JP3351774B2 - 液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置Info
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- JP3351774B2 JP3351774B2 JP2000023984A JP2000023984A JP3351774B2 JP 3351774 B2 JP3351774 B2 JP 3351774B2 JP 2000023984 A JP2000023984 A JP 2000023984A JP 2000023984 A JP2000023984 A JP 2000023984A JP 3351774 B2 JP3351774 B2 JP 3351774B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に関す
るものである。
るものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置は一般に、板面を対向させ
間に液晶層を介在させて配置された第１および第２のガ
ラス基板を含み、第１のガラス基板の液晶層側の表面に
は、それぞれ透明電極を含む画素が多数密に配列され、
画素の配列領域の外側に画素の駆動回路が形成されてい
る。そして、画素および駆動回路の上に層間絶縁膜が形
成され、層間絶縁膜の上にはパネル上面を平坦化するた
めの有機平坦化膜が形成されている。また、第２のガラ
ス基板の液晶層側の表面には対向電極が形成されてい
る。
間に液晶層を介在させて配置された第１および第２のガ
ラス基板を含み、第１のガラス基板の液晶層側の表面に
は、それぞれ透明電極を含む画素が多数密に配列され、
画素の配列領域の外側に画素の駆動回路が形成されてい
る。そして、画素および駆動回路の上に層間絶縁膜が形
成され、層間絶縁膜の上にはパネル上面を平坦化するた
めの有機平坦化膜が形成されている。また、第２のガラ
ス基板の液晶層側の表面には対向電極が形成されてい
る。
【０００３】図８はこのような従来の液晶表示装置を構
成する一方のガラス基板の一例を示す部分拡大断面側面
図、図９は平面図である。なお、図８は図９におけるＡ
Ａ’線に沿った断面を示している。図９に示したよう
に、平面視矩形の第１のガラス基板１２上の中央部に、
それぞれ透明電極を含む多数の画素１４がマトリクス状
に配列されている。画素の配列領域１６の外側には、図
８に示したように、薄膜トランジスタ１８を含む、画素
の駆動回路７が形成されている。そして、画素の配列領
域１６、およびその外側の領域の上には全体に図８に示
したように層間絶縁膜２０が形成され、さらにその上全
体に有機平坦化膜２２が形成されている。
成する一方のガラス基板の一例を示す部分拡大断面側面
図、図９は平面図である。なお、図８は図９におけるＡ
Ａ’線に沿った断面を示している。図９に示したよう
に、平面視矩形の第１のガラス基板１２上の中央部に、
それぞれ透明電極を含む多数の画素１４がマトリクス状
に配列されている。画素の配列領域１６の外側には、図
８に示したように、薄膜トランジスタ１８を含む、画素
の駆動回路７が形成されている。そして、画素の配列領
域１６、およびその外側の領域の上には全体に図８に示
したように層間絶縁膜２０が形成され、さらにその上全
体に有機平坦化膜２２が形成されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来の液晶表示装置では、第１のガラス基板１２上には上
述のように全体に層間絶縁膜２０が形成され、その熱膨
張率が第１のガラス基板１２と異なるなどの理由で、常
温では図８に示したような上に凸の反りが生じるという
問題がある。このような反りが生じると第１のガラス基
板１２と上記第２のガラス基板とを張り合わせる際にガ
ラス基板間の隙間が均一とならず、液晶表示装置として
必要な性能が得られなくなることから製造歩留まりが低
下する。
来の液晶表示装置では、第１のガラス基板１２上には上
述のように全体に層間絶縁膜２０が形成され、その熱膨
張率が第１のガラス基板１２と異なるなどの理由で、常
温では図８に示したような上に凸の反りが生じるという
問題がある。このような反りが生じると第１のガラス基
板１２と上記第２のガラス基板とを張り合わせる際にガ
ラス基板間の隙間が均一とならず、液晶表示装置として
必要な性能が得られなくなることから製造歩留まりが低
下する。
【０００５】ところで、有機平坦化膜２２は、層間絶縁
膜２０とは反対の方向に第１のガラス基板１２を反らせ
るように作用する。したがって、有機平坦化膜２２を従
来より厚く形成すれば、その作用が高まり、層間絶縁膜
２０による反りを打ち消すことができる。しかし、その
場合には、有機平坦化膜２２における光の減衰が大きく
なるため、液晶表示装置の輝度が全体に低下し、性能が
劣化する。また、有機平坦化膜２２を厚くすると加工性
が悪くなり、コスト増につながる。本発明はこのような
問題を解決するためになされたもので、その目的は、輝
度の低下や加工性の悪化を招くことなくガラス基板の反
りを緩和して製造歩留まりの向上を実現する液晶表示装
置を提供することにある。
膜２０とは反対の方向に第１のガラス基板１２を反らせ
るように作用する。したがって、有機平坦化膜２２を従
来より厚く形成すれば、その作用が高まり、層間絶縁膜
２０による反りを打ち消すことができる。しかし、その
場合には、有機平坦化膜２２における光の減衰が大きく
なるため、液晶表示装置の輝度が全体に低下し、性能が
劣化する。また、有機平坦化膜２２を厚くすると加工性
が悪くなり、コスト増につながる。本発明はこのような
問題を解決するためになされたもので、その目的は、輝
度の低下や加工性の悪化を招くことなくガラス基板の反
りを緩和して製造歩留まりの向上を実現する液晶表示装
置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するため、板面を対向させ間に液晶層を介在させて配
置された第１および第２のガラス基板を含み、前記第１
のガラス基板の前記液晶層側の表面には、それぞれ透明
電極を含む画素が多数密に配列され、前記画素の配列領
域の外側に前記画素の駆動回路が形成され、前記画素の
配列領域および前記駆動回路の上に層間絶縁膜が形成さ
れ、前記層間絶縁膜の上に有機平坦化膜が形成され、前
記第２のガラス基板の前記液晶層側の表面には対向電極
が形成されている液晶表示装置であって、前記駆動回路
の外側の前記第１のガラス基板の表面の領域には前記層
間絶縁膜が形成され、前記駆動回路の外側の領域の前記
層間絶縁膜には前記画素の配列領域および前記駆動回路
を内側にして平面視矩形の枠状の溝が形成され、前記溝
の箇所には該溝の周辺部より厚い前記有機平坦化膜が形
成されていることを特徴とする。
成するため、板面を対向させ間に液晶層を介在させて配
置された第１および第２のガラス基板を含み、前記第１
のガラス基板の前記液晶層側の表面には、それぞれ透明
電極を含む画素が多数密に配列され、前記画素の配列領
域の外側に前記画素の駆動回路が形成され、前記画素の
配列領域および前記駆動回路の上に層間絶縁膜が形成さ
れ、前記層間絶縁膜の上に有機平坦化膜が形成され、前
記第２のガラス基板の前記液晶層側の表面には対向電極
が形成されている液晶表示装置であって、前記駆動回路
の外側の前記第１のガラス基板の表面の領域には前記層
間絶縁膜が形成され、前記駆動回路の外側の領域の前記
層間絶縁膜には前記画素の配列領域および前記駆動回路
を内側にして平面視矩形の枠状の溝が形成され、前記溝
の箇所には該溝の周辺部より厚い前記有機平坦化膜が形
成されていることを特徴とする。
【０００７】本発明の液晶表示装置では、駆動回路の外
側の前記第１のガラス基板の表面の領域には前記層間絶
縁膜が形成され、前記駆動回路の外側の領域の前記層間
絶縁膜には前記画素の配列領域および前記駆動回路を内
側にして平面視矩形の枠状の溝が形成され、前記溝の箇
所には該溝の周辺部より厚い前記有機平坦化膜が形成さ
れている。したがって、前記溝の箇所では、層間絶縁膜
の膜厚が薄いか、または層間絶縁膜が形成されていない
ため層間絶縁膜による第１のガラス基板の反りは少ない
か、または発生しない。一方、溝の箇所では有機平坦化
膜の膜厚が厚いため、層間絶縁膜による第１のガラス基
板の反りを打ち消す、有機平坦化膜による第１のガラス
基板の反りが大きくなる。その結果、有機平坦化膜上面
の第１のガラス基板からの高さが従来と同じであって
も、全体として層間絶縁膜による第１のガラス基板の反
りは、有機平坦化膜による第１のガラス基板の反りによ
り従来より大きく打ち消され、第１のガラス基板の反り
が緩和される。
側の前記第１のガラス基板の表面の領域には前記層間絶
縁膜が形成され、前記駆動回路の外側の領域の前記層間
絶縁膜には前記画素の配列領域および前記駆動回路を内
側にして平面視矩形の枠状の溝が形成され、前記溝の箇
所には該溝の周辺部より厚い前記有機平坦化膜が形成さ
れている。したがって、前記溝の箇所では、層間絶縁膜
の膜厚が薄いか、または層間絶縁膜が形成されていない
ため層間絶縁膜による第１のガラス基板の反りは少ない
か、または発生しない。一方、溝の箇所では有機平坦化
膜の膜厚が厚いため、層間絶縁膜による第１のガラス基
板の反りを打ち消す、有機平坦化膜による第１のガラス
基板の反りが大きくなる。その結果、有機平坦化膜上面
の第１のガラス基板からの高さが従来と同じであって
も、全体として層間絶縁膜による第１のガラス基板の反
りは、有機平坦化膜による第１のガラス基板の反りによ
り従来より大きく打ち消され、第１のガラス基板の反り
が緩和される。
【０００８】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態例につい
て図面を参照して説明する。図１は本発明による液晶表
示装置の一例を示す部分断面側面図、図２は同平面図で
ある。図中、図８、図９と同一の要素には同一の符号が
付されている。なお、図１は図２におけるＡＡ’線に沿
った断面を示している。本実施の形態例の液晶表示装置
は、板面を対向させ間に液晶層を介在させて配置された
第１のガラス基板１２と、液晶層側の表面に不図示の対
向電極が形成された不図示の第２のガラス基板とを含ん
で構成されている。第１のガラス基板１２の液晶層側の
表面には、それぞれ不図示の透明電極を含む画素１４が
多数密に配列され、画素の配列領域１６の外側に画素１
４の駆動回路７が形成されている。また、画素の配列領
域１６および駆動回路７の上には層間絶縁膜２０が形成
され、層間絶縁膜２０の上に有機平坦化膜２２が形成さ
れている。
て図面を参照して説明する。図１は本発明による液晶表
示装置の一例を示す部分断面側面図、図２は同平面図で
ある。図中、図８、図９と同一の要素には同一の符号が
付されている。なお、図１は図２におけるＡＡ’線に沿
った断面を示している。本実施の形態例の液晶表示装置
は、板面を対向させ間に液晶層を介在させて配置された
第１のガラス基板１２と、液晶層側の表面に不図示の対
向電極が形成された不図示の第２のガラス基板とを含ん
で構成されている。第１のガラス基板１２の液晶層側の
表面には、それぞれ不図示の透明電極を含む画素１４が
多数密に配列され、画素の配列領域１６の外側に画素１
４の駆動回路７が形成されている。また、画素の配列領
域１６および駆動回路７の上には層間絶縁膜２０が形成
され、層間絶縁膜２０の上に有機平坦化膜２２が形成さ
れている。
【０００９】駆動回路７は薄膜トランジスタ１８を含ん
で構成され、また、画素の配列領域１６には各画素１４
ごとに透明電極に接続された不図示の薄膜トランジスタ
が配設されている。そして、第１のガラス基板１２の層
間絶縁膜２０には、画素の配列領域１６および駆動回路
７を内側にして平面視矩形の枠状の溝４が形成されてい
る。本実施の形態例では溝４の深さは周辺の層間絶縁膜
２０の厚さに等しく、底部は第１のガラス基板１２の表
面となっている。この溝４内には有機平坦化膜２２の材
料が充填され、したがって溝４の箇所では有機平坦化膜
２２は周辺部より厚く形成されている。
で構成され、また、画素の配列領域１６には各画素１４
ごとに透明電極に接続された不図示の薄膜トランジスタ
が配設されている。そして、第１のガラス基板１２の層
間絶縁膜２０には、画素の配列領域１６および駆動回路
７を内側にして平面視矩形の枠状の溝４が形成されてい
る。本実施の形態例では溝４の深さは周辺の層間絶縁膜
２０の厚さに等しく、底部は第１のガラス基板１２の表
面となっている。この溝４内には有機平坦化膜２２の材
料が充填され、したがって溝４の箇所では有機平坦化膜
２２は周辺部より厚く形成されている。
【００１０】このように構成された第１のガラス基板１
２では、溝４の箇所では層間絶縁膜２０が形成されてい
ないため層間絶縁膜２０による第１のガラス基板１２の
反りは発生しない。一方、溝４の箇所では有機平坦化膜
２２の膜厚が厚いため、層間絶縁膜２０による第１のガ
ラス基板１２の反りを打ち消す、有機平坦化膜２２によ
る第１のガラス基板１２の反りが大きくなる。
２では、溝４の箇所では層間絶縁膜２０が形成されてい
ないため層間絶縁膜２０による第１のガラス基板１２の
反りは発生しない。一方、溝４の箇所では有機平坦化膜
２２の膜厚が厚いため、層間絶縁膜２０による第１のガ
ラス基板１２の反りを打ち消す、有機平坦化膜２２によ
る第１のガラス基板１２の反りが大きくなる。
【００１１】図３は有機平坦化膜２２の厚さとガラス基
板の反り量との関係を実測した結果を示すグラフであ
る。図中、横軸が有機平坦化膜２２の厚を示し、縦軸は
ガラス基板の反り量を示している。なお、このグラフ
は、縦横３ｃｍのガラス基板の全体に、層間絶縁膜２０
は形成せず、一定厚の有機平坦化膜２２のみを形成した
場合の全体の反り量を表している。グラフ中の黒丸が実
測結果を示している。
板の反り量との関係を実測した結果を示すグラフであ
る。図中、横軸が有機平坦化膜２２の厚を示し、縦軸は
ガラス基板の反り量を示している。なお、このグラフ
は、縦横３ｃｍのガラス基板の全体に、層間絶縁膜２０
は形成せず、一定厚の有機平坦化膜２２のみを形成した
場合の全体の反り量を表している。グラフ中の黒丸が実
測結果を示している。
【００１２】このグラフから分かるように有機平坦化膜
２２を厚くするほど反り量は大きくなっており、本実施
の形態例では、溝４の箇所において有機平坦化膜２２が
厚いため、層間絶縁膜２０による反りが強く打ち消され
る。その結果、有機平坦化膜２２上面の第１のガラス基
板１２からの高さが従来と同じであっても、全体として
層間絶縁膜２０による第１のガラス基板１２の反りは、
有機平坦化膜２２による第１のガラス基板１２の反りに
より従来より大きく打ち消され、第１のガラス基板１２
の反りが緩和される。そのため、本実施の形態例では、
輝度の低下や加工性の悪化を招くことなくガラス基板の
反りを緩和することができ、第２のガラス基板を第１の
ガラス基板１２に重ねた際に両ガラス基板間の隙間が均
一となって、液晶表示装置製造時の歩留まりを向上させ
ることができる。
２２を厚くするほど反り量は大きくなっており、本実施
の形態例では、溝４の箇所において有機平坦化膜２２が
厚いため、層間絶縁膜２０による反りが強く打ち消され
る。その結果、有機平坦化膜２２上面の第１のガラス基
板１２からの高さが従来と同じであっても、全体として
層間絶縁膜２０による第１のガラス基板１２の反りは、
有機平坦化膜２２による第１のガラス基板１２の反りに
より従来より大きく打ち消され、第１のガラス基板１２
の反りが緩和される。そのため、本実施の形態例では、
輝度の低下や加工性の悪化を招くことなくガラス基板の
反りを緩和することができ、第２のガラス基板を第１の
ガラス基板１２に重ねた際に両ガラス基板間の隙間が均
一となって、液晶表示装置製造時の歩留まりを向上させ
ることができる。
【００１３】次に第２の実施の形態例について説明す
る。図４は本発明の第２の実施の形態例を示す部分断面
側面図、図５は同平面図である。図中、図１、図２と同
一の要素には同一の符号が付されている。なお、図４は
図５におけるＡＡ’線に沿った断面を示している。第２
の実施の形態例が上記実施の形態例と異なるのは、画素
の配列領域１６および駆動回路７の外側に、溝４に変え
て段部６が形成されている点である。すなわち、第２の
実施の形態例では、第１のガラス基板１２の層間絶縁膜
２０には、画素の配列領域１６および駆動回路７を内側
にして平面視矩形の枠状の段部６が形成されている。本
実施の形態例では段部６の深さは内側周辺部の層間絶縁
膜２０の厚さに等しく、底部は第１のガラス基板１２の
表面となっている。この段部６内には有機平坦化膜２２
の材料が充填され、したがって段部６の箇所では有機平
坦化膜２２は内側周辺部より厚く形成されている。第２
の実施の形態例では、有機平坦化膜２２が厚い領域を、
第１の実施の形態例の場合より広くできるので、層間絶
縁膜２０による第１のガラス基板１２の反りをいっそう
効果的に打ち消すことができる。
る。図４は本発明の第２の実施の形態例を示す部分断面
側面図、図５は同平面図である。図中、図１、図２と同
一の要素には同一の符号が付されている。なお、図４は
図５におけるＡＡ’線に沿った断面を示している。第２
の実施の形態例が上記実施の形態例と異なるのは、画素
の配列領域１６および駆動回路７の外側に、溝４に変え
て段部６が形成されている点である。すなわち、第２の
実施の形態例では、第１のガラス基板１２の層間絶縁膜
２０には、画素の配列領域１６および駆動回路７を内側
にして平面視矩形の枠状の段部６が形成されている。本
実施の形態例では段部６の深さは内側周辺部の層間絶縁
膜２０の厚さに等しく、底部は第１のガラス基板１２の
表面となっている。この段部６内には有機平坦化膜２２
の材料が充填され、したがって段部６の箇所では有機平
坦化膜２２は内側周辺部より厚く形成されている。第２
の実施の形態例では、有機平坦化膜２２が厚い領域を、
第１の実施の形態例の場合より広くできるので、層間絶
縁膜２０による第１のガラス基板１２の反りをいっそう
効果的に打ち消すことができる。
【００１４】次に第３の実施の形態例について説明す
る。図６は本発明の第３の実施の形態例を示す部分断面
側面図、図７は同平面図である。図中、図１、図２と同
一の要素には同一の符号が付されている。なお、図６は
図７におけるＡＡ’線に沿った断面を示している。第３
の実施の形態例が上記実施の形態例と異なるのは、個々
の画素１４の周辺に凹部８が形成されている点である。
すなわち、第３の実施の形態例では、図６に示したよう
に、画素１４の周辺に、画素１４ごとに配置された薄膜
トランジスタ２の箇所を除いて、凹部８が形成されてい
る。本実施の形態例では凹部８の深さは周辺部の層間絶
縁膜２０の厚さに等しく、底部は第１のガラス基板１２
の表面となっている。この凹部８内には有機平坦化膜２
２の材料が充填され、したがって凹部８の箇所では有機
平坦化膜２２は周辺部より厚く形成されている。
る。図６は本発明の第３の実施の形態例を示す部分断面
側面図、図７は同平面図である。図中、図１、図２と同
一の要素には同一の符号が付されている。なお、図６は
図７におけるＡＡ’線に沿った断面を示している。第３
の実施の形態例が上記実施の形態例と異なるのは、個々
の画素１４の周辺に凹部８が形成されている点である。
すなわち、第３の実施の形態例では、図６に示したよう
に、画素１４の周辺に、画素１４ごとに配置された薄膜
トランジスタ２の箇所を除いて、凹部８が形成されてい
る。本実施の形態例では凹部８の深さは周辺部の層間絶
縁膜２０の厚さに等しく、底部は第１のガラス基板１２
の表面となっている。この凹部８内には有機平坦化膜２
２の材料が充填され、したがって凹部８の箇所では有機
平坦化膜２２は周辺部より厚く形成されている。
【００１５】そのため、この実施の形態例においても、
凹部８の箇所では層間絶縁膜２０が形成されていないた
め層間絶縁膜２０による第１のガラス基板１２の反りは
発生しない。一方、凹部８の箇所では有機平坦化膜２２
の膜厚が厚いため、層間絶縁膜２０による第１のガラス
基板１２の反りを打ち消す、有機平坦化膜２２による第
１のガラス基板１２の反りが大きくなる。その結果、有
機平坦化膜２２上面の第１のガラス基板１２からの高さ
が従来と同じであっても、全体として層間絶縁膜２０に
よる第１のガラス基板１２の反りは、有機平坦化膜２２
による第１のガラス基板１２の反りにより従来より大き
く打ち消され、第１のガラス基板１２の反りが緩和され
る。
凹部８の箇所では層間絶縁膜２０が形成されていないた
め層間絶縁膜２０による第１のガラス基板１２の反りは
発生しない。一方、凹部８の箇所では有機平坦化膜２２
の膜厚が厚いため、層間絶縁膜２０による第１のガラス
基板１２の反りを打ち消す、有機平坦化膜２２による第
１のガラス基板１２の反りが大きくなる。その結果、有
機平坦化膜２２上面の第１のガラス基板１２からの高さ
が従来と同じであっても、全体として層間絶縁膜２０に
よる第１のガラス基板１２の反りは、有機平坦化膜２２
による第１のガラス基板１２の反りにより従来より大き
く打ち消され、第１のガラス基板１２の反りが緩和され
る。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、板面を対
向させ間に液晶層を介在させて配置された第１および第
２のガラス基板を含み、前記第１のガラス基板の前記液
晶層側の表面には、それぞれ透明電極を含む画素が多数
密に配列され、前記画素の配列領域の外側に前記画素の
駆動回路が形成され、前記画素の配列領域および前記駆
動回路の上に層間絶縁膜が形成され、前記層間絶縁膜の
上に有機平坦化膜が形成され、前記第２のガラス基板の
前記液晶層側の表面には対向電極が形成されている液晶
表示装置であって、前記駆動回路の外側の前記第１のガ
ラス基板の表面の領域には前記層間絶縁膜が形成され、
前記駆動回路の外側の領域の前記層間絶縁膜には前記画
素の配列領域および前記駆動回路を内側にして平面視矩
形の枠状の溝が形成され、前記溝の箇所には該溝の周辺
部より厚い前記有機平坦化膜が形成されていることを特
徴とする。
向させ間に液晶層を介在させて配置された第１および第
２のガラス基板を含み、前記第１のガラス基板の前記液
晶層側の表面には、それぞれ透明電極を含む画素が多数
密に配列され、前記画素の配列領域の外側に前記画素の
駆動回路が形成され、前記画素の配列領域および前記駆
動回路の上に層間絶縁膜が形成され、前記層間絶縁膜の
上に有機平坦化膜が形成され、前記第２のガラス基板の
前記液晶層側の表面には対向電極が形成されている液晶
表示装置であって、前記駆動回路の外側の前記第１のガ
ラス基板の表面の領域には前記層間絶縁膜が形成され、
前記駆動回路の外側の領域の前記層間絶縁膜には前記画
素の配列領域および前記駆動回路を内側にして平面視矩
形の枠状の溝が形成され、前記溝の箇所には該溝の周辺
部より厚い前記有機平坦化膜が形成されていることを特
徴とする。
【００１７】本発明の液晶表示装置では、駆動回路の外
側の前記第１のガラス基板の表面の領域には前記層間絶
縁膜が形成され、前記駆動回路の外側の領域の前記層間
絶縁膜には前記画素の配列領域および前記駆動回路を内
側にして平面視矩形の枠状の溝が形成され、前記溝の箇
所には該溝の周辺部より厚い前記有機平坦化膜が形成さ
れている。したがって、前記溝の箇所では、層間絶縁膜
の膜厚が薄いか、または層間絶縁膜が形成されていない
ため層間絶縁膜による第１のガラス基板の反りは少ない
か、または発生しない。一方、溝の箇所では有機平坦化
膜の膜厚が厚いため、層間絶縁膜による第１のガラス基
板の反りを打ち消す、有機平坦化膜による第１のガラス
基板の反りが大きくなる。その結果、有機平坦化膜上面
の第１のガラス基板からの高さが従来と同じであって
も、全体として層間絶縁膜による第１のガラス基板の反
りは、有機平坦化膜による第１のガラス基板の反りによ
り従来より大きく打ち消され、第１のガラス基板の反り
が緩和される。そのため、本発明により、輝度の低下や
加工性の悪化を招くことなくガラス基板の反りを緩和し
て液晶表示装置製造時の歩留まりを向上させることがで
きる。
側の前記第１のガラス基板の表面の領域には前記層間絶
縁膜が形成され、前記駆動回路の外側の領域の前記層間
絶縁膜には前記画素の配列領域および前記駆動回路を内
側にして平面視矩形の枠状の溝が形成され、前記溝の箇
所には該溝の周辺部より厚い前記有機平坦化膜が形成さ
れている。したがって、前記溝の箇所では、層間絶縁膜
の膜厚が薄いか、または層間絶縁膜が形成されていない
ため層間絶縁膜による第１のガラス基板の反りは少ない
か、または発生しない。一方、溝の箇所では有機平坦化
膜の膜厚が厚いため、層間絶縁膜による第１のガラス基
板の反りを打ち消す、有機平坦化膜による第１のガラス
基板の反りが大きくなる。その結果、有機平坦化膜上面
の第１のガラス基板からの高さが従来と同じであって
も、全体として層間絶縁膜による第１のガラス基板の反
りは、有機平坦化膜による第１のガラス基板の反りによ
り従来より大きく打ち消され、第１のガラス基板の反り
が緩和される。そのため、本発明により、輝度の低下や
加工性の悪化を招くことなくガラス基板の反りを緩和し
て液晶表示装置製造時の歩留まりを向上させることがで
きる。
【図１】本発明による液晶表示装置の一例を示す部分断
面側面図である。
面側面図である。
【図２】本発明による液晶表示装置の一例を示す平面図
である。
である。
【図３】有機平坦化膜の厚さとガラス基板の反り量との
関係を実測した結果を示すグラフである。
関係を実測した結果を示すグラフである。
【図４】本発明の第２の実施の形態例を示す部分断面側
面図である。
面図である。
【図５】本発明の第２の実施の形態例を示す平面図であ
る。
る。
【図６】本発明の第３の実施の形態例を示す部分断面側
面図である。
面図である。
【図７】本発明の第３の実施の形態例を示す平面図であ
る。
る。
【図８】従来の液晶表示装置を構成する一方のガラス基
板の一例を示す部分拡大断面側面図である。
板の一例を示す部分拡大断面側面図である。
【図９】従来の液晶表示装置を構成する一方のガラス基
板の一例を示す平面図である。
板の一例を示す平面図である。
２……薄膜トランジスタ、４……溝、６……段部、７…
…駆動回路、８……凹部、１２……第１のガラス基板、
１４……画素、１６……画素の配列領域、１８……薄膜
トランジスタ、２０……層間絶縁膜、２２……有機平坦
化膜。
…駆動回路、８……凹部、１２……第１のガラス基板、
１４……画素、１６……画素の配列領域、１８……薄膜
トランジスタ、２０……層間絶縁膜、２２……有機平坦
化膜。
Claims (4)
- 【請求項１】 板面を対向させ間に液晶層を介在させて
配置された第１および第２のガラス基板を含み、前記第
１のガラス基板の前記液晶層側の表面には、それぞれ透
明電極を含む画素が多数密に配列され、前記画素の配列
領域の外側に前記画素の駆動回路が形成され、前記画素
の配列領域および前記駆動回路の上に層間絶縁膜が形成
され、前記層間絶縁膜の上に有機平坦化膜が形成され、
前記第２のガラス基板の前記液晶層側の表面には対向電
極が形成されている液晶表示装置であって、前記駆動回路の外側の前記第１のガラス基板の表面の領
域には前記層間絶縁膜が形成され、 前記駆動回路の外側の領域の前記層間絶縁膜には前記画
素の配列領域および前記駆動回路を内側にして平面視矩
形の枠状の溝が形成され、 前記溝の箇所には該溝の周辺部より厚い前記有機平坦化
膜が形成されている、 ことを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項２】 前記駆動回路は薄膜トランジスタを含む
ことを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。 - 【請求項３】 前記画素の配列領域には各画素ごとに前
記透明電極に接続された薄膜トランジスタが配設されて
いることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。 - 【請求項４】 前記溝の深さは、該溝の周辺部の前記層
間絶縁膜の厚みにほぼ等しいことを特徴とする請求項１
記載の液晶表示装置。
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|---|---|---|---|
| JP2000023984A JP3351774B2 (ja) | 2000-02-01 | 2000-02-01 | 液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000023984A JP3351774B2 (ja) | 2000-02-01 | 2000-02-01 | 液晶表示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001215483A JP2001215483A (ja) | 2001-08-10 |
| JP3351774B2 true JP3351774B2 (ja) | 2002-12-03 |
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ID=18550063
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000023984A Expired - Lifetime JP3351774B2 (ja) | 2000-02-01 | 2000-02-01 | 液晶表示装置 |
Country Status (1)
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| JP (1) | JP3351774B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020173053A1 (zh) * | 2019-02-25 | 2020-09-03 | 云谷（固安）科技有限公司 | 阵列基板、其制备方法及显示屏 |
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| JP2006201217A (ja) | 2005-01-18 | 2006-08-03 | Seiko Epson Corp | 配線基板、電気光学装置及び電子機器 |
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| CN104600029B (zh) * | 2015-01-16 | 2017-10-17 | 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 | 一种柔性显示装置及其制作方法 |
-
2000
- 2000-02-01 JP JP2000023984A patent/JP3351774B2/ja not_active Expired - Lifetime
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