JP3384243B2 - 試料調整方法及びｘ線評価装置 - Google Patents
試料調整方法及びｘ線評価装置Info
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- JP3384243B2 JP3384243B2 JP12052296A JP12052296A JP3384243B2 JP 3384243 B2 JP3384243 B2 JP 3384243B2 JP 12052296 A JP12052296 A JP 12052296A JP 12052296 A JP12052296 A JP 12052296A JP 3384243 B2 JP3384243 B2 JP 3384243B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はＸ線全反射臨界角測
定による試料密度等の評価に際し，試料表面の水平出し
方法（入射角測定の際に入射Ｘ線と試料表面を平行に調
整して入射角Ψの原点Ψ＝０とする方法）及びそれを組
み込んだＸ線評価装置に関する。
定による試料密度等の評価に際し，試料表面の水平出し
方法（入射角測定の際に入射Ｘ線と試料表面を平行に調
整して入射角Ψの原点Ψ＝０とする方法）及びそれを組
み込んだＸ線評価装置に関する。
【０００２】近年の半導体材料の評価において，とりわ
け材料の密度はその材料の稠密性を反映するため，その
材料の耐久性や電気特性に大きく影響を与える。そのた
め，密度はプロセスの最適化のための重要なパラメータ
であり，その精密な評価が望まれている。
け材料の密度はその材料の稠密性を反映するため，その
材料の耐久性や電気特性に大きく影響を与える。そのた
め，密度はプロセスの最適化のための重要なパラメータ
であり，その精密な評価が望まれている。
【０００３】
【従来の技術】従来の密度評価法として，電子天秤を用
いたものがあるが，薄膜試料の測定には精度が出なかっ
た。そのため，本発明者は以前に特開平07-260712 号公
報において，Ｘ線の全反射臨界角測定による試料密度の
評価方法を開発した。
いたものがあるが，薄膜試料の測定には精度が出なかっ
た。そのため，本発明者は以前に特開平07-260712 号公
報において，Ｘ線の全反射臨界角測定による試料密度の
評価方法を開発した。
【０００４】この方法によれば，試料の３方向からＸ線
を照射して得られた各々の全反射臨界角ΨC1, ΨC2, Ψ
C3から試料の水平からのずれの角度を求めて, 試料の水
平性を補正した。
を照射して得られた各々の全反射臨界角ΨC1, ΨC2, Ψ
C3から試料の水平からのずれの角度を求めて, 試料の水
平性を補正した。
【０００５】この方法において、反射率の半値から全反
射臨界角を求めると、図５に示されるシリコン(Si)基板
のように臨界角付近で急激に反射率が変化する場合の臨
界角は精度が±(1/1000)°程度で求まるが、図６に示さ
れる金属薄膜等のように反射率の変化がなだらかな場合
や、図７に示される薄膜の干渉振動が強い試料では、全
反射臨界角を決定する際に誤差が大きくなる。従って、
その値から求められる密度も誤差が大きくなる。また、
この方法では３つの全反射臨界角が一致することにより
試料の水平出しを行っているが、この試料の水平出しも
誤差が大きくなる。そのために密度を測定できない試料
が多かった。
射臨界角を求めると、図５に示されるシリコン(Si)基板
のように臨界角付近で急激に反射率が変化する場合の臨
界角は精度が±(1/1000)°程度で求まるが、図６に示さ
れる金属薄膜等のように反射率の変化がなだらかな場合
や、図７に示される薄膜の干渉振動が強い試料では、全
反射臨界角を決定する際に誤差が大きくなる。従って、
その値から求められる密度も誤差が大きくなる。また、
この方法では３つの全反射臨界角が一致することにより
試料の水平出しを行っているが、この試料の水平出しも
誤差が大きくなる。そのために密度を測定できない試料
が多かった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】Ｘ線反射率測定による
試料の密度等の評価法は，半導体，金属，アモルファス
材料等の広い範囲の材料に適用できるが，全反射臨界角
が精度よく決められない試料に対しては，試料の水平出
し精度が落ち，高精度に密度等を測定することはできな
い。
試料の密度等の評価法は，半導体，金属，アモルファス
材料等の広い範囲の材料に適用できるが，全反射臨界角
が精度よく決められない試料に対しては，試料の水平出
し精度が落ち，高精度に密度等を測定することはできな
い。
【０００７】本発明は入射角Ψ対反射率Ｒの関係を表す
反射率曲線の形状がどのような試料であっても，全反射
臨界角を任意性なく且つ高精度に決められることを目的
とする。
反射率曲線の形状がどのような試料であっても，全反射
臨界角を任意性なく且つ高精度に決められることを目的
とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題の解決は、
１）測定試料表面と入射Ｘ線とを平行に調整する試料調
整方法において、測定試料表面と入射Ｘ線との開き角で
あるＸ線入射角Ψを制御する回転機構と、二つのあおり
角φ１、φ２調整用の回転機構と、試料へのＸ線の入射
方位を変えるための試料面内回転機構（θ軸）とを備え
た装置を使用し、測定試料表面に平行でかつ異なる少な
くとも三つのθ方向でＸ線反射率曲線Ｒ 1 (Ψ）、Ｒ
2 (Ψ）、Ｒ 3 (Ψ) を測定し、該Ｒ 1 (Ψ）、Ｒ 2 (Ψ）、Ｒ
3 (Ψ) の中の異なる二つの反射率曲線の形状を比較し、
一方の反射率曲線の入射角原点をずらして他方の反射率
曲線に一致させることにより入射角原点のずれ角ΔΨを
求め、該ΔΨから試料平行出しに必要な二つのあおり角
φ１、φ２を算出し、あおり角を補正する試料調整方
法、あるいは ２）前記Ｘ線入射角Ψのずれ角δΨを、二つの反射率曲
線の残差の二乗和を最小にする角度として求める請求項
１記載の試料調整方法、あるいは ３）前記Ｘ線入射角Ψのずれ角δΨを、二つの反射率曲
線の残差の一乗和が０となるずれ角として求める請求項
１記載の試料調整方法、あるいは ４）測定試料表面と入射Ｘ線との開き角であるＸ線入射
角Ψを制御する回転機構と、二つのあおり角φ１、φ２
調整用の回転機構と、試料へのＸ線の入射方位を変える
ための試料面内回転機構（θ軸）とを備えた装置を使用
し、試料表面に平行でかつ異なる少なくとも三つのθ方
向でＸ線反射率曲線Ｒ 1 (Ψ）、Ｒ 2 (Ψ）、Ｒ 3 (Ψ) を測
定し、該Ｒ 1 (Ψ）、Ｒ 2 (Ψ）、Ｒ 3 (Ψ) の中の異なる二
つの反射率曲線の形状を比較し、一方の反射率曲線の入
射角原点をずらして他方の反射率曲線に一致させること
により入射角原点のずれ角ΔΨを求め、該ΔΨから試料
平行出しに必要な二つのあおり角φ１、φ２を算出し、
あおり角φ１、φ２を回転させることにより測定試料表
面と入射Ｘ線との平行性を向上させる調整を行う機能を
有するＸ線評価装置、により達成される。
整方法において、測定試料表面と入射Ｘ線との開き角で
あるＸ線入射角Ψを制御する回転機構と、二つのあおり
角φ１、φ２調整用の回転機構と、試料へのＸ線の入射
方位を変えるための試料面内回転機構（θ軸）とを備え
た装置を使用し、測定試料表面に平行でかつ異なる少な
くとも三つのθ方向でＸ線反射率曲線Ｒ 1 (Ψ）、Ｒ
2 (Ψ）、Ｒ 3 (Ψ) を測定し、該Ｒ 1 (Ψ）、Ｒ 2 (Ψ）、Ｒ
3 (Ψ) の中の異なる二つの反射率曲線の形状を比較し、
一方の反射率曲線の入射角原点をずらして他方の反射率
曲線に一致させることにより入射角原点のずれ角ΔΨを
求め、該ΔΨから試料平行出しに必要な二つのあおり角
φ１、φ２を算出し、あおり角を補正する試料調整方
法、あるいは ２）前記Ｘ線入射角Ψのずれ角δΨを、二つの反射率曲
線の残差の二乗和を最小にする角度として求める請求項
１記載の試料調整方法、あるいは ３）前記Ｘ線入射角Ψのずれ角δΨを、二つの反射率曲
線の残差の一乗和が０となるずれ角として求める請求項
１記載の試料調整方法、あるいは ４）測定試料表面と入射Ｘ線との開き角であるＸ線入射
角Ψを制御する回転機構と、二つのあおり角φ１、φ２
調整用の回転機構と、試料へのＸ線の入射方位を変える
ための試料面内回転機構（θ軸）とを備えた装置を使用
し、試料表面に平行でかつ異なる少なくとも三つのθ方
向でＸ線反射率曲線Ｒ 1 (Ψ）、Ｒ 2 (Ψ）、Ｒ 3 (Ψ) を測
定し、該Ｒ 1 (Ψ）、Ｒ 2 (Ψ）、Ｒ 3 (Ψ) の中の異なる二
つの反射率曲線の形状を比較し、一方の反射率曲線の入
射角原点をずらして他方の反射率曲線に一致させること
により入射角原点のずれ角ΔΨを求め、該ΔΨから試料
平行出しに必要な二つのあおり角φ１、φ２を算出し、
あおり角φ１、φ２を回転させることにより測定試料表
面と入射Ｘ線との平行性を向上させる調整を行う機能を
有するＸ線評価装置、により達成される。
【０００９】試料の水平出しに用いられる原理は，試料
の各方向から反射率曲線の形状が一致するときに試料が
水平（試料面が入射Ｘ線に平行）であるというものであ
り，その補正を行うためには入射角の原点の相対的なず
れ角δΨがわかればよい。
の各方向から反射率曲線の形状が一致するときに試料が
水平（試料面が入射Ｘ線に平行）であるというものであ
り，その補正を行うためには入射角の原点の相対的なず
れ角δΨがわかればよい。
【００１０】1/2 法では, 反射光が1/2 強度となる入射
角を求めることにより, 上記ずれ角δΨを求めている
が，その精度向上のためには1/2 法のように１点のデー
タからでなく，すべての反射率データを用いて求めれば
よい。そのためには図８のように，２つの反射率曲線を
水平移動させて，両曲線が一致するまで移動させた値
（横軸Ψの移動量）がずれ角δΨを与える。
角を求めることにより, 上記ずれ角δΨを求めている
が，その精度向上のためには1/2 法のように１点のデー
タからでなく，すべての反射率データを用いて求めれば
よい。そのためには図８のように，２つの反射率曲線を
水平移動させて，両曲線が一致するまで移動させた値
（横軸Ψの移動量）がずれ角δΨを与える。
【００１１】このようにして求めたずれ角δΨを用い
て，試料の水平出しを行い，その後に評価した反射率を
用いて1/2 法，あるいは全反射率曲線のモデル計算との
比較から試料の密度を求めることができる。
て，試料の水平出しを行い，その後に評価した反射率を
用いて1/2 法，あるいは全反射率曲線のモデル計算との
比較から試料の密度を求めることができる。
【００１２】図８は２つの入射方位での反射率曲線で，
試料の水平性のずれにより横軸にδΨのずれを生じてい
る。本発明によれば，入射角に対する反射率の変化がな
だらかな試料でも，全データを用いることにより，ずれ
角δΨの精度はよく，また，干渉振動が顕著な試料でも
1/2 法のように任意性はなくずれ角δΨを求めることが
できる。
試料の水平性のずれにより横軸にδΨのずれを生じてい
る。本発明によれば，入射角に対する反射率の変化がな
だらかな試料でも，全データを用いることにより，ずれ
角δΨの精度はよく，また，干渉振動が顕著な試料でも
1/2 法のように任意性はなくずれ角δΨを求めることが
できる。
【００１３】
【発明の実施の形態】図１、２は発明の実施の形態の説
明図である。図において、入射方位θ1 ＝０°（方位
１）、θ2 ＝４５°（方位２）、θ3＝９０°（方位
３）において各々の入射角Ψでの反射Ｘ線強度Ｒを測定
することにより、試料の反射率曲線Ｒ 1 (Ψ）、Ｒ
2 (Ψ）、Ｒ 3 (Ψ) を得る。これらの測定データを用い
て、どれか一つの反射率曲線、例えば方位１の反射率曲
線を基準にして、方位２あるいは方位３の反射率曲線と
比較し、入射角度原点をずらすことにより両曲線がもっ
とも良く一致するずれ角δΨ 21 あるいはδΨ 31 を求め
る。
明図である。図において、入射方位θ1 ＝０°（方位
１）、θ2 ＝４５°（方位２）、θ3＝９０°（方位
３）において各々の入射角Ψでの反射Ｘ線強度Ｒを測定
することにより、試料の反射率曲線Ｒ 1 (Ψ）、Ｒ
2 (Ψ）、Ｒ 3 (Ψ) を得る。これらの測定データを用い
て、どれか一つの反射率曲線、例えば方位１の反射率曲
線を基準にして、方位２あるいは方位３の反射率曲線と
比較し、入射角度原点をずらすことにより両曲線がもっ
とも良く一致するずれ角δΨ 21 あるいはδΨ 31 を求め
る。
【００１４】具体的にずれ角を求める方法は以下の手順
による。 方位２と方位１とのデータを用いて、残差の二
乗和χ 2 21 ＝Σ i (R 2 (Ψ i −δ Ψ 21 −Ｒ 1 (Ψ i )) 2 が最
小になる条件から最小二乗法によりδΨ 21 を求める。同
様に方位３と方位１のデータからは、ずれ角δΨ 31 を求
める。ここで、ｉは測定データ点の添字である。
による。 方位２と方位１とのデータを用いて、残差の二
乗和χ 2 21 ＝Σ i (R 2 (Ψ i −δ Ψ 21 −Ｒ 1 (Ψ i )) 2 が最
小になる条件から最小二乗法によりδΨ 21 を求める。同
様に方位３と方位１のデータからは、ずれ角δΨ 31 を求
める。ここで、ｉは測定データ点の添字である。
【００１５】あるいは残差の一乗和が０になること、つ
まりＱ 21 ＝Σ i （Ｒ 2 (Ψ i −δΨ 21 ）・Ｒ 1 (Ψ i ))＝0
という条件からδΨ 21 を求める。同様に、方位３と方位
１のデータからずれ角δΨ 31 を求める。 このδΨ 21 およ
びδΨ 31 のようなずれを生じせしめる原因である、試料
水平からのあおり角φ 1 、φ 2 のずれ角Δφ 1 、Δφ 2
は、計算でき、以下の関係がある。 すなわち、前記特開
平０７−２６０７１２号公報に記載された一般式 Ψ ci −cos θ i ・Δφ 2 ＋sin θ i Δφ 1 ＝Ψ co を用いて計算することができる。Ψ ci は、全反射臨界角
を用いて評価したずれ角であり、本願のδΨ ij はΨ ci −
Ψ cj に相当する。すなわち、δΨ 21 ＝Ψ c2 −Ψ c1 、δΨ
31 ＝Ψ c3 −Ψ c1 である。 −cos θ 1 ・Δφ 2 ＋sin θ 1 ・Δφ 1 ＝δΨ 21 −cos θ 2 ・Δφ 2 ＋sin θ 2 ・Δφ 1 （１） −cos θ 1 ・Δφ 2 ＋sin θ 1 ・Δφ 1 ＝δΨ 31 −cos θ 3 ・Δφ 2 ＋sin θ 3 ・Δφ 1 （２） ここで、θ 1 、θ 2 、θ 3 、δΨ 21 、δΨ 31 は既知であ
り、、未知数はΔφ 1 、Δφ 2 の二個であるため、
（１）式および（２）式からΔφ 1 、Δφ 2 が以下のよ
うに求められる。 Δφ 1 ＝｛δΨ 31 (cosθ 2 −cos θ 1 )−δΨ 21 (cosθ 3 −cos θ 1 )｝ ÷｛(sinθ 2 −sin θ 1 )(cosθ 3 −cos θ 1 )−(sinθ 3 −sin θ 1 )× (cosθ 2 −cos θ 1 ) Δφ 2 ＝｛δΨ 21 (sinθ 3 −sin θ 1 )−δΨ 31 (sinθ 2 −sin θ 1 )｝ ÷｛(cosθ 2 −cos θ 1 )(sinθ 3 −sin θ 1 )−(cosθ 3 −cos θ 1 )× (sinθ 2 −sin θ 1 ) この式からΔφ 1 、Δφ 2 を計算し、あおり角を調整前
のφ 1 からφ 1 ＋Δφ 1 、φ 2 からφ 2 ＋Δφ 2 の角度
に移動することにより、Ψ＝０°において試料表面と入
射Ｘ線が高精度（＜0.005 °) で平行になる。
まりＱ 21 ＝Σ i （Ｒ 2 (Ψ i −δΨ 21 ）・Ｒ 1 (Ψ i ))＝0
という条件からδΨ 21 を求める。同様に、方位３と方位
１のデータからずれ角δΨ 31 を求める。 このδΨ 21 およ
びδΨ 31 のようなずれを生じせしめる原因である、試料
水平からのあおり角φ 1 、φ 2 のずれ角Δφ 1 、Δφ 2
は、計算でき、以下の関係がある。 すなわち、前記特開
平０７−２６０７１２号公報に記載された一般式 Ψ ci −cos θ i ・Δφ 2 ＋sin θ i Δφ 1 ＝Ψ co を用いて計算することができる。Ψ ci は、全反射臨界角
を用いて評価したずれ角であり、本願のδΨ ij はΨ ci −
Ψ cj に相当する。すなわち、δΨ 21 ＝Ψ c2 −Ψ c1 、δΨ
31 ＝Ψ c3 −Ψ c1 である。 −cos θ 1 ・Δφ 2 ＋sin θ 1 ・Δφ 1 ＝δΨ 21 −cos θ 2 ・Δφ 2 ＋sin θ 2 ・Δφ 1 （１） −cos θ 1 ・Δφ 2 ＋sin θ 1 ・Δφ 1 ＝δΨ 31 −cos θ 3 ・Δφ 2 ＋sin θ 3 ・Δφ 1 （２） ここで、θ 1 、θ 2 、θ 3 、δΨ 21 、δΨ 31 は既知であ
り、、未知数はΔφ 1 、Δφ 2 の二個であるため、
（１）式および（２）式からΔφ 1 、Δφ 2 が以下のよ
うに求められる。 Δφ 1 ＝｛δΨ 31 (cosθ 2 −cos θ 1 )−δΨ 21 (cosθ 3 −cos θ 1 )｝ ÷｛(sinθ 2 −sin θ 1 )(cosθ 3 −cos θ 1 )−(sinθ 3 −sin θ 1 )× (cosθ 2 −cos θ 1 ) Δφ 2 ＝｛δΨ 21 (sinθ 3 −sin θ 1 )−δΨ 31 (sinθ 2 −sin θ 1 )｝ ÷｛(cosθ 2 −cos θ 1 )(sinθ 3 −sin θ 1 )−(cosθ 3 −cos θ 1 )× (sinθ 2 −sin θ 1 ) この式からΔφ 1 、Δφ 2 を計算し、あおり角を調整前
のφ 1 からφ 1 ＋Δφ 1 、φ 2 からφ 2 ＋Δφ 2 の角度
に移動することにより、Ψ＝０°において試料表面と入
射Ｘ線が高精度（＜0.005 °) で平行になる。
【００１６】以上は三つの反射率曲線からΔφ 1 、Δφ
2 を求めたものである。三つ以上の反射率曲線から得ら
れたδΨから、上記と同様にΔφ 1 、Δφ 2 についての
線形方程式を用いた最小二乗法によりΔφ 1 、Δφ 2 が
求められることは自明である。
2 を求めたものである。三つ以上の反射率曲線から得ら
れたδΨから、上記と同様にΔφ 1 、Δφ 2 についての
線形方程式を用いた最小二乗法によりΔφ 1 、Δφ 2 が
求められることは自明である。
【００１７】試料のあおり角のずれ角Δφ1 、Δφ2 の
補正を行った後、反射率を測定し、反射率が１／２にな
る角度、あるいは反射率の計算値と実測値の比較により
Ｘ線全反射臨界角を求めた。その結果から、特開平０７
−２６０７１２号公報に記載のようにして試料の密度を
求めることができる。
補正を行った後、反射率を測定し、反射率が１／２にな
る角度、あるいは反射率の計算値と実測値の比較により
Ｘ線全反射臨界角を求めた。その結果から、特開平０７
−２６０７１２号公報に記載のようにして試料の密度を
求めることができる。
【００１８】実施の形態において、χ2 の最小化は最小
二乗法を用いてもよい。また、Ｑ＝０からδΨを求める
ためには、補間法を用いてもよい。
二乗法を用いてもよい。また、Ｑ＝０からδΨを求める
ためには、補間法を用いてもよい。
【００１９】
【発明の効果】本発明によれば，反射率曲線の反射率の
変化がなだらかな金属膜においても，試料の水平出しが
可能となり，金属膜の密度等の測定精度が向上した。ま
た，本発明の原理に基づき，種々の試料の自動測定が可
能となった。
変化がなだらかな金属膜においても，試料の水平出しが
可能となり，金属膜の密度等の測定精度が向上した。ま
た，本発明の原理に基づき，種々の試料の自動測定が可
能となった。
【図１】 本発明の実施の形態の説明図(1)
【図２】 本発明の実施の形態の説明図(2)
【図３】 入射角のずれを求める説明図(1)
【図４】 入射角のずれを求める説明図(2)
【図５】 反射率曲線(1)
【図６】 反射率曲線(2)
【図７】 反射率曲線(3）
【図８】 ２つの入射方位での反射率曲線
【符号の説明】
1 被測定試料
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G01N 23/20
G01N 23/201
Claims (4)
- 【請求項１】 測定試料表面と入射Ｘ線とを平行に調整
する試料調整方法において、 測定試料表面と入射Ｘ線との開き角であるＸ線入射角Ψ
を制御する回転機構と、二つのあおり角φ１、φ２調整
用の回転機構と、 試料へのＸ線の入射方位を変えるための試料面内回転機
構（θ軸）と 、を備えた装置を使用し、 測定試料表面に平行でかつ異なる少なくとも三つのθ方
向でＸ線反射率曲線Ｒ 1 (Ψ）、Ｒ 2 (Ψ）、Ｒ 3 (Ψ) を測
定し、該Ｒ 1 (Ψ）、Ｒ 2 (Ψ）、Ｒ 3 (Ψ) の中の異なる二
つの反射率曲線の形状を比較し、一方の反射率曲線の入
射角原点をずらして他方の反射率曲線に一致させること
により入射角原点のずれ角ΔΨを求め、該ΔΨから試料
平行出しに必要な二つのあおり角φ１、φ２を算出し、
あおり角を補正する こと を特徴とする試料調整方法。 - 【請求項２】 前記Ｘ線入射角Ψのずれ角δΨを、二つ
の反射率曲線の残差の二乗和を最小にする角度として求
めることを特徴とする請求項１記載の試料調整方法。 - 【請求項３】 前記Ｘ線入射角Ψのずれ角δΨを、二つ
の反射率曲線の残差の一乗和が０となるずれ角として求
めることを特徴とする請求項１記載の試料調整方法。 - 【請求項４】 測定試料表面と入射Ｘ線との開き角であ
るＸ線入射角Ψを制御する回転機構と、 二つのあおり角φ１、φ２調整用の回転機構と、 試料へのＸ線の入射方位を変えるための試料面内回転機
構（θ軸）と 、を備えた装置を使用し、 測定試料表面に平行でかつ異なる少なくとも三つのθ方
向でＸ線反射率曲線Ｒ 1 (Ψ）、Ｒ 2 (Ψ）、Ｒ 3 (Ψ）を測
定し、該Ｒ 1 (Ψ）、Ｒ 2 (Ψ）、Ｒ 3 (Ψ）の中の異なる二
つの反射率曲線の形状を比較し、一方の反射率曲線の入
射角原点をずらして他方の反射率曲線に一致させること
により入射角原点のずれ角ΔΨを求め、 該ΔΨから試料
平行出しに必要な二つのあおり角φ１、φ２を算出し、
あおり角φ 1 、φ 2 を回転させることにより測定試料表
面と入射Ｘ線との平行性を向上させる調整を行う機能を
有する こと を特徴とするＸ線評価装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12052296A JP3384243B2 (ja) | 1996-05-15 | 1996-05-15 | 試料調整方法及びｘ線評価装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12052296A JP3384243B2 (ja) | 1996-05-15 | 1996-05-15 | 試料調整方法及びｘ線評価装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09304306A JPH09304306A (ja) | 1997-11-28 |
| JP3384243B2 true JP3384243B2 (ja) | 2003-03-10 |
Family
ID=14788346
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12052296A Expired - Fee Related JP3384243B2 (ja) | 1996-05-15 | 1996-05-15 | 試料調整方法及びｘ線評価装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3384243B2 (ja) |
-
1996
- 1996-05-15 JP JP12052296A patent/JP3384243B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09304306A (ja) | 1997-11-28 |
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