JP3347671B2 - 高濃度オゾン水製造装置 - Google Patents
高濃度オゾン水製造装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、オゾンを高濃度化
することができるオゾン水製造装置に関し、例えばオゾ
ン水による精密部品の洗浄や、シリコンウエハーのフォ
トレジストをストリップする洗浄等に必要となる超高濃
度オゾン水の製造に特に好都合に利用される。
することができるオゾン水製造装置に関し、例えばオゾ
ン水による精密部品の洗浄や、シリコンウエハーのフォ
トレジストをストリップする洗浄等に必要となる超高濃
度オゾン水の製造に特に好都合に利用される。
【０００２】
【従来の技術】近年電子部品の洗浄等に使用するオゾン
水の高濃度化の要請が高まり、高濃度オゾンガス発生装
置が出現し、このオゾンガスによって高濃度オゾン水を
製造できるようになってきている。しかしながら、この
ような高濃度オゾンガス発生装置によっても、常温で製
造可能なオゾン水の濃度としては３０〜３５ｐｐｍ程度
が限界である。一方、水温を０〜５℃程度まで下げれ
ば、オゾンガスの溶解度を７０〜８０ｐｐｍ程度の超高
濃度まで高めることができるが、その場合には、多大な
熱量を取り去るための冷凍機が必要になり、装置が複雑
化すると共にコストが高くなる。又、オゾン水の製造の
ためのエネルギーコストも高くなる。
水の高濃度化の要請が高まり、高濃度オゾンガス発生装
置が出現し、このオゾンガスによって高濃度オゾン水を
製造できるようになってきている。しかしながら、この
ような高濃度オゾンガス発生装置によっても、常温で製
造可能なオゾン水の濃度としては３０〜３５ｐｐｍ程度
が限界である。一方、水温を０〜５℃程度まで下げれ
ば、オゾンガスの溶解度を７０〜８０ｐｐｍ程度の超高
濃度まで高めることができるが、その場合には、多大な
熱量を取り去るための冷凍機が必要になり、装置が複雑
化すると共にコストが高くなる。又、オゾン水の製造の
ためのエネルギーコストも高くなる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は従来技術に於
ける上記問題を解決し、簡単な構成で低コストで高濃度
オゾン水を製造できると共に、精密電子部品等の洗浄に
必要な超高濃度オゾン水の製造も可能なオゾン水製造装
置を提供することを課題とする。
ける上記問題を解決し、簡単な構成で低コストで高濃度
オゾン水を製造できると共に、精密電子部品等の洗浄に
必要な超高濃度オゾン水の製造も可能なオゾン水製造装
置を提供することを課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、請求項１の発明は、オゾンを含むガスが入
れられるガス入口と前記ガスを溶解する原料水が入れら
れる水入口と前記ガスのうち前記原料水に溶解したガス
を除く残部ガスが出されるガス出口と前記ガスが溶解し
た後の前記原料水であるオゾン水が出るオゾン水出口と
を備え順番に設けられて前記原料水と前記オゾンとの接
触によって前記オゾン水が得られるようにされた複数の
気液接触装置であって前記順番に水量が少なくなるよう
に前記水入口に前記原料水が入れられる気液接触装置
と、オゾン水入口と気散ガス出口と気散後のオゾン水が
出る気散後水出口とを備え前記順番の間に設けられて前
記オゾン水からオゾンを気散させる気散装置であって前
記オゾン水入口は前順位の前記気液接触装置の前記オゾ
ン水出口に接続されると共に前記気散ガス出口は後順位
の前記気液接触装置の前記ガス入口に接続される気散装
置とを有することを特徴とする。
するために、請求項１の発明は、オゾンを含むガスが入
れられるガス入口と前記ガスを溶解する原料水が入れら
れる水入口と前記ガスのうち前記原料水に溶解したガス
を除く残部ガスが出されるガス出口と前記ガスが溶解し
た後の前記原料水であるオゾン水が出るオゾン水出口と
を備え順番に設けられて前記原料水と前記オゾンとの接
触によって前記オゾン水が得られるようにされた複数の
気液接触装置であって前記順番に水量が少なくなるよう
に前記水入口に前記原料水が入れられる気液接触装置
と、オゾン水入口と気散ガス出口と気散後のオゾン水が
出る気散後水出口とを備え前記順番の間に設けられて前
記オゾン水からオゾンを気散させる気散装置であって前
記オゾン水入口は前順位の前記気液接触装置の前記オゾ
ン水出口に接続されると共に前記気散ガス出口は後順位
の前記気液接触装置の前記ガス入口に接続される気散装
置とを有することを特徴とする。
【０００５】請求項２の発明は、上記に加えて、前記複
数が２であると共に、前記順番の最初の気液接触装置に
は固体高分子電解質膜を使用した電解式オゾン発生装置
で製造されたオゾンが入れられることを特徴とする。
数が２であると共に、前記順番の最初の気液接触装置に
は固体高分子電解質膜を使用した電解式オゾン発生装置
で製造されたオゾンが入れられることを特徴とする。
【０００６】請求項３の発明は、請求項１の発明の特徴
に加えて、前記気散後水出口は該気散後水出口を備えた
前記気散装置の前後の前記気液接触装置の前記水入口に
接続されることを特徴とする。
に加えて、前記気散後水出口は該気散後水出口を備えた
前記気散装置の前後の前記気液接触装置の前記水入口に
接続されることを特徴とする。
【０００７】
【発明の実施の形態】図１は本発明を適用したオゾン水
製造装置の全体構成の一例を示す。本例の装置は、順番
に設けられた複数の気液接触装置として２基の気液接触
装置１1 及び１2 とこれらの順番の間に設けられた１基
の気散装置２とを主要部として構成されている。
製造装置の全体構成の一例を示す。本例の装置は、順番
に設けられた複数の気液接触装置として２基の気液接触
装置１1 及び１2 とこれらの順番の間に設けられた１基
の気散装置２とを主要部として構成されている。
【０００８】気液接触装置１1 及び１2 は、それぞれ、
オゾンを含むガスが入れられるガス入口１１、ガスを溶
解する原料水が入れられる水入口１２、ガスのうち原料
水に溶解したガスを除く残部ガスが出されるガス出口１
３、ガスが溶解した後の原料水であるオゾン水の出るオ
ゾン水出口１４、等を備えていて、通常の装置と同様
に、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）等のフッ
素樹脂から成る多孔質チューブ１５、これを支持する両
端の管板１６、両端の原料水入口室１７及びオゾン水出
口室１８等から成る内部構造部分を有する。この装置で
は、多孔質チューブ１５が水とガスとを分離しつつ両者
を接触させ、それによってオゾン水が得られるようにな
っている。水入口１２には、順番に水量が少なくなるよ
うに、即ち気液接触装置１1 よりも１2 に対して流入水
量が少なくなるように原料水が入れられる。
オゾンを含むガスが入れられるガス入口１１、ガスを溶
解する原料水が入れられる水入口１２、ガスのうち原料
水に溶解したガスを除く残部ガスが出されるガス出口１
３、ガスが溶解した後の原料水であるオゾン水の出るオ
ゾン水出口１４、等を備えていて、通常の装置と同様
に、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）等のフッ
素樹脂から成る多孔質チューブ１５、これを支持する両
端の管板１６、両端の原料水入口室１７及びオゾン水出
口室１８等から成る内部構造部分を有する。この装置で
は、多孔質チューブ１５が水とガスとを分離しつつ両者
を接触させ、それによってオゾン水が得られるようにな
っている。水入口１２には、順番に水量が少なくなるよ
うに、即ち気液接触装置１1 よりも１2 に対して流入水
量が少なくなるように原料水が入れられる。
【０００９】気散装置２は、オゾン水入口２１、気散ガ
ス出口２２、気散後のオゾン水が出る気散後水出口２
３、等を備えていて、通常の装置と同様に、気散室２
４、この中に配設された散水管２５、水の表面積を拡大
するようにセラミックの短管等の充填された充填層２
６、貯留部２７等から成る内部構造部分を有し、オゾン
水中に溶解しているオゾンが効果的に気散される。オゾ
ン水入口２１は前順位の気液接触装置１1 のオゾン水出
口１４に接続され、気散ガス出口２２は後順位の気液接
触装置１2 のガス入口１１に接続されている。
ス出口２２、気散後のオゾン水が出る気散後水出口２
３、等を備えていて、通常の装置と同様に、気散室２
４、この中に配設された散水管２５、水の表面積を拡大
するようにセラミックの短管等の充填された充填層２
６、貯留部２７等から成る内部構造部分を有し、オゾン
水中に溶解しているオゾンが効果的に気散される。オゾ
ン水入口２１は前順位の気液接触装置１1 のオゾン水出
口１４に接続され、気散ガス出口２２は後順位の気液接
触装置１2 のガス入口１１に接続されている。
【００１０】順番が最初の気液接触装置１1 のガス入口
１１には、本例では、固体高分子電解質膜を使用した電
解式オゾン発生装置で製造されたオゾンガスが入れられ
る。この電解式オゾン発生装置は周知の構造のものであ
り図示を省略するが、この装置によれば、例えば２００
ｇ／Ｎｍ3 程度の高濃度のオゾンガスを発生させること
ができる。
１１には、本例では、固体高分子電解質膜を使用した電
解式オゾン発生装置で製造されたオゾンガスが入れられ
る。この電解式オゾン発生装置は周知の構造のものであ
り図示を省略するが、この装置によれば、例えば２００
ｇ／Ｎｍ3 程度の高濃度のオゾンガスを発生させること
ができる。
【００１１】又本例では、気散後水出口２３はこれを備
えた気散装置２の前後の気液接触装置１1 及び１2 の水
入口１２に接続される。そして、それぞれの接続管系に
は気散後水出口２３から出た気散後のオゾン水を定量的
に分配できる大ポンプ３及び小ポンプ４が設けられてい
る。符号５は気散装置２の気散ガスを吸引するガスポン
プである。
えた気散装置２の前後の気液接触装置１1 及び１2 の水
入口１２に接続される。そして、それぞれの接続管系に
は気散後水出口２３から出た気散後のオゾン水を定量的
に分配できる大ポンプ３及び小ポンプ４が設けられてい
る。符号５は気散装置２の気散ガスを吸引するガスポン
プである。
【００１２】以上のようなオゾン水製造装置は、各部の
流体の流量や濃度等が例えば図２に示す諸条件になるよ
うに運転され、それによって最終的に超高濃度オゾン水
が製造される。気液接触装置１1 のガス入口１１には、
原料ガスとして流量６０ｇ／ｈから成り前記の如く２０
０ｇ／Ｎｍ3 の高濃度オゾンガス及び酸素で構成される
混合ガスが導入される。このガスのオゾン及び酸素のモ
ル分率はそれぞれ約１０％及び９０％である。混合ガス
中のそれぞれの気体の水に対する溶解度は、水温に対応
してそれぞれの気体のみのときの溶解度及びそれぞれの
気体の分圧、従って体積比又はモル分率によって定ま
る。その結果、前記のような高濃度オゾンガスでは、２
０℃におけるオゾン及び酸素の飽和溶解度はそれぞれ約
４０ｐｐｍ及び５０ｐｐｍになる。このようにモル分率
に較べてオゾンの飽和溶解度が大幅に大きくなっている
のは、オゾンが酸素に較べて極めて水に溶け易いためで
ある。
流体の流量や濃度等が例えば図２に示す諸条件になるよ
うに運転され、それによって最終的に超高濃度オゾン水
が製造される。気液接触装置１1 のガス入口１１には、
原料ガスとして流量６０ｇ／ｈから成り前記の如く２０
０ｇ／Ｎｍ3 の高濃度オゾンガス及び酸素で構成される
混合ガスが導入される。このガスのオゾン及び酸素のモ
ル分率はそれぞれ約１０％及び９０％である。混合ガス
中のそれぞれの気体の水に対する溶解度は、水温に対応
してそれぞれの気体のみのときの溶解度及びそれぞれの
気体の分圧、従って体積比又はモル分率によって定ま
る。その結果、前記のような高濃度オゾンガスでは、２
０℃におけるオゾン及び酸素の飽和溶解度はそれぞれ約
４０ｐｐｍ及び５０ｐｐｍになる。このようにモル分率
に較べてオゾンの飽和溶解度が大幅に大きくなっている
のは、オゾンが酸素に較べて極めて水に溶け易いためで
ある。
【００１３】一方、気液接触装置１1 の水入口１２には
原料水が導入されるが、本例では、この原料水は、外部
から供給され製造されるべき超高濃度オゾン水の水量に
相当する原料純水２Ｌ／ｍｉｎ．及び気散装置２の気散
後水出口２３から大ポンプ３を介して導入される循環水
８Ｌ／ｍｉｎ．の混合した原料水１０Ｌ／ｍｉｎ．であ
る。なお、循環水は後述するようにオゾン１０ｐｐｍ及
び酸素１３ｐｐｍから成るオゾン水である。従って、原
料水もこれに比較的近い濃度のオゾン水になっている。
原料水が導入されるが、本例では、この原料水は、外部
から供給され製造されるべき超高濃度オゾン水の水量に
相当する原料純水２Ｌ／ｍｉｎ．及び気散装置２の気散
後水出口２３から大ポンプ３を介して導入される循環水
８Ｌ／ｍｉｎ．の混合した原料水１０Ｌ／ｍｉｎ．であ
る。なお、循環水は後述するようにオゾン１０ｐｐｍ及
び酸素１３ｐｐｍから成るオゾン水である。従って、原
料水もこれに比較的近い濃度のオゾン水になっている。
【００１４】以上のように気液接触装置１1 に高濃度オ
ゾンガス及び酸素と原料水とが導入されると、これらが
内部で接触し、気液接触装置の通常のガス溶解特性の下
に、前記のような飽和溶解度に対応してこれにある程度
近い溶解度まで原料水中にガスが溶解する。その結果、
オゾン及び酸素の溶解度がそれぞれ３０ｐｐｍ及び４０
ｐｐｍ程度になり、原料水は高濃度オゾン水となってオ
ゾン水出口１４から取り出される。
ゾンガス及び酸素と原料水とが導入されると、これらが
内部で接触し、気液接触装置の通常のガス溶解特性の下
に、前記のような飽和溶解度に対応してこれにある程度
近い溶解度まで原料水中にガスが溶解する。その結果、
オゾン及び酸素の溶解度がそれぞれ３０ｐｐｍ及び４０
ｐｐｍ程度になり、原料水は高濃度オゾン水となってオ
ゾン水出口１４から取り出される。
【００１５】この高濃度オゾン水は気散装置２に導入さ
れ、散水管２５から噴射されて充填層２６の充填材の表
面を流下し、貯留部２７に貯留されつつ気散後水出口２
３から排出されると共に、内部で表面積を拡大された高
濃度オゾン水からオゾン及び酸素がほぼこれらの溶解度
に対応した量だけ気散し、ガスポンプ５で吸引されて気
液接触装置１2 のガス入口１１に再び原料ガスとして導
入される。この気散ガスは、オゾンのモル分率がほぼ３
３％という超高濃度オゾンガスになっている。その結
果、このガスにおける水に対するオゾンの飽和溶解度は
１３０ｐｐｍにも達する。
れ、散水管２５から噴射されて充填層２６の充填材の表
面を流下し、貯留部２７に貯留されつつ気散後水出口２
３から排出されると共に、内部で表面積を拡大された高
濃度オゾン水からオゾン及び酸素がほぼこれらの溶解度
に対応した量だけ気散し、ガスポンプ５で吸引されて気
液接触装置１2 のガス入口１１に再び原料ガスとして導
入される。この気散ガスは、オゾンのモル分率がほぼ３
３％という超高濃度オゾンガスになっている。その結
果、このガスにおける水に対するオゾンの飽和溶解度は
１３０ｐｐｍにも達する。
【００１６】一方、気散装置２においても、気散効率に
対応して一部分のガスは気散することなく水中に残留
し、気散後水出口２３からそのようなガスを含んだオゾ
ン水として排出される。そしてこのオゾン水は、前述の
如く前順位の水入口１２に循環水として導入されると共
に、原料水として後順位の気液接触装置１2 の水入口１
２に小ポンプ４によって２Ｌ／ｍｉｎ．の流量で供給さ
れる。この２Ｌ／ｍｉｎ．は気液接触装置１1 に対する
原料水より少なくなっている。これは、ガス出口１３か
ら一部分の不溶解オゾンを排出しつつオゾン水を目的と
する超高濃度にするためである。
対応して一部分のガスは気散することなく水中に残留
し、気散後水出口２３からそのようなガスを含んだオゾ
ン水として排出される。そしてこのオゾン水は、前述の
如く前順位の水入口１２に循環水として導入されると共
に、原料水として後順位の気液接触装置１2 の水入口１
２に小ポンプ４によって２Ｌ／ｍｉｎ．の流量で供給さ
れる。この２Ｌ／ｍｉｎ．は気液接触装置１1 に対する
原料水より少なくなっている。これは、ガス出口１３か
ら一部分の不溶解オゾンを排出しつつオゾン水を目的と
する超高濃度にするためである。
【００１７】このように超高濃度オゾンガス及びオゾン
水がそれぞれガス入口１１及び水入口１２から導入され
た気液接触装置１2 では、両者の接触により、オゾン濃
度７０ｐｐｍという超高濃度オゾン水が生成し、上記２
Ｌ／ｍｉｎ．の流量でオゾン水出口１４から取り出され
る。
水がそれぞれガス入口１１及び水入口１２から導入され
た気液接触装置１2 では、両者の接触により、オゾン濃
度７０ｐｐｍという超高濃度オゾン水が生成し、上記２
Ｌ／ｍｉｎ．の流量でオゾン水出口１４から取り出され
る。
【００１８】図３は本発明のオゾン水製造装置の他の構
成例を示す。本例の装置は、図１の装置に較べて、気液
接触装置が１1 から１3 まで１基多いことと、気散装置
２が２1 及び２2 の２基で構成されている点が相違す
る。図１の装置の使用例で説明したように、気液接触装
置１1 のガス入口１１に供給する原料ガスとして２００
ｇ／Ｎｍ3 のような極めて高濃度のオゾンガスを使用す
れば、気液接触装置２基で構成したオゾン水製造装置で
超高濃度オゾン水を製造ことができ、装置構成を簡単且
つ安価なものにすることができる。しかし、本例の装置
のように３基の気液接触装置を持つオゾン水製造装置で
は、例えば放電法によるオゾン製造装置において酸素を
原料として得られる８０〜１２０ｇ／Ｎｍ3 程度のオゾ
ンガスのように、原料ガスがある程度低い濃度であって
も、超高濃度オゾン水を製造することが可能になる。な
お本例でも、気液接触装置１1 以下の１2 、１3 では、
順次オゾンが高濃度化するので、水入口１２に入れられ
る原料水は例えば図示の如く順次減少した量になる。
成例を示す。本例の装置は、図１の装置に較べて、気液
接触装置が１1 から１3 まで１基多いことと、気散装置
２が２1 及び２2 の２基で構成されている点が相違す
る。図１の装置の使用例で説明したように、気液接触装
置１1 のガス入口１１に供給する原料ガスとして２００
ｇ／Ｎｍ3 のような極めて高濃度のオゾンガスを使用す
れば、気液接触装置２基で構成したオゾン水製造装置で
超高濃度オゾン水を製造ことができ、装置構成を簡単且
つ安価なものにすることができる。しかし、本例の装置
のように３基の気液接触装置を持つオゾン水製造装置で
は、例えば放電法によるオゾン製造装置において酸素を
原料として得られる８０〜１２０ｇ／Ｎｍ3 程度のオゾ
ンガスのように、原料ガスがある程度低い濃度であって
も、超高濃度オゾン水を製造することが可能になる。な
お本例でも、気液接触装置１1 以下の１2 、１3 では、
順次オゾンが高濃度化するので、水入口１２に入れられ
る原料水は例えば図示の如く順次減少した量になる。
【００１９】図４は本発明のオゾン水製造装置の更に他
の構成例を示す。本例の装置は、図１の装置に較べて、
気散後水出口２３から排出されたオゾン水を利用するこ
となく、気液接触装置１1 及び１2 の水入口１２に新た
な原料水を供給する例を示す。原料水として純水を使用
しないような場合には、本例の如く原料水供給系を独立
にして、ポンプを省略する等によって配管系を簡素化す
ることも可能である。
の構成例を示す。本例の装置は、図１の装置に較べて、
気散後水出口２３から排出されたオゾン水を利用するこ
となく、気液接触装置１1 及び１2 の水入口１２に新た
な原料水を供給する例を示す。原料水として純水を使用
しないような場合には、本例の如く原料水供給系を独立
にして、ポンプを省略する等によって配管系を簡素化す
ることも可能である。
【００２０】
【発明の効果】以上の如く本発明によれば、請求項１の
発明においては、順番に設けられた気液接触装置の間に
気散装置を設け、前順位の気液接触装置のオゾン水出口
を気散装置のオゾン水入口に接続すると共に気散装置の
気散ガス出口を後順位の気液接触装置のガス入口に接続
するので、気液接触装置でオゾンを含むガスとして例え
ばオゾンと酸素との混合ガスを溶解させたオゾン水を気
散装置に供給することができる。この場合のオゾン及び
酸素の水に対する飽和溶解度は、水温に対応したオゾン
又は酸素だけのときの溶解度と混合ガスにおけるオゾン
及び酸素の分圧従ってモル分率とによって定まる。この
場合、オゾンは酸素よりはるかに水に溶け易いため、オ
ゾン水中のオゾンの溶解度は酸素との関係においてモル
分率よりも大幅に高い飽和溶解度になる。そして、オゾ
ン及び酸素は気液接触装置においてそれぞれの飽和溶解
度にある程度近い溶解度まで溶解することになる。
発明においては、順番に設けられた気液接触装置の間に
気散装置を設け、前順位の気液接触装置のオゾン水出口
を気散装置のオゾン水入口に接続すると共に気散装置の
気散ガス出口を後順位の気液接触装置のガス入口に接続
するので、気液接触装置でオゾンを含むガスとして例え
ばオゾンと酸素との混合ガスを溶解させたオゾン水を気
散装置に供給することができる。この場合のオゾン及び
酸素の水に対する飽和溶解度は、水温に対応したオゾン
又は酸素だけのときの溶解度と混合ガスにおけるオゾン
及び酸素の分圧従ってモル分率とによって定まる。この
場合、オゾンは酸素よりはるかに水に溶け易いため、オ
ゾン水中のオゾンの溶解度は酸素との関係においてモル
分率よりも大幅に高い飽和溶解度になる。そして、オゾ
ン及び酸素は気液接触装置においてそれぞれの飽和溶解
度にある程度近い溶解度まで溶解することになる。
【００２１】気散装置のオゾン水入口に入れられた上記
のようなオゾン水は、気散装置において気散作用を受
け、オゾン及び酸素はほぼオゾン水中の溶解度に対応し
た量だけ気散ずる。その結果、気散ガス中のオゾンのモ
ル分率は最初に気液接触装置のガス入口に入れられたガ
ス中のモル分率よりも大幅に大きくなっている。
のようなオゾン水は、気散装置において気散作用を受
け、オゾン及び酸素はほぼオゾン水中の溶解度に対応し
た量だけ気散ずる。その結果、気散ガス中のオゾンのモ
ル分率は最初に気液接触装置のガス入口に入れられたガ
ス中のモル分率よりも大幅に大きくなっている。
【００２２】このような気散ガスは気散装置の気散ガス
出口から後順位の気液接触装置のガス入口に入れられ、
前順位の気液接触装置のときと同様に溶解作用を受け
る。この場合、後順位の気液接触装置の水入口には、オ
ゾンを高濃度に溶解できるように前順位の水入口よりも
少ない水量の原料水が入れられる。そして、オゾンのモ
ル分率が大幅に大きくなっていることと、酸素よりもオ
ゾンが水に溶け易いことから、オゾンの飽和溶解度が大
幅に高くなっている。その結果、後順位の気液接触装置
では濃度が十分高くなったオゾン水を得ることができ
る。
出口から後順位の気液接触装置のガス入口に入れられ、
前順位の気液接触装置のときと同様に溶解作用を受け
る。この場合、後順位の気液接触装置の水入口には、オ
ゾンを高濃度に溶解できるように前順位の水入口よりも
少ない水量の原料水が入れられる。そして、オゾンのモ
ル分率が大幅に大きくなっていることと、酸素よりもオ
ゾンが水に溶け易いことから、オゾンの飽和溶解度が大
幅に高くなっている。その結果、後順位の気液接触装置
では濃度が十分高くなったオゾン水を得ることができ
る。
【００２３】以下このような作用が繰り返えされること
により、順次濃度の高いオゾン水を得て、必要に応じて
超高濃度のオゾン水を製造することができる。なお、放
電法によるオゾン製造の場合には、酸素を原料とすれ
ば、オゾン濃度が８０〜１２０ｇ／Ｎｍ3 程度のオゾン
ガスが得られるので、上記のような作用を繰り返すこと
によって超高濃度オゾン水を製造することができる。
により、順次濃度の高いオゾン水を得て、必要に応じて
超高濃度のオゾン水を製造することができる。なお、放
電法によるオゾン製造の場合には、酸素を原料とすれ
ば、オゾン濃度が８０〜１２０ｇ／Ｎｍ3 程度のオゾン
ガスが得られるので、上記のような作用を繰り返すこと
によって超高濃度オゾン水を製造することができる。
【００２４】このようなオゾン水製造装置によれば、高
濃度オゾン水の製造に当たって低温の水を用いる必要が
ない。その結果、冷凍機等の冷却手段を用いる必要がな
くなり、オゾン水製造装置の全体構成を簡単にしてコス
トの安い装置にすることができる。又、高濃度のオゾン
水の製造に当たって冷凍機の電力等のエネルギーコスト
が不要になる。
濃度オゾン水の製造に当たって低温の水を用いる必要が
ない。その結果、冷凍機等の冷却手段を用いる必要がな
くなり、オゾン水製造装置の全体構成を簡単にしてコス
トの安い装置にすることができる。又、高濃度のオゾン
水の製造に当たって冷凍機の電力等のエネルギーコスト
が不要になる。
【００２５】請求項２の発明においては、気液接触装置
を２基設けてその間に気散装置を設けると共に、最初の
順番のガス入口には固体高分子電解質膜を使用した電解
式オゾン発生装置で製造されたオゾンガスが入れられる
ので、最も簡単な構成で超高濃度オゾン水を製造するこ
とができる。即ち、固体高分子電解質膜を使用した電解
式オゾン発生装置では例えば２００ｇ／Ｎｍ3 程度の極
めて高濃度のオゾンガスを発生させられるので、これを
原料ガスにすることにより、最初にオゾン化する第１気
１接触装置、気散ガス化してオゾンのモル分率を高める
第１気散装置、及びモル分率の高くなったオゾンガスを
オゾン水化する第２気液接触装置、という最小の処理及
び装置構成の下に、効率良く超高濃度オゾン水を製造す
ることができる。
を２基設けてその間に気散装置を設けると共に、最初の
順番のガス入口には固体高分子電解質膜を使用した電解
式オゾン発生装置で製造されたオゾンガスが入れられる
ので、最も簡単な構成で超高濃度オゾン水を製造するこ
とができる。即ち、固体高分子電解質膜を使用した電解
式オゾン発生装置では例えば２００ｇ／Ｎｍ3 程度の極
めて高濃度のオゾンガスを発生させられるので、これを
原料ガスにすることにより、最初にオゾン化する第１気
１接触装置、気散ガス化してオゾンのモル分率を高める
第１気散装置、及びモル分率の高くなったオゾンガスを
オゾン水化する第２気液接触装置、という最小の処理及
び装置構成の下に、効率良く超高濃度オゾン水を製造す
ることができる。
【００２６】請求項３の発明においては、気散装置の前
後の気液接触装置の水入口に気散後水出口を接続するの
で、水入口に供給する原料水として既にある程度オゾン
が溶解したオゾン水を用いることができる。その結果、
高濃度のオゾン水を一層容易に製造することができる。
後の気液接触装置の水入口に気散後水出口を接続するの
で、水入口に供給する原料水として既にある程度オゾン
が溶解したオゾン水を用いることができる。その結果、
高濃度のオゾン水を一層容易に製造することができる。
【図１】本発明を適用したオゾン水製造装置の全体構成
の一例を示す説明図である。
の一例を示す説明図である。
【図２】上記装置の運転状態を示す説明図である。
【図３】本発明を適用したオゾン水製造装置の他の例の
概略構成を示す説明図である。
概略構成を示す説明図である。
【図４】本発明を適用したオゾン水製造装置の更に他の
例の概略構成を示す説明図である。
例の概略構成を示す説明図である。
１1 、１2 、１3 気液接触装置 ２、２1 、２2 気散装置 １１ ガス入口 １２ 水入口 １３ ガス出口 １４ オゾン水出口 ２１ オゾン水入口 ２２ 気散ガス出口 ２３ 気散後水出口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C02F 1/78 C02F 1/50 C01B 13/00 B01F 1/00
Claims (3)
- 【請求項１】 オゾンを含むガスが入れられるガス入口
と前記ガスを溶解する原料水が入れられる水入口と前記
ガスのうち前記原料水に溶解したガスを除く残部ガスが
出されるガス出口と前記ガスが溶解した後の前記原料水
であるオゾン水が出るオゾン水出口とを備え順番に設け
られて前記原料水と前記オゾンとの接触によって前記オ
ゾン水が得られるようにされた複数の気液接触装置であ
って前記順番に水量が少なくなるように前記水入口に前
記原料水が入れられる気液接触装置と、オゾン水入口と
気散ガス出口と気散後のオゾン水が出る気散後水出口と
を備え前記順番の間に設けられて前記オゾン水からオゾ
ンを気散させる気散装置であって前記オゾン水入口は前
順位の前記気液接触装置の前記オゾン水出口に接続され
ると共に前記気散ガス出口は後順位の前記気液接触装置
の前記ガス入口に接続される気散装置とを有することを
特徴とするオゾン水製造装置。 - 【請求項２】 前記複数が２であると共に、前記順番の
最初の気液接触装置には固体高分子電解質膜を使用した
電解式オゾン発生装置で製造されたオゾンが入れられる
ことを特徴とする請求項１に記載のオゾン水製造装置。 - 【請求項３】 前記気散後水出口は該気散後水出口を備
えた前記気散装置の前後の前記気液接触装置の前記水入
口に接続されることを特徴とする請求項１に記載のオゾ
ン水製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21480098A JP3347671B2 (ja) | 1998-07-13 | 1998-07-13 | 高濃度オゾン水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21480098A JP3347671B2 (ja) | 1998-07-13 | 1998-07-13 | 高濃度オゾン水製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000024676A JP2000024676A (ja) | 2000-01-25 |
| JP3347671B2 true JP3347671B2 (ja) | 2002-11-20 |
Family
ID=16661744
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21480098A Expired - Fee Related JP3347671B2 (ja) | 1998-07-13 | 1998-07-13 | 高濃度オゾン水製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3347671B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110898248A (zh) * | 2019-12-26 | 2020-03-24 | 张良建 | 垃圾房杀菌除臭装置 |
-
1998
- 1998-07-13 JP JP21480098A patent/JP3347671B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000024676A (ja) | 2000-01-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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