JP3369020B2 - 超小型走査電子顕微鏡 - Google Patents
超小型走査電子顕微鏡Info
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- JP3369020B2 JP3369020B2 JP02930295A JP2930295A JP3369020B2 JP 3369020 B2 JP3369020 B2 JP 3369020B2 JP 02930295 A JP02930295 A JP 02930295A JP 2930295 A JP2930295 A JP 2930295A JP 3369020 B2 JP3369020 B2 JP 3369020B2
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- Japan
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- electron gun
- electron microscope
- scanning electron
- analysis
- chamber
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は表面観察や表面分析装置
（以下、表面分析装置等）に組み込めるようにした超小
型走査電子顕微鏡に関する。
（以下、表面分析装置等）に組み込めるようにした超小
型走査電子顕微鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】表面観察や分析のために走査電子顕微鏡
（ＳＥＭ）が用いられているが、高空間分解能が求めら
れるため高い加速電圧を必要とし、また、操作性を良く
するための付属装置が必要となるなど、装置全体として
大型化する傾向がある。このような高空間分解能のＳＥ
Ｍの電子銃として、高輝度が得られるため電界放射電子
銃（ＦＥＧ）が用いられている。図４はこのようなＦＥ
Ｇユニットを説明する図である。ガンチャンバー１１と
鏡筒２０とはフィラメントの交換のために箇所Ａで分離
出来る構造になっている。ガンチャンバー１１内には、
放電対策を容易にするため、碍子１２上に高電圧（負電
位）が印加されるフィラメント１３、サプレサー電極１
４、引出し電極１５がまとめて組み立てられている。一
方、放出された電子を加速するための陽極１６（アース
電位）は鏡筒２０に組み込まれる。このように、ＦＥＧ
ユニット１０は、全体として２つのユニットの組み合わ
せにより構成されるため大型化してしまう。また、高分
解能ＳＥＭでは、図５に示すように、電子銃ユニット１
０から放出される電子ビームを金属製のライナーチュー
ブ２１を通して試料２２に照射している。電子ビームが
金属製筒内を通るため、磁界型レンズ２４を使用してお
り、レンズ、偏向系を構成するコイル２３は大気側に配
置されている。大気側に配置することでコイルの真空対
策は考える必要はない。また、排気はライナーチューブ
内のみ行うことになる。
（ＳＥＭ）が用いられているが、高空間分解能が求めら
れるため高い加速電圧を必要とし、また、操作性を良く
するための付属装置が必要となるなど、装置全体として
大型化する傾向がある。このような高空間分解能のＳＥ
Ｍの電子銃として、高輝度が得られるため電界放射電子
銃（ＦＥＧ）が用いられている。図４はこのようなＦＥ
Ｇユニットを説明する図である。ガンチャンバー１１と
鏡筒２０とはフィラメントの交換のために箇所Ａで分離
出来る構造になっている。ガンチャンバー１１内には、
放電対策を容易にするため、碍子１２上に高電圧（負電
位）が印加されるフィラメント１３、サプレサー電極１
４、引出し電極１５がまとめて組み立てられている。一
方、放出された電子を加速するための陽極１６（アース
電位）は鏡筒２０に組み込まれる。このように、ＦＥＧ
ユニット１０は、全体として２つのユニットの組み合わ
せにより構成されるため大型化してしまう。また、高分
解能ＳＥＭでは、図５に示すように、電子銃ユニット１
０から放出される電子ビームを金属製のライナーチュー
ブ２１を通して試料２２に照射している。電子ビームが
金属製筒内を通るため、磁界型レンズ２４を使用してお
り、レンズ、偏向系を構成するコイル２３は大気側に配
置されている。大気側に配置することでコイルの真空対
策は考える必要はない。また、排気はライナーチューブ
内のみ行うことになる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】表面観察や表面分析に
用いられるＥＳＣＡ（電子分光法を利用した化学分
析）、ＳＴＭ（走査トンネル顕微鏡）、ＬＥＥＤ（低エ
ネルギ電子回折装置）等の分野では、追加でＳＥＭを組
み込みたいとする要請がある。しかし、これらの分野
は、それぞれの分析技術を中心に装置が設計されている
ため、ＳＥＭを組み込もうとしても、ＳＥＭが大型のた
めに組み込むことができないか、或いは組み込もうとす
ると、動作距離を長くして組み込まざるを得ず、専用の
ＳＥＭに比較して性能が悪くなってしまう。また、ＳＥ
Ｍを分析室に組み込んだ場合、分析室内は超高真空に維
持する必要があるが、ＳＥＭの偏向器、レンズを構成し
ているコイルからの放出ガスが多いため超高真空までの
排気ができず、また、ライナーチューブは細いパイプで
あるため、パイプ長が長くなると、ポンプの排気能力が
低下して、パイプの内側を超高真空に排気できない場合
もある。そのため、表面分析装置等に、従来のＳＥＭと
同じ方式の装置を組み込むことは困難であった。本発明
は上記課題を解決するためのもので、表面分析装置等に
組み込むことができ、かつ超高真空対応の構造にした超
小型走査電子顕微鏡を提供することを目的とする。
用いられるＥＳＣＡ（電子分光法を利用した化学分
析）、ＳＴＭ（走査トンネル顕微鏡）、ＬＥＥＤ（低エ
ネルギ電子回折装置）等の分野では、追加でＳＥＭを組
み込みたいとする要請がある。しかし、これらの分野
は、それぞれの分析技術を中心に装置が設計されている
ため、ＳＥＭを組み込もうとしても、ＳＥＭが大型のた
めに組み込むことができないか、或いは組み込もうとす
ると、動作距離を長くして組み込まざるを得ず、専用の
ＳＥＭに比較して性能が悪くなってしまう。また、ＳＥ
Ｍを分析室に組み込んだ場合、分析室内は超高真空に維
持する必要があるが、ＳＥＭの偏向器、レンズを構成し
ているコイルからの放出ガスが多いため超高真空までの
排気ができず、また、ライナーチューブは細いパイプで
あるため、パイプ長が長くなると、ポンプの排気能力が
低下して、パイプの内側を超高真空に排気できない場合
もある。そのため、表面分析装置等に、従来のＳＥＭと
同じ方式の装置を組み込むことは困難であった。本発明
は上記課題を解決するためのもので、表面分析装置等に
組み込むことができ、かつ超高真空対応の構造にした超
小型走査電子顕微鏡を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は真空下の表面分
析／観察装置分析室内に組み込まれるように電子銃がフ
ランジに取り付けられた超小型走査電子顕微鏡であっ
て、電子銃ユニットに電子銃室内を外部雰囲気と連通さ
せて排気するための孔を設け、電子銃室の排気を前記表
面分析／観察装置分析室の排気手段により行い得るよう
にしたことを特徴とする。また本発明は、低加速電界放
射電子銃ユニットの全ての電極を碍子上に組み立てると
ともに、走査用偏向器を静電型とし、磁界型レンズのコ
イルをアルミナ又はシリカ等の被覆線材で形成したこと
を特徴とする。
析／観察装置分析室内に組み込まれるように電子銃がフ
ランジに取り付けられた超小型走査電子顕微鏡であっ
て、電子銃ユニットに電子銃室内を外部雰囲気と連通さ
せて排気するための孔を設け、電子銃室の排気を前記表
面分析／観察装置分析室の排気手段により行い得るよう
にしたことを特徴とする。また本発明は、低加速電界放
射電子銃ユニットの全ての電極を碍子上に組み立てると
ともに、走査用偏向器を静電型とし、磁界型レンズのコ
イルをアルミナ又はシリカ等の被覆線材で形成したこと
を特徴とする。
【０００５】
【作用】本発明は、電子銃ユニットに外部雰囲気と連通
させて排気するための孔を設けて表面分析／観察装置分
析室内に組み込み、電子銃室の排気を表面分析／観察装
置分析室の排気装置により排気できるようにしたので、
電子銃排気用の排気ポンプを省略することができる。ま
た、ＦＥＧユニットの全ての電極を碍子上に組み立てる
ことで、組み立て精度の向上、小型化を図り、磁界レン
ズを構成するコイルにアルミナ又はシリカ等を被覆した
線材を用いてコイルからの放出ガスを減少させることで
超高真空対応とし、また、偏向器として静電偏向器を用
いることでコイルを不要として表面分析装置等の分析室
に取り付け可能とすることができる。
させて排気するための孔を設けて表面分析／観察装置分
析室内に組み込み、電子銃室の排気を表面分析／観察装
置分析室の排気装置により排気できるようにしたので、
電子銃排気用の排気ポンプを省略することができる。ま
た、ＦＥＧユニットの全ての電極を碍子上に組み立てる
ことで、組み立て精度の向上、小型化を図り、磁界レン
ズを構成するコイルにアルミナ又はシリカ等を被覆した
線材を用いてコイルからの放出ガスを減少させることで
超高真空対応とし、また、偏向器として静電偏向器を用
いることでコイルを不要として表面分析装置等の分析室
に取り付け可能とすることができる。
【０００６】
【実施例】図１は本発明の超小型低加速走査電子顕微鏡
の一実施例を示す図である。本実施例においては、取付
フランジ２（７０φ、国際規格）にサポート１（直径２
６φ）を取付け、これに全長１４２ｍｍに設計した走査
電子顕微鏡本体が保持されている。取付フランジ２には
電源接続フランジ３が接続されて走査電子顕微鏡本体へ
の電力供給がなされるようになっている。このような超
小型の構成にして表面分析装置等の分析室（図示せず）
に組み込む。なお、組み込む装置により動作距離が異な
るので、その場合は適宜サポートの長さを変更して取り
付けるようにする。
の一実施例を示す図である。本実施例においては、取付
フランジ２（７０φ、国際規格）にサポート１（直径２
６φ）を取付け、これに全長１４２ｍｍに設計した走査
電子顕微鏡本体が保持されている。取付フランジ２には
電源接続フランジ３が接続されて走査電子顕微鏡本体へ
の電力供給がなされるようになっている。このような超
小型の構成にして表面分析装置等の分析室（図示せず）
に組み込む。なお、組み込む装置により動作距離が異な
るので、その場合は適宜サポートの長さを変更して取り
付けるようにする。
【０００７】ＦＥＧユニット１０は、図２に示すよう
に、フィラメント１３、サプレサー電極１４、引出し電
極１５、陽極１６全てを碍子１２上に組み立て、これら
各電極を貫通する孔Ｈを設けて電子銃ユニットの電子銃
室を外部雰囲気と連通させる構成となっている。表面分
析装置等では高加速電圧での観察よりも、表面の情報を
多くとるためには５ＫＶ以下での観察が有利となる。但
し、低加速ＦＥＧでは、磁界による影響を除くため磁気
シールドが必要となるが、表面分析装置等では、分析室
の内部または外部に磁気シールドが施されているため、
ＦＥＧ専用の磁気シールドは必要ない。また、低加速電
圧となるため、ＦＥＧの電極構造は絶縁が容易になり、
碍子上に４つの電極を組み立ててユニット化しても放電
等の問題は生じない。
に、フィラメント１３、サプレサー電極１４、引出し電
極１５、陽極１６全てを碍子１２上に組み立て、これら
各電極を貫通する孔Ｈを設けて電子銃ユニットの電子銃
室を外部雰囲気と連通させる構成となっている。表面分
析装置等では高加速電圧での観察よりも、表面の情報を
多くとるためには５ＫＶ以下での観察が有利となる。但
し、低加速ＦＥＧでは、磁界による影響を除くため磁気
シールドが必要となるが、表面分析装置等では、分析室
の内部または外部に磁気シールドが施されているため、
ＦＥＧ専用の磁気シールドは必要ない。また、低加速電
圧となるため、ＦＥＧの電極構造は絶縁が容易になり、
碍子上に４つの電極を組み立ててユニット化しても放電
等の問題は生じない。
【０００８】また、ＦＥＧを動作させるためには、超高
真空（１０-10 Ｔｏｒｒ）を必要とし、従来のＦＥＧで
は、超高真空とするために大きな排気速度のＳＩＰ（ス
パッタ・イオン・ポンプ）を必要としていた。従来のＦ
ＥＧユニットは大きく、ＳＩＰをＦＥＧユニットに接続
することができたが、図１に示した長さ２０ｍｍ程度の
ＦＥＧユニットにＳＩＰを接続することはできない。そ
こで、本発明においては、図２に示すように、電子銃ユ
ニットに電子銃室を貫通する孔Ｈを設け、分析室を超高
真空（１０-10 Ｔｏｒｒ）に排気する排気ポンプにより
孔Ｈを通して電子銃室を真空引きする。このため、全長
が短い超小型ＦＥＧ走査電子顕微鏡のＦＥＧユニットを
超高真空に排気することができ、高分解能の走査電子顕
微鏡像を得ることができる。なお、熱電子放出型の電子
銃においては、ＦＥＧのように超高真空を必要としない
が、高真空を必要とする。そこで、熱電子放出型電子銃
を備えた超小型熱電子放出型走査電子顕微鏡において、
電子銃ユニットに電子銃室を貫通する孔を設けると、分
析室を排気する排気ポンプにより孔を通して電子銃室を
高真空に排気することができ、高分解能の走査電子顕微
鏡像を得ることができる。このように低加速電圧となる
ため碍子上に４つの電極を組み立ててユニット化できる
こと、専用の磁気シールドが不要となること、排気ポン
プが不要となること等からＦＥＧユニットを小型化で
き、又、４つの電極を組み込んだ状態で組み立て精度の
チェックができるため、動作時の光軸を正確に得ること
ができる。
真空（１０-10 Ｔｏｒｒ）を必要とし、従来のＦＥＧで
は、超高真空とするために大きな排気速度のＳＩＰ（ス
パッタ・イオン・ポンプ）を必要としていた。従来のＦ
ＥＧユニットは大きく、ＳＩＰをＦＥＧユニットに接続
することができたが、図１に示した長さ２０ｍｍ程度の
ＦＥＧユニットにＳＩＰを接続することはできない。そ
こで、本発明においては、図２に示すように、電子銃ユ
ニットに電子銃室を貫通する孔Ｈを設け、分析室を超高
真空（１０-10 Ｔｏｒｒ）に排気する排気ポンプにより
孔Ｈを通して電子銃室を真空引きする。このため、全長
が短い超小型ＦＥＧ走査電子顕微鏡のＦＥＧユニットを
超高真空に排気することができ、高分解能の走査電子顕
微鏡像を得ることができる。なお、熱電子放出型の電子
銃においては、ＦＥＧのように超高真空を必要としない
が、高真空を必要とする。そこで、熱電子放出型電子銃
を備えた超小型熱電子放出型走査電子顕微鏡において、
電子銃ユニットに電子銃室を貫通する孔を設けると、分
析室を排気する排気ポンプにより孔を通して電子銃室を
高真空に排気することができ、高分解能の走査電子顕微
鏡像を得ることができる。このように低加速電圧となる
ため碍子上に４つの電極を組み立ててユニット化できる
こと、専用の磁気シールドが不要となること、排気ポン
プが不要となること等からＦＥＧユニットを小型化で
き、又、４つの電極を組み込んだ状態で組み立て精度の
チェックができるため、動作時の光軸を正確に得ること
ができる。
【０００９】直径２６φ、全長１４２ｍｍの鏡筒２０内
には、電子銃アライメント（光軸調整用）３０、コンデ
ンサレンズ４０、コンデンサレンズアライメント（光軸
調整用）５０、アパーチャー（絞り）６０、偏向器７
０，７１、非点補正器８０，８１、対物レンズ９０が組
み込まれている。前述したように、低加速電圧であるた
めコイル等は小さくても動作し、磁界レンズを小型化す
ることができる。ただし、分析室は超高真空であるた
め、磁界レンズのコイル材料からの放出ガスが問題とな
る。従来のポリイミド被覆の線材では放出ガスが多く、
超高真空まで排気することができない。そこで、本発明
ではコンデンサレンズ４０、対物レンズ９０の磁界型レ
ンズのコイルとして、アルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）又はシリ
カ等を被覆した線材（銅線）を用い、図３に示すように
超高真空（ＵＨＶ）側に配置する。このような被覆線材
を用いることにより放出ガスを減少させて超高真空まで
排気することができる。
には、電子銃アライメント（光軸調整用）３０、コンデ
ンサレンズ４０、コンデンサレンズアライメント（光軸
調整用）５０、アパーチャー（絞り）６０、偏向器７
０，７１、非点補正器８０，８１、対物レンズ９０が組
み込まれている。前述したように、低加速電圧であるた
めコイル等は小さくても動作し、磁界レンズを小型化す
ることができる。ただし、分析室は超高真空であるた
め、磁界レンズのコイル材料からの放出ガスが問題とな
る。従来のポリイミド被覆の線材では放出ガスが多く、
超高真空まで排気することができない。そこで、本発明
ではコンデンサレンズ４０、対物レンズ９０の磁界型レ
ンズのコイルとして、アルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）又はシリ
カ等を被覆した線材（銅線）を用い、図３に示すように
超高真空（ＵＨＶ）側に配置する。このような被覆線材
を用いることにより放出ガスを減少させて超高真空まで
排気することができる。
【００１０】また、従来のように、ライナーチューブを
用いないので偏向器７０，７１として静電型の偏向器を
用いることができる。静電型の偏向器とすることによ
り、コイルは不要となり、超高真空下でも問題がなく、
また磁界タイプの偏向器よりもほぼ半分のリード線です
ませることができ、偏向器を小型化することができる。
なお、アルミナ等の被覆線材を用いて磁界型の偏向器と
することも考えられるが、偏向器のコイルは小型（１０
ｍｍφ程度）のため、アルミナ等の被覆線材を巻くと、
コイル半径が５ｍｍとなり、被覆が破れて絶縁不良とな
り、偏向器用などの小型コイルとしては好ましくない。
用いないので偏向器７０，７１として静電型の偏向器を
用いることができる。静電型の偏向器とすることによ
り、コイルは不要となり、超高真空下でも問題がなく、
また磁界タイプの偏向器よりもほぼ半分のリード線です
ませることができ、偏向器を小型化することができる。
なお、アルミナ等の被覆線材を用いて磁界型の偏向器と
することも考えられるが、偏向器のコイルは小型（１０
ｍｍφ程度）のため、アルミナ等の被覆線材を巻くと、
コイル半径が５ｍｍとなり、被覆が破れて絶縁不良とな
り、偏向器用などの小型コイルとしては好ましくない。
【００１１】このように、装置全体を小型化したため、
磁界レンズを動作させるためのコイルの電流密度は制限
を受けるが、全体の外形がφ２６の場合で、電子銃の電
圧は５ＫＶまで動作可能であり、最大５ＫＶの制限を受
けたとしても、電子銃のソースとしてＦＥＧを用いるこ
とで、低加速電圧でも十分にＳＥＭとしての機能を保持
することができる。なお、このサイズのＦＥＧで加速電
圧１３０ｅＶで、輝度は１０7 Ａ／ｃｍ2 ・str が得ら
れている。
磁界レンズを動作させるためのコイルの電流密度は制限
を受けるが、全体の外形がφ２６の場合で、電子銃の電
圧は５ＫＶまで動作可能であり、最大５ＫＶの制限を受
けたとしても、電子銃のソースとしてＦＥＧを用いるこ
とで、低加速電圧でも十分にＳＥＭとしての機能を保持
することができる。なお、このサイズのＦＥＧで加速電
圧１３０ｅＶで、輝度は１０7 Ａ／ｃｍ2 ・str が得ら
れている。
【００１２】なお、上記実施例では、ＦＥＧユニットを
国際規格の７０ｍｍφに組み込むようにしたが、取り付
けフランジは、目的の装置に合わせて変更してもよい。
また、レンズ構成としては、コンデンサレンズを組み込
むようにしているが、これは電流密度可変のモードを持
たせ、大きい電流密度を必要とするＡＥＳ（オージェ電
子分光計）などの分析用にも対応するためであり、もし
ＳＥＭモードのみで利用する場合には、コンデンサレン
ズを省略して対物レンズのみにしても機能させることが
でき、一層小型化を図ることができる。
国際規格の７０ｍｍφに組み込むようにしたが、取り付
けフランジは、目的の装置に合わせて変更してもよい。
また、レンズ構成としては、コンデンサレンズを組み込
むようにしているが、これは電流密度可変のモードを持
たせ、大きい電流密度を必要とするＡＥＳ（オージェ電
子分光計）などの分析用にも対応するためであり、もし
ＳＥＭモードのみで利用する場合には、コンデンサレン
ズを省略して対物レンズのみにしても機能させることが
でき、一層小型化を図ることができる。
【００１３】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、電子銃ユ
ニットに外部雰囲気と連通させる孔を設けて電子銃室の
排気を、組み込んだ表面分析装置等の排気装置により排
気できるようにしたので、超小型の電子銃ユニットに排
気装置を接続することなく電子銃室を排気することがで
き、高分解能の走査電子顕微鏡像を得ることができる。
また、ＦＥＧユニットの４つの電極を全て碍子上に組み
立ててユニット化し、専用の磁気シールド、排気ポンプ
を不要とすることでＦＥＧユニットを小型化でき、ま
た、磁界レンズ等を構成するコイルにアルミナ被覆の線
材を用いてコイルからの放出ガスを減少させることで超
高真空に対応でき、また、偏向器として静電偏向器を用
いることでコイルを不要として装置全体を超小型化して
表面分析装置等への組み込みが可能となる。
ニットに外部雰囲気と連通させる孔を設けて電子銃室の
排気を、組み込んだ表面分析装置等の排気装置により排
気できるようにしたので、超小型の電子銃ユニットに排
気装置を接続することなく電子銃室を排気することがで
き、高分解能の走査電子顕微鏡像を得ることができる。
また、ＦＥＧユニットの４つの電極を全て碍子上に組み
立ててユニット化し、専用の磁気シールド、排気ポンプ
を不要とすることでＦＥＧユニットを小型化でき、ま
た、磁界レンズ等を構成するコイルにアルミナ被覆の線
材を用いてコイルからの放出ガスを減少させることで超
高真空に対応でき、また、偏向器として静電偏向器を用
いることでコイルを不要として装置全体を超小型化して
表面分析装置等への組み込みが可能となる。
【図１】 本発明の超小型低加速走査電子顕微鏡の構成
を示す図である。
を示す図である。
【図２】 本発明の電子銃ユニットを説明する図であ
る。
る。
【図３】 本発明の磁界型レンズを説明する図である。
【図４】 従来の電子銃ユニットを示す図である。
【図５】 従来のＳＥＭの磁界型レンズを説明する図で
ある。
ある。
１…サポート、２…取り付けフランジ、３…電源接続フ
ランジ、１０…電子銃ユニット、１２…碍子、１３…フ
ィラメント、１４…サプレサー電極、１５…引出し電
極、１６…陽極、２０…鏡筒、３０…電子銃アライメン
ト、４０…集光レンズ、５０…集光レンズアライメン
ト、６０アパーチャ、７０，７１…偏向器、８０，８１
…非点補正器、９０…対物レンズ。
ランジ、１０…電子銃ユニット、１２…碍子、１３…フ
ィラメント、１４…サプレサー電極、１５…引出し電
極、１６…陽極、２０…鏡筒、３０…電子銃アライメン
ト、４０…集光レンズ、５０…集光レンズアライメン
ト、６０アパーチャ、７０，７１…偏向器、８０，８１
…非点補正器、９０…対物レンズ。
Claims (2)
- 【請求項１】 真空下の表面分析／観察装置分析室内に
組み込まれるように電子銃がフランジに取り付けられた
超小型走査電子顕微鏡であって、電子銃ユニットに電子
銃室内を外部雰囲気と連通させて排気するための孔を設
け、電子銃室の排気を前記表面分析／観察装置分析室の
排気手段により行い得るようにしたことを特徴とする超
小型走査電子顕微鏡。 - 【請求項２】 真空下の表面分析／観察装置分析室内に
組み込まれるように電子銃がフランジに取り付けられた
超小型走査電子顕微鏡であって、低加速電界放射電子銃
ユニットの全ての電極を碍子上に組み立てるとともに、
走査用偏向器を静電型とし、磁界型レンズのコイルをア
ルミナ又はシリカ等の被覆線材で形成したことを特徴と
する超小型走査電子顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02930295A JP3369020B2 (ja) | 1995-02-17 | 1995-02-17 | 超小型走査電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02930295A JP3369020B2 (ja) | 1995-02-17 | 1995-02-17 | 超小型走査電子顕微鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08222161A JPH08222161A (ja) | 1996-08-30 |
| JP3369020B2 true JP3369020B2 (ja) | 2003-01-20 |
Family
ID=12272433
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02930295A Expired - Fee Related JP3369020B2 (ja) | 1995-02-17 | 1995-02-17 | 超小型走査電子顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3369020B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IN166824B (ja) * | 1985-03-08 | 1990-07-21 | Tihana Pty Ltd | |
| US10923307B1 (en) * | 2020-04-13 | 2021-02-16 | Hamamatsu Photonics K.K. | Electron beam generator |
-
1995
- 1995-02-17 JP JP02930295A patent/JP3369020B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08222161A (ja) | 1996-08-30 |
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