JP3343969B2 - 多点位置測定装置と多点位置測定方法と固体撮像素子の製造方法 - Google Patents
多点位置測定装置と多点位置測定方法と固体撮像素子の製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、多点位置測定装置、特
に複数の被測定点の位置を迅速に測定することのできる
新規な多点位置測定装置と、多点位置測定方法と、その
方法による多点測定を行う工程を少なくとも有する固体
撮像素子の製造方法に関する。
に複数の被測定点の位置を迅速に測定することのできる
新規な多点位置測定装置と、多点位置測定方法と、その
方法による多点測定を行う工程を少なくとも有する固体
撮像素子の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】固体撮像装置は、パッケージに対して固
体撮像素子の表面が正確な向きになっていることが必要
であり、そのため、ダイボンディング後その固体撮像素
子表面のアオリを測定することが不可欠である。
体撮像素子の表面が正確な向きになっていることが必要
であり、そのため、ダイボンディング後その固体撮像素
子表面のアオリを測定することが不可欠である。
【０００３】そのアオリの測定は、従来においては、固
体撮像素子の四つの隅角部近傍を順次フォーカス方式に
より位置検出するという方法で行われた。図３はフォー
カス方式の原理説明図であり、これは合焦の場合（図３
の上部）と後ピン（図３の中部）あるいは前ピン（図３
の下部）の場合とで同じ測定用光ビームの被測定点から
の戻り光のフォトデテクタによる検出光量が異なり、合
焦になる程検出光量が大きくなることを利用している。
具体的には、光学系に対するフォトデテクタの位置を制
御する図示しない制御機構を備え、フォトデテクタの検
出光量が常に最大になるようにフォトデテクタの位置を
制御して合焦状態をつくるようにされ、そして、フォト
デテクタの合焦時における位置と現在の位置とのずれか
ら被測定点の光軸方向における位置を判定するようにな
っている。
体撮像素子の四つの隅角部近傍を順次フォーカス方式に
より位置検出するという方法で行われた。図３はフォー
カス方式の原理説明図であり、これは合焦の場合（図３
の上部）と後ピン（図３の中部）あるいは前ピン（図３
の下部）の場合とで同じ測定用光ビームの被測定点から
の戻り光のフォトデテクタによる検出光量が異なり、合
焦になる程検出光量が大きくなることを利用している。
具体的には、光学系に対するフォトデテクタの位置を制
御する図示しない制御機構を備え、フォトデテクタの検
出光量が常に最大になるようにフォトデテクタの位置を
制御して合焦状態をつくるようにされ、そして、フォト
デテクタの合焦時における位置と現在の位置とのずれか
ら被測定点の光軸方向における位置を判定するようにな
っている。
【０００４】そして、アオリの測定に必要な複数箇所の
測定は、図４に示すように１箇所の位置検出が済む毎に
被測定物を載せたＸＹテーブルを移動して測定用光ビー
ムの光軸上に次に測定する被測定点が位置するようにし
て測定するということを繰返すことによって行ってい
た。従って、被測定物を載置するベース上には必ずＸ、
Ｙ（更にはθ）方向の位置決めをするテーブルが必要で
あった。
測定は、図４に示すように１箇所の位置検出が済む毎に
被測定物を載せたＸＹテーブルを移動して測定用光ビー
ムの光軸上に次に測定する被測定点が位置するようにし
て測定するということを繰返すことによって行ってい
た。従って、被測定物を載置するベース上には必ずＸ、
Ｙ（更にはθ）方向の位置決めをするテーブルが必要で
あった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来におい
ては１箇所の位置検出が済む毎に被測定物を載せたＸＹ
テーブルを移動して被測定点の位置合せすることが必要
なので一つの固体撮像素子のアオリ測定に要する時間が
非常に長くなるという問題があった。具体的には約２５
秒かかるのが実状であった。そして、固体撮像装置の組
立用ラインにアオリ測定工程を組み込むにはその測定時
間を数秒にとどめなければならないので、測定時間が２
５秒にもなることはアオリ測定のインライン化を阻むこ
とになり、生産性向上の妨げになっていた。
ては１箇所の位置検出が済む毎に被測定物を載せたＸＹ
テーブルを移動して被測定点の位置合せすることが必要
なので一つの固体撮像素子のアオリ測定に要する時間が
非常に長くなるという問題があった。具体的には約２５
秒かかるのが実状であった。そして、固体撮像装置の組
立用ラインにアオリ測定工程を組み込むにはその測定時
間を数秒にとどめなければならないので、測定時間が２
５秒にもなることはアオリ測定のインライン化を阻むこ
とになり、生産性向上の妨げになっていた。
【０００６】本発明はこのような問題点を解決すべく為
されたものであり、一つの被測定物に対する被測定点が
複数ある場合における測定時間の短縮を図り、被測定点
の測定用光ビームに対する位置制御の精度を高くするこ
とを目的とする。
されたものであり、一つの被測定物に対する被測定点が
複数ある場合における測定時間の短縮を図り、被測定点
の測定用光ビームに対する位置制御の精度を高くするこ
とを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１の多点位置測定
装置は、光源から発生した測定用光ビームをビーム分割
手段により分割して互いに位置が異なる複数の被測定点
に照射し、その各被測定点からの戻り光を上記ビーム分
割手段により一つのフォトデテクタに入射するように
し、更に、上記各被測定点に対応してそこへの測定用光
ビームの入射を許容したり阻んだりするシャッターを設
け、上記フォトデテクタにより各被測定点の位置測定を
時分割で行うようにしたことを特徴とする。
装置は、光源から発生した測定用光ビームをビーム分割
手段により分割して互いに位置が異なる複数の被測定点
に照射し、その各被測定点からの戻り光を上記ビーム分
割手段により一つのフォトデテクタに入射するように
し、更に、上記各被測定点に対応してそこへの測定用光
ビームの入射を許容したり阻んだりするシャッターを設
け、上記フォトデテクタにより各被測定点の位置測定を
時分割で行うようにしたことを特徴とする。
【０００８】請求項２の多点位置測定方法は、光源から
発生させた測定用ビームを複数の光ビームに分割して互
いに異なる被測定点に照射し、該各被測定点に照射され
た上記測定用光ビームの戻り光を一つのフォトデテクタ
にて時分割で検出して該各被測定点の光軸上における位
置を測定することを特徴とする。請求項３の固体撮像素
子の製造方法は、光源から発生させた測定用ビームを複
数の光ビームに分割して互いに異なる被測定点に照射
し、該各被測定点に照射された上記測定用光ビームの戻
り光を一つのフォトデテクタにて時分割で検出して各被
測定点の光軸上における位置を測定する、多点位置測定
を行う工程を含むことを特徴とする。
発生させた測定用ビームを複数の光ビームに分割して互
いに異なる被測定点に照射し、該各被測定点に照射され
た上記測定用光ビームの戻り光を一つのフォトデテクタ
にて時分割で検出して該各被測定点の光軸上における位
置を測定することを特徴とする。請求項３の固体撮像素
子の製造方法は、光源から発生させた測定用ビームを複
数の光ビームに分割して互いに異なる被測定点に照射
し、該各被測定点に照射された上記測定用光ビームの戻
り光を一つのフォトデテクタにて時分割で検出して各被
測定点の光軸上における位置を測定する、多点位置測定
を行う工程を含むことを特徴とする。
【０００９】
【作用】請求項１の多点位置測定装置によれば、一つの
被測定物の複数の被測定点に対する測定のために被測定
物を移動することが必要でなくなる。従って、測定時間
の短縮を図ることができる。また、ビーム分割手段によ
り分割された各分割測定用光ビーム間の位置関係を高精
度にしておけば、ビーム分割手段に対する被測定物の位
置を正確に位置決めすることによって各分割測定用光ビ
ームの各被測定点に対する位置を同時に正確に位置決め
することができる。
被測定物の複数の被測定点に対する測定のために被測定
物を移動することが必要でなくなる。従って、測定時間
の短縮を図ることができる。また、ビーム分割手段によ
り分割された各分割測定用光ビーム間の位置関係を高精
度にしておけば、ビーム分割手段に対する被測定物の位
置を正確に位置決めすることによって各分割測定用光ビ
ームの各被測定点に対する位置を同時に正確に位置決め
することができる。
【００１０】そして、フォトデテクタの数が１個で済む
ので、多点位置測定装置の構成を簡単にし且つ低価格で
図ることができる。
ので、多点位置測定装置の構成を簡単にし且つ低価格で
図ることができる。
【００１１】請求項２の多点位置測定方法、請求項３の
固体撮像素子の製造方法によれば、一つの被測定物の複
数の被測定点に対する測定のために被測定物を移動する
ことが必要でなくなるので、測定時間の短縮を図ること
ができる。また、複数に分割された各分割測定用光ビー
ム間の位置関係を高精度にしておけば、ビームを分割す
る手段に対する被測定物の位置を正確に位置決めするこ
とによって各分割測定用光ビームの各被測定点に対する
位置を同時に正確に位置決めすることができる。そし
て、フォトデテクタの数が１個で済むので、多点位置測
定に用いる装置の構成を簡単にし且つ低価格で図ること
ができる。
固体撮像素子の製造方法によれば、一つの被測定物の複
数の被測定点に対する測定のために被測定物を移動する
ことが必要でなくなるので、測定時間の短縮を図ること
ができる。また、複数に分割された各分割測定用光ビー
ム間の位置関係を高精度にしておけば、ビームを分割す
る手段に対する被測定物の位置を正確に位置決めするこ
とによって各分割測定用光ビームの各被測定点に対する
位置を同時に正確に位置決めすることができる。そし
て、フォトデテクタの数が１個で済むので、多点位置測
定に用いる装置の構成を簡単にし且つ低価格で図ること
ができる。
【００１２】
【実施例】以下、本発明を図示実施例に従って詳細に説
明する。図１（Ａ）乃至（Ｃ）は本発明多点位置測定装
置の一つの実施例を示すもので、（Ａ）は概略平面図、
（Ｂ）は（Ａ）の矢印Ａに沿って視た矢視図、（Ｃ）は
被測定物載置部を示す側面図である。図面において、１
は測定用光ビームＢを発生する光源、２は測定用光ビー
ムを反射するハーフミラー、３は測定用光ビームＢを平
行光にするコリメータレンズ、４は第１のひし形プリズ
ムで、４ａは反射率５０％ハーフコート面、４ｂは反射
率１００％の内面反射面であり、コリメータレンズ３を
通過した測定用光ビームＢを２つの測定用光ビームＢ
ａ、Ｂｂに分割する。
明する。図１（Ａ）乃至（Ｃ）は本発明多点位置測定装
置の一つの実施例を示すもので、（Ａ）は概略平面図、
（Ｂ）は（Ａ）の矢印Ａに沿って視た矢視図、（Ｃ）は
被測定物載置部を示す側面図である。図面において、１
は測定用光ビームＢを発生する光源、２は測定用光ビー
ムを反射するハーフミラー、３は測定用光ビームＢを平
行光にするコリメータレンズ、４は第１のひし形プリズ
ムで、４ａは反射率５０％ハーフコート面、４ｂは反射
率１００％の内面反射面であり、コリメータレンズ３を
通過した測定用光ビームＢを２つの測定用光ビームＢ
ａ、Ｂｂに分割する。
【００１３】測定用光ビームＢａとＢｂとはハーフコー
ト面４ａと内面反射面４ｂとの距離Ｌだけ平行に離間し
ている。５は第２のひし形プリズムで、５ａ、５ｂは共
に内面反射する全反射面であり、該ひし形プリズム５は
測定用光ビームＢａを測定用光ビームＢｂから更に距離
Ｌだけ離間させる働きをする。６ａ、６ｂは測定用光ビ
ームＢａ、Ｂｂを通すスリット（ピンホール）、７は第
３のひし形プリズムで、２つの測定用光ビームＢａ、Ｂ
ｂを分割して４つの測定用光ビームＢ１、Ｂ２、Ｂ３、
Ｂ４をつくる役割を果す。
ト面４ａと内面反射面４ｂとの距離Ｌだけ平行に離間し
ている。５は第２のひし形プリズムで、５ａ、５ｂは共
に内面反射する全反射面であり、該ひし形プリズム５は
測定用光ビームＢａを測定用光ビームＢｂから更に距離
Ｌだけ離間させる働きをする。６ａ、６ｂは測定用光ビ
ームＢａ、Ｂｂを通すスリット（ピンホール）、７は第
３のひし形プリズムで、２つの測定用光ビームＢａ、Ｂ
ｂを分割して４つの測定用光ビームＢ１、Ｂ２、Ｂ３、
Ｂ４をつくる役割を果す。
【００１４】７ａは第３のひし形プリズム７のハーフコ
ート面で、反射率が５０％であり、測定用光ビームＢ
ａ、Ｂｂの略半分を下方に反射して測定用光ビームＢ
１、Ｂ２をつくる。７ｂはひし形プリズム７の１００％
の反射率を有する内面反射面で、ハーフコート面を透過
した測定用光ビームＢａ、Ｂｂを下方に反射して測定用
光ビームＢ３、Ｂ４をつくる。８は第４のひし形プリズ
ムで、測定用光ビームＢ３、Ｂ４からＸ方向にＬだけ離
間している測定用光ビームＢ１、Ｂ２を更にＸ方向にＬ
離間させる役割を果す。
ート面で、反射率が５０％であり、測定用光ビームＢ
ａ、Ｂｂの略半分を下方に反射して測定用光ビームＢ
１、Ｂ２をつくる。７ｂはひし形プリズム７の１００％
の反射率を有する内面反射面で、ハーフコート面を透過
した測定用光ビームＢａ、Ｂｂを下方に反射して測定用
光ビームＢ３、Ｂ４をつくる。８は第４のひし形プリズ
ムで、測定用光ビームＢ３、Ｂ４からＸ方向にＬだけ離
間している測定用光ビームＢ１、Ｂ２を更にＸ方向にＬ
離間させる役割を果す。
【００１５】９、９、９、９（尚、図面にはそのうちの
２個のみ９、９のみ現われる。）は測定用光ビームＢ
１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４の通過を許容したり阻止したりす
るシャッター、１０、１０、１０、１０はシャッター
９、９、９、９を通過した光を偏光する偏光子、１１、
１１、１１、１１は対物レンズであり、測定用光ビーム
Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４を被測定物（例えばＣＣＤチッ
プ）１２の被測定点１２1、１２2 、１２3 、１２4 に
集束する。尚、被測定点１２1 、１２2 、１２3 、１２
4 の間の位置関係は、ひし形プリズム４、５、７、８の
寸法により決まり、寸法精度の高いひし形プリズムを用
いることにより高い精度で設定することができる。
２個のみ９、９のみ現われる。）は測定用光ビームＢ
１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４の通過を許容したり阻止したりす
るシャッター、１０、１０、１０、１０はシャッター
９、９、９、９を通過した光を偏光する偏光子、１１、
１１、１１、１１は対物レンズであり、測定用光ビーム
Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４を被測定物（例えばＣＣＤチッ
プ）１２の被測定点１２1、１２2 、１２3 、１２4 に
集束する。尚、被測定点１２1 、１２2 、１２3 、１２
4 の間の位置関係は、ひし形プリズム４、５、７、８の
寸法により決まり、寸法精度の高いひし形プリズムを用
いることにより高い精度で設定することができる。
【００１６】１３は回折格子で、ハーフミラー２を透過
した測定用光ビームの戻り光が通るところに配置されて
おり、偏光子１１により偏光された戻り光のみを通す。
１４はフォトデテクタで、回折格子１３を透過した戻り
光を受光する。各被測定点１２1 、１２2 、１２3 、１
２4 に入射した測定用光ビームＢ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４
はそこで反射され、来た光路を戻る。従って、第１乃至
第４のひし形プリズム４、５、７、８により構成された
ビーム分割手段によって４つの戻り光が１つの戻り光に
されてコリメータレンズ３を通り、更にハーフミラー２
を経、回折格子１３を経てフォトデテクタ１４により検
出される。
した測定用光ビームの戻り光が通るところに配置されて
おり、偏光子１１により偏光された戻り光のみを通す。
１４はフォトデテクタで、回折格子１３を透過した戻り
光を受光する。各被測定点１２1 、１２2 、１２3 、１
２4 に入射した測定用光ビームＢ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４
はそこで反射され、来た光路を戻る。従って、第１乃至
第４のひし形プリズム４、５、７、８により構成された
ビーム分割手段によって４つの戻り光が１つの戻り光に
されてコリメータレンズ３を通り、更にハーフミラー２
を経、回折格子１３を経てフォトデテクタ１４により検
出される。
【００１７】フォトデテクタ１４は回折格子１３を通っ
て入射する戻り光の光軸方向に沿って移動可能に設けら
れ、図示しない制御機構により光軸方向における位置の
制御を受けるようにされている。１５は被測定物１２を
載置する載置台である。
て入射する戻り光の光軸方向に沿って移動可能に設けら
れ、図示しない制御機構により光軸方向における位置の
制御を受けるようにされている。１５は被測定物１２を
載置する載置台である。
【００１８】本多点位置測定装置は、４本の分割測定用
光ビームが例えば固体撮像素子等の被測定物にアオリが
ない場合その表面の４個の被測定点に焦点を結ぶように
調整されている。そして、実際に被測定物１２を固定ベ
ース１５に載せ、最初に例えば第１の被測定点１２1 へ
の測定用光ビームＢ１の光路にあるシャッター９のみを
開き、他のシャッター９、９、９を閉じて被測定点１２
1 に対する位置測定を行う。具体的にはフォトデテクタ
１４をそれに入射した戻り光（被測定点１２1 に入射し
た分割測定用光ビームＢ１の戻り光）の受光量がピーク
になるように光軸方向に移動し、ピークになったとき
（とりも直さずフォトデテクタ１４に戻り光のピントが
あったとき）のフォトデテクタ１４の位置から、被測定
点１２1 の光軸方向における位置を検出する。
光ビームが例えば固体撮像素子等の被測定物にアオリが
ない場合その表面の４個の被測定点に焦点を結ぶように
調整されている。そして、実際に被測定物１２を固定ベ
ース１５に載せ、最初に例えば第１の被測定点１２1 へ
の測定用光ビームＢ１の光路にあるシャッター９のみを
開き、他のシャッター９、９、９を閉じて被測定点１２
1 に対する位置測定を行う。具体的にはフォトデテクタ
１４をそれに入射した戻り光（被測定点１２1 に入射し
た分割測定用光ビームＢ１の戻り光）の受光量がピーク
になるように光軸方向に移動し、ピークになったとき
（とりも直さずフォトデテクタ１４に戻り光のピントが
あったとき）のフォトデテクタ１４の位置から、被測定
点１２1 の光軸方向における位置を検出する。
【００１９】次に、第２の被測定点１２2 への測定用光
ビームＢ２の光路にあるシャッター９のみを開き、他の
シャッター９、９、９を閉じて被測定点１２2 に対する
位置を行う。その後、順次被測定点１２3 、１２4 の位
置測定をし、４つの被測定点１２1 〜１２4 の測定結果
から被測定物１２のアオリ、表面の高さ等を検出する。
そして、被測定点を１２1 、１２2 、１２3 、１２4 と
順次切換えるのに必要なのはシャッター９、９、９、９
に対する制御動作だけであり、被測定物１２の位置を移
動することは全く必要はない。
ビームＢ２の光路にあるシャッター９のみを開き、他の
シャッター９、９、９を閉じて被測定点１２2 に対する
位置を行う。その後、順次被測定点１２3 、１２4 の位
置測定をし、４つの被測定点１２1 〜１２4 の測定結果
から被測定物１２のアオリ、表面の高さ等を検出する。
そして、被測定点を１２1 、１２2 、１２3 、１２4 と
順次切換えるのに必要なのはシャッター９、９、９、９
に対する制御動作だけであり、被測定物１２の位置を移
動することは全く必要はない。
【００２０】従って、被測定物１２のアオリを従来より
も相当に短時間で測定することが可能である。また、被
測定点を順次切換えるために被測定物１２を位置移動し
なくても良いので、位置移動に伴って発生した振動が発
生しなくなり、振動による位置ずれ等の起きる虞れがな
くなる。
も相当に短時間で測定することが可能である。また、被
測定点を順次切換えるために被測定物１２を位置移動し
なくても良いので、位置移動に伴って発生した振動が発
生しなくなり、振動による位置ずれ等の起きる虞れがな
くなる。
【００２１】また、本多点位置測定装置によれば、ビー
ム分割手段はひし形プリズム４、５、７、８からなり、
各分割測定用光ビームＢ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４間の位置
関係はひし形プリズム４、５、７、８の寸法Ｌにより規
定することができ、そして、ひし形プリズム４、５、
７、８の寸法精度はきわめて高くすることができる。従
って、分割測定用光ビームＢ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４間の
位置関係をきわめて高精度に設定できる。このこともア
オリの検出精度を高めることに大きく寄与できる。
ム分割手段はひし形プリズム４、５、７、８からなり、
各分割測定用光ビームＢ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４間の位置
関係はひし形プリズム４、５、７、８の寸法Ｌにより規
定することができ、そして、ひし形プリズム４、５、
７、８の寸法精度はきわめて高くすることができる。従
って、分割測定用光ビームＢ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４間の
位置関係をきわめて高精度に設定できる。このこともア
オリの検出精度を高めることに大きく寄与できる。
【００２２】従って、例えば、固体撮像装置のパッケー
ジへの固体撮像素子のダイボンディングにより、銀ペー
スト等の量のバラツキ、ペースト塗布位置のバラツキに
より、パッケージのダイボンディング面に凹凸、チップ
の曲り等によりアオリが発生した場合には、直ちにダイ
ボンディング装置にフィードバックされ、不良が大量に
発生することを未然に防止することが可能になる。
ジへの固体撮像素子のダイボンディングにより、銀ペー
スト等の量のバラツキ、ペースト塗布位置のバラツキに
より、パッケージのダイボンディング面に凹凸、チップ
の曲り等によりアオリが発生した場合には、直ちにダイ
ボンディング装置にフィードバックされ、不良が大量に
発生することを未然に防止することが可能になる。
【００２３】また、フォトデテクタ１４を分割測定用光
ビームの戻り光がビーム分割手段４、５、７、８によっ
て一つの光路に戻る前に各戻り光毎に設けて検出するよ
うにしても良い（ハーフミラーを用いてフォトデテクタ
１４に戻り光が入射されるようにすることは容易であ
る。）。しかし、その場合には、フォトデテクタ１４の
数が４個必要であり、また、フォトデテクタ１４の位置
を制御する機構も４個必要である。従って、多点位置測
定装置が複雑になり、高価格化する可能性がある。しか
し、本多点位置測定装置のように４本の分割測定用光ビ
ームの戻り光をビーム分割手段に通して光路を１つに
し、１つのフォトデテクタにより各戻り光を時分割で検
出するので、フォトデテクタ１４の数は１個で済み、ま
た、フォトデテクタ１４の位置制御機構も１個で済む。
従って、多点位置測定装置を徒らに複雑にする必要がな
くなり、多点位置測定装置を低価格化にすることができ
る。
ビームの戻り光がビーム分割手段４、５、７、８によっ
て一つの光路に戻る前に各戻り光毎に設けて検出するよ
うにしても良い（ハーフミラーを用いてフォトデテクタ
１４に戻り光が入射されるようにすることは容易であ
る。）。しかし、その場合には、フォトデテクタ１４の
数が４個必要であり、また、フォトデテクタ１４の位置
を制御する機構も４個必要である。従って、多点位置測
定装置が複雑になり、高価格化する可能性がある。しか
し、本多点位置測定装置のように４本の分割測定用光ビ
ームの戻り光をビーム分割手段に通して光路を１つに
し、１つのフォトデテクタにより各戻り光を時分割で検
出するので、フォトデテクタ１４の数は１個で済み、ま
た、フォトデテクタ１４の位置制御機構も１個で済む。
従って、多点位置測定装置を徒らに複雑にする必要がな
くなり、多点位置測定装置を低価格化にすることができ
る。
【００２４】図２（Ａ）、（Ｂ）は本発明多点位置測定
装置の第２の実施例を示すもので、（Ａ）は概略を示す
平面図、（Ｂ）は（Ａ）の矢視図である。本実施例はビ
ーム分割手段をミラーにより構成した点で第１の実施例
と異なっているが、それ以外の点では全く同じである。
１６はハーフミラー、１７、１８、１９は全反射ミラ
ー、２０はハーフミラー、２１、２２、２３は全射ミラ
ーである。
装置の第２の実施例を示すもので、（Ａ）は概略を示す
平面図、（Ｂ）は（Ａ）の矢視図である。本実施例はビ
ーム分割手段をミラーにより構成した点で第１の実施例
と異なっているが、それ以外の点では全く同じである。
１６はハーフミラー、１７、１８、１９は全反射ミラ
ー、２０はハーフミラー、２１、２２、２３は全射ミラ
ーである。
【００２５】このような多点位置測定装置は、基本的に
は第１の実施例と略同様な効果が得られるが、更に、各
ミラー１６〜２３の位置関係を任意に変えることにより
各分割測定用光ビーム１２1 、１２2 、１２3 、１２4
間の位置関係を変えることができる。即ち、ミラー１７
あるいはミラー１９をＹ方向に移動することにより測定
用光ビーム１２1 、１２2 、１２3 、１２4 をＹ方向に
移動することができる。また、ミラー２１あるいは２３
をＸ方向に移動することにより測定用光ビーム１２1、
１２2 、１２3 、１２4 をＸ方向に移動することができ
る。従って、被測定物１２の種類の変更に対応して分割
測定用光ビームＢ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４間の位置関係を
簡単に切換えることができる。
は第１の実施例と略同様な効果が得られるが、更に、各
ミラー１６〜２３の位置関係を任意に変えることにより
各分割測定用光ビーム１２1 、１２2 、１２3 、１２4
間の位置関係を変えることができる。即ち、ミラー１７
あるいはミラー１９をＹ方向に移動することにより測定
用光ビーム１２1 、１２2 、１２3 、１２4 をＹ方向に
移動することができる。また、ミラー２１あるいは２３
をＸ方向に移動することにより測定用光ビーム１２1、
１２2 、１２3 、１２4 をＸ方向に移動することができ
る。従って、被測定物１２の種類の変更に対応して分割
測定用光ビームＢ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４間の位置関係を
簡単に切換えることができる。
【００２６】
【発明の効果】請求項１の多点位置測定装置は、光源か
ら発生した測定用光ビームをビーム分割手段により分割
して互いに位置が異なる複数の被測定点に照射し、その
各被測定点からの戻り光を上記ビーム分割手段により一
つのフォトデテクタに入射するようにし、更に、上記各
被測定点に対応してそこへの測定用光ビームの入射を許
容したり阻んだりするシャッターを設け、上記フォトデ
テクタにより各被測定点の位置測定を時分割で行うよう
にしたことを特徴とする。従って、請求項１の多点位置
測定装置によれば、一つの被測定物の複数の被測定点に
対する測定のために被測定物を移動することが必要でな
くなる。従って、測定時間の短縮を図ることができる。
また、ビーム分割手段により分割された各分割測定用光
ビーム間の位置関係を高精度にしておけば、ビーム分割
手段に対する被測定物の位置を正確に位置決めすること
によって各分割測定用光ビームの各被測定点に対する位
置を同時に正確に位置決めすることができる。そして、
フォトデテクタの数が１個で済むので、多点位置測定装
置の構成を簡単にし且つ低価格で図ることができる。
ら発生した測定用光ビームをビーム分割手段により分割
して互いに位置が異なる複数の被測定点に照射し、その
各被測定点からの戻り光を上記ビーム分割手段により一
つのフォトデテクタに入射するようにし、更に、上記各
被測定点に対応してそこへの測定用光ビームの入射を許
容したり阻んだりするシャッターを設け、上記フォトデ
テクタにより各被測定点の位置測定を時分割で行うよう
にしたことを特徴とする。従って、請求項１の多点位置
測定装置によれば、一つの被測定物の複数の被測定点に
対する測定のために被測定物を移動することが必要でな
くなる。従って、測定時間の短縮を図ることができる。
また、ビーム分割手段により分割された各分割測定用光
ビーム間の位置関係を高精度にしておけば、ビーム分割
手段に対する被測定物の位置を正確に位置決めすること
によって各分割測定用光ビームの各被測定点に対する位
置を同時に正確に位置決めすることができる。そして、
フォトデテクタの数が１個で済むので、多点位置測定装
置の構成を簡単にし且つ低価格で図ることができる。
【００２７】請求項２の多点位置測定方法は、光源から
発生させた測定用ビームを複数の光ビームに分割して互
いに異なる被測定点に照射し、該各被測定点に照射され
た上記測定用光ビームの戻り光を一つのフォトデテクタ
にて時分割で検出して該各被測定点の光軸上における位
置を測定することを特徴とする。従って、請求項２の多
点位置測定方法によれば、一つの被測定物の複数の被測
定点に対する測定のために被測定物を移動することが必
要でなくなるので、測定時間の短縮を図ることができ
る。また、複数に分割された各分割測定用光ビーム間の
位置関係を高精度にしておけば、ビームを分割する手段
に対する被測定物の位置を正確に位置決めすることによ
って各分割測定用光ビームの各被測定点に対する位置を
同時に正確に位置決めすることができる。そして、フォ
トデテクタの数が１個で済むので、用いる多点位置測定
装置の構成を簡単にし且つ低価格にすることができる。
発生させた測定用ビームを複数の光ビームに分割して互
いに異なる被測定点に照射し、該各被測定点に照射され
た上記測定用光ビームの戻り光を一つのフォトデテクタ
にて時分割で検出して該各被測定点の光軸上における位
置を測定することを特徴とする。従って、請求項２の多
点位置測定方法によれば、一つの被測定物の複数の被測
定点に対する測定のために被測定物を移動することが必
要でなくなるので、測定時間の短縮を図ることができ
る。また、複数に分割された各分割測定用光ビーム間の
位置関係を高精度にしておけば、ビームを分割する手段
に対する被測定物の位置を正確に位置決めすることによ
って各分割測定用光ビームの各被測定点に対する位置を
同時に正確に位置決めすることができる。そして、フォ
トデテクタの数が１個で済むので、用いる多点位置測定
装置の構成を簡単にし且つ低価格にすることができる。
【００２８】請求項３の固体撮像素子の製造方法は、光
源から発生させた測定用ビームを複数の光ビームに分割
して互いに異なる被測定点に照射し、該各被測定点に照
射された上記測定用光ビームの戻り光を一つのフォトデ
テクタにて時分割で検出して各被測定点の光軸上におけ
る位置を測定する、多点位置測定を行う工程を含むこと
を特徴とする。従って、請求項３の固体撮像素子の製造
方法によれば、一つの被測定物の複数の被測定点に対す
る測定のために被測定物を移動することが必要でなくな
るので、測定時間の短縮を図ることができる。また、ビ
ーム分割手段により分割された各分割測定用光ビーム間
の位置関係を高精度にしておけば、ビームを分割する手
段に対する被測定物の位置を正確に位置決めすることに
よって各分割測定用光ビームの各被測定点に対する位置
を同時に正確に位置決めすることができる。そして、フ
ォトデテクタの数が１個で済むので、用いる多点位置測
定装置の構成を簡単にし且つ低価格にすることができ
る。
源から発生させた測定用ビームを複数の光ビームに分割
して互いに異なる被測定点に照射し、該各被測定点に照
射された上記測定用光ビームの戻り光を一つのフォトデ
テクタにて時分割で検出して各被測定点の光軸上におけ
る位置を測定する、多点位置測定を行う工程を含むこと
を特徴とする。従って、請求項３の固体撮像素子の製造
方法によれば、一つの被測定物の複数の被測定点に対す
る測定のために被測定物を移動することが必要でなくな
るので、測定時間の短縮を図ることができる。また、ビ
ーム分割手段により分割された各分割測定用光ビーム間
の位置関係を高精度にしておけば、ビームを分割する手
段に対する被測定物の位置を正確に位置決めすることに
よって各分割測定用光ビームの各被測定点に対する位置
を同時に正確に位置決めすることができる。そして、フ
ォトデテクタの数が１個で済むので、用いる多点位置測
定装置の構成を簡単にし且つ低価格にすることができ
る。
【００２９】
【図１】（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）は本発明多点位置測定
装置の一つの実施例を示すもので、（Ａ）は概略平面
図、（Ｂ）は（Ａ）の矢印Ａに沿って視た矢視図、
（Ｃ）は被測定物載置部を示す正面図である。
装置の一つの実施例を示すもので、（Ａ）は概略平面
図、（Ｂ）は（Ａ）の矢印Ａに沿って視た矢視図、
（Ｃ）は被測定物載置部を示す正面図である。
【図２】（Ａ）、（Ｂ）は本発明多点位置測定装置の他
の実施を示すもので（Ａ）は概略平面図、（Ｂ）は
（Ａ）の矢印Ａに沿って視た矢視図である。
の実施を示すもので（Ａ）は概略平面図、（Ｂ）は
（Ａ）の矢印Ａに沿って視た矢視図である。
【図３】フォーカス検出方式の原理説明図である。
【図４】従来例の要部を示す縦断面図である。
【符号の説明】 １ 光源 ４、５、７、８ ビーム分割手段 ９ シャッター １２ 被測定物 １４ フォトデテクタ １６〜２３ ミラー
Claims (3)
- 【請求項１】 測定用光ビームを発生する光源と、 上記光源から発生した上記測定用光ビームを複数の光ビ
ームに分割して互いに異なる被測定点に照射するビーム
分割手段と、 上記各被測定点に照射された測定用光ビームの戻り光を
上記ビーム分割手段を通して検出して該各被測定点の光
軸上における位置を測定する一つのフォトデテクタと、からなり、 上記各被測定点からの上記戻り光の上記一つのフォトデ
テクタによる検出を時分割で行うようにしてなる ことを
特徴とする多点位置測定装置 - 【請求項２】 光源から測定用ビームを発生させ、 上記測定用ビームを複数の光ビームに分割して互いに異
なる被測定点に照射し、 上記各被測定点に照射された上記測定用光ビームの戻り
光を一つのフォトデテクタにて時分割で検出して該各被
測定点の光軸上における位置を測定することを特徴とす
る多点位置測定方法 - 【請求項３】 光源から測定用ビームを発生させ、 上記測定用ビームを複数の光ビームに分割して互いに異
なる被測定点に照射し、 上記各被測定点に照射された上記測定用光ビームの戻り
光を一つのフォトデテクタにて時分割で検出して各被測
定点の光軸上における位置を測定する、 多点位置測定を行う工程を含むことを特徴とする固体撮
像素子の製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35396292A JP3343969B2 (ja) | 1992-12-15 | 1992-12-15 | 多点位置測定装置と多点位置測定方法と固体撮像素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35396292A JP3343969B2 (ja) | 1992-12-15 | 1992-12-15 | 多点位置測定装置と多点位置測定方法と固体撮像素子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06180209A JPH06180209A (ja) | 1994-06-28 |
| JP3343969B2 true JP3343969B2 (ja) | 2002-11-11 |
Family
ID=18434393
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35396292A Expired - Lifetime JP3343969B2 (ja) | 1992-12-15 | 1992-12-15 | 多点位置測定装置と多点位置測定方法と固体撮像素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3343969B2 (ja) |
-
1992
- 1992-12-15 JP JP35396292A patent/JP3343969B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06180209A (ja) | 1994-06-28 |
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