JP3375178B2 - シリンダ付ガス供給装置 - Google Patents
シリンダ付ガス供給装置Info
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- JP3375178B2 JP3375178B2 JP16924593A JP16924593A JP3375178B2 JP 3375178 B2 JP3375178 B2 JP 3375178B2 JP 16924593 A JP16924593 A JP 16924593A JP 16924593 A JP16924593 A JP 16924593A JP 3375178 B2 JP3375178 B2 JP 3375178B2
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- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、シリンダから材料ガス
を高圧配管領域を介して半導体製造設備に供給するシリ
ンダ付ガス供給装置の改良に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】従来のシリンダ付ガス供給装置は、図６
に示す如く、シリンダーキャビネット１の内部に単一の
シリンダ２を収納し、このシリンダ２から材料ガスを高
圧配管領域や供給ライン（図示せず）等を介して半導体
製造装置（図示せず）に供給するようにしている。 【０００３】上記シリンダーキャビネット１は、図６に
示す如く、正面が開口した箱構造に構成され、その開口
部には図示しない扉が開閉可能に框着されるとともに、
この扉が通常時には閉塞されている。シリンダーキャビ
ネット１の内部は常時換気されている。さらに、シリン
ダーキャビネット１の天井の中央部分には、万一、ガス
漏れが生じた場合に備え、常時シリンダーキャビネット
１内の空気を外部に導く単一の排気ダクト６が立設され
ている。 【０００４】また、図示しない上記高圧配管領域は、ス
テンレス等の細管から構成されシリンダ２に接続された
複数の配管と、この複数の配管の端部にそれぞれ接続さ
れた複数の弁を備え、シリンダーキャビネット１の内部
上方に配管されている。該複数の弁にはパージガス導入
ライン、供給ライン、及び真空排気ライン等がそれぞれ
接続されている。尚、図示しない供給ラインには通常減
圧弁（図示せず）が接続され、この減圧弁が、シリンダ
２内の高圧の材料ガスをガス消費設備で必要とする圧力
まで減圧して供給する機能を有している。 【０００５】ところで、半導体産業で用いられる材料ガ
スの一種であるジボラン（化学式Ｂ2 Ｈ6 ）は、非常に
自己分解性の強いガスで、室温で保存されているだけで
容易に分解し、Ｂ9 Ｈ1 0 、Ｂ5 Ｈ9 等の通常高次ボラ
ンと呼ばれているガスに徐々に重合していく特性があ
る。そのため、シリンダーキャビネット１でジボランガ
スを供給する場合でも、ジボランガスの自己分解性を抑
制する目的で、ジボランのシリンダ２を冷却するシステ
ムをシリンダーキャビネット１に整備することが多い。 【０００６】また、ジボランの供給上の問題として、自
己分解して生成された高次ボランが供給されるジボラン
中に微量でも混在すると、供給ラインに接続された減圧
弁中で減圧のための断熱膨脹過程で冷却され、折出固化
し、減圧弁の弁と弁座との間に異物となって挟まり、そ
の結果として、通常「出流れ」と呼ばれる減圧弁の調圧
不調トラブルを誘発することが多々見受けられる。この
問題を解決するためには、供給ラインに搬出されるジボ
ラン中に高次ボランを流出させないことである。このた
め、シリンダ２の冷却温度を５゜Ｃ前後にまで冷やすこ
とによって、例えシリンダ２内に高次ボランが存在して
も、供給されるガス中にはシリンダ２内で強制的に固化
させることによって流出させない方法が有効である
（尚、この種の先行技術文献として、特開平１−２３８
８００号及び１−２６６４００号公報参照）。 【０００７】このように、ジボランのシリンダ２を５゜
Ｃまで冷却すると、その周囲の空気中の水分がシリンダ
２の表面や図示しない冷却ジャケットの表面で結露し、
シリンダーキャビネット１の内部が水浸しになり、半導
体工場で最も嫌われる錆等を発生させるというトラブル
が生じていた。さらに、錆以外にも、残量検知器として
ロードセル（重量センサ）を使用している場合には、結
露した水が電気製品であるロードセルを故障させる要因
となる。 【０００８】 【発明が解決しようとする課題】従来のシリンダ付ガス
供給装置は以上のように構成され、シリンダ２が室温に
比べ低温で使用されるので、空気中の水分がシリンダ２
の表面に付着して多数の結露となり、この多数の結露が
時間の経過に伴い流下して半導体工場にとって極めて有
害な錆を生じさせたり、電気製品であるロードセルを使
用している場合には故障の原因となることが少なくなか
った。 【０００９】本発明は上記に鑑みなされたもので、シリ
ンダの表面における結露の防止を通じて錆の発生やロー
ドセルの故障を防止することのできるシリンダ付ガス供
給装置を提供することを目的としている。 【００１０】 【課題を解決するための手段】本発明においては上述の
目的を達成するため、シリンダーキャビネットにシリン
ダを収納し、このシリンダから材料ガスを配管を介して
外部に供給するものにおいて、上記シリンダーキャビネ
ットにシリンダを囲むジャケットを収納するとともに、
このジャケットを、冷却媒体でシリンダを冷却する冷却
層と、この冷却層の外周に位置する真空断熱層とから構
成し、該材料ガスと室温との温度差に伴うシリンダ表面
の結露を防止するようにしている。 【００１１】 【作用】上記構成を有する本発明によれば、冷却層が冷
却媒体でシリンダを常時冷却し、しかも、真空断熱層が
熱伝導を遮断するので、空気中の水分がシリンダの表面
に付着して多数の結露となるのを防止することができ
る。 【００１２】 【実施例】以下、図１乃至図４に示す一実施例に基づき
本発明を詳説する。 【００１３】本発明に係るシリンダ付ガス供給装置は、
シリンダーキャビネット１の内部にシリンダ２を囲繞す
るジャケット７を収納し、このジャケット７の冷却層１
２と真空断熱層１５とでシリンダ２の表面における結露
を防止するようにしている。 【００１４】上記ジャケット７は、図１に示す如く、平
面ほぼＣ字形で縦長の一対の本体７ａ・７ｂを備え、こ
の一対の本体７ａ・７ｂがシリンダ２と接する面の上端
及び下端にゴムスペーサ８を介してシリンダ２を着脱自
在に挟持した状態で囲繞するようになっている。尚、こ
のゴムスペーサ８は、上端や下端以外の中間にも設ける
ことができる。これら複数のゴムスペーサ８は、図１や
図３に示す如く、ほぼリング形に構成され、シリンダ２
の上部と下部とにそれぞれ嵌合されている。また、一対
の本体７ａ・７ｂは、その一の本体７ａの内周側上部に
外部から冷却層１２に冷却水（冷却媒体）を導く縮径の
導入管９が立設され、他の本体７ｂの内周側上部には冷
却した冷却水を冷却層１２から外部に排出する縮径の排
出管１０が立設されており、湾曲した縮径の連通管１１
で相互に連通されている。 【００１５】また、上記した冷却層１２は、図１乃至図
３に示す如く、ジャケット７を構成する一対の本体７ａ
・７ｂの内部内周側に偏位して形成され、その空間の上
部には複数の上部案内板１３が所定の間隔で垂下して吊
着されており、空間の下部には複数の下部案内板１４が
所定の間隔で垂直に立設されている。そして、これら複
数の上部案内板１３と下部案内板１４とは、図４に示す
如く、隙間を介して相互に噛み合うようほぼ千鳥状の配
列に配設され、冷却水（同図の矢印参照）の流路を伸長
するとともに、導入管９から導入された冷却水を上下方
向に蛇行させつつ案内し、シリンダ２を冷却した冷却水
を排出管１０に案内する作用を有している。尚、一対の
本体７ａ・７ｂの冷却層１２は上記した連通管１１で相
互に連通され、冷却水が上下方向に蛇行しながらシリン
ダ２の周囲を流通するようになっている。 【００１６】さらに、上記真空断熱層１５は、図１や図
２に示す如く、ジャケット７を構成する一対の本体７ａ
・７ｂの内部外周側に偏位した空間として形成され、冷
却層１２の外側に隣接して位置しており、熱伝導を遮断
する断熱機能を有している。 【００１７】その他の部分については従来例と同様であ
る。 【００１８】上記構成によれば、冷却層１２が上部案内
板１３と下部案内板１４とで冷却水を上下方向に蛇行さ
せつつ案内してシリンダ２を冷却し、しかも、真空断熱
層１５が熱の伝導作用を防止するので、詳言すれば、冷
却されたシリンダ２の表面が直接外気と触れず、外気と
触れるジャケット７の表面が真空断熱効果で冷却されな
いので、ジボランからなる材料ガスを使用するにも拘ら
ず、空気中の水分が温度調整のためシリンダ２の表面に
付着して多数の結露となるのを防止することができる。 【００１９】従って、多数の結露が時間の経過に伴い流
下してシリンダーキャビネット１の内部に錆を発生させ
たり、電気製品であるロードセルを水浸しにし、ロード
セルの故障等に伴うトラブルの発生を未然に防止するこ
とが可能となる。 【００２０】尚、上記実施例ではジャケット７を構成す
る一対の本体７ａ・７ｂにシリンダ２を囲繞させたもの
を示したが、図５に示す如く、ジャケット７の周囲を、
断熱材１６を内部に備えた一対の筐体１７に囲繞させて
断熱作用をさらに向上させるようにしても良い。さら
に、上記実施例ではジボランからなる材料ガスを使用し
たものを示したが、室温に比べ低温で使用されるガスで
あれば、ジボラン以外の材料ガスでも良いのは言うまで
もない。 【００２１】 【発明の効果】以上のように本発明によれば、温度調整
のため空気中の水分がシリンダの表面に付着して多数の
結露となるのを確実に防止することができ、しかも、こ
れを通じて、半導体工場で最も嫌われる錆の発生や多数
の結露の流下に伴いロードセルが故障してトラブルが発
生する虞れを未然に除去することが可能になるという顕
著な効果がある。
を高圧配管領域を介して半導体製造設備に供給するシリ
ンダ付ガス供給装置の改良に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】従来のシリンダ付ガス供給装置は、図６
に示す如く、シリンダーキャビネット１の内部に単一の
シリンダ２を収納し、このシリンダ２から材料ガスを高
圧配管領域や供給ライン（図示せず）等を介して半導体
製造装置（図示せず）に供給するようにしている。 【０００３】上記シリンダーキャビネット１は、図６に
示す如く、正面が開口した箱構造に構成され、その開口
部には図示しない扉が開閉可能に框着されるとともに、
この扉が通常時には閉塞されている。シリンダーキャビ
ネット１の内部は常時換気されている。さらに、シリン
ダーキャビネット１の天井の中央部分には、万一、ガス
漏れが生じた場合に備え、常時シリンダーキャビネット
１内の空気を外部に導く単一の排気ダクト６が立設され
ている。 【０００４】また、図示しない上記高圧配管領域は、ス
テンレス等の細管から構成されシリンダ２に接続された
複数の配管と、この複数の配管の端部にそれぞれ接続さ
れた複数の弁を備え、シリンダーキャビネット１の内部
上方に配管されている。該複数の弁にはパージガス導入
ライン、供給ライン、及び真空排気ライン等がそれぞれ
接続されている。尚、図示しない供給ラインには通常減
圧弁（図示せず）が接続され、この減圧弁が、シリンダ
２内の高圧の材料ガスをガス消費設備で必要とする圧力
まで減圧して供給する機能を有している。 【０００５】ところで、半導体産業で用いられる材料ガ
スの一種であるジボラン（化学式Ｂ2 Ｈ6 ）は、非常に
自己分解性の強いガスで、室温で保存されているだけで
容易に分解し、Ｂ9 Ｈ1 0 、Ｂ5 Ｈ9 等の通常高次ボラ
ンと呼ばれているガスに徐々に重合していく特性があ
る。そのため、シリンダーキャビネット１でジボランガ
スを供給する場合でも、ジボランガスの自己分解性を抑
制する目的で、ジボランのシリンダ２を冷却するシステ
ムをシリンダーキャビネット１に整備することが多い。 【０００６】また、ジボランの供給上の問題として、自
己分解して生成された高次ボランが供給されるジボラン
中に微量でも混在すると、供給ラインに接続された減圧
弁中で減圧のための断熱膨脹過程で冷却され、折出固化
し、減圧弁の弁と弁座との間に異物となって挟まり、そ
の結果として、通常「出流れ」と呼ばれる減圧弁の調圧
不調トラブルを誘発することが多々見受けられる。この
問題を解決するためには、供給ラインに搬出されるジボ
ラン中に高次ボランを流出させないことである。このた
め、シリンダ２の冷却温度を５゜Ｃ前後にまで冷やすこ
とによって、例えシリンダ２内に高次ボランが存在して
も、供給されるガス中にはシリンダ２内で強制的に固化
させることによって流出させない方法が有効である
（尚、この種の先行技術文献として、特開平１−２３８
８００号及び１−２６６４００号公報参照）。 【０００７】このように、ジボランのシリンダ２を５゜
Ｃまで冷却すると、その周囲の空気中の水分がシリンダ
２の表面や図示しない冷却ジャケットの表面で結露し、
シリンダーキャビネット１の内部が水浸しになり、半導
体工場で最も嫌われる錆等を発生させるというトラブル
が生じていた。さらに、錆以外にも、残量検知器として
ロードセル（重量センサ）を使用している場合には、結
露した水が電気製品であるロードセルを故障させる要因
となる。 【０００８】 【発明が解決しようとする課題】従来のシリンダ付ガス
供給装置は以上のように構成され、シリンダ２が室温に
比べ低温で使用されるので、空気中の水分がシリンダ２
の表面に付着して多数の結露となり、この多数の結露が
時間の経過に伴い流下して半導体工場にとって極めて有
害な錆を生じさせたり、電気製品であるロードセルを使
用している場合には故障の原因となることが少なくなか
った。 【０００９】本発明は上記に鑑みなされたもので、シリ
ンダの表面における結露の防止を通じて錆の発生やロー
ドセルの故障を防止することのできるシリンダ付ガス供
給装置を提供することを目的としている。 【００１０】 【課題を解決するための手段】本発明においては上述の
目的を達成するため、シリンダーキャビネットにシリン
ダを収納し、このシリンダから材料ガスを配管を介して
外部に供給するものにおいて、上記シリンダーキャビネ
ットにシリンダを囲むジャケットを収納するとともに、
このジャケットを、冷却媒体でシリンダを冷却する冷却
層と、この冷却層の外周に位置する真空断熱層とから構
成し、該材料ガスと室温との温度差に伴うシリンダ表面
の結露を防止するようにしている。 【００１１】 【作用】上記構成を有する本発明によれば、冷却層が冷
却媒体でシリンダを常時冷却し、しかも、真空断熱層が
熱伝導を遮断するので、空気中の水分がシリンダの表面
に付着して多数の結露となるのを防止することができ
る。 【００１２】 【実施例】以下、図１乃至図４に示す一実施例に基づき
本発明を詳説する。 【００１３】本発明に係るシリンダ付ガス供給装置は、
シリンダーキャビネット１の内部にシリンダ２を囲繞す
るジャケット７を収納し、このジャケット７の冷却層１
２と真空断熱層１５とでシリンダ２の表面における結露
を防止するようにしている。 【００１４】上記ジャケット７は、図１に示す如く、平
面ほぼＣ字形で縦長の一対の本体７ａ・７ｂを備え、こ
の一対の本体７ａ・７ｂがシリンダ２と接する面の上端
及び下端にゴムスペーサ８を介してシリンダ２を着脱自
在に挟持した状態で囲繞するようになっている。尚、こ
のゴムスペーサ８は、上端や下端以外の中間にも設ける
ことができる。これら複数のゴムスペーサ８は、図１や
図３に示す如く、ほぼリング形に構成され、シリンダ２
の上部と下部とにそれぞれ嵌合されている。また、一対
の本体７ａ・７ｂは、その一の本体７ａの内周側上部に
外部から冷却層１２に冷却水（冷却媒体）を導く縮径の
導入管９が立設され、他の本体７ｂの内周側上部には冷
却した冷却水を冷却層１２から外部に排出する縮径の排
出管１０が立設されており、湾曲した縮径の連通管１１
で相互に連通されている。 【００１５】また、上記した冷却層１２は、図１乃至図
３に示す如く、ジャケット７を構成する一対の本体７ａ
・７ｂの内部内周側に偏位して形成され、その空間の上
部には複数の上部案内板１３が所定の間隔で垂下して吊
着されており、空間の下部には複数の下部案内板１４が
所定の間隔で垂直に立設されている。そして、これら複
数の上部案内板１３と下部案内板１４とは、図４に示す
如く、隙間を介して相互に噛み合うようほぼ千鳥状の配
列に配設され、冷却水（同図の矢印参照）の流路を伸長
するとともに、導入管９から導入された冷却水を上下方
向に蛇行させつつ案内し、シリンダ２を冷却した冷却水
を排出管１０に案内する作用を有している。尚、一対の
本体７ａ・７ｂの冷却層１２は上記した連通管１１で相
互に連通され、冷却水が上下方向に蛇行しながらシリン
ダ２の周囲を流通するようになっている。 【００１６】さらに、上記真空断熱層１５は、図１や図
２に示す如く、ジャケット７を構成する一対の本体７ａ
・７ｂの内部外周側に偏位した空間として形成され、冷
却層１２の外側に隣接して位置しており、熱伝導を遮断
する断熱機能を有している。 【００１７】その他の部分については従来例と同様であ
る。 【００１８】上記構成によれば、冷却層１２が上部案内
板１３と下部案内板１４とで冷却水を上下方向に蛇行さ
せつつ案内してシリンダ２を冷却し、しかも、真空断熱
層１５が熱の伝導作用を防止するので、詳言すれば、冷
却されたシリンダ２の表面が直接外気と触れず、外気と
触れるジャケット７の表面が真空断熱効果で冷却されな
いので、ジボランからなる材料ガスを使用するにも拘ら
ず、空気中の水分が温度調整のためシリンダ２の表面に
付着して多数の結露となるのを防止することができる。 【００１９】従って、多数の結露が時間の経過に伴い流
下してシリンダーキャビネット１の内部に錆を発生させ
たり、電気製品であるロードセルを水浸しにし、ロード
セルの故障等に伴うトラブルの発生を未然に防止するこ
とが可能となる。 【００２０】尚、上記実施例ではジャケット７を構成す
る一対の本体７ａ・７ｂにシリンダ２を囲繞させたもの
を示したが、図５に示す如く、ジャケット７の周囲を、
断熱材１６を内部に備えた一対の筐体１７に囲繞させて
断熱作用をさらに向上させるようにしても良い。さら
に、上記実施例ではジボランからなる材料ガスを使用し
たものを示したが、室温に比べ低温で使用されるガスで
あれば、ジボラン以外の材料ガスでも良いのは言うまで
もない。 【００２１】 【発明の効果】以上のように本発明によれば、温度調整
のため空気中の水分がシリンダの表面に付着して多数の
結露となるのを確実に防止することができ、しかも、こ
れを通じて、半導体工場で最も嫌われる錆の発生や多数
の結露の流下に伴いロードセルが故障してトラブルが発
生する虞れを未然に除去することが可能になるという顕
著な効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るシリンダ付ガス供給装置の一実施
例を示す一部切り欠き斜視図である。 【図２】本発明に係るシリンダ付ガス供給装置の一実施
例を示す平面図である。 【図３】本発明に係るシリンダ付ガス供給装置の一実施
例を示す断面側面図である。 【図４】本発明に係るシリンダ付ガス供給装置の冷却層
を示す展開説明図である。 【図５】本発明に係るシリンダ付ガス供給装置の他の実
施例を示す平面図である。 【図６】従来のシリンダ付ガス供給装置の使用状態を示
す説明図である。 【符号の説明】 １…シリンダーキャビネット、２…シリンダ、７…ジャ
ケット、１２…冷却層、１５…真空断熱層。
例を示す一部切り欠き斜視図である。 【図２】本発明に係るシリンダ付ガス供給装置の一実施
例を示す平面図である。 【図３】本発明に係るシリンダ付ガス供給装置の一実施
例を示す断面側面図である。 【図４】本発明に係るシリンダ付ガス供給装置の冷却層
を示す展開説明図である。 【図５】本発明に係るシリンダ付ガス供給装置の他の実
施例を示す平面図である。 【図６】従来のシリンダ付ガス供給装置の使用状態を示
す説明図である。 【符号の説明】 １…シリンダーキャビネット、２…シリンダ、７…ジャ
ケット、１２…冷却層、１５…真空断熱層。
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 シリンダーキャビネットにシリンダを収
納し、このシリンダから材料ガスを配管を介して外部に
供給するシリンダ付ガス供給装置において、上記シリン
ダーキャビネットにシリンダを囲むジャケットを収納す
るとともに、このジャケットを、冷却媒体でシリンダを
冷却する冷却層と、この冷却層の外周に位置する真空断
熱層とから構成し、該材料ガスと室温との温度差に伴う
シリンダ表面の結露を防止することを特徴とするシリン
ダ付ガス供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16924593A JP3375178B2 (ja) | 1993-07-08 | 1993-07-08 | シリンダ付ガス供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16924593A JP3375178B2 (ja) | 1993-07-08 | 1993-07-08 | シリンダ付ガス供給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0724295A JPH0724295A (ja) | 1995-01-27 |
| JP3375178B2 true JP3375178B2 (ja) | 2003-02-10 |
Family
ID=15882937
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16924593A Expired - Fee Related JP3375178B2 (ja) | 1993-07-08 | 1993-07-08 | シリンダ付ガス供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3375178B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100877512B1 (ko) | 2008-08-22 | 2009-01-07 | 김경훈 | 방폭 및 냉각형 공기탱크 충전 거치대 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001003169A1 (fr) * | 1999-07-02 | 2001-01-11 | Tokyo Electron Limited | Installation, procede et dispositif de fabrication de semi-conducteurs |
| WO2001003168A1 (fr) | 1999-07-02 | 2001-01-11 | Tokyo Electron Limited | Installation de fabrication de semi-conducteurs |
| GB2420594B (en) | 2003-09-22 | 2008-01-09 | Dana Corp | Pressure vessel assembly for integrated pressurized fluid system |
| JP6288026B2 (ja) * | 2015-09-28 | 2018-03-07 | 株式会社タツノ | 校正装置 |
| KR102479344B1 (ko) * | 2021-06-01 | 2022-12-21 | 에스지엔 주식회사 | 반도체 공정 가스를 저장한 가스실린더용 쿨링 재킷 |
-
1993
- 1993-07-08 JP JP16924593A patent/JP3375178B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100877512B1 (ko) | 2008-08-22 | 2009-01-07 | 김경훈 | 방폭 및 냉각형 공기탱크 충전 거치대 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0724295A (ja) | 1995-01-27 |
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