JP3367173B2 - カラーフィルタの形成方法 - Google Patents
カラーフィルタの形成方法Info
- Publication number
- JP3367173B2 JP3367173B2 JP28314593A JP28314593A JP3367173B2 JP 3367173 B2 JP3367173 B2 JP 3367173B2 JP 28314593 A JP28314593 A JP 28314593A JP 28314593 A JP28314593 A JP 28314593A JP 3367173 B2 JP3367173 B2 JP 3367173B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- pattern
- resin layer
- black matrix
- film layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、透明ガラス基板等のフ
ィルタ基板上に、ブラックマトリクスパターンと、Ｂｌ
ｕｅ，Ｇｒｅｅｎ，Ｒｅｄ各着色パターンから構成され
るフィルタ色パターンとを備えた液晶表示装置等に使用
されるカラーフィルタの形成方法に関する。
ィルタ基板上に、ブラックマトリクスパターンと、Ｂｌ
ｕｅ，Ｇｒｅｅｎ，Ｒｅｄ各着色パターンから構成され
るフィルタ色パターンとを備えた液晶表示装置等に使用
されるカラーフィルタの形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の液晶表示装置等に使用されるカラ
ーフィルタは、図４（ａ）に示すように、ガラス基板１
上に、規則的な格子状、平行線状等の遮光性（若しくは
光吸収性）のブラックマトリクスパターン２２を設け、
該ブラックマトリクスパターン２２の間に、液晶セル
（表示画素）に対応する形状のＢｌｕｅ，Ｇｒｅｅｎ，
Ｒｅｄ各着色パターンから構成されるフィルタ色パター
ン２５が設けられ、該ブラックマトリクスパターン２２
とフィルタ色パターン２５の上側には、適宜透明導電膜
又は透明保護膜を介して透明導電膜（図示せず）が積層
されている。
ーフィルタは、図４（ａ）に示すように、ガラス基板１
上に、規則的な格子状、平行線状等の遮光性（若しくは
光吸収性）のブラックマトリクスパターン２２を設け、
該ブラックマトリクスパターン２２の間に、液晶セル
（表示画素）に対応する形状のＢｌｕｅ，Ｇｒｅｅｎ，
Ｒｅｄ各着色パターンから構成されるフィルタ色パター
ン２５が設けられ、該ブラックマトリクスパターン２２
とフィルタ色パターン２５の上側には、適宜透明導電膜
又は透明保護膜を介して透明導電膜（図示せず）が積層
されている。
【０００３】上記カラーフィルタにおいては、ブラック
マトリクスパターン２２とフィルタ色パターン２５との
隣接部分に空隙が形成されないように、ブラックマトリ
クスパターン２２とフィルタ色パターン２５は互いに密
に隣接させるか、図４（ａ）のようにそれらの互いの端
部がオーバーラップするように設けられている。
マトリクスパターン２２とフィルタ色パターン２５との
隣接部分に空隙が形成されないように、ブラックマトリ
クスパターン２２とフィルタ色パターン２５は互いに密
に隣接させるか、図４（ａ）のようにそれらの互いの端
部がオーバーラップするように設けられている。
【０００４】一般的に、液晶表示装置の表示パネルに使
用されるカラーフィルタの上記ブラックマトリクスパタ
ーン２２は、表示画像のコントラストを高めるために遮
光性があって且つ低反射性（又は光吸収性）であること
が適当である。
用されるカラーフィルタの上記ブラックマトリクスパタ
ーン２２は、表示画像のコントラストを高めるために遮
光性があって且つ低反射性（又は光吸収性）であること
が適当である。
【０００５】例えば、図４（ａ）、ガラス基板１上にブ
ラックマトリクスパターン２２をパターン形成したカラ
ーフィルタとしては、金属蒸着方式によりガラス基板１
上に形成されたクロム蒸着薄膜をパターンエッチング方
式によりパターン形成したもの、あるいは、低反射性
（光吸収性）の黒色、暗色着色顔料をフォトレジスト
（光硬化型樹脂）に分散した顔料分散フォトレジストを
用いてフォトファブリケーション（フォトリソグラフ
法）方式によりパターン形成したものなどがある。
ラックマトリクスパターン２２をパターン形成したカラ
ーフィルタとしては、金属蒸着方式によりガラス基板１
上に形成されたクロム蒸着薄膜をパターンエッチング方
式によりパターン形成したもの、あるいは、低反射性
（光吸収性）の黒色、暗色着色顔料をフォトレジスト
（光硬化型樹脂）に分散した顔料分散フォトレジストを
用いてフォトファブリケーション（フォトリソグラフ
法）方式によりパターン形成したものなどがある。
【０００６】上記クロム蒸着薄膜のパターンエッチング
方式により形成したものは、図４（ａ）に示すように、
ブラックマトリクスパターン２２が比較的薄膜に形成で
き、遮光性のある精度の良いブラックマトリクスパター
ン２２及びフィルタ色パターン２５が得られるが、ガラ
ス基板面側から見た場合の光沢性及び光反射率が高いた
め、明所での画像コントラストが低下することが欠点と
してあり、また、他の方式に比較してクロム金属蒸着に
多大の製造原価が掛かる。
方式により形成したものは、図４（ａ）に示すように、
ブラックマトリクスパターン２２が比較的薄膜に形成で
き、遮光性のある精度の良いブラックマトリクスパター
ン２２及びフィルタ色パターン２５が得られるが、ガラ
ス基板面側から見た場合の光沢性及び光反射率が高いた
め、明所での画像コントラストが低下することが欠点と
してあり、また、他の方式に比較してクロム金属蒸着に
多大の製造原価が掛かる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】また、顔料分散フォト
レジストを用いてフォトファブリケーション（フォトリ
ソグラフ法）方式によりパターン形成したものは、蒸着
方式よりも比較的安価に製造でき、低反射性（光吸収
性）が得られるものの、図４（ｂ）に示すように、特に
遮光性（光学的濃度）を得るためにブラックマトリクス
パターン２２の膜厚を大きく設定する必要があり、その
ため、ブラックマトリクスパターン２２端部上にオーバ
ーラップするフィルタ色パターン２５の各Ｒ，Ｇ，Ｂ着
色パターン（色画素）端部が盛り上がって突起部２５ａ
が発生し易く、また膜厚の大きい該ブラックマトリクス
パターン２２自体もその端部が突起状に高く盛り上がり
易く、カラーフィルタと対向する対向電極板とを重ね合
わせて液晶表示パネル装置としてパネル化した際に、液
晶セルギャップとしての重ね合わせ離間距離が不均一に
なり、セルギャップ不良の原因となる場合がある。
レジストを用いてフォトファブリケーション（フォトリ
ソグラフ法）方式によりパターン形成したものは、蒸着
方式よりも比較的安価に製造でき、低反射性（光吸収
性）が得られるものの、図４（ｂ）に示すように、特に
遮光性（光学的濃度）を得るためにブラックマトリクス
パターン２２の膜厚を大きく設定する必要があり、その
ため、ブラックマトリクスパターン２２端部上にオーバ
ーラップするフィルタ色パターン２５の各Ｒ，Ｇ，Ｂ着
色パターン（色画素）端部が盛り上がって突起部２５ａ
が発生し易く、また膜厚の大きい該ブラックマトリクス
パターン２２自体もその端部が突起状に高く盛り上がり
易く、カラーフィルタと対向する対向電極板とを重ね合
わせて液晶表示パネル装置としてパネル化した際に、液
晶セルギャップとしての重ね合わせ離間距離が不均一に
なり、セルギャップ不良の原因となる場合がある。
【０００８】また、ブラックマトリクスパターン２２の
膜厚を大きく設定すると、パターン形成時に使用される
パターン露光光線が、顔料分散フォトレジスト膜を透過
してガラス基板１面に到達する以前に、顔料分散フォト
レジスト膜の黒色顔料によって吸収されて、実際にガラ
ス基板面に到達する光量が極端に（例えば、１／１００
０〜１／１００００に）減少し、そのためパターン露光
のための露光時間の長大化が生じ、長い露光時間による
ガラス基板１面でのハレーションの発生などによって、
ブラックマトリクスパターン２２のパターンエッジ部分
の精度の低下を生じる等の問題があった。
膜厚を大きく設定すると、パターン形成時に使用される
パターン露光光線が、顔料分散フォトレジスト膜を透過
してガラス基板１面に到達する以前に、顔料分散フォト
レジスト膜の黒色顔料によって吸収されて、実際にガラ
ス基板面に到達する光量が極端に（例えば、１／１００
０〜１／１００００に）減少し、そのためパターン露光
のための露光時間の長大化が生じ、長い露光時間による
ガラス基板１面でのハレーションの発生などによって、
ブラックマトリクスパターン２２のパターンエッジ部分
の精度の低下を生じる等の問題があった。
【０００９】本発明方法は、フィルタ基板上に顔料分散
型の光硬化型樹脂と金属薄膜とによる低反射性と遮光性
のある極薄膜のブラックマトリクスパターンを形成する
ことによって、該ブラックマトリクスパターン端部上に
オーバーラップするフィルタ色パターンの突起状の盛り
上がり防止と、パターン露光時間の長大化の解消を達成
することにある。
型の光硬化型樹脂と金属薄膜とによる低反射性と遮光性
のある極薄膜のブラックマトリクスパターンを形成する
ことによって、該ブラックマトリクスパターン端部上に
オーバーラップするフィルタ色パターンの突起状の盛り
上がり防止と、パターン露光時間の長大化の解消を達成
することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の第１発明は、透
明なフィルタ基板１上に低反射性の光硬化性樹脂を薄膜
状に塗布して低反射性の光硬化性樹脂層１１を設け、該
低反射性の光硬化性樹脂層１１側よりパターン露光を行
って該光硬化性樹脂層１１に露光によるブラックマトリ
クスパターン状の光硬化樹脂層１１ａと未露光による未
硬化樹脂層１１ｂとを形成し、次に該光硬化性樹脂層１
１全面に遮光性の金属薄膜層１２を形成し、続いて前記
未硬化樹脂層１１ｂをフィルタ基板１より溶解除去して
該樹脂層１１ｂ上側の金属薄膜層１２を除去することに
より、フィルタ基板１上に光硬化樹脂層１１ａと金属薄
膜層１２ａとの二層構成のブラックマトリクスパターン
２を形成し、その後、該ブラックマトリクスパターン２
形成部分以外のフィルタ基板１表面に、Ｒｅｄ、Ｇｒｅ
ｅｎ、Ｂｌｕｅの各着色パターンにより構成されるフィ
ルタ色パターン５を形成することを特徴とするカラーフ
ィルタの形成方法である。
明なフィルタ基板１上に低反射性の光硬化性樹脂を薄膜
状に塗布して低反射性の光硬化性樹脂層１１を設け、該
低反射性の光硬化性樹脂層１１側よりパターン露光を行
って該光硬化性樹脂層１１に露光によるブラックマトリ
クスパターン状の光硬化樹脂層１１ａと未露光による未
硬化樹脂層１１ｂとを形成し、次に該光硬化性樹脂層１
１全面に遮光性の金属薄膜層１２を形成し、続いて前記
未硬化樹脂層１１ｂをフィルタ基板１より溶解除去して
該樹脂層１１ｂ上側の金属薄膜層１２を除去することに
より、フィルタ基板１上に光硬化樹脂層１１ａと金属薄
膜層１２ａとの二層構成のブラックマトリクスパターン
２を形成し、その後、該ブラックマトリクスパターン２
形成部分以外のフィルタ基板１表面に、Ｒｅｄ、Ｇｒｅ
ｅｎ、Ｂｌｕｅの各着色パターンにより構成されるフィ
ルタ色パターン５を形成することを特徴とするカラーフ
ィルタの形成方法である。
【００１１】また本発明の第２発明は、透明なフィルタ
基板１表面に低反射性の光硬化性樹脂を薄膜状に塗布し
て低反射性の光硬化性樹脂層１１を設け、該光硬化性樹
脂層１１全面に金属薄膜層１２を形成し、次にフィルタ
基板１裏面側よりパターン露光を行って前記光硬化性樹
脂層１１に露光によるブラックマトリクスパターン状の
光硬化樹脂層１１ａと未露光による未硬化樹脂層１１ｂ
を形成し、次に前記未硬化樹脂層１１ｂをフィルタ基板
１より溶解除去して該樹脂層１１ｂ上側の金属薄膜層１
２を除去することにより、フィルタ基板１上に光硬化樹
脂層１１ａと金属薄膜層１２ａとの二層構成のブラック
マトリクスパターン２を形成し、その後、該ブラックマ
トリクスパターン２形成部分以外のフィルタ基板１表面
に、Ｒｅｄ、Ｇｒｅｅｎ、Ｂｌｕｅの各着色パターンに
より構成されるフィルタ色パターン５を形成することを
特徴とするカラーフィルタの形成方法である。
基板１表面に低反射性の光硬化性樹脂を薄膜状に塗布し
て低反射性の光硬化性樹脂層１１を設け、該光硬化性樹
脂層１１全面に金属薄膜層１２を形成し、次にフィルタ
基板１裏面側よりパターン露光を行って前記光硬化性樹
脂層１１に露光によるブラックマトリクスパターン状の
光硬化樹脂層１１ａと未露光による未硬化樹脂層１１ｂ
を形成し、次に前記未硬化樹脂層１１ｂをフィルタ基板
１より溶解除去して該樹脂層１１ｂ上側の金属薄膜層１
２を除去することにより、フィルタ基板１上に光硬化樹
脂層１１ａと金属薄膜層１２ａとの二層構成のブラック
マトリクスパターン２を形成し、その後、該ブラックマ
トリクスパターン２形成部分以外のフィルタ基板１表面
に、Ｒｅｄ、Ｇｒｅｅｎ、Ｂｌｕｅの各着色パターンに
より構成されるフィルタ色パターン５を形成することを
特徴とするカラーフィルタの形成方法である。
【００１２】
【実施例】本発明の第１発明のカラーフィルタの形成方
法を、図１（ａ）〜（ｅ）の製造工程を示す側断面図に
従って以下に詳細に説明する。
法を、図１（ａ）〜（ｅ）の製造工程を示す側断面図に
従って以下に詳細に説明する。
【００１３】まず、図１（ａ）、透明なガラス基板１上
に低反射性光硬化性樹脂（通称；ネガ型感光性樹脂ブラ
ック）を全面に薄膜状（例えば、０．１５乃至０．３μ
ｍ程度）に塗布して低反射性光硬化性樹脂層１１を設け
る。
に低反射性光硬化性樹脂（通称；ネガ型感光性樹脂ブラ
ック）を全面に薄膜状（例えば、０．１５乃至０．３μ
ｍ程度）に塗布して低反射性光硬化性樹脂層１１を設け
る。
【００１４】次に図１（ｂ）、低反射性光硬化性樹脂層
１１側より、フォトマスクＰ（遮光部Ｐａとブラックマ
トリクスパターン相当の光透過部Ｐｂを備える）を用い
て投影露光方式（酸素を遮断して窒素等の不活性ガス雰
囲気中にて投影露光）、又はパターン走査露光方式によ
りパターン露光Ｌを行い、低反射性光硬化性樹脂層１１
の露光部分に、光硬化によるブラックマトリクスパター
ン状の硬化樹脂薄膜層１１ａを形成し、一方未露光部分
に、未硬化樹脂薄膜層１１ｂを形成する。なお上記低反
射性光硬化性樹脂としては、例えばＣＫ−２０００（フ
ジハント社製）を使用する。
１１側より、フォトマスクＰ（遮光部Ｐａとブラックマ
トリクスパターン相当の光透過部Ｐｂを備える）を用い
て投影露光方式（酸素を遮断して窒素等の不活性ガス雰
囲気中にて投影露光）、又はパターン走査露光方式によ
りパターン露光Ｌを行い、低反射性光硬化性樹脂層１１
の露光部分に、光硬化によるブラックマトリクスパター
ン状の硬化樹脂薄膜層１１ａを形成し、一方未露光部分
に、未硬化樹脂薄膜層１１ｂを形成する。なお上記低反
射性光硬化性樹脂としては、例えばＣＫ−２０００（フ
ジハント社製）を使用する。
【００１５】次に、図１（ｃ）、金属蒸着法（スパッタ
リング蒸着法、真空蒸着法等）を用いて、硬化樹脂薄膜
層１１ａ表面及び未硬化樹脂薄膜層１１ｂ表面に金属薄
膜層１２を形成する。なお蒸着膜厚は、例えば３００Å
〜２０００Åであり、該金属薄膜層１２の光学濃度は
０．３〜１．５以上の遮光性を備える。
リング蒸着法、真空蒸着法等）を用いて、硬化樹脂薄膜
層１１ａ表面及び未硬化樹脂薄膜層１１ｂ表面に金属薄
膜層１２を形成する。なお蒸着膜厚は、例えば３００Å
〜２０００Åであり、該金属薄膜層１２の光学濃度は
０．３〜１．５以上の遮光性を備える。
【００１６】次に、図１（ｄ）、未硬化樹脂薄膜層１１
ｂを苛性ソーダ水溶液に浸漬（例えばＮａＯＨ；３０℃
〜４０℃、１％水溶液に５分間浸漬）して除去すること
により、該未硬化樹脂薄膜層１１ｂ表面にある金属薄膜
層１２を除去して、硬化樹脂薄膜層１１ａ表面に金属薄
膜層１２ａが積層された二層構成のブラックマトリクス
パターン２を形成する。
ｂを苛性ソーダ水溶液に浸漬（例えばＮａＯＨ；３０℃
〜４０℃、１％水溶液に５分間浸漬）して除去すること
により、該未硬化樹脂薄膜層１１ｂ表面にある金属薄膜
層１２を除去して、硬化樹脂薄膜層１１ａ表面に金属薄
膜層１２ａが積層された二層構成のブラックマトリクス
パターン２を形成する。
【００１７】最後に、図１（ｅ）、ブラックマトリクス
パターン状の硬化樹脂薄膜層１１ａ（硬化樹脂薄膜層３
相当部）とその表面に積層された金属薄膜層１２ａ（金
属薄膜層４相当部）とによる二層構成のブラックマトリ
クスパターン２形成部分以外のフィルタ基板１表面に、
Ｒｅｄ、Ｇｒｅｅｎ、Ｂｌｕｅの各着色パターン（表示
画素パターン）により構成されるフィルタ色パターン５
をパターン形成することにより本発明のカラーフィルタ
を形成する。
パターン状の硬化樹脂薄膜層１１ａ（硬化樹脂薄膜層３
相当部）とその表面に積層された金属薄膜層１２ａ（金
属薄膜層４相当部）とによる二層構成のブラックマトリ
クスパターン２形成部分以外のフィルタ基板１表面に、
Ｒｅｄ、Ｇｒｅｅｎ、Ｂｌｕｅの各着色パターン（表示
画素パターン）により構成されるフィルタ色パターン５
をパターン形成することにより本発明のカラーフィルタ
を形成する。
【００１８】本発明のカラーフィルタにおいて、前記フ
ィルタ色パターン５をパターン形成する場合は、従来公
知のカラーフィルタのフィルタ色パターンを形成する方
法と同様の方法、例えばゼラチン等の染色性の良い透明
な感光液とＢｌｕｅ，Ｇｒｅｅｎ，Ｒｅｄの各染料とを
用いたレリーフ染色法や、前述のＢｌｕｅ，Ｇｒｅｅ
ｎ，Ｒｅｄの各顔料分散フォトレジストを用いた顔料分
散フォトレジスト法や、Ｂｌｕｅ，Ｇｒｅｅｎ，Ｒｅｄ
の各着色印刷インキを用いた凹版オフセット印刷法等の
印刷法による有機フィルタ色パターン形成法によって、
ブラックマトリクスパターン２とフィルタ色パターン５
を互いにその端縁部が密に隣接、若しくはフィルタ色パ
ターン５がブラックマトリクスパターン２上にその端縁
部がオーバーラップするように、フィルタ色パターン５
をパターン形成するものである。
ィルタ色パターン５をパターン形成する場合は、従来公
知のカラーフィルタのフィルタ色パターンを形成する方
法と同様の方法、例えばゼラチン等の染色性の良い透明
な感光液とＢｌｕｅ，Ｇｒｅｅｎ，Ｒｅｄの各染料とを
用いたレリーフ染色法や、前述のＢｌｕｅ，Ｇｒｅｅ
ｎ，Ｒｅｄの各顔料分散フォトレジストを用いた顔料分
散フォトレジスト法や、Ｂｌｕｅ，Ｇｒｅｅｎ，Ｒｅｄ
の各着色印刷インキを用いた凹版オフセット印刷法等の
印刷法による有機フィルタ色パターン形成法によって、
ブラックマトリクスパターン２とフィルタ色パターン５
を互いにその端縁部が密に隣接、若しくはフィルタ色パ
ターン５がブラックマトリクスパターン２上にその端縁
部がオーバーラップするように、フィルタ色パターン５
をパターン形成するものである。
【００１９】本発明において、上記図１（ｃ）におい
て、硬化樹脂薄膜層１１ａ表面及び未硬化樹脂薄膜層１
１ｂ表面に金属薄膜層１２を形成する場合は、金属蒸着
法以外に、無電解メッキ法を用いて形成することは可能
であり、例えばニッケルの無電解メッキ処理条件の一例
を下記に示す。
て、硬化樹脂薄膜層１１ａ表面及び未硬化樹脂薄膜層１
１ｂ表面に金属薄膜層１２を形成する場合は、金属蒸着
法以外に、無電解メッキ法を用いて形成することは可能
であり、例えばニッケルの無電解メッキ処理条件の一例
を下記に示す。
【００２０】図１（ｃ）において、硬化樹脂薄膜層１１
ａ及び未硬化樹脂薄膜層１１ｂを形成したフィルタ基板
１を、必要に応じて弱酸溶液にて脱脂処理した後に水洗
処理し、続いて、水素化ホウ素ナトリウム又は次亜リン
酸ナトリウム（還元剤）１〜５重量％又は５ｇ／１００
０ｃｍ3 水溶液（室温）に１〜３分浸漬して、センシタ
イジング処理した後に水洗処理し、続いて塩化パラジウ
ム０．２〜１重量％水溶液と塩酸０．５容積％水溶液と
の混合液（室温）、又は塩化パラジウム水溶液（０．２
ｇ／１０００ｃｍ3 ）と、酒石酸ナトリウム水溶液
（０．３ｇ／１０００ｃｍ3 ）と塩酸水溶液（３ｃｍ3
／１０００ｃｍ3 ）との混合液（ｐＨ；６．３、室温）
に２〜５分浸漬してアクチベーティング処理した後に水
洗処理した。
ａ及び未硬化樹脂薄膜層１１ｂを形成したフィルタ基板
１を、必要に応じて弱酸溶液にて脱脂処理した後に水洗
処理し、続いて、水素化ホウ素ナトリウム又は次亜リン
酸ナトリウム（還元剤）１〜５重量％又は５ｇ／１００
０ｃｍ3 水溶液（室温）に１〜３分浸漬して、センシタ
イジング処理した後に水洗処理し、続いて塩化パラジウ
ム０．２〜１重量％水溶液と塩酸０．５容積％水溶液と
の混合液（室温）、又は塩化パラジウム水溶液（０．２
ｇ／１０００ｃｍ3 ）と、酒石酸ナトリウム水溶液
（０．３ｇ／１０００ｃｍ3 ）と塩酸水溶液（３ｃｍ3
／１０００ｃｍ3 ）との混合液（ｐＨ；６．３、室温）
に２〜５分浸漬してアクチベーティング処理した後に水
洗処理した。
【００２１】続いて硫酸ニッケル溶液，塩化ニッケル溶
液等のニッケル金属塩溶液（６０℃〜９０℃）に１〜５
分浸漬して水洗処理することにより、ガラス基板上の酸
化クロム層にニッケルメッキ層を形成した。なおニッケ
ル金属塩溶液として例えばニムデンＬＰＸ−Ａ（上村工
業（株）製）の水溶液とニムデンＬＰＸ−Ｍ（上村工業
（株）製）の水溶液との混合液（温度；６０℃〜９０
℃、ｐＨ；４．５）を使用でき、その混合液組成は下記
の通りである。 ・ニムデンＬＰＸ−Ａ ／ 水・・・・・４５０ｃｍ3
／１０００ｃｍ3 ・ニムデンＬＰＸ−Ｍ ／ 水・・・・・２００ｃｍ3
／１０００ｃｍ3
液等のニッケル金属塩溶液（６０℃〜９０℃）に１〜５
分浸漬して水洗処理することにより、ガラス基板上の酸
化クロム層にニッケルメッキ層を形成した。なおニッケ
ル金属塩溶液として例えばニムデンＬＰＸ−Ａ（上村工
業（株）製）の水溶液とニムデンＬＰＸ−Ｍ（上村工業
（株）製）の水溶液との混合液（温度；６０℃〜９０
℃、ｐＨ；４．５）を使用でき、その混合液組成は下記
の通りである。 ・ニムデンＬＰＸ−Ａ ／ 水・・・・・４５０ｃｍ3
／１０００ｃｍ3 ・ニムデンＬＰＸ−Ｍ ／ 水・・・・・２００ｃｍ3
／１０００ｃｍ3
【００２２】次に、本発明の第２発明のカラーフィルタ
の形成方法を、図２（ａ）〜（ｅ）の製造工程側断面図
に従って以下に詳細に説明する。
の形成方法を、図２（ａ）〜（ｅ）の製造工程側断面図
に従って以下に詳細に説明する。
【００２３】まず、図２（ａ）、透明なガラス基板１上
に低反射性光硬化性樹脂（通称；ネガ型感光性樹脂ブラ
ック）を薄膜状（例えば、０．１５乃至０．３μｍ程
度）に全面に塗布して低反射性光硬化性樹脂層１１を設
ける。
に低反射性光硬化性樹脂（通称；ネガ型感光性樹脂ブラ
ック）を薄膜状（例えば、０．１５乃至０．３μｍ程
度）に全面に塗布して低反射性光硬化性樹脂層１１を設
ける。
【００２４】次に、図２（ｂ）、金属蒸着法（スパッタ
リング蒸着法、真空蒸着法等）を用いて、低反射性光硬
化性樹脂層１１表面に金属薄膜層１２を形成する。なお
蒸着膜厚は、例えば、３００Å〜２０００Åであり、該
金属薄膜層１２の光学濃度は０．３〜１．５以上の遮光
性を備える。
リング蒸着法、真空蒸着法等）を用いて、低反射性光硬
化性樹脂層１１表面に金属薄膜層１２を形成する。なお
蒸着膜厚は、例えば、３００Å〜２０００Åであり、該
金属薄膜層１２の光学濃度は０．３〜１．５以上の遮光
性を備える。
【００２５】次に、図２（ｃ）、低反射性光硬化性樹脂
層１１の形成されていないフィルタ基板１裏面側より、
フォトマスクＰ（遮光部Ｐａとブラックマトリクスパタ
ーン相当の光透過部Ｐｂを備える）を用いて投影露光方
式（酸素を遮断して窒素等の不活性ガス雰囲気中にて投
影露光）、又はパターン走査露光方式によりパターン露
光Ｌを行い、低反射性光硬化性樹脂層１１の露光部分
に、光硬化によるブラックマトリクスパターン状の硬化
樹脂薄膜層１１ａを形成し、一方未露光部分に、未硬化
樹脂薄膜層１１ｂを形成する。なお上記低反射性光硬化
性樹脂としては、例えばフジハント社製；ＣＫ−２００
０を使用する。
層１１の形成されていないフィルタ基板１裏面側より、
フォトマスクＰ（遮光部Ｐａとブラックマトリクスパタ
ーン相当の光透過部Ｐｂを備える）を用いて投影露光方
式（酸素を遮断して窒素等の不活性ガス雰囲気中にて投
影露光）、又はパターン走査露光方式によりパターン露
光Ｌを行い、低反射性光硬化性樹脂層１１の露光部分
に、光硬化によるブラックマトリクスパターン状の硬化
樹脂薄膜層１１ａを形成し、一方未露光部分に、未硬化
樹脂薄膜層１１ｂを形成する。なお上記低反射性光硬化
性樹脂としては、例えばフジハント社製；ＣＫ−２００
０を使用する。
【００２６】次に、図２（ｄ）、未硬化樹脂薄膜層１１
ｂを苛性ソーダ水溶液に浸漬（例えばＮａＯＨ；３０℃
〜４０℃、１％水溶液に５分間浸漬）して除去すること
により、該未硬化樹脂薄膜層１１ｂ表面にある金属薄膜
層１２を除去して、硬化樹脂薄膜層１１ａ表面に金属薄
膜層１２ａが積層された二層構成のブラックマトリクス
パターン２を形成する。
ｂを苛性ソーダ水溶液に浸漬（例えばＮａＯＨ；３０℃
〜４０℃、１％水溶液に５分間浸漬）して除去すること
により、該未硬化樹脂薄膜層１１ｂ表面にある金属薄膜
層１２を除去して、硬化樹脂薄膜層１１ａ表面に金属薄
膜層１２ａが積層された二層構成のブラックマトリクス
パターン２を形成する。
【００２７】最後に、図２（ｅ）、ブラックマトリクス
パターン状の硬化樹脂薄膜層１１ａ（硬化樹脂薄膜層３
相当部）とその表面に積層された金属薄膜層１２ａ（金
属薄膜層４相当部）とによる二層構成のブラックマトリ
クスパターン２形成部分以外のフィルタ基板１表面に、
Ｒｅｄ、Ｇｒｅｅｎ、Ｂｌｕｅの各着色パターン（表示
画素パターン）により構成されるフィルタ色パターン５
をパターン形成することにより本発明のカラーフィルタ
を形成する。
パターン状の硬化樹脂薄膜層１１ａ（硬化樹脂薄膜層３
相当部）とその表面に積層された金属薄膜層１２ａ（金
属薄膜層４相当部）とによる二層構成のブラックマトリ
クスパターン２形成部分以外のフィルタ基板１表面に、
Ｒｅｄ、Ｇｒｅｅｎ、Ｂｌｕｅの各着色パターン（表示
画素パターン）により構成されるフィルタ色パターン５
をパターン形成することにより本発明のカラーフィルタ
を形成する。
【００２８】上記第２発明のカラーフィルタの製造方法
において、前記フィルタ色パターン５をパターン形成す
る場合は、前述した第１発明方法と同様にして行なうも
のである。
において、前記フィルタ色パターン５をパターン形成す
る場合は、前述した第１発明方法と同様にして行なうも
のである。
【００２９】また上記第２発明のカラーフィルタの製造
方法において、上記図２（ｂ）に示した低反射性光硬化
性樹脂層１１表面に金属薄膜層１２を形成する場合は、
金属蒸着法以外に、前述した第１発明方法と同様にして
無電解メッキ法を用いて形成することは可能である。
方法において、上記図２（ｂ）に示した低反射性光硬化
性樹脂層１１表面に金属薄膜層１２を形成する場合は、
金属蒸着法以外に、前述した第１発明方法と同様にして
無電解メッキ法を用いて形成することは可能である。
【００３０】本発明方法により製造されたカラーフィル
タは、図１（ｅ）又は図２（ｅ）に示すように、透明な
ガラス基板又は合成樹脂板等のフィルタ基板１上に規則
的な格子状、又は平行線状等の遮光性（若しくは光吸収
性）のブラックマトリクスパターン２と、Ｂｌｕｅ，Ｇ
ｒｅｅｎ，Ｒｅｄ各着色パターンから構成されるフィル
タ色パターン４とを備え、ブラックマトリクスパターン
２は顔料分散型光硬化性樹脂による硬化樹脂薄膜層３と
金属薄膜層４の二層構成である。
タは、図１（ｅ）又は図２（ｅ）に示すように、透明な
ガラス基板又は合成樹脂板等のフィルタ基板１上に規則
的な格子状、又は平行線状等の遮光性（若しくは光吸収
性）のブラックマトリクスパターン２と、Ｂｌｕｅ，Ｇ
ｒｅｅｎ，Ｒｅｄ各着色パターンから構成されるフィル
タ色パターン４とを備え、ブラックマトリクスパターン
２は顔料分散型光硬化性樹脂による硬化樹脂薄膜層３と
金属薄膜層４の二層構成である。
【００３１】フィルタ基板１上に形成された上記ブラッ
クマトリクスパターン２は、光吸収性（低反射性）の顔
料を光硬化性樹脂中に分散させた低反射性光硬化性樹脂
をブラックマトリクスパターン状にフィルタ基板１上に
パターン形成した後に、光（紫外線）照射で硬化処理す
ることによって形成した低反射性の硬化樹脂薄膜層３を
備え、該硬化樹脂薄膜層３上には、金属蒸着法又は無電
解メッキ法により形成した遮光性の金属薄膜層４を備え
る。
クマトリクスパターン２は、光吸収性（低反射性）の顔
料を光硬化性樹脂中に分散させた低反射性光硬化性樹脂
をブラックマトリクスパターン状にフィルタ基板１上に
パターン形成した後に、光（紫外線）照射で硬化処理す
ることによって形成した低反射性の硬化樹脂薄膜層３を
備え、該硬化樹脂薄膜層３上には、金属蒸着法又は無電
解メッキ法により形成した遮光性の金属薄膜層４を備え
る。
【００３２】前記ブラックマトリクスパターン２の形成
部分以外のフィルタ基板１上に、Ｒｅｄ（赤）、Ｇｒｅ
ｅｎ（緑）、Ｂｌｕｅ（青）の各着色パターン（表示画
素パターン）からなるフィルタ色パターン５が設けられ
ている。
部分以外のフィルタ基板１上に、Ｒｅｄ（赤）、Ｇｒｅ
ｅｎ（緑）、Ｂｌｕｅ（青）の各着色パターン（表示画
素パターン）からなるフィルタ色パターン５が設けられ
ている。
【００３３】該フィルタ色パターン５端部は、実施例に
おいては、前記ブラックマトリクスパターン２端部上側
にオーバーラップするように設けられているが、前記ブ
ラックマトリクスパターン２端部とフィルタ色パターン
５端部とは互いに密に隣接するように形成することは可
能である。
おいては、前記ブラックマトリクスパターン２端部上側
にオーバーラップするように設けられているが、前記ブ
ラックマトリクスパターン２端部とフィルタ色パターン
５端部とは互いに密に隣接するように形成することは可
能である。
【００３４】本発明方法のフィルタ製造工程における低
反射性光硬化性樹脂層１１をフィルタ基板１面に薄膜状
に塗布する段階で、該樹脂層１１の塗布表面（フィルタ
基板１に対して反対面）を適宜に微細な粗面状（凹凸
状）を呈するように適宜塗布条件（樹脂層１１の顔料組
成、樹脂粘度、塗布量、温度、塗布方式等）を設定して
調整することは可能であり、また光硬化性樹脂層１１を
光硬化して得られる粗面状の硬化樹脂薄膜層３上に蒸着
又は無電解メッキによって金属薄膜層４を形成する際
に、なるべく鏡面が生じないように金属薄膜層４の膜厚
を適宜に調整することは可能である。
反射性光硬化性樹脂層１１をフィルタ基板１面に薄膜状
に塗布する段階で、該樹脂層１１の塗布表面（フィルタ
基板１に対して反対面）を適宜に微細な粗面状（凹凸
状）を呈するように適宜塗布条件（樹脂層１１の顔料組
成、樹脂粘度、塗布量、温度、塗布方式等）を設定して
調整することは可能であり、また光硬化性樹脂層１１を
光硬化して得られる粗面状の硬化樹脂薄膜層３上に蒸着
又は無電解メッキによって金属薄膜層４を形成する際
に、なるべく鏡面が生じないように金属薄膜層４の膜厚
を適宜に調整することは可能である。
【００３５】前記硬化樹脂薄膜層３を形成するための低
反射性光硬化性樹脂としては、アクリル系樹脂、ポリエ
ステル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ
アミド系樹脂等の合成樹脂、又はこれらの樹脂のうちの
いずれかの樹脂を複合した複合樹脂を主体とする光硬化
性樹脂であって、該樹脂中に、低反射性（光吸収性）の
黒色若しくは黒色系、暗色系の顔料や染料を分散状態で
混合したものである。なお、硬化樹脂薄膜層３の膜厚
は、０．１μｍ〜０．５μｍの範囲であってなるべく薄
い方が適当であり、例えば０．１５μｍ〜２．５μｍ程
度が適当である。
反射性光硬化性樹脂としては、アクリル系樹脂、ポリエ
ステル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ
アミド系樹脂等の合成樹脂、又はこれらの樹脂のうちの
いずれかの樹脂を複合した複合樹脂を主体とする光硬化
性樹脂であって、該樹脂中に、低反射性（光吸収性）の
黒色若しくは黒色系、暗色系の顔料や染料を分散状態で
混合したものである。なお、硬化樹脂薄膜層３の膜厚
は、０．１μｍ〜０．５μｍの範囲であってなるべく薄
い方が適当であり、例えば０．１５μｍ〜２．５μｍ程
度が適当である。
【００３６】前記金属薄膜層４を形成するために蒸着に
使用する金属としては、ニッケル、クロム、銅、アルミ
ニウム、あるいはこれら金属酸化物等のうち、いずれか
を使用することができ、金属薄膜層４の蒸着膜厚は、
０．１μｍ〜０．５μｍの範囲であってなるべく薄い方
が適当であり、例えば０．１５μｍ〜２．５μｍ程度が
適当である。
使用する金属としては、ニッケル、クロム、銅、アルミ
ニウム、あるいはこれら金属酸化物等のうち、いずれか
を使用することができ、金属薄膜層４の蒸着膜厚は、
０．１μｍ〜０．５μｍの範囲であってなるべく薄い方
が適当であり、例えば０．１５μｍ〜２．５μｍ程度が
適当である。
【００３７】また、前記金属薄膜層４を形成するために
無電解メッキに使用する金属としては、ニッケル、クロ
ム、銅等の金属のうち、いずれかを使用することがで
き、金属薄膜層４のメッキ膜厚は、０．１μｍ〜０．５
μｍの範囲であってなるべく薄い方が適当であり、例え
ば０．１５μｍ〜２．５μｍ程度が適当である。
無電解メッキに使用する金属としては、ニッケル、クロ
ム、銅等の金属のうち、いずれかを使用することがで
き、金属薄膜層４のメッキ膜厚は、０．１μｍ〜０．５
μｍの範囲であってなるべく薄い方が適当であり、例え
ば０．１５μｍ〜２．５μｍ程度が適当である。
【００３８】本発明方法により得られた上記カラーフィ
ルタのブラックマトリクスパターン２と、フィルタ色パ
ターン５の上側には、後において適宜透明導電膜（例え
ばインジュウムに錫をドーピングした走査電極パターン
（ＳＴＮ−ＣＦ方式の場合）又はベタ状電極（ＴＦＴ−
ＣＦ方式の場合））を、直接又は透明保護層を介して積
層するものである。
ルタのブラックマトリクスパターン２と、フィルタ色パ
ターン５の上側には、後において適宜透明導電膜（例え
ばインジュウムに錫をドーピングした走査電極パターン
（ＳＴＮ−ＣＦ方式の場合）又はベタ状電極（ＴＦＴ−
ＣＦ方式の場合））を、直接又は透明保護層を介して積
層するものである。
【００３９】
【作用】本発明方法は、フィルタ基板１上に、低反射性
（光吸収性）の硬化樹脂薄膜層３と、該硬化樹脂薄膜層
３上に積層された遮光性の金属薄膜層４との二層構成に
よるブラックマトリクスパターン２を、フィルタ基板１
表面乃至裏面よりパターン露光してリフトオフ方式によ
って形成するので、前記二層の積層形成において整合性
の良好なブラックマトリクスパターン２が得られる。
（光吸収性）の硬化樹脂薄膜層３と、該硬化樹脂薄膜層
３上に積層された遮光性の金属薄膜層４との二層構成に
よるブラックマトリクスパターン２を、フィルタ基板１
表面乃至裏面よりパターン露光してリフトオフ方式によ
って形成するので、前記二層の積層形成において整合性
の良好なブラックマトリクスパターン２が得られる。
【００４０】また、ブラックマトリクスパターン２は極
薄膜に形成されるので、フィルタ色パターン５のオーバ
ーラップによる突起部の高さの軽減や、突起部の形成が
抑制でき、また極薄膜であっても、低反射性の硬化樹脂
薄膜層３と遮光性の金属薄膜層４との二層構成による相
乗的な光学濃度２．５以上の十分な遮光性と低反射性が
得られる。
薄膜に形成されるので、フィルタ色パターン５のオーバ
ーラップによる突起部の高さの軽減や、突起部の形成が
抑制でき、また極薄膜であっても、低反射性の硬化樹脂
薄膜層３と遮光性の金属薄膜層４との二層構成による相
乗的な光学濃度２．５以上の十分な遮光性と低反射性が
得られる。
【００４１】また本発明方法においては、低反射性（光
吸収性）の光硬化型樹脂を薄膜状にして使用しているた
めパターン形成における露光時間の長大化を防ぐことが
可能である。
吸収性）の光硬化型樹脂を薄膜状にして使用しているた
めパターン形成における露光時間の長大化を防ぐことが
可能である。
【００４２】
【発明の効果】本発明のカラーフィルタの形成方法は、
十分な遮光性と低反射性の二層構成によるブラックマト
リクスパターン２を二層間の整合性良くパターン形成で
き、また十分な遮光性と低反射性であるが故に表示画像
のコントラストを向上させたカラーフィルタが形成で
き、またパターン露光時間の長大化を防いで、パターン
露光時におけるフィルタ基板面でのハレーション発生等
の心配を無くし、ブラックマトリクスパターンエッジ部
分の精度向上を図ることができる等の効果がある。
十分な遮光性と低反射性の二層構成によるブラックマト
リクスパターン２を二層間の整合性良くパターン形成で
き、また十分な遮光性と低反射性であるが故に表示画像
のコントラストを向上させたカラーフィルタが形成で
き、またパターン露光時間の長大化を防いで、パターン
露光時におけるフィルタ基板面でのハレーション発生等
の心配を無くし、ブラックマトリクスパターンエッジ部
分の精度向上を図ることができる等の効果がある。
【図１】（ａ）〜（ｅ）は第１発明のカラーフィルタの
形成方法を説明する製造工程の概要側断面図である。
形成方法を説明する製造工程の概要側断面図である。
【図２】（ａ）〜（ｅ）は第２発明のカラーフィルタの
形成方法を説明する製造工程の概要側断面図である。
形成方法を説明する製造工程の概要側断面図である。
【図３】（ａ）〜（ｂ）は従来のカラーフィルタを説明
する概要側断面図である。
する概要側断面図である。
１…フィルタ基板 ２…ブラックマトリクスパターン
３…硬化樹脂薄膜層 ４…金属薄膜層 ５…フィルタ色パターン １１…低反射性（光吸収性）光硬化型樹脂層 １１ａ…
硬化樹脂薄膜層 １１ｂ…未硬化樹脂薄膜層 １２…金属薄膜層 １２ａ
…金属薄膜層 ２１…ガラス基板 ２２…ブラックマトリクスパターン ２５…フィルタ色パターン ２５ａ…突起部 Ｂ…Ｂｌｕｅ（青） Ｇ…Ｇｒｅｅｎ（緑） Ｒ…Ｒｅ
ｄ（赤） Ｌ…パターン露光 Ｐ…フォトマスク Ｐａ…遮光部
Ｐｂ…光透過部
３…硬化樹脂薄膜層 ４…金属薄膜層 ５…フィルタ色パターン １１…低反射性（光吸収性）光硬化型樹脂層 １１ａ…
硬化樹脂薄膜層 １１ｂ…未硬化樹脂薄膜層 １２…金属薄膜層 １２ａ
…金属薄膜層 ２１…ガラス基板 ２２…ブラックマトリクスパターン ２５…フィルタ色パターン ２５ａ…突起部 Ｂ…Ｂｌｕｅ（青） Ｇ…Ｇｒｅｅｎ（緑） Ｒ…Ｒｅ
ｄ（赤） Ｌ…パターン露光 Ｐ…フォトマスク Ｐａ…遮光部
Ｐｂ…光透過部
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平４−242704（ＪＰ，Ａ)
特開 昭63−282702（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−90501（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−164912（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−304423（ＪＰ，Ａ)
特開 平３−274503（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−303013（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−325793（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G02B 5/20 101
Claims (2)
- 【請求項１】透明なフィルタ基板１上に低反射性の光硬
化性樹脂を薄膜状に塗布して低反射性の光硬化性樹脂層
１１を設け、該低反射性の光硬化性樹脂層１１側よりパ
ターン露光を行って該光硬化性樹脂層１１に露光による
ブラックマトリクスパターン状の光硬化樹脂層１１ａと
未露光による未硬化樹脂層１１ｂとを形成し、次に該光
硬化性樹脂層１１全面に遮光性の金属薄膜層１２を形成
し、続いて前記未硬化樹脂層１１ｂをフィルタ基板１よ
り溶解除去して該樹脂層１１ｂ上側の金属薄膜層１２を
除去することにより、フィルタ基板１上に光硬化樹脂層
１１ａと金属薄膜層１２ａとの二層構成のブラックマト
リクスパターン２を形成し、その後、該ブラックマトリ
クスパターン２形成部分以外のフィルタ基板１表面に、
Ｒｅｄ、Ｇｒｅｅｎ、Ｂｌｕｅの各着色パターンにより
構成されるフィルタ色パターン５を形成することを特徴
とするカラーフィルタの形成方法。 - 【請求項２】透明なフィルタ基板１表面に低反射性の光
硬化性樹脂を薄膜状に塗布して低反射性の光硬化性樹脂
層１１を設け、該光硬化性樹脂層１１全面に金属薄膜層
１２を形成し、次にフィルタ基板１裏面側よりパターン
露光を行って前記光硬化性樹脂層１１に露光によるブラ
ックマトリクスパターン状の光硬化樹脂層１１ａと未露
光による未硬化樹脂層１１ｂを形成し、次に前記未硬化
樹脂層１１ｂをフィルタ基板１より溶解除去して該樹脂
層１１ｂ上側の金属薄膜層１２を除去することにより、
フィルタ基板１上に光硬化樹脂層１１ａと金属薄膜層１
２ａとの二層構成のブラックマトリクスパターン２を形
成し、その後、該ブラックマトリクスパターン２形成部
分以外のフィルタ基板１表面に、Ｒｅｄ、Ｇｒｅｅｎ、
Ｂｌｕｅの各着色パターンにより構成されるフィルタ色
パターン５を形成することを特徴とするカラーフィルタ
の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28314593A JP3367173B2 (ja) | 1993-11-12 | 1993-11-12 | カラーフィルタの形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28314593A JP3367173B2 (ja) | 1993-11-12 | 1993-11-12 | カラーフィルタの形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07134208A JPH07134208A (ja) | 1995-05-23 |
| JP3367173B2 true JP3367173B2 (ja) | 2003-01-14 |
Family
ID=17661807
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28314593A Expired - Fee Related JP3367173B2 (ja) | 1993-11-12 | 1993-11-12 | カラーフィルタの形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3367173B2 (ja) |
-
1993
- 1993-11-12 JP JP28314593A patent/JP3367173B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07134208A (ja) | 1995-05-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3912663B2 (ja) | カラーフィルター用画素の形成方法、液晶表示装置用カラーフィルター、液晶表示装置用スペーサー及び配向制御用突起の形成方法、液晶表示装置用スペーサー及び配向制御用突起 | |
| US5712065A (en) | Process for fabricating a multicolor filter | |
| JPH07239411A (ja) | カラーフィルタの製造方法 | |
| JP3367173B2 (ja) | カラーフィルタの形成方法 | |
| US5503732A (en) | Method for manufacturing a substrate having window-shaped and frame-shaped coating films on the surface thereof | |
| JPH07248412A (ja) | カラーフィルタとカラーフィルタの製造方法 | |
| JP4538111B2 (ja) | カラー液晶表示装置製造方法 | |
| JPH1039128A (ja) | カラーフィルタ | |
| JP3277605B2 (ja) | カラーフィルタ | |
| JPH07128517A (ja) | カラーフィルタ | |
| JPH0437804A (ja) | カラーフィルターの形成法 | |
| JPH06109909A (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| KR100290758B1 (ko) | 액정 표시 소자의 칼라 필터 및 그 제조 방법 | |
| KR0138025B1 (ko) | 액정 디스플레이용 컬러 필터의 제조방법 | |
| JPH06331816A (ja) | カラーフィルタ | |
| JPH08179304A (ja) | カラーフィルタ基板とその欠陥修正方法 | |
| JPH06331819A (ja) | カラーフィルタ | |
| JP3211555B2 (ja) | カラー樹脂パターンの形成方法 | |
| KR100358643B1 (ko) | 컬러필터제조방법및구조 | |
| JPH08137098A (ja) | ブラックマトリックス用フォトレジスト | |
| KR100196784B1 (ko) | 칼라 액정표시소자용 칼라 필터의 제조방법 | |
| JP3265747B2 (ja) | カラーフィルタの製造方法 | |
| JP3191430B2 (ja) | カラーフィルタの製造方法 | |
| JP3415024B2 (ja) | 液晶用カラーフィルターおよび該カラーフィルターを使用した液晶表示素子 | |
| JPH0743519A (ja) | カラーフィルタ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071108 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081108 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |