JP3312400B2 - 真空熱処理炉 - Google Patents
真空熱処理炉Info
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- JP3312400B2 JP3312400B2 JP27536292A JP27536292A JP3312400B2 JP 3312400 B2 JP3312400 B2 JP 3312400B2 JP 27536292 A JP27536292 A JP 27536292A JP 27536292 A JP27536292 A JP 27536292A JP 3312400 B2 JP3312400 B2 JP 3312400B2
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- Japan
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は真空熱処理炉に関し、詳
しくは真空熱処理炉において加熱後の被処理物を冷却す
る為の構造に関する。
しくは真空熱処理炉において加熱後の被処理物を冷却す
る為の構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】真空容器内に被処理物の存置用空間を囲
む断熱壁を設け、該断熱壁に設けた開口部に対して冷却
ガス送込用のダクトを垂直に接続し、該ダクト内におい
て上記開口部に面する位置に揺動自在のダンパを配置し
て、冷却ガスを上記存置用空間の各部に向け送り込み得
るようにした真空熱処理炉がある（例えば特公昭６２−
１２２８８）。
む断熱壁を設け、該断熱壁に設けた開口部に対して冷却
ガス送込用のダクトを垂直に接続し、該ダクト内におい
て上記開口部に面する位置に揺動自在のダンパを配置し
て、冷却ガスを上記存置用空間の各部に向け送り込み得
るようにした真空熱処理炉がある（例えば特公昭６２−
１２２８８）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この従来の真空熱処理
炉では、冷却ガス流のダンパによる変向を可能ならしめ
る為に上記の如くダクトを断熱壁に略垂直に取付けねば
ならず、この為ダクトが真空容器の外部に大きく突出し
て外形形態が大型化し、設置に大きいスペースを占有す
る問題点があった。
炉では、冷却ガス流のダンパによる変向を可能ならしめ
る為に上記の如くダクトを断熱壁に略垂直に取付けねば
ならず、この為ダクトが真空容器の外部に大きく突出し
て外形形態が大型化し、設置に大きいスペースを占有す
る問題点があった。
【０００４】本願発明は上記従来技術の問題点（技術的
課題）を解決する為になされたもので、断熱壁内の存置
用空間に向け冷却ガスを送り込む場合、冷却ガスの向き
を変えることができてそれを上記空間の各部へと送るこ
とができ、しかもそのようなものであっても、冷却ガス
を通す為のガス流路の配置は断熱壁に沿った横向きでよ
くて、外形形態をコンパクト化できるようにした真空熱
処理炉を提供することを目的としている。
課題）を解決する為になされたもので、断熱壁内の存置
用空間に向け冷却ガスを送り込む場合、冷却ガスの向き
を変えることができてそれを上記空間の各部へと送るこ
とができ、しかもそのようなものであっても、冷却ガス
を通す為のガス流路の配置は断熱壁に沿った横向きでよ
くて、外形形態をコンパクト化できるようにした真空熱
処理炉を提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本願発明における真空熱
処理炉は、内部に被処理物の存置用空間を有する真空容
器内には、上記空間を囲む断熱壁が備えられていると共
に、上記断熱壁には上記空間に向け冷却ガスを送り込む
ための開口部が形成してある真空熱処理炉において、上
記真空容器の内部において該容器の内面と上記断熱壁と
の間には、二つのガス流路を夫々断熱壁に沿わせて配設
し、かつそれら二つのガス流路における各々のガス入口
は相互に隣接状態に並置し、上記両ガス流路のガス出口
と上記開口部とは相互に連通させて、両ガス流路を通っ
た冷却ガスが相互に衝突しその衝突したガスが上記開口
部を通って上記空間に流れ込むようにしてあり、上記両
ガス流路には、各々のガス流路を通るガス量の比率を変
更する為の変更手段として、各々のガス入口の側への交
換的な揺動を自在に設けられて各々のガス入口への冷却
ガスの流入量を交換的に制限するようにしたダンパを設
けたものである。
処理炉は、内部に被処理物の存置用空間を有する真空容
器内には、上記空間を囲む断熱壁が備えられていると共
に、上記断熱壁には上記空間に向け冷却ガスを送り込む
ための開口部が形成してある真空熱処理炉において、上
記真空容器の内部において該容器の内面と上記断熱壁と
の間には、二つのガス流路を夫々断熱壁に沿わせて配設
し、かつそれら二つのガス流路における各々のガス入口
は相互に隣接状態に並置し、上記両ガス流路のガス出口
と上記開口部とは相互に連通させて、両ガス流路を通っ
た冷却ガスが相互に衝突しその衝突したガスが上記開口
部を通って上記空間に流れ込むようにしてあり、上記両
ガス流路には、各々のガス流路を通るガス量の比率を変
更する為の変更手段として、各々のガス入口の側への交
換的な揺動を自在に設けられて各々のガス入口への冷却
ガスの流入量を交換的に制限するようにしたダンパを設
けたものである。
【０００６】
【作用】二つのガス流路を通る冷却ガスは相互に衝突
し、衝突したガスが断熱壁の開口部から存置用空間に送
り込まれる。この場合、両ガス流路を通る冷却ガスの量
の比率を同じにしたりあるいは種々に違えることによ
り、両冷却ガスの横向きの運動成分が相殺されたりある
いは一方又は他方の運動成分が比較的多く残存する。そ
の結果、衝突した冷却ガスは上記空間の中央部に真直ぐ
に送り込んだり、空間の一方の側又は他方の側に偏って
送り込んだりすることができる。
し、衝突したガスが断熱壁の開口部から存置用空間に送
り込まれる。この場合、両ガス流路を通る冷却ガスの量
の比率を同じにしたりあるいは種々に違えることによ
り、両冷却ガスの横向きの運動成分が相殺されたりある
いは一方又は他方の運動成分が比較的多く残存する。そ
の結果、衝突した冷却ガスは上記空間の中央部に真直ぐ
に送り込んだり、空間の一方の側又は他方の側に偏って
送り込んだりすることができる。
【０００７】
【実施例】以下本願の実施例を示す図面について説明す
る。図１、２において、１は真空容器を示す。２はその
本体、３は扉を示す。４は容器１内に設けられた断熱壁
で、被処理物存置用空間５を囲むよう設けてある。断熱
壁４内には被処理物加熱用のヒータが周知の如く設けて
ある。６は被処理物出入用の開口部、７は扉、８は断熱
壁４における上壁に設けられた冷却ガス流通用の開口
部、９は扉、10は下壁に設けられた冷却ガス流通用の開
口部、11は扉を夫々示す。12は載置台、13は被処理物
で、例えばかごに入れられた状態の多数の金属製の品物
である。
る。図１、２において、１は真空容器を示す。２はその
本体、３は扉を示す。４は容器１内に設けられた断熱壁
で、被処理物存置用空間５を囲むよう設けてある。断熱
壁４内には被処理物加熱用のヒータが周知の如く設けて
ある。６は被処理物出入用の開口部、７は扉、８は断熱
壁４における上壁に設けられた冷却ガス流通用の開口
部、９は扉、10は下壁に設けられた冷却ガス流通用の開
口部、11は扉を夫々示す。12は載置台、13は被処理物
で、例えばかごに入れられた状態の多数の金属製の品物
である。
【０００８】次に15は断熱壁４の上側において真空容器
１との間の空間を上下に仕切るように設けられた仕切
板、16, 17は上記断熱壁４の上側の空間を他の側の空間
と隔てる為に設けられた仕切壁を夫々示す。尚仕切壁16
は図１の如く断面形状を円弧状に形成してガス流を破線
矢印の如く転向させるようにしてある。21は断熱壁４に
沿わせて設けた第１のガス流路で、上下は仕切板15及び
断熱壁４の上壁によって、左右は図２の仕切壁17, 17に
よって夫々囲まれている。このガス流路21は図１のよう
に横向き（本件明細書中においては断熱壁４の壁面に沿
った方向を横向きという）となっており、21ａはそのガ
ス入口、21ｂはガス出口を夫々示す。22は断熱壁４に沿
わせて設けた第２のガス流路を示し、図１の如く仕切壁
16で折り返して仕切板15の下側と上側とに連続する状態
に形成してある。22ａはそのガス入口、22bはガス出口
を夫々示す。23はガス出口21b,22b及び開口部８の連通
部を示し、図示の如く両ガス出口21b,22bが開口部８の
直上の空間を隔てて相互に対向する状態に構成してあ
る。24は上記両ガス流路21, 22を通るガス量の比率を変
更する為の変更手段で、一例として図示の如く両ガス入
口21ａ, 22ａの間に各々のガス入口21ａ, 22ａの側への
揺動を自在に設けたダンパをもって構成してある。該変
更手段はガス流路21，22の途中に夫々個別に設けたダン
パその他の任意の流量制御装置であっても良い。
１との間の空間を上下に仕切るように設けられた仕切
板、16, 17は上記断熱壁４の上側の空間を他の側の空間
と隔てる為に設けられた仕切壁を夫々示す。尚仕切壁16
は図１の如く断面形状を円弧状に形成してガス流を破線
矢印の如く転向させるようにしてある。21は断熱壁４に
沿わせて設けた第１のガス流路で、上下は仕切板15及び
断熱壁４の上壁によって、左右は図２の仕切壁17, 17に
よって夫々囲まれている。このガス流路21は図１のよう
に横向き（本件明細書中においては断熱壁４の壁面に沿
った方向を横向きという）となっており、21ａはそのガ
ス入口、21ｂはガス出口を夫々示す。22は断熱壁４に沿
わせて設けた第２のガス流路を示し、図１の如く仕切壁
16で折り返して仕切板15の下側と上側とに連続する状態
に形成してある。22ａはそのガス入口、22bはガス出口
を夫々示す。23はガス出口21b,22b及び開口部８の連通
部を示し、図示の如く両ガス出口21b,22bが開口部８の
直上の空間を隔てて相互に対向する状態に構成してあ
る。24は上記両ガス流路21, 22を通るガス量の比率を変
更する為の変更手段で、一例として図示の如く両ガス入
口21ａ, 22ａの間に各々のガス入口21ａ, 22ａの側への
揺動を自在に設けたダンパをもって構成してある。該変
更手段はガス流路21，22の途中に夫々個別に設けたダン
パその他の任意の流量制御装置であっても良い。
【０００９】次に26はクーラ、27は循環ファン、28は循
環ファン27のガス出口と上記断熱壁４の上側の空間との
間を結ぶガス流路、29はクーラ26のガス入口と断熱壁４
の下側の空間との間を結ぶガス流路を夫々示す。31は周
知の冷却ガス供給源、32は真空ポンプである。
環ファン27のガス出口と上記断熱壁４の上側の空間との
間を結ぶガス流路、29はクーラ26のガス入口と断熱壁４
の下側の空間との間を結ぶガス流路を夫々示す。31は周
知の冷却ガス供給源、32は真空ポンプである。
【００１０】上記構成のものにあっては、存置用空間５
の被処理物13を加熱した後それを冷却するに当たって
は、開口部８，10を図の如く開き、供給源31から冷却ガ
スを真空容器１内に送り込み、クーラ26、循環ファン27
を運転する。すると冷却ガスは循環ファン27→ガス流路
21及びガス流路22→開口部８→存置用空間５→開口部10
→断熱壁４の下側の空間→ガス流路29→クーラ26→循環
ファン27の経路で循環し、被処理物13が冷却される。
の被処理物13を加熱した後それを冷却するに当たって
は、開口部８，10を図の如く開き、供給源31から冷却ガ
スを真空容器１内に送り込み、クーラ26、循環ファン27
を運転する。すると冷却ガスは循環ファン27→ガス流路
21及びガス流路22→開口部８→存置用空間５→開口部10
→断熱壁４の下側の空間→ガス流路29→クーラ26→循環
ファン27の経路で循環し、被処理物13が冷却される。
【００１１】上記の場合、ガス流路21を通った冷却ガス
とガス流路22を通った冷却ガスとは連通部23において衝
突（この例では正面衝突）し、その衝突した冷却ガスが
開口部８から空間５に向けて流入する。従ってダンパ24
の調節によりガス流路21を通るガス量とガス流路22を通
るガス量を等しくすると、ガス出口21ｂから出る冷却ガ
スの横向きの運動成分とガス出口22ｂから出る冷却ガス
の横向き（前者のガスとは反対向き）の運動成分とが相
殺し、その結果冷却ガスは開口部８から空間５に向けて
矢印Ａの如く真直ぐ下向きに流入する。一方上記ダンパ
24の調節により前者のガス量を後者のガス量よりも多く
した場合は、上記衝突後も図１において左向きの運動成
分が残存する為、冷却ガスは開口部８から矢印Ｂの方向
に向けて流入する。又、後者のガス量を前者のガス量よ
りも多くすると上記衝突後には右向きの運動成分が残存
する為、冷却ガスは開口部８から矢印Ｃの如く右向きに
流入する。従って上記ダンパ24を連続的に揺動させるこ
とにより、存置用空間５の各部に向けて冷却ガスを均一
に送って被処理物13の全体を均一に冷却することができ
る。或いはダンパ24の揺動を個々の位置に特定時間ずつ
保持しながら行うことによって、被処理物13において特
に冷却を促進したい部分への冷却ガスの送風量を増して
そこの冷却を促進したりすることもできる。
とガス流路22を通った冷却ガスとは連通部23において衝
突（この例では正面衝突）し、その衝突した冷却ガスが
開口部８から空間５に向けて流入する。従ってダンパ24
の調節によりガス流路21を通るガス量とガス流路22を通
るガス量を等しくすると、ガス出口21ｂから出る冷却ガ
スの横向きの運動成分とガス出口22ｂから出る冷却ガス
の横向き（前者のガスとは反対向き）の運動成分とが相
殺し、その結果冷却ガスは開口部８から空間５に向けて
矢印Ａの如く真直ぐ下向きに流入する。一方上記ダンパ
24の調節により前者のガス量を後者のガス量よりも多く
した場合は、上記衝突後も図１において左向きの運動成
分が残存する為、冷却ガスは開口部８から矢印Ｂの方向
に向けて流入する。又、後者のガス量を前者のガス量よ
りも多くすると上記衝突後には右向きの運動成分が残存
する為、冷却ガスは開口部８から矢印Ｃの如く右向きに
流入する。従って上記ダンパ24を連続的に揺動させるこ
とにより、存置用空間５の各部に向けて冷却ガスを均一
に送って被処理物13の全体を均一に冷却することができ
る。或いはダンパ24の揺動を個々の位置に特定時間ずつ
保持しながら行うことによって、被処理物13において特
に冷却を促進したい部分への冷却ガスの送風量を増して
そこの冷却を促進したりすることもできる。
【００１２】次に、上記ガス流路21, 22を断熱壁４の下
側の空間に設けると共にガス流路28, 29も図１とは上下
を反転して設けることにより、冷却ガスを下側の開口部
10から存置用空間５に向けて流入させるようにしても良
い。
側の空間に設けると共にガス流路28, 29も図１とは上下
を反転して設けることにより、冷却ガスを下側の開口部
10から存置用空間５に向けて流入させるようにしても良
い。
【００１３】次に図３、４は本願の異なる実施例を示す
もので、ガス流路21ｅ, 22ｅを夫々隔壁35により幅方向
に複数（本例では３）の流路要素41, 42に分割すると共
にガス量比率の変更手段をそれらの流路要素に個別に設
けた変更要素、例えばこの例では各流路要素の入口にお
いて前実施例と同様の箇所に設けた複数の小ダンパ36に
より構成した例を示すものである。このように構成する
と、被処理物13ｅを冷却する場合、各小ダンパ36を個別
に制御することにより、開口部8eにおいて符号イ、ロ、
ハで示す各々の部分において夫々前述のように存置用空
間5eに向けて流入するガスの方向を制御することができ
る。即ち平面的に見て二次元的な制御ができる。その結
果、被処理物13ｅの冷却を各部分毎により細かく制御す
ることができる。なお、機能上前図のものと同一又は均
等構成と考えられる部分には、前図と同一の符号にアル
ファベットのｅを付して重複する説明を省略した。
もので、ガス流路21ｅ, 22ｅを夫々隔壁35により幅方向
に複数（本例では３）の流路要素41, 42に分割すると共
にガス量比率の変更手段をそれらの流路要素に個別に設
けた変更要素、例えばこの例では各流路要素の入口にお
いて前実施例と同様の箇所に設けた複数の小ダンパ36に
より構成した例を示すものである。このように構成する
と、被処理物13ｅを冷却する場合、各小ダンパ36を個別
に制御することにより、開口部8eにおいて符号イ、ロ、
ハで示す各々の部分において夫々前述のように存置用空
間5eに向けて流入するガスの方向を制御することができ
る。即ち平面的に見て二次元的な制御ができる。その結
果、被処理物13ｅの冷却を各部分毎により細かく制御す
ることができる。なお、機能上前図のものと同一又は均
等構成と考えられる部分には、前図と同一の符号にアル
ファベットのｅを付して重複する説明を省略した。
【００１４】
【発明の効果】以上のように本願発明にあっては、断熱
壁４で囲まれた中にある被処理物13を冷却する場合、開
口部８を通して冷却ガスを送り込めるから、被処理物を
急速に冷却させ得るは勿論のこと、上記冷却ガスを送り
込む場合、夫々断熱壁４に沿った横向きの運動成分を持
たせた二つの冷却ガスの流れを相互に衝突させ、その衝
突したガスを上記開口部８を通して送り込むものだか
ら、両冷却ガスの量の比率を変えて、上記両ガスの横向
きの運動成分を相殺させたり、一方あるいは他方の運動
成分を比較的多く残存させることにより、上記断熱壁内
の空間５において中央部に向けてガスを送ったり、一方
の壁あるいは他方の壁に夫々近い側に向けて送ったりで
きる特長がある。このことは、上記空間内の被処理物を
全体に均一に冷却したり、あるいは一部分を重点的に冷
却するというように、被処理物の実状に即した冷却がで
きる実用上の効果がある。
壁４で囲まれた中にある被処理物13を冷却する場合、開
口部８を通して冷却ガスを送り込めるから、被処理物を
急速に冷却させ得るは勿論のこと、上記冷却ガスを送り
込む場合、夫々断熱壁４に沿った横向きの運動成分を持
たせた二つの冷却ガスの流れを相互に衝突させ、その衝
突したガスを上記開口部８を通して送り込むものだか
ら、両冷却ガスの量の比率を変えて、上記両ガスの横向
きの運動成分を相殺させたり、一方あるいは他方の運動
成分を比較的多く残存させることにより、上記断熱壁内
の空間５において中央部に向けてガスを送ったり、一方
の壁あるいは他方の壁に夫々近い側に向けて送ったりで
きる特長がある。このことは、上記空間内の被処理物を
全体に均一に冷却したり、あるいは一部分を重点的に冷
却するというように、被処理物の実状に即した冷却がで
きる実用上の効果がある。
【００１５】しかもそのように冷却ガスの向きを変えら
れるものでも、上記冷却ガスは横向きの運動成分をもた
すものだから、その冷却ガスを流すガス流路21, 22は断
熱壁４に沿った横向きでよい特長がある。このことはそ
れらのガス流路を真空容器１とその中の断熱壁４との間
の狭幅のスペースに容易に収め得ることであり、その結
果、真空熱処理炉の形態はコンパクトとなって占有スペ
ースが比較的小さくて足りる効果がある。
れるものでも、上記冷却ガスは横向きの運動成分をもた
すものだから、その冷却ガスを流すガス流路21, 22は断
熱壁４に沿った横向きでよい特長がある。このことはそ
れらのガス流路を真空容器１とその中の断熱壁４との間
の狭幅のスペースに容易に収め得ることであり、その結
果、真空熱処理炉の形態はコンパクトとなって占有スペ
ースが比較的小さくて足りる効果がある。
【図１】縦断面図。
【図２】II−II線断面図。
【図３】異なる実施例を示す水平断面図で図１のIII −
III 線位置における断面図。
III 線位置における断面図。
【図４】IV−IV線断面図。
１ 真空容器 ４ 断熱壁 ５ 存置用空間 ８ 開口部 21, 22 ガス流路 23 連通部 24 ダンパ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−176023（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−177086（ＪＰ，Ａ) 実開 平２−125959（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭62−23853（ＪＰ，Ｕ) 特公 昭62−12288（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭39−9658（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C21D 1/773 C21D 1/18 F27B 17/00 F27D 7/06
Claims (2)
- 【請求項１】 内部に被処理物の存置用空間を有する真
空容器内には、上記空間を囲む断熱壁が備えられている
と共に、上記断熱壁には上記空間に向け冷却ガスを送り
込むための開口部が形成してある真空熱処理炉におい
て、上記真空容器の内部において該容器の内面と上記断
熱壁との間には、二つのガス流路を夫々断熱壁に沿わせ
て配設し、かつそれら二つのガス流路における各々のガ
ス入口は相互に隣接状態に並置し、上記両ガス流路のガ
ス出口と上記開口部とは相互に連通させて、両ガス流路
を通った冷却ガスが相互に衝突しその衝突したガスが上
記開口部を通って上記空間に流れ込むようにしてあり、
上記両ガス流路には、各々のガス流路を通るガス量の比
率を変更する為の変更手段として、各々のガス入口の側
への交換的な揺動を自在に設けられて各々のガス入口へ
の冷却ガスの流入量を交換的に制限するようにしたダン
パを設けたことを特徴とする真空熱処理炉。 - 【請求項２】 前記二つのガス流路は夫々幅方向に複数
の流路要素に分割されており、前記変更手段としてのダ
ンパは各流路要素に個別に設けたダンパで構成してある
ことを特徴とする請求項１記載の真空熱処理炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27536292A JP3312400B2 (ja) | 1992-09-18 | 1992-09-18 | 真空熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27536292A JP3312400B2 (ja) | 1992-09-18 | 1992-09-18 | 真空熱処理炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06100928A JPH06100928A (ja) | 1994-04-12 |
| JP3312400B2 true JP3312400B2 (ja) | 2002-08-05 |
Family
ID=17554423
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27536292A Expired - Fee Related JP3312400B2 (ja) | 1992-09-18 | 1992-09-18 | 真空熱処理炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3312400B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5779087B2 (ja) * | 2011-12-28 | 2015-09-16 | 株式会社Ihi | 真空熱処理装置 |
| JP6140264B1 (ja) * | 2015-12-28 | 2017-05-31 | 中外炉工業株式会社 | 工業用炉 |
-
1992
- 1992-09-18 JP JP27536292A patent/JP3312400B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06100928A (ja) | 1994-04-12 |
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