１〜２１個のアルキル基，アルケニル基，ア
ラルキル基，シクロアルキル基，アルコキシアルキル基
またはアリール基である。Ｍは、コバルト、ニッケルま
たは亜鉛である。ｑは、０または１の整数である。

【００１５】基体樹脂 本発明で用いられる基体樹脂は、カチオン電着塗料用に
通常利用されるものであればよく、特に限定されない。
カチオン電着塗料用の具体的な基体樹脂としては、例え
ばアミノ基含有モノマーを共重合またはグラフト重合し
たもの、エポキシ基含有ポリマーにアミンを付加したも
の、エポキシ基含有ポリマーをオニウム塩化したもの、
ジカルボン酸とポリアミンとの反応生成物、マレイン化
ポリマーにアミンを付加したもの、イソシアネート含有
ポリマーにアミンを付加したもの等が挙げられる。

【００１６】本発明で用いられる基体樹脂として好まし
いものは、アミノ基含有樹脂である。具体的には、１級
または２級の水酸基と、１級、２級または３級のアミノ
基とを含む、アミノ価が３０〜１５０でありかつ平均分
子量が２００〜２０，０００のアミノ−エポキシ樹脂、
アミノ−ポリ（メタ）アクリレート樹脂、およびアミノ
−ポリウレタン樹脂である。なお、この種の基体樹脂に
含まれる水酸基およびアミノ基は、それぞれ１種類でも
よいし、２種類以上でもよい。なお、アミノ価が３０未
満の場合は、安定なエマルションを得にくくなる。逆
に、１５０を越えると、クーロン効率や再溶解性等のＥ
Ｄ作業性に問題が生じるおそれがある。なお、アミノ価
のより好ましい範囲は、４５〜１２０である。

【００１７】本発明で用いられる基体樹脂として最も好
ましいものは、分子内にオキサゾリドン環を含む変性エ
ポキシ樹脂である。この変性エポキシ樹脂は、ジイソシ
アネート化合物を反応させたビスウレタン化合物あるい
は他の活性水素化合物を反応させたヘテロウレタン化合
物と、エポキシ樹脂とを脱アルコール反応させることに
より得ることができる。このようなオキサゾリドン環を
含む基体樹脂を用いれば、加熱減量に起因する塗膜のや
せが起こりにくくなる。

【００１８】硬化剤 本発明で用いられるブロックイソシアネート系硬化剤
は、一般的なブロックイソシアネート系硬化剤、即ち、
ポリイソシアネート化合物に含まれるイソシアネート基
にブロック化剤を付加したものである。なお、硬化剤
は、通常３つ以上の官能基を有しているため、本発明で
用いられるブロックイソシアネート系硬化剤に含まれる
ブロックイソシアネート基の個数も３つ以上が好まし
い。

【００１９】上述のポリイソシアネート化合物として
は、トリメチレンジイソシアネート，トリメチルヘキサ
メチレンジイソシアネート，テトラメチレンジイソシア
ネート，ヘキサメチレンジイソシアネート等のアルキレ
ンジイソシアネート、ビス（イソシアネートメチル）シ
クロヘキサン，シクロペンタンジイソシアネート，シク
ロヘキサンジイソシアネート，イソホロンジイソシアネ
ート等のシクロアルキレン系ジイソシアネート、トリレ
ンジイソシアネート，フェニレンジイソシアネート，ジ
フェニルメタンジイソシアネート，ジフェニルエーテル
ジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート、キシリ
レンジイソシアネート，ジイソシアネートジエチルベン
ゼン等の芳香脂肪族ジイソシアネート、トリフェニルメ
タントリイソシアネート，トリイソシアネートベンゼ
ン，トリイソシアネートトルエン等のトリイソシアネー
ト、ジフェニルジメチルメタンテトライソシアネート等
のテトライソシアネート、トリレンジイソシアネートの
２量体または３量体等の重合ポリイソシアネート、上記
各種ポリイソシアネート化合物にエチレングリコール，
プロピレングリコール，ジエチレングリコール，トリメ
チロールプロパン，水添ビスフェノールＡ，ヘキサント
リオール，グリセリン，ペンタエリスリトール，ヒマシ
油，トリエタノールアミン等の低分子活性水素含有有機
化合物を反応させて得られる末端イソシアネート含有化
合物等が挙げられる。

【００２０】一方、ブロック化剤としては、フェノール
類、ラクタム類、アルコール類、アミノアルコール、ア
ミン類或いはイミド類、マロン酸ジエチル，アセト酢酸
メチル，アセト酢酸エチル等の活性メチレン含有化合
物、オキシム類、メルカプタン類、酸アミド類、イミダ
ゾール類、尿素類、カルバミン酸塩類、亜硫酸塩類等が
挙げられる。

【００２１】ここで、フェノール類としては、フェノー
ル、クレゾール、キシレノール、ｔ−ブチルフェノー
ル、ｐ−ノニルフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−オクチルフ
ェノール、ヒドロキシ安息香酸等が例示できる。ラクタ
ム類としては、ε−カプロラクタム、γ−ブチロラクタ
ム、δ─バレロラクタム、β─プロピオラクタム等が例
示できる。

【００２２】アルコール類としては、メタノール、エタ
ノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノー
ル、アミルアルコール、ヘキシルアルコール、２−エチ
ルヘキサノール、ヘプチルアルコール、オクチルアルコ
ール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチル
エーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、
エチレングリコールモノ−２−エチルヘキシルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリ
コールモノ−２−エチルヘキシルエーテル、プロピレン
グリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール
モノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチル
エーテル、プロピレングリコールモノヘキシルエーテ
ル、プロピレングリコールモノ−２−エチルヘキシルエ
ーテル等が例示できる。

【００２３】アミノアルコールとしては、ジメチルエタ
ノールアミン、ジメチルプロパノールアミン、ジメチル
イソプロパノールアミン、ジメチルブタノールアミン、
ジエチルエタノールアミン、２─〔２─（ジメチルアミ
ノ）エトキシ〕エタノール、２─（２─〔２─（ジメチ
ルアミノ）エトキシ〕エトキシ）エタノール、１─〔２
─（ジメチルアミノ）エトキシ〕─２─プロパノール、
１─（１─〔１─（ジメチルアミノ）─２─プロポキ
シ〕─２─プロポキシ）─２─プロパノール等が例示で
きる。アミン類或いはイミド類としては、ジフェニルア
ミン、キシリジン、カルバゾール、ジブチルアミン、コ
ハク酸イミド、フタル酸イミド等が例示できる。オキシ
ム類としては、ホルムアミドキシム、アセトキシム、ア
セトアルドキシム、シクロヘキサンオキシム、メチルエ
チルケトキシム、ジアセチルモノオキシム、ベンゾフェ
ノンオキシム等が例示できる。

【００２４】次に、本発明で用いられるブロックイソシ
アネート系硬化剤として好ましいものを列挙して具体的
に説明する。

【００２５】〔芳香族イソシアヌレート環を含むブロッ
クイソシアネート系硬化剤Ｉ〕この種の硬化剤を用いる
と、耐食性や平滑性等の一般的塗膜特性を損なうことな
く加熱減量を抑制することができる。ここで、芳香族イ
ソシアヌレート環とは、一般には３分子の芳香族イソシ
アネートの重合により形成される環状構造をいう。具体
的には、下記の構造式（４）で示される環状構造をい
う。

【００２６】

【化７】

【００２７】なお、式中、−Ａ−は、芳香族炭化水素に
由来する残基である。１つのブロックイソシアネート系
硬化剤分子中に含まれる芳香族イソシアヌレート環の個
数は、１〜５個が好ましく、より好ましくは２または３
個である。芳香族イソシアヌレート環の個数が６個以上
の場合は、硬化剤の粘度が高くなるので、電着塗料組成
物の塗布作業性を低下させるおそれがある。

【００２８】このような芳香族イソシアヌレート環を含
むブロックイソシアネート系硬化剤において、ブロック
イソシアネート基のうちの少なくとも１つは、イソシア
ネート基が活性水素化合物としてのグリコールエーテル
によりブロックされたものが好ましい。勿論、ブロック
イソシアネート基の全てがグリコールエーテルによりブ
ロックされたイソシアネート基であってもよい。ここ
で、上述のグリコールエーテルとして好ましいものは、
例えば下記の一般式（５）で示されるものである。

【００２９】

【化８】

【００３０】式中、Ｒａは炭素数が４〜１２個（好まし
くは６〜８個）のアルキル基、Ｒｂは水素原子またはメ
チル基、ｎは１〜４の整数である。ここで、Ｒａの炭素
数が４個未満の場合は、塗膜の平滑性を損なうおそれが
ある。逆に、Ｒａの炭素数が１２個を超える場合は、硬
化反応性の低下や加熱減量の増加が起こるおそれがあ
る。

【００３１】上述のグリコールエーテルの具体例として
は、エチレングリコール系化合物およびプロピレングリ
コール系化合物が挙げられる。エチレングリコール系化
合物としては、エチレングリコールモノブチルエーテ
ル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレ
ングリコールモノ─２─エチルヘキシルエーテル、ジエ
チレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノ─２─エチルヘキシルエーテル等が例示できる。

【００３２】一方、プロピレングリコール系化合物とし
ては、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノヘキシルエーテル、プロピレング
リコールモノ─２─エチルヘキシルエーテル、ジプロピ
レングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノヘキシルエーテル、ジプロピレングリコール
モノ─２─エチルヘキシルエーテル等が例示できる。

【００３３】上述のエチレングリコール系化合物および
プロピレングリコール系化合物の具体例のうち、特に好
ましいものは、エチレングリコールモノ─２─エチルヘ
キシルエーテル、ジエチレングリコールモノ─２─エチ
ルヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノ─２─
エチルヘキシルエーテル、およびジプロピレングリコー
ルモノ─２─エチルヘキシルエーテルである。

【００３４】なお、イソシアネート基をブロックするた
めのグリコールエーテルとしては、前記一般式（５）で
示されるグリコールエーテルの外に、前記一般式（５）
におけるＲａ、Ｒｂおよびｎがそれぞれ炭素数１〜３個
のアルキル基、水素原子またはメチル基、１〜４の整数
であるものが用いられてもよい。このようなグリコール
エーテルの具体例としては、エチレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテルが挙げられる。

【００３５】なお、上述のグリコールエーテルは、加熱
減量の抑制や、硬化剤そのもののガラス転移温度（後
述）を考慮して、炭素数が６〜１５となるようＲａ、Ｒ
ｂおよびｎが設定されたものが最も好ましい。

【００３６】上述のブロックイソシアネート基のうち、
グリコールエーテルによりブロックされたイソシアネー
ト基以外のものは、グリコールエーテルを除く、上述の
一般的なブロック化剤を用いてブロックされたイソシア
ネート基である。

【００３７】芳香族イソシアヌレート環を含む上述の硬
化剤は、ブロックイソシアネート基部分が下記の条件を
満たす構造のものが特に好ましい。 全ブロックイソシアネート基のうちの少なくとも２０
当量％が、上述の一般式（５）で示されるグリコールエ
ーテルによりブロックされたイソシアネート基であるも
の。なお、この当量％が２０当量％未満の場合は、塗膜
の平滑性を低下させるおそれがある。 の条件に加え、上述の一般式（５）で示されるグリ
コールエーテルによりブロックされたもの以外のブロッ
クイソシアネート基が、一般式ＲｃＯＨ（Ｒｃは、水酸
基を含んでいてもよい、炭素数が１〜１０の炭化水素
基）で示されるアルコール、一般式Ｒｄ（ＯＣＨ₂ ＣＨ
Ｒｅ）ｍＯＨ（Ｒｄは炭素数が１〜３のアルキル基、Ｒ
ｅは水素原子またはメチル基、ｍは１〜４の整数）で示
されるグリコールエーテル、活性メチレン化合物、オキ
シム化合物、アミノアルコール、イミダゾールおよびラ
クタムからなる群から選ばれた少なくとも１種の活性水
素化合物によりブロックされたイソシアネート基である
こと。

【００３８】イソシアヌレート環含有硬化剤のガラス転
移温度は、４０℃以下が好ましい。ガラス転移温度が４
０℃を超えると、加熱時のフロー性が低下し、塗膜の平
滑性が低下するおそれがある。なお、このガラス転移温
度は、イソシアネート基をブロックするために用いられ
る、上述のブロック化剤の種類と分量とに左右されるの
で、これらを適宜調整することにより達成され得る。ガ
ラス転移温度の決定は、示差熱分析装置によるモデル化
合物の測定結果から求められる検量線から類推すること
によることもできるが、最終的には硬化物を直接測定す
ることにより決定するのが好ましい。

【００３９】イソシアヌレート環含有硬化剤において、
各ブロックイソシアネート基のブロック部分の重量の合
計が当該硬化剤を構成する化合物の分子量に占める割合
は、１０〜５５％が好ましい。ここで、ブロック部分と
は、イソシアネート基をブロックしているブロック化剤
に由来する部分、言い換えると、ブロック前のブロック
化剤から活性水素を除いたものに相当する部分をいう。
この割合が１０％未満の場合は、塗膜の平滑性が損なわ
れるおそれがある。逆に、５５％を超える場合は、加熱
減量の抑制効果が得られ難い。

【００４０】次に、上述のイソシアヌレート環含有硬化
剤の一例を示す。この硬化剤は、構造式で示すと下記の
一般式（６）で表される。

【００４１】

【化９】

【００４２】式中、Ａ¹ 〜Ａ¹¹のそれぞれは、

【００４３】

【化１０】

【００４４】からなる群から選ばれた芳香族ジイソシア
ネート化合物由来の構造部分である。なお、Ａ¹ 〜Ａ¹¹
は、全てが同一であってもよいし、互いに異なっていて
もよい。また、Ｒ⁵ 〜Ｒ¹¹は、それぞれブロック化剤か
ら活性水素を除いた残基であり、少なくとも１つは上述
のグリコールエーテルから活性水素を除いたものの残基
である。さらに、ｆ、ｇ、ｈおよびｉは、それぞれ０ま
たは１である。

【００４５】イソシアヌレート環含有硬化剤は、一般
に、芳香族ジイソシアネート化合物の３量化により得ら
れたポリイソシアネート化合物をブロック化剤によりブ
ロックすると得られる。芳香族イソシアネート化合物と
しては、例えば、トリレンジイソシアネートやフェニレ
ンジイソシアネート等が挙げられる。

【００４６】この製造方法で用いられるポリイソシアネ
ート化合物としては、例えば、下記の一般式（７）で示
されるものが挙げられる。

【００４７】

【化１１】

【００４８】式中、ｌは０〜４、好ましくは１〜２であ
る。上記ポリイソシアネート化合物は、モノマー成分、
即ち３量化せずに残留している残留モノマー成分とし
て、トリレンジイソシアネートやフェニレンジイソシア
ネート等の芳香族イソシアネート化合物を含んでいても
よい。但し、ポリイソシアネート化合物に占めるこの種
の残留モノマーの割合が５０重量％を越える場合は、目
的とする硬化剤が得られない場合がある。

【００４９】上述のポリイソシアネート化合物をブロッ
クする場合は、上述のポリイソシアネート化合物に対し
てブロック化剤を反応させる。ここで、２種類以上のブ
ロック化剤を反応させる場合は、２種類以上のブロック
化剤を一度にポリイソシアネート化合物に加えて反応さ
せてもよいし、ブロック化剤毎にポリイソシアネート化
合物に加えて反応させてもよい。但し、反応性が異なる
２種類以上のブロック化剤を用いる場合は、反応性が高
いブロック化剤の方を反応性が低い方のブロック化剤よ
りも先にポリイソシアネート化合物に対して反応させる
のが好ましい。なお、硬化剤の好ましいガラス転移温
度、およびブロック部の好ましい割合は、ブロック化剤
の種類および量をそれぞれ選択または調整することによ
り達成し得る。

【００５０】〔イソシアヌレート環と、芳香族イソシア
ネート基および脂肪族イソシアネート基の双方のブロッ
クイソシアネート基とを含むブロックイソシアネート系
硬化剤ＩＩ〕この種の硬化剤を用いると、上述の硬化剤
Ｉの場合と同様に、耐食性や平滑性等の一般的塗膜特性
を損なうことなく加熱減量を抑制することができる。

【００５１】この硬化剤は、イソシアヌレート環と、ブ
ロックされた複数のイソシアネート基とを有する化合物
からなり、かつ複数のイソシアネート基には、芳香族イ
ソシアネート基および脂肪族イソシアネート基の両方が
含まれている。ここで、芳香族イソシアネート基とは、
芳香環に直接結合したイソシアネート基をいい、脂肪族
イソシアネート基とは、脂肪族炭化水素鎖に結合したイ
ソシアネート基をいう。

【００５２】この硬化剤に含まれるイソシアヌレート環
は、芳香族イソシアヌレート環または脂肪族イソシアヌ
レート環のいずれでもよい。ここで、芳香族イソシアヌ
レート環は、硬化剤Ｉでの説明の通りである。また、脂
肪族イソシアヌレート環とは、一般には３分子の脂肪族
イソシアネート化合物の重合により形成される環状構造
をいう。

【００５３】この硬化剤に含まれる複数のブロックイソ
シアネート基におけるブロック化剤由来の部分は、特に
限定されない。一般に、ブロックイソシアネート基は、
ブロック化剤の種類によって解離温度が異なってくる。
解離しやすいブロック化剤によりブロックされていれ
ば、低温での硬化が可能であるが、貯蔵安定性に劣る可
能性がある。一方、解離しにくいブロック化剤でブロッ
クされていれば、貯蔵安定性は優れているが、低温での
硬化性に劣る可能性がある。解離しやすいブロック化剤
としては、オキシム類、活性メチレン含有化合物および
フェノール類などが挙げられ、解離しにくいブロック化
剤としては、アルコール類、ラクタム類およびアミノア
ルコールなどが挙げられる。

【００５４】一般に、芳香族イソシアネート基は脂肪族
イソシアネート基よりも反応性が高い。従って、上記の
低温硬化性と貯蔵安定性の両立を考慮すると、芳香族イ
ソシアネート基は、アルコール類、ラクタム類およびア
ミノアルコールからなる群から選ばれたブロック化剤で
ブロックされていることが好ましい。一方、脂肪族イソ
シアネート基は、オキシム類、活性メチレン含有化合物
およびフェノール類からなる群から選ばれたブロック化
剤でブロックされていることが好ましい。

【００５５】この種の硬化剤ＩＩは、イソシアヌレート
環と、芳香族および脂肪族双方のイソシアネート基とを
含むポリイソシアネート化合物を準備し、このポリイソ
シアネート化合物にブロック化剤を反応させる一般的な
方法によって製造することができる。上述のポリイソシ
アネート化合物は、一般的な有機合成により目的物を合
成する他に、市販品の購入により得ることができる。市
販品としては、ヘキサメチレンジイソシアネートとトリ
レンジイソシアネートの複合イソシアヌレート化合物で
ある、ローヌ・プーラン社製のトロネート−ＸＴＨＴが
挙げられる。

【００５６】なお、芳香族イソシアネート基が、アルコ
ール類、ラクタム類およびアミノアルコールからなる群
から選ばれたブロック化剤でブロックされており、か
つ、脂肪族イソシアネート基が、オキシム類、活性メチ
レン含有化合物およびフェノール類からなる群から選ば
れたブロック化剤でブロックされている場合には、ま
ず、アルコール類、ラクタム類およびアミノアルコール
からなる群から選ばれた少なくとも１つのブロック化剤
（ブロック化剤Ｘ）をポリイソシアネート化合物に対し
て反応させ、次に、オキシム類、活性メチレン含有化合
物およびフェノール類からなる群から選ばれた少なくと
も１つのブロック化剤（ブロック化剤Ｙ）を反応させる
のが好ましい。このような製造工程を経れば、ブロック
化剤Ｘが先ず芳香族イソシアネート基をブロックし、続
いて、ブロック化剤Ｙが脂肪族イソシアネート基をブロ
ックする工程を経て硬化剤が得られると考えられる。

【００５７】ブロック化剤Ｘは、前記ポリイソシアネー
ト化合物中の芳香族イソシアネート基に対して１〜１．
１当量用いることが好ましい。一方、ブロック化剤Ｙ
は、前記のポリイソシアネート化合物中の脂肪族イソシ
アネート基に対して１〜１．１当量用いることが好まし
い。上記の範囲に設定した場合には、低温硬化性と貯蔵
安定性の両立が図れる。上述の製造工程を経て得られた
硬化剤は、例えば、下記の一般式（８）で表わすことが
できる。

【００５８】

【化１２】

【００５９】なお、式中、Ｒ¹²は、アルコール類、ラク
タム類およびアミノアルコールからなる群から選ばれた
少なくとも１つのブロック化剤から活性水素を除いた残
基である。Ｒ¹³は、オキシム類、活性メチレン含有化合
物およびフェノール類からなる群から選ばれた少なくと
も１つのブロック化剤から活性水素を除いた残基であ
る。ｎは、０〜４を示す。

【００６０】〔ガラス転移温度が異なる２種類のブロッ
クイソシアネート化合物を含む硬化剤ＩＩＩ〕この種の
硬化剤を利用すれば、電着浴温変化が膜厚に与える影響
を小さくすることができる。この硬化剤は、２種類のブ
ロックイソシアネート化合物、即ち、ブロックイソシア
ネート化合物Ａとブロックイソシアネート化合物Ｂとを
含んでいる。ブロックイソシアネート化合物ＡおよびＢ
は、以下の関係を満たすものであれば特に限定されな
い。

【００６１】２種類のブロックイソシアネート化合物Ａ
およびＢは、ガラス転移温度が互いに異なっている必要
がある。また、ブロックイソシアネート化合物Ａとして
は、ブロックイソシアネート化合物Ｂに比べてガラス転
移温度が高いものが用いられる。ブロックイソシアネー
ト化合物Ａとブロックイソシアネート化合物Ｂとのガラ
ス転移温度の差は、少なくとも２５℃、好ましくは２５
〜６０℃である。ガラス転移温度の差が２５℃未満の場
合には、電着塗装による塗膜の膜厚が電着浴温変化の影
響を受けやすい。ガラス転移温度の差が６０℃を越える
場合には、硬化剤としての機能が十分に発揮されないお
それがある。なお、ここで言うガラス転移温度は、示差
熱分析装置により実測した値である。

【００６２】各ブロックイソシアネート化合物のガラス
転移温度は、ブロックイソシアネート化合物Ａについて
は１０〜４０℃、ブロックイソシアネート化合物Ｂにつ
いては−２０〜０℃が好ましい。これらの範囲外では、
電着塗膜の一般的物性に悪影響を及ぼすおそれがある。

【００６３】また、ブロックイソシアネート化合物Ａと
ブロックイソシアネート化合物Ｂとの溶解性パラメータ
ーの差は０．１〜３．０が好ましく、さらに好ましくは
０．６〜１．５である。この範囲外の場合には、電着塗
装時の浴温変化が膜厚に与える影響が大きくなる。な
お、両ブロックイソシアネート化合物間では溶解性パラ
メーターの大小は問わない。すなわち、ブロックイソシ
アネート化合物Ａの溶解性パラメーターは、ブロックイ
ソシアネート化合物Ｂの溶解性パラメーターに比べて大
きくてもよいし、小さくてもよい。

【００６４】各ブロックイソシアネート化合物の溶解性
パラメーターは、特に限定されない。ただし、ブロック
イソシアネート化合物Ａについては９．５〜１１．５が
好ましく、ブロックイソシアネート化合物Ｂについては
１１．６〜１３．５が好ましい。なお、溶解性パラメー
ター（ＳＰ）は、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｐｐｌｉｅ
ｄ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ，１２，２３５９
（１９６８）に示された、Ｋ．Ｗ．ＳＵＨおよびＪ．
Ｍ．ＣＯＲＢＥＴＴによる下記の式（１）により決定さ
れる。

【００６５】

【数１】

【００６６】式中、Ｖmlは低ＳＰ溶剤の濁点での容積、
Ｖmhは高ＳＰ溶剤の濁点での容積、δmlは低ＳＰ溶剤の
溶解度パラメーター、δmhは高ＳＰ溶剤の溶解性パラメ
ーターである。

【００６７】上述のブロックイソシアネート化合物Ａお
よびＢとしては、一般的なポリイソシアネート化合物を
一般的なブロック化剤でブロックしたものであれば種々
のものが利用できる。ポリイソシアネート化合物として
は、芳香族ポリイソシアネート化合物と脂肪族ポリイソ
シアネート化合物のいずれもが用いられ得る。よって、
ブロックイソシアネート化合物ＡおよびＢの組合せとし
ては、例えば以下の４通りが考えられる。

【００６８】 １．Ａ：芳香族ブロックイソシアネート化合物 Ｂ：脂肪族ブロックイソシアネート化合物 ２．Ａ：芳香族ブロックイソシアネート化合物 Ｂ：芳香族ブロックイソシアネート化合物 ３．Ａ：脂肪族ブロックイソシアネート化合物 Ｂ：脂肪族ブロックイソシアネート化合物 ４．Ａ：脂肪族ブロックイソシアネート化合物 Ｂ：芳香族ブロックイソシアネート化合物 上述の組合せの中では、設計の自由度の観点から１．の
組合せが好ましい。

【００６９】上述のブロックイソシアネート化合物Ａと
ブロックイソシアネート化合物Ｂとの混合比は、重量比
（Ａ／Ｂ）で１５／８５〜４０／６０が好ましい。この
範囲を外れる場合には、塗膜の膜厚が電着浴温変化によ
る影響を受けやすくなる。

【００７０】なお、加熱減量の抑制を考慮すると、ブロ
ックイソシアネート化合物Ａおよびブロックイソシアネ
ート化合物Ｂの一方又は双方は、上述の硬化剤Ｉおよび
ＩＩと同様にイソシアヌレート環を含んでいることが好
ましい。上述の硬化剤ＩＩＩは、上述のブロックイソシ
アネート化合物ＡとＢとを、任意の方法で混合すると得
られる。

【００７１】解離触媒 本発明の組成物で用いられる解離触媒は、有機錫化合物
と、コバルト，ニッケルまたは亜鉛の有機酸塩およびジ
ケトン金属錯体からなる群から選ばれた少なくとも１種
の金属化合物とを含んでいる。

【００７２】〔有機錫化合物について〕本発明で用いら
れる有機錫化合物は、例えば下記の一般式（１）および
（２）で示される有機錫化合物群から選ばれた少なくと
も１種である。

【００７３】

【化１３】

【００７４】

【化１４】

【００７５】一般式（１）および（２）において、Ｒ¹
およびＲ³ は、それぞれ炭素数が１〜１２個のアルキル
基またはアリール基である。具体的には、メチル基、ブ
チル基、オクチル基、ラウリル基、フェニル基が例示で
きる。このうち、特にブチル基およびオクチル基が好ま
しい。

【００７６】Ｒ² は、水素原子、または炭素数が１〜２
１個のアルキル基，アルケニル基，アラルキル基，シク
ロアルキル基，アルコキシアルキル基またはアリール基
である。具体的には、オクチル酸や２−エチルヘキシル
酸の残基が例示できる。

【００７７】ＸおよびＹは、ＯＣＯＲ² 、ＯＨ、ハロゲ
ン、Ｏ１／２またはＳ１／２である。ここで、ＯＣＯＲ
² は、上述のＲ² 基を有する炭素数が２〜２２個のカル
ボン酸残基である。具体的には、ギ酸、酢酸、カプロン
酸、オクチル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチ
ン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ネオペンタン酸、ネオ
ヘプタン酸、ネオデカン酸、アクリル酸、クロトン酸、
イソクロトン酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、エルカ
酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、フェニル酢
酸、フェニル酪酸、フェニルプロピオン酸、シクロペン
タンカルボン酸、アセト酢酸、安息香酸、メトキシ安息
香酸、ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸、ヒドロキシ安息香酸
等が例示できる。このうち、特に酢酸、オクチル酸、ラ
ウリン酸および安息香酸が好ましい。また、ハロゲンと
しては、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素およびアスタチン
が挙げられるが、このうち特に塩素が好ましい。

【００７８】Ｚは、Ｏ（酸素原子）、Ｓ（硫黄原子）ま
たは２価のカルボン酸残基である。ここで、２価のカル
ボン酸残基としては、アジピン酸，マレイン酸，フタル
酸等の２価の脂肪族カルボン酸または芳香族カルボン酸
の残基、チオジプロピオン酸等の含硫黄２価脂肪族カル
ボン酸の残基が挙げられる。ｐは、０または１の整数で
ある。

【００７９】前記一般式（１）および（２）で示される
有機錫化合物の具体例としては、モノメチル錫トリギ酸
塩、モノメチル錫トリ酢酸塩、モノメチル錫トリオクチ
ル酸塩、モノメチル錫トリラウリン酸塩、モノメチル錫
トリステアリン酸塩、モノメチル錫トリアクリル酸塩、
モノメチル錫トリクロトン酸塩、モノメチル錫トリオレ
イン酸塩、モノメチル錫トリエルカ酸塩、モノメチル錫
ソルビン酸塩、モノメチル錫トリリノール酸塩、モノメ
チル錫トリスフェニル酢酸塩、モノメチル錫トリスフェ
ニルプロピオン酸塩、モノメチル錫トリスアセト酢酸
塩、モノメチル錫トリ安息香酸塩、モノブチル錫トリ酢
酸塩、モノブチル錫トリカプロン酸塩、モノブチル錫ト
リオクチル酸塩、モノブチル錫トリラウリン酸塩、モノ
ブチル錫トリミリスチン酸塩、モノブチル錫トリパルミ
チン酸塩、モノブチル錫トリステアリン酸塩、モノブチ
ル錫トリベヘン酸塩、モノブチル錫トリアクリル酸塩、
モノブチル錫トリクロトン酸塩、モノブチル錫トリイソ
クロトン酸塩、モノブチル錫トリウンデシレン酸塩、モ
ノブチル錫トリオレイン酸塩、モノブチル錫トリエルカ
酸塩、モノブチル錫トリソルビン酸塩、モノブチル錫ト
リリノール酸塩、モノブチル錫トリリノレン酸塩、モノ
ブチル錫トリスフェニル酢酸塩、モノブチル錫トリスフ
ェニル酪酸塩、モノブチル錫トリスフェニルプロピオン
酸塩、モノブチル錫トリスシクロペンタンカルボン酸
塩、モノブチル錫トリスアセト酢酸塩、モノブチル錫ト
リ安息香酸塩、モノブチル錫トリスメトキシ安息香酸
塩、モノオクチル錫トリ酢酸塩、モノオクチル錫トリオ
クチル酸塩、モノオクチル錫トリラウリン酸塩、モノオ
クチル錫トリステアリン酸塩、モノオクチル錫トリベヘ
ン酸塩、モノオクチル錫トリアクリル酸塩、モノオクチ
ル錫トリオレイン酸塩、モノオクチル錫トリエルカ酸
塩、モノオクチル錫トリソルビン酸塩、モノオクチル錫
トリリノール酸塩、モノオクチル錫トリスフェニル酢酸
塩、モノオクチル錫トリスフェニルプロピオン酸塩、モ
ノオクチル錫トリスアセト酢酸塩、モノオクチル錫トリ
安息香酸塩、モノラウリル錫トリ酢酸塩、モノラウリル
錫トリオクチル酸塩、モノラウリル錫トリラウリン酸
塩、モノラウリル錫トリステアリン酸塩、モノラウリル
錫トリアクリル酸塩、モノラウリル錫トリオレイン酸
塩、モノラウリル錫トリスフェニル酪酸塩、モノラウリ
ル錫トリ安息香酸塩、モノフェニル錫トリ酢酸塩、モノ
フェニル錫トリオクチル酸塩、モノフェニル錫トリラウ
リン酸塩、モノフェニル錫トリクロトン酸塩、モノフェ
ニル錫トリオレイン酸塩、モノフェニル錫トリスフェニ
ル酢酸塩、モノフェニル錫トリスフェニルプロピオン酸
塩、モノフェニル錫トリ安息香酸塩、モノメチル錫ジ酢
酸塩・モノハイドロオキサイド、モノメチル錫モノ酢酸
塩・ジハイドロオキサイド、モノメチル錫ジカプロン酸
塩・モノハイドロオキサイド、モノメチル錫ジオクチル
酸塩・モノハイドロオキサイド、モノメチル錫ジラウリ
ン酸塩・モノハイドロオキサイド、モノメチル錫ジ安息
香酸塩・モノハイドロオキサイド、モノブチル錫ジ酢酸
塩・モノハイドロオキサイド、モノブチル錫モノ酢酸塩
・ジハイドロオキサイド、モノブチル錫ジオクチル酸塩
・モノハイドロオキサイド、モノブチル錫モノオクチル
酸塩・ジハイドロオキサイド、モノブチル錫ジラウリン
酸塩・モノハイドロオキサイド、モノブチル錫モノラウ
リン酸塩・ジハイドロオキサイド、モノブチル錫ジアク
リル酸塩・モノハイドロオキサイド、モノブチル錫モノ
オレイン酸塩・ジハイドロオキサイド、モノブチル錫ビ
スフェニル酢酸塩・モノハイドロオキサイド、モノブチ
ル錫ジ安息香酸塩・モノハイドロオキサイド、モノブチ
ル錫モノ安息香酸塩・ジハイドロオキサイド、モノオク
チル錫ジ酢酸塩・モノハイドロオキサイド、モノオクチ
ル錫モノ酢酸塩・ジハイドロオキサイド、モノオクチル
錫ジオクチル酸塩・モノハイドロオキサイド、モノオク
チル錫ジオクチル酸塩・モノハイドロオキサイド、モノ
オクチル錫モノオクチル酸塩・ジハイドロオキサイド、
モノオクチル錫ジラウリン酸塩・モノハイドロオキサイ
ド、モノオクチル錫モノラウリン酸塩・ジハイドロオキ
サイド、モノオクチル錫ジクロトン酸塩・モノハイドロ
オキサイド、モノオクチル錫ジエルカ酸塩・モノハイド
ロオキサイド、モノオクチル錫ジリノレン酸塩・モノハ
イドロオキサイド、モノオクチル錫ビスフェニル酪酸塩
・モノハイドロオキサイド、モノオクチル錫ビスシクロ
ペンタンカルボン酸塩・モノハイドロオキサイド、モノ
オクチル錫ジ安息香酸・モノハイドロオキサイド、モノ
オクチル錫モノ安息香酸塩・ジハイドロオキサイド、モ
ノオクチル錫ビスメトキシ安息香酸塩・モノハイドロオ
キサイド、モノラウリル錫ジギ酸塩・モノハイドロオキ
サイド、モノラウリル錫ジ酢酸塩・モノハイドロオキサ
イド、モノラウリル錫モノラウリン酸塩・ジハイドロオ
キサイド、モノラウリル錫ジミリスチン酸塩・モノハイ
ドロオキサイド、モノラウリル酸ジパルミチン酸塩・モ
ノハイドロオキサイド、モノラウリル錫モノステアリン
酸塩・ジハイドロオキサイド、モノラウリル錫ジベヘン
酸塩・モノハイドロオキサイド、モノラウリル錫ジイソ
クロトン酸塩・モノハイドロオキサイド、モノラウリル
錫ジウンデシレン酸塩・モノハイドロオキサイド、モノ
ラウリル錫ジソルビン酸塩・モノハイドロオキサイド、
モノラウリル錫ジリノール酸塩・モノハイドロオキサイ
ド、モノラウリル錫モノフェニルプロピオン酸塩・ジハ
イドロオキサイド、モノラウリル錫ビスアセト酢酸塩・
モノハイドロオキサイド、モノラウリル錫ジ安息香酸塩
・モノハイドロオキサイド、モノラウリル錫モノメトキ
シ安息香酸塩・ジハイドロオキサイド、モノフェニル錫
モノ酢酸塩・ジハイドロオキサイド、モノフェニル錫ジ
オクチル酸塩・モノハイドロオキサイド、モノフェニル
錫ジラウリン酸塩・モノハイドロオキサイド、モノフェ
ニル錫ジオレイン酸塩・モノハイドロオキサイド、モノ
フェニル錫モノアセト酢酸塩・ジハイドロオキサイド、
モノフェニル錫ジ安息香酸塩・モノハイドロオキサイ
ド、モノメチル錫ジ酢酸塩・モノクロライド、モノメチ
ル錫モノ酢酸塩・ジクロライド、モノメチル錫ジオクチ
ル酸塩・モノクロライド、モノメチル錫モノオクチル酸
塩・ジクロライド、モノメチル錫ジラウリン酸塩・モノ
クロライド、モノメチル錫ジアクリル酸塩・モノクロラ
イド、モノメチル錫ジオレイン酸塩・モノクロライド、
モノメチル錫ビスフェニルプロピオン酸塩・モノクロラ
イ、モノメチル錫ジ安息香酸塩・モノクロライド、モノ
ブチル錫ジ酢酸塩・モノクロライド、モノブチル錫モノ
酢酸塩・ジクロライド、モノブチル錫モノカプロン酸塩
・ジクロライド、モノブチル錫ジオクチル酸塩・モノク
ロライド、モノブチル錫モノオクチル酸塩・ジクロライ
ド、モノブチル錫ジラウリン酸塩・モノクロライド、モ
ノブチル錫モノラウリン酸塩・ジクロライド、モノブチ
ル錫モノベヘン酸塩・ジクロライド、モノブチル錫モノ
クロトン酸塩・ジクロライド、モノブチル錫ジエルカ酸
塩・モノクロライド、モノブチル錫ビスフェニル酢酸塩
・モノクロライド、モノブチル錫ビスアセト酢酸塩・モ
ノクロライド、モノブチル錫モノ安息香酸・ジクロライ
ド、モノブチル錫モノメトキシ安息香酸塩・ジクロライ
ド、モノオクチル錫ジ酢酸塩・モノクロライド、モノオ
クチル錫モノ酢酸塩・ジクロライド、モノオクチル錫ジ
オクチル酸塩・モノクロライド、モノオクチル錫モノオ
クチル酸塩・ジクロライド、モノオクチル錫ジラウリン
酸塩・モノクロライド、モノオクチル錫モノラウリン酸
塩・ジクロライド、モノオクチル錫ジステアリン酸塩・
モノクロライド、モノオクチル錫ジランデシレン酸塩・
モノクロライド、モノオクチル錫ジオレイン酸塩・モノ
クロライド、モノオクチル錫ビスアセト酢酸塩・モノク
ロライド、モノオクチル錫ジ安息香酸塩・モノクロライ
ド、モノオクチル錫モノ安息香酸塩・ジクロライド、モ
ノラウリル錫モノ酢酸塩・ジクロライド、モノラウリル
錫モノオクチル酸塩・ジクロライド、モノラウリル錫ジ
ラウリン酸塩・モノクロライド、モノラウリル錫ジミリ
スチン酸塩・モノクロライド、モノラウリル錫ジイソク
ロトン酸塩・モノクロライド、モノラウリル錫モノフェ
ニル酪酸塩・ジクロライド、モノラウリル錫ジ安息香酸
塩・モノクロライド、モノラウリル錫モノ安息香酸塩・
ジクロライド、モノフェニル錫ジギ酸塩・モノクロライ
ド、モノフェニル錫モノ酢酸塩・ジクロライド、モノフ
ェニル錫ジオクチル酸塩・モノクロライド、モノフェニ
ル錫ジラウリン酸塩・モノクロライド、モノフェニル錫
ジパルミチン酸塩・モノクロライド、モノフェニル錫ジ
ソルビン酸塩・モノクロライド、モノフェニル錫ビスア
セト酢酸塩・モノクロライド、モノフェニル錫モノメト
キシ安息香酸塩・ジクロライド、モノメチル錫ジ酢酸塩
・オキサイド（１／２）、モノメチル錫モノ酢酸塩・オ
キサイド、モノメチル錫ジカプロン酸塩・オキサイド
（１／２）、モノメチル錫ジオクチル酸塩・オキサイド
（１／２）、モノメチル錫ジラウリン酸塩・オキサイド
（１／２）、モノメチル錫ジベヘン酸塩・オキサイド
（１／２）、モノメチル錫ジアクリル酸塩・オキサイド
（１／２）、モノメチル錫ビスアセト酢酸塩・オキサイ
ド（１／２）、モノメチル錫ジ安息香酸塩・オキサイド
（１／２）、モノメチル錫ジ酢酸塩・オキサイド（１／
２）、モノブチル錫ジ酢酸塩・オキサイド（１／２）、
モノブチル錫モノ酢酸塩・オキサイド、モノブチル錫ジ
オクチル酸塩・オキサイド（１／２）、モノブチル錫モ
ノオクチル酸塩・オキサイド、モノブチル錫ジラウリン
酸塩・オキサイド（１／２）、モノブチル錫モノラウリ
ン酸塩・オキサイド、モノブチル錫ジステアリン酸塩・
オキサイド、モノブチル錫ジクロトン酸塩・オキサイド
（１／２）、モノブチル錫ビスフェニル酢酸塩・オキサ
イド（１／２）、モノブチル錫ジ安息香酸塩・オキサイ
ド、モノブチル錫モノ安息香酸塩・オキサイド、モノブ
チル錫ビスメトキシ安息香酸塩・オキサイド（１／
２）、モノオクチル錫ジ酢酸塩・オキサイド（１／
２）、モノオクチル錫モノ酢酸塩・オキサイド、モノオ
クチル錫ジオクチル酸塩・オキサイド（１／２）、モノ
オクチル錫モノオクチル酸塩・オキサイド、モノオクチ
ル錫ジラウリン酸塩・オキサイド（１／２）、モノオク
チル錫ジラウリン酸塩・オキサイド（１／２）、モノオ
クチル錫モノラウリン酸塩・オキサイド、モノオクチル
錫ジミリスチン酸塩・オキサイド（１／２）、モノオク
チル錫ジクロトン酸塩・オキサイド（１／２）、モノオ
クチル錫ビスフェニル酪酸塩・オキサイド（１／２）、
モノオクチル錫ジ安息香酸塩・オキサイド（１／２）、
モノオクチル錫モノ安息香酸塩・オキサイド、モノオク
チル錫ビスメトキシ安息香酸塩・オキサイド（１／
２）、モノラウリル錫ジ酢酸塩・オキサイド（１／
２）、モノラウリル錫ジカプロン酸塩・オキサイド（１
／２）、モノラウリル錫ジオクチル酸塩・オキサイド
（１／２）、モノラウリル錫モノラウリン酸塩・オキサ
イド、モノラウリル錫ジパルミチン酸塩・オキサイド
（１／２）、モノラウリル錫ジイソクロトン酸塩・オキ
サイド（１／２）、モノラウリル錫ジ安息香酸塩・オキ
サイド（１／２）、モノメチル錫ジ酢酸塩・サルファイ
ド（１／２）、モノメチル錫ジオクチル酸塩・サルファ
イド（１／２）、モノメチル錫ジラウリン酸塩・サルフ
ァイド（１／２）、モノメチル錫ジラウリン酸塩・サル
ファイド（１／２）、モノメチル錫ジ安息香酸塩・サル
ファイド（１／２）、モノブチル錫ジ酢酸塩・サルファ
イド（１／２）、モノブチル錫モノ酢酸塩・サルファイ
ド、モノブチル錫ジオクチル酸塩・サルファイド（１／
２）、モノブチル錫モノオクチル酸塩・サルファイド、
モノブチル錫ジラウリン酸塩・サルファイド（１／
２）、モノブチル錫モノラウリン酸塩・サルファイド、
モノブチル錫ジ安息香酸塩・サルファイド（１／２）、
モノブチル錫モノ安息香酸塩・サルファイド、モノオク
チル錫ジ酢酸塩・サルファイド（１／２）、モノオクチ
ル錫モノ酢酸塩・サルファイド、モノオクチル錫ジオク
チル酸塩・サルファイド（１／２）、モノオクチル錫モ
ノオクチル酸塩・サルファイド、モノオクチル錫ジラウ
リン酸塩・サルファイド（１／２）、モノオクチル錫モ
ノラウリン酸塩・サルファイド、モノオクチル錫ジ安息
香酸塩・サルファイド（１／２）、モノオクチル錫モノ
安息香酸塩・サルファイド、モノメチル錫モノ酢酸塩・
モノハイドロオキサイド・モノクロライド、モノブチル
錫モノオクチル酸塩・モノハイドロオキサイド・オキサ
イド（１／２）、モノオクチル錫モノラウリン酸塩・モ
ノハイドロオキサイド・サルファイド（１／２）、モノ
ラウリル錫モノ安息香酸塩・モノクロライド・ハイドロ
オキサイド、モノフェニル錫モノオクチル酸塩・モノク
ロライド・サルファイド（１／２）、モノフェニル錫モ
ノラウリン酸塩・オキサイド（１／２）・サルファイ
ド、ジメチル錫ジギ酸塩・ジメチル錫ジ酢酸塩、ジメチ
ル錫ジオクチル酸塩、ジメチル錫ジステアリン酸塩、ジ
メチル錫ジネオペンタン酸塩、ジメチル錫ジアクリル酸
塩、ジメチル錫ビスフェニル酢酸塩、ジメチル錫ビスア
セト酢酸塩、ジメチル錫ビスメトキシ安息香酸塩、ジブ
チル錫ジ酢酸塩、ジブチル錫ジオクチル酸塩、ジブチル
錫ジラウリン酸塩、ジブチル錫ジベヘン酸塩、ジブチル
錫ジネオデカン酸塩、ジブチル錫ジクロトン酸塩、ジブ
チル錫ビスフェニル酪酸塩、ジブチル錫ビスアセト酢酸
塩、ジブチル錫ジ安息香酸塩、ジブチル錫ビスターシャ
リーブチル安息香酸塩、ジオクチル錫ジ酢酸塩、ジオク
チル錫ジオクチル酸塩、ジオクチル錫ジラウリン酸塩、
ジオクチル錫ジミリスチン酸塩、ジオクチル錫ジネオヘ
プタン酸塩、ジオクチル錫ジイソクロトン酸塩、ジオク
チル錫ジオクチル酸塩、ジオクチル錫ジ安息香酸塩、ジ
オクチル錫ビスヒドロキシ安息香酸塩、ジラウリル錫ジ
酢酸塩、ジラウリル錫ジカプロン酸塩、ジラウリル錫ジ
オクチル酸塩、ジラウリル錫ジパルミチン酸塩、ジラウ
リル錫ジステアリン酸塩、ジラウリル錫ジイソクロトン
酸塩、ジラウリル錫ジエルカ酸塩、ジラウリル錫ジ安息
香酸塩、ジフェニル錫ジギ酸塩、ジフェニル錫ジラウリ
ン酸塩、ジフェニル錫ジウンデシレン酸塩、ジフェニル
錫ジリノレン酸塩、ジフェニル錫ジシクロペンタンカル
ボン酸塩、ジフェニル錫ビスメトキシ安息香酸塩、ビス
（ジメチル錫モノ酢酸塩）オキサイド、ビス（ジメチル
錫モノオクチル酸塩）オキサイド、ビス（ジメチル錫モ
ノラウリン酸塩）オキサイド、ビス（ジメチル錫モノア
クリル酸塩）オキサイド、ビス（ジメチル錫モノフェニ
ル酢酸塩）オキサイド、ビス（ジメチル錫モノシクロペ
ンタンカルボン酸塩）オキサイド、ビス（ジメチル錫モ
ノアセト酢酸塩）オキサイド、ビス（ジメチル錫モノ安
息香酸塩）オキサイド、ビス（ジブチル錫モノ酢酸塩）
オキサイド、ビス（ジブチル錫モノカプロン酸塩）オキ
サイド、ビス（ジブチル錫モノオクチル酸塩）オキサイ
ド、ビス（ジブチル錫モノラウリン酸塩）オキサイド、
ビス（ジブチル錫モノミリスチン酸塩）オキサオド、ビ
ス（ジブチル錫モノパルミチン酸塩）オキサイド、ビス
（ジブチル錫モノステアリン酸塩）オキサイド、ビス
（ジブチル錫モノネオデカン酸塩）オキサイド、ビス
（ジブチル錫モノオレイン酸塩）オキサイド、ビス（ジ
ブチル錫モノフェニル酪酸塩）オキサイド、ビス（ジブ
チル錫モノ安息香酸塩）オキサイド、ビス（ジブチル錫
モノターシャリーブチル安息香酸塩）オキサイド、ビス
（ジオクチル錫モノギ酸塩）オキサイド、ビス（ジオク
チル錫モノ酢酸塩）オキサイド、ビス（ジオクチル錫モ
ノオクチル酸塩）オキサイド、ビス（ジオクチル錫モノ
ラウリン酸塩）オキサイド、ビス（ジオクチル錫モノス
テアリン酸塩）オキサイド、ビス（ジオクチル錫モノネ
オデカン酸塩）オキサイド、ビス（ジオクチル錫モノク
ロトン酸塩）オキサイド、ビス（ジオクチル錫モノリノ
ール酸塩）オキサイド、ビス（ジオクチル錫モノフェニ
ルプロピオン酸塩）オキサイド、ビス（ジオクチル錫モ
ノ安息香酸塩）オキサイド、ビス（ジオクチル錫モノメ
トキシ安息香酸塩）オキサイド、ビス（ジオクチル錫モ
ノヒドロキシ安息香酸塩）オキサイド、ビス（ジラウリ
ル錫モノカプロン酸塩）オキサイド、ビス（ジラウリル
錫モノオクチル酸塩）オキサイド、ビス（ジラウリル錫
モノラウリン酸塩）オキサイド、ビス（ジラウリル錫モ
ノイソクロトン酸塩）オキサイド、ビス（ジラウリル錫
モノリノレン酸塩）オキサイド、ビス（ジラウリル錫モ
ノ安息香酸塩）オキサイド、ビス（ジフェニル錫モノラ
ウリン酸塩）オキサイド、ビス（ジフェニル錫モノウン
デシレン酸塩）オキサイド、ビス（ジフェニル錫モノエ
ルカ酸塩）オキサイド、ビス（ジフェニル錫モノソルビ
ン酸塩）オキサイド、ビス（ジフェニル錫モノメトキシ
安息香酸塩）オキサイド、ビス（ジメチル錫モノギ酸
塩）サルファイド、ビス（ジメチル錫モノ酢酸塩）サル
ファイド、ビス（ジメチル錫モノオクチル酸塩）サルフ
ァイド、ビス（ジメチル錫モノラウリン酸塩）サルファ
イド、ビス（ジブチル錫モノアクリル酸塩）サルファイ
ド、ビス（ジメチル錫モノオレイン酸塩）サルファイ
ド、ビス（ジメチル錫モノフェニル酢酸塩）サルファイ
ド、ビス（ジメチル錫モノシクロペンタンカルボン酸
塩）サルファイド、ビス（ジメチル錫モノ安息香酸塩）
サルファイド、、ビス（ジブチル錫モノ酢酸塩）サルフ
ァイド、ビス（ジブチル錫モノカプロン酸塩）サルファ
イド、ビス（ジブチル錫モノオクチル酸塩）サルファイ
ド、ビス（ジブチル錫モノラウリン酸塩）サルファイ
ド、ビス（ジブチル錫モノミリスチン酸塩）サルファイ
ド、ビス（ジブチル錫モノパルミチン酸塩）サルファイ
ド、ビス（ジブチル錫モノステアリン酸塩）サルファイ
ド、ビス（ジブチル錫モノベヘン酸塩）サルファイド、
ビス（ジブチル錫モノクロトン酸塩）サルファイド、ビ
ス（ジブチル錫モノイソクロトン酸塩）サルファイド、
ビス（ジブチル錫モノウンデシレン酸塩）サルファイ
ド、ビス（ジブチル錫モノエルカ酸塩）サルファイド、
ビス（ジブチル錫モノソルビン酸塩）サルファイド、ビ
ス（ジブチル錫モノフェニル酪酸塩）サルファイド、ビ
ス（ジブチル錫モノ安息香酸塩）サルファイド、ビス
（ジオクチル錫モノ酢酸塩）サルファイド、ビス（ジオ
クチル錫モノオクチル酸塩）サルファイド、ビス（ジオ
クチル錫モノラウリン酸塩）サルファイド、ビス（ジオ
クチル錫モノリノール酸塩）サルファイド、ビス（ジオ
クチル錫モノリノレン酸塩）サルファイド、ビス（ジオ
クチル錫モノフェニルプロピオン酸塩）サルファイド、
ビス（ジオクチル錫モノアセト酢酸塩）サルファイド、
ビス（ジオクチル錫モノ安息香酸塩）サルファイド、ビ
ス（ジオクチル錫モノメトキシ安息香酸塩）サルファイ
ド、ビス（ジラウリル錫モノ酢酸塩）サルファイド、ビ
ス（ジラウリル錫モノオクチル酸塩）サルファイド、ビ
ス（ジラウリル錫モノラウリン酸塩）サルファイド、ビ
ス（ジラウリル錫モノ安息香酸塩）サルファイド、ビス
（ジフェニル錫モノ酢酸塩）サルファイド、ビス（ジフ
ェニル錫モノオクチル酸塩）サルファイド、ビス（ジフ
ェニル錫モノラウリン酸塩）サルファイド、ビス（ジオ
クチル錫モノ安息香酸塩）サルファイド、ビス（ジメチ
ル錫モノギ酸塩）アジピン酸塩、ビス（ジメチル錫モノ
酢酸塩）アジピン酸塩、ビス（ジメチル錫モノオクチル
酸塩）アジピン酸塩、ビス（ジメチル錫モノラウリン酸
塩）アジピン酸塩、ビス（ジメチル錫モノアクリル酸
塩）アジピン酸塩、ビス（ジメチル錫モノオレイン酸
塩）アジピン酸塩、ビス（ジメチル錫モノフェニル酢酸
塩）アジピン酸塩、ビス（ジメチル錫モノ安息香酸塩）
アジピン酸塩、ビス（ジブチル錫モノ酢酸塩）アジピン
酸塩、ビス（ジブチル錫モノカプロン酸塩）アジピン酸
塩、ビス（ジブチル錫モノオクチル酸塩）アジピン酸
塩、ビス（ジブチル錫モノラウリン酸塩）アジピン酸
塩、ビス（ジブチル錫モノステアリン酸塩）アジピン酸
塩、ビス（ジブチル錫モノアクリル酸塩）アジピン酸
塩、ビス（ジブチル錫モノオレイン酸塩）アジピン酸
塩、ビス（ジブチル錫モノリノール酸塩）アジピン酸
塩、ビス（ジブチル錫モノフェニル酢酸塩）アジピン酸
塩、ビス（ジブチル錫モノ安息香酸塩）アジピン酸塩、
ビス（ジオクチル錫モノ酢酸塩）アジピン酸塩、ビス
（ジオクチル錫モノカプロン酸塩）アジピン酸塩、ビス
（ジオクチル錫モノオクチル酸塩）アジピン酸塩、ビス
（ジオクチル錫モノラウリン酸塩）アジピン酸塩、ビス
（ジオクチル錫モノベヘン酸塩）アジピン酸塩、ビス
（ジオクチル錫モノクロトン酸塩）アジピン酸塩、ビス
（ジオクチル錫モノイソクロトン酸塩）アジピン酸塩、
ビス（ジオクチル錫モノフェニル酪酸塩）アジピン酸
塩、ビス（ジオクチル錫モノ安息香酸塩）アジピン酸
塩、ビス（ジオクチル錫モノメトキシ安息香酸塩）アジ
ピン酸塩、ビス（ジラウリル錫モノ酢酸塩）アジピン酸
塩、ビス（ジラウリル錫モノオクチル酸塩）アジピン酸
塩、ビス（ジラウリル錫モノラウリン酸塩）アジピン酸
塩、ビス（ジラウリル錫モノミリスチン酸塩）アジピン
酸塩、ビス（ジラウリル錫モノパルミチン酸塩）アジピ
ン酸塩、ビス（ジラウリル錫モノベヘン酸塩）アジピン
酸塩、ビス（ジラウリル錫モノアクリル酸塩）アジピン
酸塩、ビス（ジラウリル錫モノオレイン酸塩）アジピン
酸塩、ビス（ジラウリル錫モノエルカ酸塩）アジピン酸
塩、ビス（ジラウリル錫モノフェニル酢酸塩）アジピン
酸塩、ビス（ジラウリル錫モノアセト酢酸塩）アジピン
酸塩、ビス（ジラウリル錫モノ安息香酸塩）アジピン酸
塩、ビス（ジラウリル錫モノオクチル酸塩）アジピン酸
塩、ビス（ジフェニル錫モノラウリン酸塩）アジピン酸
塩、ビス（ジフェニル錫モノ安息香酸塩）アジピン酸
塩、ビス（ジメチル錫モノ酢酸塩）マレイン酸塩、ビス
（ジメチル錫モノオクチル酸塩）マレイン酸塩、ビス
（ジメチル錫モノラウリン酸塩）マレイン酸塩、ビス
（ジメチル錫モノステアリン酸塩）マレイン酸塩、ビス
（ジメチル錫モノウンデシレン酸塩）マレイン酸塩、ビ
ス（ジメチル錫モノエルカ酸塩）マレイン酸塩、ビス
（ジメチル錫モノソルビン酸塩）マレイン酸塩、ビス
（ジメチル錫モノリノレン酸塩）マレイン酸塩、ビス
（ジメチル錫モノフェニルプロピオン酸塩）マレイン酸
塩、ビス（ジメチル錫モノアセト酢酸塩）マレイン酸
塩、ビス（ジメチル錫モノ安息香酸塩）マレイン酸塩、
ビス（ジブチル錫モノギ酸塩）マレイン酸塩、ビス（ジ
ブチル錫モノ酢酸塩）マレイン酸塩、ビス（ジブチル錫
モノオクチル酸塩）マレイン酸塩、ビス（ジブチル錫モ
ノラウリン酸塩）マレイン酸塩、ビス（ジブチル錫モノ
ラウリン酸塩）マレイン酸塩、ビス（ジブチル錫モノベ
ヘン酸塩）マレイン酸塩、ビス（ジブチル錫モノアクリ
ル酸塩）マレイン酸塩、ビス（ジブチル錫モノオレイン
酸塩）マレイン酸塩、ビス（ジブチル錫モノフェニル酢
酸塩）マレイン酸塩、ビス（ジブチル錫モノアセト酢酸
塩）マレイン酸塩、ビス（ジブチル錫モノ安息香酸塩）
マレイン酸塩、ビス（ジブチル錫モノメトキシ安息香酸
塩）マレイン酸塩、ビス（ジオクチル錫モノ酢酸塩）マ
レイン酸塩、ビス（ジオクチル錫モノカプロン酸塩）マ
レイン酸塩、ビス（ジオクチル錫モノオクチル酸塩）マ
レイン酸塩、ビス（ジオクチル錫モノラウリン酸塩）マ
レイン酸塩、ビス（ジオクチル錫モノミリスチン酸塩）
マレイン酸塩、ビス（ジオクチル錫モノパルミチン酸
塩）マレイン酸塩、ビス（ジオクチル錫モノクロトン酸
塩）マレイン酸塩、ビス（ジオクチル錫モノイソクロト
ン酸塩）マレイン酸塩、ビス（ジオクチル錫モノリノレ
ン酸塩）マレイン酸塩、ビス（ジオクチル錫モノフェニ
ル酸塩）マレイン酸塩、ビス（ジオクチル錫モノシクロ
ペンタンジカルボン酸塩）マレイン酸塩、ビス（ジオク
チル錫モノ安息香酸塩）マレイン酸塩、ビス（ジオクチ
ル錫モノメトキシ安息香酸塩）マレイン酸塩、ビス（ジ
オクチル錫モノメトキシ安息香酸塩）マレイン酸塩、ビ
ス（ジラウリル錫モノ酢酸塩）マレイン酸塩、ビス（ジ
ラウリル錫モノオクチル酸塩）マレイン酸塩、ビス（ジ
ラウリル錫モノラウリン酸塩）マレイン酸塩、ビス（ジ
ラウリル錫モノリノール酸塩）マレイン酸塩、ビス（ジ
ラウリル錫モノフェニルプロピオン酸塩）マレイン酸
塩、ビス（ジラウリル錫モノ安息香酸塩）マレイン酸
塩、ビス（ジオクチル錫モノメトキシ安息香酸塩）マレ
イン酸塩、ビス（ジフェニル錫モノ酢酸塩）マレイン酸
塩、ビス（ジフェニル錫モノオクチル酸塩）マレイン酸
塩、ビス（ジフェニル錫モノラウリン酸塩）マレイン酸
塩、ビス（ジフェニル錫モノソルビン酸塩）マレイン酸
塩、ビス（ジフェニル錫モノ安息香酸塩）マレイン酸
塩、ビス（ジフェニル錫モノメトキシ安息香酸塩）マレ
イン酸塩、ビス（ジメチル錫モノギ酸塩）フタル酸塩、
ビス（ジメチル錫モノ酢酸塩）フタル酸塩、ビス（ジメ
チル錫モノオクチル酸塩）フタル酸塩、ビス（ジメチル
錫モノラウリン酸塩）フタル酸塩、ビス（ジメチル錫モ
ノステアリン酸塩）フタル酸塩、ビス（ジメチル錫モノ
ウンデシレン酸塩）フタル酸塩、ビス（ジメチル錫モノ
安息香酸塩）フタル酸塩、ビス（ジメチル錫モノメトキ
シ安息香酸塩）フタル酸塩、ビス（ジブチル錫モノ酢酸
塩）フタル酸塩、ビス（ジブチル錫モノカプロン酸塩）
フタル酸塩、ビス（ジブチル錫モノオクチル酸塩）フタ
ル酸塩、ビス（ジブチル錫モノラウリン酸塩）フタル酸
塩、ビス（ジブチル錫モノアクリル酸塩）フタル酸塩、
ビス（ジブチル錫モノオレイン酸塩）フタル酸塩、ビス
（ジブチル錫モノフェニル酸塩）フタル酸塩、ビス（ジ
ブチル錫モノ安息香酸塩）フタル酸塩、ビス（ジオクチ
ル錫モノ酢酸塩）フタル酸塩、ビス（ジオクチル錫モノ
オクチル酸塩）フタル酸塩、ビス（ジオクチル錫モノラ
ウリル酸塩）フタル酸塩、ビス（ジオクチル錫モノミリ
スチン酸塩）フタル酸塩、ビス（ジオクチル錫モノソル
ビン酸塩）フタル酸塩、ビス（ジオクチル錫モノフェニ
ルプロピオン酸塩）フタル酸塩、ビス（ジオクチル錫モ
ノアセト酢酸塩）フタル酸塩、ビス（ジオクチル錫モノ
安息香酸塩）フタル酸塩、ビス（ジオクチル錫モノメト
キシ安息香酸塩）フタル酸塩、ビス（ジラウリル錫モノ
酢酸塩）フタル酸塩、ビス（ジラウリル錫モノオクチル
酸塩）フタル酸塩、ビス（ジラウリル錫モノラウリン酸
塩）フタル酸塩、ビス（ジラウリル錫モノ安息香酸塩）
フタル酸塩、ビス（ジフェニル錫モノ酢酸塩）フタル酸
塩、ビス（ジフェニル錫モノオクチル酸塩）フタル酸
塩、ビス（ジフェニル錫モノラウリン酸塩）フタル酸
塩、ビス（ジフェニル錫モノ安息香酸塩）フタル酸塩、
ビス（ジメチル錫モノギ酸塩）チオジプロピオン酸塩、
ビス（ジメチル錫モノ酢酸塩）チオジプロピオン酸塩、
ビス（ジメチル錫モノオクチル酸塩）チオジプロピオン
酸塩、ビス（ジメチル錫モノラウリン酸塩）チオジプロ
ピオン酸塩、ビス（ジメチル錫モノクロトン酸塩）チオ
ジプロピオン酸塩、ビス（ジメチル錫モノフェニルプロ
ピオン酸塩）チオジプロピオン酸塩、ビス（ジメチル錫
モノシクロペンタンカルボン酸塩）チオジプロピオン酸
塩、ビス（ジメチル錫モノアセト酢酸塩）チオジプロピ
オン酸塩、ビス（ジメチル錫モノ安息香酸塩）チオジプ
ロピオン酸塩、ビス（ジブチル錫モノ酢酸塩）チオジプ
ロピオン酸塩、ビス（ジブチル錫モノカプロン酸塩）チ
オジプロピオン酸塩、ビス（ジブチル錫モノオクチル酸
塩）チオジプロピオン酸塩、ビス（ジブチル錫モノラウ
リン酸塩）チオジプロピオン酸塩、ビス（ジブチル錫モ
ノパルミチン酸塩）チオジプロピオン酸塩、ビス（ジブ
チル錫モノイソクロトン酸塩）チオジプロピオン酸塩、
ビス（ジブチル錫モノフェニル酪酸塩）チオジプロピオ
ン酸塩、ビス（ジブチル錫モノ安息香酸塩）チオジプロ
ピオン酸塩、ビス（ジオクチル錫モノ酢酸塩）チオジプ
ロピオン酸塩、ビス（ジオクチル錫モノオクチル酸塩）
チオジプロピオン酸塩、ビス（ジオクチル錫モノラウリ
ン酸塩）チオジプロピオン酸塩、ビス（ジオクチル錫モ
ノエルカ酸塩）チオジプロピオン酸塩、ビス（ジオクチ
ル錫モノアセト酢酸塩）チオジプロピオン酸塩、ビス
（ジオクチル錫モノ安息香酸塩）チオジプロピオン酸
塩、ビス（ジオクチル錫モノメトキシ安息香酸塩）チオ
ジプロピオン酸塩、ビス（ジラウリル錫モノ酢酸塩）チ
オジプロピオン酸塩、ビス（ジラウリル錫モノオクチル
酸塩）チオジプロピオン酸塩、ビス（ジラウリル錫モノ
ラウリン酸塩）チオジプロピオン酸塩、ビス（ジラウリ
ル錫モノリノール酸塩）チオジプロピオン酸塩、ビス
（ジラウリル錫モノフェニル酢酸塩）チオジプロピオン
酸塩、ビス（ジラウリル錫モノ安息香酸塩）チオジプロ
ピオン酸塩、ビス（ジラウリル錫モノ酢酸塩）チオジプ
ロピオン酸塩、ビス（ジフェニル錫モノオクチル酸塩）
チオジプロピオン酸塩、ビス（ジフェニル錫モノラウリ
ン酸塩）チオジプロピオン酸塩、ビス（ジフェニル錫モ
ノリノレン酸塩）チオジプロピオン酸塩、ビス（ジフェ
ニル錫モノ安息香酸塩）チオジプロピオン酸塩等が挙げ
られる。

【００８０】上記例示のうち好ましいものは、モノブチ
ル錫トリ酢酸塩、モノブチル錫トリオクチル酸塩、モノ
ブチル錫トリラウリン酸塩、モノブチル錫トリ安息香酸
塩、モノオクチル錫トリ酢酸塩、モノオクチル錫トリオ
クチル酸塩、モノオクチル錫トリラウリン酸塩、モノオ
クチル錫トリ安息香酸塩、モノブチル錫ジ酢酸塩・モノ
ハイドロオキサイド、モノブチル錫モノ酢酸塩・ジハイ
ドロオキサイド、モノブチル錫ジオクチル酸塩・モノハ
イドロオキサイド、モノブチル錫モノオクチル酸塩・ジ
ハイドロオキサイド、モノブチル錫ジラウリン酸塩・モ
ノハイドロオキサイド、モノブチル錫モノラウリン酸塩
・ジハイドロオキサイド、モノブチル錫ジ安息香酸塩・
モノハイドロオキサイド、モノブチル錫モノ安息香酸塩
・ジハイドロオキサイド、モノオクチル錫ジ酢酸塩・モ
ノハイドロオキサイド、モノオクチル錫モノ酢酸塩・ジ
ハイドロオキサイド、モノオクチル錫ジオクチル酸塩・
モノハイドロオキサイド、モノオクチル錫ジラウリン酸
塩・モノハイドロオキサイド、モノオクチル錫モノラウ
リン酸塩・ジハイドロオキサイド、モノオクチル錫ジ安
息香酸・モノハイドロオキサイド、モノオクチル錫モノ
安息香酸塩・ジハイドロオキサイド、モノブチル錫ジ酢
酸塩・モノクロライド、モノブチル錫モノ酢酸塩・ジク
ロライド、モノブチル錫ジオクチル酸塩・モノクロライ
ド、モノブチル錫モノオクチル酸塩・ジクロライド、モ
ノブチル錫ジラウリン酸塩・モノクロライド、モノブチ
ル錫モノラウリン酸塩・ジクロライド、モノブチル錫ジ
安息香酸塩・モノクロライド、モノブチル錫モノ安息香
酸・ジクロライド、モノオクチル錫ジ酢酸塩・モノクロ
ライド、モノオクチル錫モノ酢酸塩・ジクロライド、モ
ノオクチル錫ジオクチル酸塩・モノクロライド、モノオ
クチル錫ジラウリン酸塩・モノクロライド、モノオクチ
ル錫モノラウリン酸塩・ジクロライド、モノオクチル錫
ジ安息香酸塩・モノクロライド、モノオクチル錫モノ安
息香酸塩・ジクロライド、モノブチル錫ジ酢酸塩・オキ
サイド（１／２）、モノブチル錫モノ酢酸塩・オキサイ
ド、モノブチル錫ジオクチル酸塩・オキサイド（１／
２）、モノブチル錫モノオクチル酸塩・オキサイド、モ
ノブチル錫ジラウリン酸塩・オキサイド（１／２）、モ
ノブチル錫モノラウリン酸塩・オキサイド、モノブチル
錫ジ安息香酸塩・オキサイド（１／２）、モノブチル錫
モノ安息香酸塩・オキサイド、モノオクチル錫ジ酢酸塩
・オキサイド（１／２）、モノオクチル錫モノ酢酸塩・
オキサイド、モノオクチル錫ジオクチル酸塩・オキサイ
ド（１／２）、モノオクチル錫モノオクチル酸塩・オキ
サイド、モノオクチル錫ジラウリン酸塩・オキサイド
（１／２）、モノオクチル錫モノラウリン酸塩・オキサ
イド、モノオクチル錫ジ安息香酸塩・オキサイド（１／
２）、モノオクチル錫モノ安息香酸塩・オキサイド、モ
ノブチル錫ジ酢酸塩・サルファイド（１／２）、モノブ
チル錫モノ酢酸塩・サルファイド、モノブチル錫ジオク
チル酸塩・サルファイド（１／２）、モノブチル錫モノ
オクチル酸塩・サルファイド、モノブチル錫ジラウリン
酸塩・サルファイド（１／２）、モノブチル錫モノラウ
リン酸塩・サルファイド、モノブチル錫ジ安息香酸塩・
サルファイド（１／２）、モノブチル錫モノ安息香酸塩
・サルファイド、モノオクチル錫ジ酢酸塩・サルファイ
ド（１／２）、モノオクチル錫モノ酢酸塩・サルファイ
ド、モノオクチル錫ジオクチル酸塩・サルファイド（１
／２）、モノオクチル錫モノオクチル酸塩・サルファイ
ド、モノオクチル錫ジラウリン酸塩・サルファイド（１
／２）、モノオクチル錫モノラウリン酸塩・サルファイ
ド、モノオクチル錫ジ安息香酸塩・サルファイド（１／
２）、モノオクチル錫モノ安息香酸塩・サルファイド、
ジブチル錫ジ酢酸塩、ジブチル錫ジオクチル酸塩、ジブ
チル錫ジラウリン酸塩、ジブチル錫ジ安息香酸塩、ジオ
クチル錫ジ酢酸塩、ジオクチル錫ジオクチル酸塩、ジオ
クチル錫ジラウリン酸塩、ジオクチル錫ジ安息香酸塩、
ビス（ジブチル錫モノ酢酸塩）オキサイド、ビス（ジブ
チル錫モノオクチル酸塩）オキサイド、ビス（ジブチル
錫モノラウリン酸塩）オキサイド、ビス（ジブチル錫モ
ノ安息香酸塩）オキサイド、ビス（ジオクチル錫モノ酢
酸塩）オキサイド、ビス（ジオクチル錫モノオクチル酸
塩）オキサイド、ビス（ジオクチル錫モノラウリン酸
塩）オキサイド、ビス（ジオクチル錫モノ安息香酸塩）
オキサイド、ビス（ジブチル錫モノ酢酸塩）サルファイ
ド、ビス（ジブチル錫モノオクチル酸塩）サルファイ
ド、ビス（ジブチル錫モノラウリン酸塩）サルファイ
ド、ビス（ジブチル錫モノ安息香酸塩）サルファイド、
ビス（ジオクチル錫モノ酢酸塩）サルファイド、ビス
（ジオクチル錫モノオクチル酸塩）サルファイド、ビス
（ジオクチル錫モノラウリン酸塩）サルファイド、ビス
（ジオクチル錫モノ安息香酸塩）サルファイドである。

【００８１】特に好ましいものとしては、ビス（ジブチ
ル錫モノ酢酸塩）オキサイド、ビス（ジブチル錫モノオ
クチル酸塩）オキサイド、ビス（ジブチル錫モノラウリ
ン酸塩）オキサイド、ビス（ジブチル錫モノ安息香酸
塩）オキサイド、ビス（ジオクチル錫モノ酢酸塩）オキ
サイド、ビス（ジオクチル錫モノオクチル酸塩）オキサ
イド、ビス（ジオクチル錫モノラウリン酸塩）オキサイ
ド、ビス（ジオクチル錫モノ安息香酸塩）オキサイドが
挙げられる。上述の有機錫化合物は、２種類以上が併用
されてもよい。

【００８２】〔有機酸塩について〕本発明で用いられる
有機酸塩は、例えば下記の一般式（３）で示される有機
酸金属塩である。

【００８３】

【化１５】

【００８４】一般式（３）において、Ｒ⁴ は、上述の一
般式（１）および（２）中のＲ²と同義である。また、
Ｍは、コバルト、ニッケルまたは亜鉛を示している。こ
のうち、安価な亜鉛が特に好ましい。さらに、ｑは、０
または１の整数である。

【００８５】このような一般式（３）で示される有機酸
金属塩の具体例としては、コバルトジギ酸塩、コバルト
ジ酢酸塩、コバルトジカプロン酸塩、コバルトジオクチ
ル酸塩、コバルトジラウリン酸塩、コバルトジミリスチ
ン酸塩、コバルトジパルミチン酸塩、コバルトジステア
リン酸塩、コバルトジベヘン酸塩、コバルトジネオペン
タン酸塩、コバルトジアクリル酸塩、コバルトジクロト
ン酸塩、コバルトジイソクロトン酸塩、コバルトジウン
デシレン酸塩、コバルトジオレイン酸塩、コバルトジエ
ルカ酸塩、コバルトジソルビン酸塩、コバルトジリノー
ル酸塩、コバルトジリノレン酸塩、コバルトビスフェニ
ル酢酸塩、コバルトビスフェニル酪酸塩、コバルトビス
フェニルプロピオン酸塩、コバルトビスシクロペンタン
カルボン酸塩、コバルトビスアセト酢酸塩、コバルトジ
安息香酸塩、コバルトビスメトキシ安息香酸塩、コバル
トビスターシャリーブチル安息香酸塩、ニッケルジギ酸
塩、ニッケルジ酢酸塩、ニッケルジカプロン酸塩、ニッ
ケルジオクチル酸塩、ニッケルジラウリン酸塩、ニッケ
ルジミリスチン酸塩、ニッケルジパルミチン酸塩、ニッ
ケルジステアリン酸塩、ニッケルジベヘン酸塩、ニッケ
ルジネオヘプタン酸塩、ニッケルジアクリル酸塩、ニッ
ケルジクロトン酸塩、ニッケルジイソクロトン酸塩、ニ
ッケルジウンデシレン酸塩、ニッケルジオレイン酸塩、
ニッケルジエルカ酸塩、ニッケルジソルビン酸塩、ニッ
ケルジリノール酸塩、ニッケルジリノレン酸塩、ニッケ
ルビスフェニル酢酸塩、ニッケルビスフェニル酪酸塩、
ニッケルビスフェニルプロピオン酸塩、ニッケルビスシ
クロペンタンカルボン酸塩、ニッケルビスアセト酢酸
塩、ニッケルジ安息香酸塩、ニッケルビスメトキシ安息
香酸塩、ニッケルビスヒドロキシ安息香酸塩、亜鉛ジギ
酸塩、亜鉛ジ酢酸塩、亜鉛ジカプロン酸塩、亜鉛ジオク
チル酸塩、亜鉛ジラウリン酸塩、亜鉛ジミリスチン酸
塩、亜鉛ジパルミチン酸塩、亜鉛ジステアリン酸塩、亜
鉛ジベヘン酸塩、亜鉛ジネオデカン酸塩、亜鉛ジアクリ
ル酸塩、亜鉛ジクロトン酸塩、亜鉛ジイソクロトン酸
塩、亜鉛ジウンデシレン酸塩、亜鉛ジオレイン酸塩、亜
鉛ジエルカ酸塩、亜鉛ジソルビン酸塩、亜鉛ジリノール
酸塩、亜鉛ジリノレン酸塩、亜鉛ビスフエニル酢酸塩、
亜鉛ビスフェニル酪酸塩、亜鉛ビスフェニルプロピオン
酸塩、亜鉛ビスシクロペンタンカルボン酸塩、亜鉛ビス
アセト酢酸塩、亜鉛ジ安息香酸塩、亜鉛ビスメトキシ安
息香酸塩、亜鉛ビスターシャリーブチル安息香酸塩、亜
鉛ビスヒドロキシ安息香酸塩、ビス（コバルトモノギ酸
塩）オキサイド、ビス（コバルトモノ酢酸塩）オキサイ
ド、ビス（コバルトモノオクチル酸塩）オキサイド、ビ
ス（コバルトモノラウリン酸塩）オキサイド、ビス（コ
バルトモノミリスチン酸塩）オキサイド、ビス（コバル
トモノベヘン酸塩）オキサイド、ビス（コバルトモノア
クリル酸塩）オキサイド、ビス（コバルトモノクロトン
酸塩）オキサイド、ビス（コバルトモノウンデシレン酸
塩）オキサイド、ビス（コバルトモノオレイン酸塩）オ
キサイド、ビス（コバルトモノソルビン酸塩）オキサイ
ド、ビス（コバルトモノフェニル酢酸塩）オキサイド、
ビス（コバルトモノフェニルプロピオン酸塩）オキサイ
ド、ビス（コバルトモノシクロペンタンカルボン酸塩）
オキサイド、ビス（コバルトモノアセト酢酸塩）オキサ
イド、ビス（コバルトモノ安息香酸塩）オキサイド、ビ
ス（コバルトモノメトキシ安息香酸塩）オキサイド、ビ
ス（ニッケルモノ酢酸塩）オキサイド、ビス（ニッケル
モノカプロン酸塩）オキサイド、ビス（ニッケルモノオ
クチル酸塩）オキサイド、ビス（ニッケルモノラウリン
酸塩）オキサイド、ビス（ニッケルモノパルミチン酸
塩）オキサイド、ビス（ニッケルモノステアリン酸塩）
オキサイド、ビス（ニッケルモノアクリル酸塩）オキサ
イド、ビス（ニッケルモノイソクロトン酸塩）オキサイ
ド、ビス（ニッケルモノオレイン酸塩）オキサイド、ビ
ス（ニッケルモノエルカ酸塩）オキサイド、ビス（ニッ
ケルモノリノール酸塩）オキサイド、ビス（ニッケルモ
ノリノレン酸塩）オキサイド、ビス（ニッケルモノフェ
ニル酪酸塩）オキサイド、ビス（ニッケルモノアセト酢
酸塩）オキサイド、ビス（ニッケルモノ安息香酸塩）オ
キサイド、ビス（ニッケルモノメトキシ安息香酸塩）オ
キサイド、ビス（亜鉛モノギ酸塩）オキサイド、ビス
（亜鉛モノ酢酸塩）オキサイド、ビス（亜鉛モノカプロ
ン酸塩）オキサイド、ビス（亜鉛モノオクチル酸塩）オ
キサイド、ビス（亜鉛モノラウリン酸塩）オキサイド、
ビス（亜鉛モノミリスチン酸塩）オキサイド、ビス（亜
鉛モノパルミチン酸塩）オキサイド、ビス（亜鉛モノス
テアリン酸塩）オキサイド、ビス（亜鉛モノベヘン酸
塩）オキサイド、ビス（亜鉛モノネオデカン酸塩）オキ
サイド、ビス（亜鉛モノアクリル酸塩）オキサイド、ビ
ス（亜鉛モノクロトン酸塩）オキサイド、ビス（亜鉛モ
ノイソクロトン酸塩）オキサイド、ビス（亜鉛モノウン
デシレン酸塩）オキサイド、ビス（亜鉛モノオレイン酸
塩）オキサイド、ビス（亜鉛モノエルカ酸塩）オキサイ
ド、ビス（亜鉛モノソルビン酸塩）オキサイド、ビス
（亜鉛モノリノール酸塩）オキサイド、ビス（亜鉛モノ
リノレン酸塩）オキサイド、ビス（亜鉛モノフェニル酢
酸塩）オキサイド、ビス（亜鉛モノフェニル酪酸塩）オ
キサイド、ビス（亜鉛モノフェニルプロピオン酸塩塩）
オキサイド、ビス（亜鉛モノシクロペンタンカルボン酸
塩）オキサイド、ビス（亜鉛モノアセト酢酸塩）オキサ
イド、ビス（亜鉛モノ安息香酸塩）オキサイド、ビス
（亜鉛モノメトキシ安息香酸塩）オキサイド、ビス（亜
鉛モノターシャリーブチル安息香酸塩）オキサイド等が
挙げられる。

【００８６】上記例示のうち、好ましいものとしては、
コバルトジギ酸塩、コバルトジオクチル酸塩、コバルト
ジラウリン酸塩、コバルトジ安息香酸塩、ニッケルジ酢
酸塩、ニッケルジオクチル酸塩、ニッケルジラウリン酸
塩、ニッケルジ安息香酸塩、亜鉛ジ酢酸塩、亜鉛ジオク
チル酸塩、亜鉛ジラウリン酸塩、亜鉛ジ安息香酸塩、ビ
ス（コバルトモノ酢酸塩）オキサイド、ビス（コバルト
モノオクチル酸塩）オキサイド、ビス（コバルトモノラ
ウリン酸塩）オキサイド、ビス（コバルトモノ安息香酸
塩）オキサイド、ビス（ニッケルモノ酢酸塩）オキサイ
ド、ビス（ニッケルモノオクチル酸塩）オキサイド、ビ
ス（ニッケルモノラウリン酸塩）オキサイド、ビス（ニ
ッケルモノ安息香酸塩）オキサイド、ビス（亜鉛モノ酢
酸塩）オキサイド、ビス（亜鉛モノオクチル酸塩）オキ
サイド、ビス（亜鉛モノラウリン酸塩）オキサイド、ビ
ス（亜鉛モノ安息香酸塩）オキサイドが挙げられる。

【００８７】特に好ましいものとしては、ビス（コバル
トモノ酢酸塩）オキサイド、ビス（コバルトモノオクチ
ル酸塩）オキサイド、ビス（コバルトモノラウリン酸
塩）オキサイド、ビス（コバルト安息香酸塩）オキサイ
ド、ビス（ニッケルモノ酢酸塩）オキサイド、ビス（ニ
ッケルモノオクチル酸塩）オキサイド、ビス（ニッケル
モノラウリン酸塩）オキサイド、ビス（ニッケルモノ安
息香酸塩）オキサイド、ビス（亜鉛モノ酢酸塩）オキサ
イド、ビス（亜鉛モノオクチル酸塩）オキサイド、ビス
（亜鉛モノラウリン酸塩）オキサイド、ビス（亜鉛モノ
安息香酸塩）オキサイドが挙げられる。

【００８８】〔ジケトン金属錯体について〕本発明で用
いられるジケトン金属錯体は、分子中にカルボニル基を
２個有するジケトンと、コバルト、ニッケルまたは亜鉛
とから構成される錯化合物である。

【００８９】上述のジケトンは、特に限定されるもので
はないが、例えば下記の一般式（９）で示されるβ−ジ
ケトンが挙げられる。

【００９０】

【化１６】

【００９１】式中、Ｒ¹⁴は、水素原子、アルキル基、ア
リール基、アルキルアリール基、アリールアルキル基、
Ｒ¹⁵ＣＯ−またはＲ¹⁶ＣＯ−を示す。Ｒ¹⁵およびＲ
¹⁶は、それぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、シ
クロアルキル基、アルコキシアリール基、アルキルアリ
ール基、アリールアルキル基を示している。なお、Ｒ¹⁵
とＲ¹⁶は、互いに同一でもよいし、互いに異なるもので
もよい。また、Ｒ¹⁵およびＲ¹⁶は、両者間で環状構造を
形成していてもよい。

【００９２】前記アルキル基としては、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブ
チル基、セカンダリーブチル基、ターシャリーブチル
基、アシル基、ネオペンチル基、イソアミル基、ヘキシ
ル基、イソヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イソ
オクチル基、２−エチルヘキシル基、デシル基、イソデ
シル基、ラウリル基、トリデシル基、炭素数が１２〜１
５の混合アルキル基、ステアリル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロドデ
シル基、４−メチルシクロヘキシル基等が例示できる。

【００９３】前記アリール基としては、フェニル基やナ
フチル基が例示できる。前記シクロアルキル基として
は、シクロオクチル基やアルコキシアリール基等が挙げ
られる。前記アルコキシアリール基としては、メトキシ
フェニル基，プロポキシフェニル基およびブトキシフェ
ニル基等が挙げられる。

【００９４】前記アリールアルキル基としては、例え
ば、ベンジル基、β−フェニルエチル基、γ−フェニル
プロピル基、β−フェニルプロピル基が例示できる。前
記アルキルアリール基としては、トリル基、キシリル
基、エチルフェニル基、ブチルフェニル基、第３ブチル
フェニル基、オクチルフェニル基、イソオクチルフェニ
ル基、第３オクチルフェニル基、ノニルフェニル基、ジ
ノニルフェニル基、２，４−ジ第３ブチルフェニル基等
が挙げられる。

【００９５】上述のβ−ジケトンの具体例としては、デ
ヒドロ酢酸、デヒドロプロピオニル酢酸、デヒドロベン
ゾイル酢酸、シクロヘキサン−１，３−ジオン、ジメド
ン、２，２’−メチレンビスシクロヘキサン−１，３−
ジオン、２−ベンジルシクロヘキサン−１，３−ジオ
ン、アセチルテトラロン、パルミトイルテトラロン、ス
テアロイルテトラロン、ベンゾイルテトラロン、２−ア
セチルシクロヘキサノン、２−ベンゾイルシクロヘキサ
ノン、２−アセチル−シクロヘキサン−１，３−ジオ
ン、ベンゾイル−ｐ−クロルベンゾイルメタン、ビス
（４−メチルベンゾイル）メタン、ビス（２−ヒドロキ
シベンゾイル）メタン、ベンゾイルアセチルメタン、ト
リベンゾイルメタン、ジアセチルベンゾイルメタン、ス
テアロイルベンゾイルメタン、パルミトイル・ベンゾイ
ルメタン、ラウロイル・ベンゾイルメタン、ジベンゾイ
ルメタン、４−メトキシベンゾイル・ベンゾイルメタ
ン、ビス（４−メトキシベンゾイル）メタン、ビス（４
−クロルベンゾイル）メタン、ビス（３，４−メチレン
ジオキシベンゾイル）メタン、ベンゾイル・アセチル・
オクチルメタン、ベンゾイル・アセチル・フェニルメタ
ン、ステアロイル・４−メトキシベンゾイルメタン、ビ
ス（４−第３ブチルベンゾイル）メタン、ベンゾイル・
アセチル・エチルメタン、ベンゾイル・トリフルオル・
アセチルメタン、ジアセチルメタン、ブタノイル・アセ
チルメタン、ヘプタノイル・アセチルメタン、トリアセ
チルメタン、ジステアロイルメタン、ステアロイル・ア
セチルメタン、パルミトイル・アセチルメタン、ラウロ
イル・アセチルメタン、ベンゾイル・ホルミルメタン、
アセチル・ホルミル・メチルメタン、ベンゾイル・フェ
ニルアセチルメタン、ビス（シクロヘキサノイル）メタ
ン、ビス（シクロヘキサノイル）メタン、ジピバロイル
メタンが挙げられる。

【００９６】本発明で用いられる、上述のジケトンによ
るジケトン化合物の具体例としては、コバルトステアロ
イル・ベンゾイルメタン、コバルトベンゾイルメタン、
コバルトジアセチルメタン、コバルトブタノイル・アセ
チルメタン、ニッケルステアロイル・ベンゾイルメタ
ン、ニッケルジベンゾイルメタン、ニッケルジアセチル
メタン、ニッケルブタノイル・アセチルメタン、亜鉛ス
テアロイル・ベンソイルメタン、亜鉛ジベンゾイルメタ
ン、亜鉛ジアセチルメタン、亜鉛ブタノイル・アセチル
メタンが挙げられる。

【００９７】本発明で用いられる解離触媒は、例えば上
述の一般式（１）または（２）で示される有機錫化合物
群から選ばれた少なくとも１種の有機錫化合物（ａ）
と、上述の一般式（３）で示される有機酸金属塩および
ジケトン金属錯体からなる群から選ばれた少なくとも１
種の金属化合物（ｂ）とを含んでいる。即ち、解離触媒
は、有機錫化合物（ａ）と金属化合物（ｂ）とを併用し
ている。

【００９８】ここで、有機錫化合物（ａ）と金属化合物
（ｂ）との配合割合（ａ：ｂ）は、重量比で９：１〜
１：９が好ましい。配合割合がこの範囲外の場合は、本
発明の組成物の低温硬化性が低下するおそれがある。配
合割合は、有機錫化合物（ａ）の添加量を金属化合物
（ｂ）の添加量に比べて少なく設定するのがより好まし
い。この場合、低温での触媒効果が高まり、また塗膜の
平滑性をはじめとする塗膜外観が向上する。このような
観点から、有機錫化合物（ａ）と金属化合物（ｂ）との
最も好ましい配合割合（ａ：ｂ）は、１：１〜２：８で
ある。

【００９９】混合割合 本発明のカチオン電着塗料組成物は、上述の基体樹脂を
５０重量部以上、好ましくは６０重量部以上含んでい
る。基体樹脂の割合が５０重量部未満の場合は、目的と
する耐食性が得られにくい。一方、組成物に含まれる基
体樹脂の割合の上限は、９０重量部、好ましくは８０重
量部である。９０重量部を越えると、充分な硬化塗膜が
得られない場合がある。

【０１００】また、ブロックイソシアネート系硬化剤の
割合は、１０重量部以上、好ましくは２０重量部以上で
ある。割合が１０重量部未満の場合は、充分な硬化塗膜
が得られない場合がある。一方、ブロックイソシアネー
ト系硬化剤の割合の上限は、５０重量部以下、好ましく
は４０重量部以下である。５０重量部を越えると、目的
とする耐食性が得られにくい。

【０１０１】さらに、解離触媒の割合は、基体樹脂の固
形分の０．０１重量％以上、好ましくは０．５重量％以
上である。割合が０．０１重量％未満の場合は、目的と
する低温硬化性と高耐食性とが同時に達成できない場合
がある。一方、解離触媒の割合の上限は、基体樹脂の固
形分の５．０重量％以下、好ましくは３重量％以下であ
る。５．０重量％を越えると、電着塗膜にワキやピンホ
ールが発生し易くなり、塗膜の平滑性が損なわれるおそ
れがある。

【０１０２】本発明の組成物は、上術の必須成分の他
に、必要に応じて顔料、顔料分散用樹脂および溶剤を含
んでいても良い。顔料、顔料分散用樹脂および溶剤とし
ては、カチオン電着塗料用としての一般的なものが利用
できる。

【０１０３】本発明の組成物は、上述の必須成分および
必要に応じて他の成分を均一に混合すると得られる。な
お、本発明で用いられる解離触媒は、分散樹脂等を利用
しなくても基体樹脂中に均一に分散し得る。したがっ
て、本発明の組成物は、調整が容易である。

【０１０４】

【実施例】製造例１（基体樹脂の製造） 還流冷却器、温度計、撹拌機および滴下ロートを取り付
けた三つ口フラスコを用意した。このフラスコ中に、
２，４−トリレンジイソシアネートと２，６−トリレン
ジイソシアネートとを８：２の割合で混合したもの５４
重量部、メチルイソブチルケトン１３６重量部、および
ジブチルチンジラウレート０．５重量部を加えて撹拌
し、これに更にメタノール１１重量部を滴下ロートから
３０分かけて滴下した。フラスコ内の温度を６０℃に維
持して３０分間反応させ、その後、エチレングリコール
モノ−２−エチルヘキシルエーテル５４重量部を滴下ロ
ートから更に１時間かけて滴下した。温度を６０〜６５
℃に保ちながら反応を継続し、赤外線吸収スペクトルで
イソシアネート基の吸収スペクトルが消失した時点で反
応を終了した。

【０１０５】次に、ビスフェノールＦとエピクロルヒド
リンとからそれぞれ合成した、エポキシ当量が４７５の
エポキシ樹脂２８５重量部とエポキシ当量が９５０のエ
ポキシ樹脂３８０重量部とをフラスコに加えて均一に混
合した。そして、フラスコを１２０℃に加温してベンジ
ルジメチルアミン０．６２重量部を加え、副生するメタ
ノールをデカンターを用いて留去しながら反応させた。
これにより、エポキシ当量が１１２０のオキサゾリドン
環含有エポキシ樹脂を得た。

【０１０６】次に、フラスコを冷却し、これにジエタノ
ールアミン２９重量部、Ｎ−メチルエタノールアミン２
２重量部、およびアミノエタノールアミンのケチミン化
物（７９％メチルイソブチルケトン溶液）３３重量部を
加えて１１０℃で２時間反応させた。反応後、メチルイ
ソブチルケトンにより不揮発分が８０％になるまで希釈
し、基体樹脂を得た。

【０１０７】製造例２（ブロックイソシアネート系硬化剤の製造） 還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた三つ口フ
ラスコを用意した。このフラスコに、三量体ヘキサメチ
レンジイソシアネートとメチルエチルケトオキシムとを
加え、三量体ヘキサメチレンジイソシアネートをメチル
エチルケトオキシムによりブロックした。得られたブロ
ックイソシアネートを、メチルイソブチルケトンとブタ
ノールとを９５：５での割合で含む混合溶媒で処理し、
固形分が９５％のブロックイソシアネート系硬化剤を得
た。

【０１０８】製造例３（顔料分散ペーストの製造） 顔料分散樹脂（日本ペイント株式会社製の３級スルホニ
ウム塩含有変性エポキシ樹脂：塩基量７５ｍｅｑ／１０
０ｇ、固形分６０重量％）１２０．０重量部にカーボン
ブラック４．０重量部、カオリン２６．０重量部、二酸
化チタン１４０．０重量部およびリンモリブデン酸アル
ミニウム３０．０重量部を加え、サンドミルを用いて粉
砕・分散した。これにイオン交換水３３．３重量部を加
えて不揮発分が６０％になるよう調整した。

【０１０９】実施例１〜１０および比較例１〜４ 製造例１で得られた基体樹脂１４０重量部（固形分換
算）、製造例２で得られたブロックイソシアネート系硬
化剤６０重量部（固形分換算）、表１に示す解離触媒お
よび酢酸３．１５重量部を混合し、塗料分散体を得た。
これに撹拌しながら脱イオン水を加え、不揮発分が３０
％になるよう調整した。この塗料分散体に、製造例３で
得られた顔料分散ペースト１１５重量部（不揮発分６０
％）、脱イオン水７８３重量部、２−エチルヘキシルセ
ロソルブ１０重量部、および表面制御材料を加え、不揮
発分が２０％のカチオン電着塗料を得た。

【０１１０】

【表１】

【０１１１】試験 冷間圧延未処理鋼板を陰極にして、乾燥膜圧が２０μｍ
になるよう実施例１〜１０および比較例１〜４で得られ
た電着塗料をそれぞれ電着塗装した。その後、表２に示
す焼き付け条件で塗膜を硬化させた。得られた塗膜につ
いて、硬化性、耐食性、耐衝撃性、平面平滑性を調べ
た。結果を表２に示す。なお、試験方法は、次の通りで
ある。

【０１１２】（硬化性）メチルイソブチルケトンに浸し
たガーゼで塗膜を５０回擦り、塗膜の表面状態により硬
化性を判定した。評価の基準は下記の通りである。 ○：塗膜に傷が付かない。 △：塗膜に少し傷がつく。 ×：塗膜の傷が著しい。

【０１１３】（耐食性）素地に達するカットをナイフを
用いて塗膜に入れ、５５℃の５％食塩水を用いて塩水浸
漬試験を実施した。塗膜のハクリとブリスターの発生状
況を下記の基準で評価した。ハクリ カット部からの片側最大ハクリ幅（ｍｍ）を調べた。 ○：３ｍｍ未満。 △：３ｍｍ以上６ｍｍ未満。 ×：６ｍｍ以上。ブリスター １５ｃｍ×７ｃｍの範囲でブリスター数を調べた。 ○：極めて少ない。 △：少ない。 ×：多数。

【０１１４】（耐衝撃性）ＪＩＳ−Ｋ５４００のデュポ
ン式（１／２φ、５００ｇ）を実施し、ワレ、ハガレ等
が生じない高さ（ｃｍ）を調べた。 （平面平滑性）塗膜の外観（うねりの程度）を目視評価
した。 ○：良好。 △：やや不良。

【０１１５】

【表２】

【０１１６】

【発明の効果】本発明のカチオン電着塗料組成物は、上
述の解離触媒を用いているので、鉛系化合物を用いず
に、低温硬化性と塗膜の耐食性の改善を同時にかつ安価
に達成できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｃ０９Ｄ 175/04 Ｃ０９Ｄ 175/04 (56)参考文献 特開 昭63−51480（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−158220（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−9908（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−311099（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−288378（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C09D 1/00 - 10/00 C09D 101/00 - 201/10 C08G 18/00 - 18/87 C08G 71/00 - 71/04

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】オキサゾリドン環含有エポキシ樹脂と、イソシアヌレート環を含む ブロックイソシアネート系硬
   化剤と、 有機錫化合物と、コバルト，ニッケルまたは亜鉛の有機
   酸塩およびジケトン金属錯体からなる群から選ばれた少
   なくとも１種の金属化合物とを含む、前記ブロックイソ
   シアネート系硬化剤の解離触媒とを含み、 鉛系化合物を含まない、 カチオン電着塗料組成物。
2. 【請求項２】前記有機錫化合物は、下記の一般式（１）
   および（２）で示される有機錫化合物群から選ばれた少
   なくとも１種の有機錫化合物である、請求項１に記載の
   カチオン電着塗料組成物。 【化１】 【化２】 （一般式（１）および（２）中、 Ｒ¹およびＲ³ は、それぞれ炭素数が１〜１２個のアルキ
   ル基またはアリール基、Ｒ² は、水素原子、または炭素
   数が１〜２１個のアルキル基，アルケニル基，アラルキ
   ル基，シクロアルキル基，アルコキシアルキル基または
   アリール基、 ＸおよびＹは、ＯＣＯＲ² 、ＯＨ、ハロゲン、Ｏ１／２
   またはＳ１／２、 Ｚは、Ｏ、Ｓまたは２価のカルボン酸残基、 ｐは、０または１の整数、 である。）
3. 【請求項３】前記有機酸塩は、下記の一般式（３）で示
   される有機酸金属塩である、請求項１または２に記載の
   カチオン電着塗料組成物。 【化３】 （一般式（３）中、 Ｒ⁴ は、水素原子、または炭素数が１〜２１個のアルキ
   ル基，アルケニル基，アラルキル基，シクロアルキル
   基，アルコキシアルキル基またはアリール基、 Ｍは、コバルト、ニッケルまたは亜鉛、 ｑは、０または１の整数、 である。）
4. 【請求項４】前記ブロックイソシアネート系硬化剤は、
   グリコールエーテルによりブロックされたイソシアネー
   ト基を含んでいる、請求項１、２または３に記載のカチ
   オン電着塗料組成物。
5. 【請求項５】前記ブロックイソシアネート系硬化剤は、
   ブロックされた脂肪族イソシアネート基およびブロック
   された芳香族イソシアネート基の双方を含んでいる、請
   求項１、２または３に記載のカチオン電着塗料組成物。
6. 【請求項６】前記ブロックイソシアネート系硬化剤は、
   ガラス転移温度が異なる２種類のブロックイソシアネー
   ト系硬化剤の混合物である、請求項１、２、３、４また
   は５に記載のカチオン電着塗料組成物。
7. 【請求項７】前記解離触媒は、前記有機錫化合物（ａ）
   と前記金属化合物（ｂ）とをａ：ｂ ＝９：１〜１：９の
   重量比で含んでいる、請求項１、２、３、４、５または
   ６に記載のカチオン電着塗料組成物。
8. 【請求項８】前記解離触媒は、前記有機錫化合物（ａ）
   よりも前記金属化合物（ｂ）を多量に含んでいる、請求
   項１、２、３、４、５、６または７に記載のカチオン電
   着塗料組成物。
9. 【請求項９】前記オキサゾリドン環含有エポキシ樹脂お
   よび前記ブロックイソシアネート系硬化剤をそれぞれ９
   ０〜５０重量部および１０〜５０重量部含み、かつ前記
   解離触媒を前記基体樹脂の固形分の０．０１〜５．０重
   量％含む、請求項１、２、３、４、５、６、７または８
   に記載のカチオン電着塗料組成物。