JP3309908B2 - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JP3309908B2
JP3309908B2 JP26237599A JP26237599A JP3309908B2 JP 3309908 B2 JP3309908 B2 JP 3309908B2 JP 26237599 A JP26237599 A JP 26237599A JP 26237599 A JP26237599 A JP 26237599A JP 3309908 B2 JP3309908 B2 JP 3309908B2
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    • G11C7/1078Data input circuits, e.g. write amplifiers, data input buffers, data input registers, data input level conversion circuits
    • G11C7/1096Write circuits, e.g. I/O line write drivers

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置に
関わり、特にスタティックランダムアクセスメモリに関
する。
The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a static random access memory.

【0002】[0002]

【従来の技術】図7を参照すると、従来例1による半導
体記憶装置は、複数のメモリセル104(1、1)、・
・・104(1、N)、・・・、104(M、1)、・
・・、104(M、N)、各々が各列の複数のメモリセ
ル104(1、j)〜104(M、j)(1≦j≦N)
に接続されるN個(Nは自然数)のビット線対105
(1)〜105(N)、各々が各行の複数のメモリセル
104(i、1)〜104(i、N)(1≦i≦M)に
接続されるM個(Mは自然数)のワード線106(1)
〜106(M)、任意に選択されたメモリセル104
(i、j)に記憶されている論理値を読みとるセンスア
ンプ102、任意に選択されたメモリセル104(i、
j)に論理値を書き込む書き込みドライバ103、各々
がN個のビット線対105(1)〜105(N)のうち
から任意に選択された1のビット線対105(j)をセ
ンスアンプ102又は書き込みドライバ103と接続す
る列選択回路501(1)〜501(N)を備える。列
選択回路501(j)は1つのビット線対105(j)
に対して1個あり、2個のPMOSトランジスタMP
(j)、MPB(j)及び2個のNMOSトランジスタ
MN(j)、MNB(j)を備える。PMOSトランジ
スタMP(j)は、読み出し用の選択トランジスタであ
り、NMOSトランジスタMN(j)、MNB(j)
は、書き込み用の選択トランジスタである。PMOSト
ランジスタMP(j)のドレイン端子とNMOSトラン
ジスタMN(j)のドレイン端子はビット線105a
(j)に接続され、PMOSトランジスタMPB(j)
のドレイン端子とNMOSトランジスタMNB(j)の
ドレイン端子はビット線105b(j)に接続される。
PMOSトランジスタMP(j)、MPB(j)のゲー
ト端子は、読み出し用列選択線502(j)に接続さ
れ、NMOSトランジスタMN(j)、MNB(j)の
ゲート端子は、書き込み用列選択線503(j)に接続
される。PMOSトランジスタMP(j)、MPB
(j)のソース端子は、センスアンプ102の入力端子
に読み出し用ビット共通ビット線対504a、504b
を介して接続され、NMOSトランジスタMN(j)、
MNB(j)のソース端子は書き込み用共通ビット線対
505a、505bを介して書き込みドライバ103の
出力端子に接続される。
2. Description of the Related Art Referring to FIG. 7, a semiconductor memory device according to the prior art 1 includes a plurality of memory cells 104 (1, 1),.
.. 104 (1, N),..., 104 (M, 1),
.., 104 (M, N), each of which includes a plurality of memory cells 104 (1, j) to 104 (M, j) (1 ≦ j ≦ N)
(N is a natural number) bit line pairs 105 connected to
(1) to 105 (N), M (M is a natural number) words each connected to a plurality of memory cells 104 (i, 1) to 104 (i, N) (1 ≦ i ≦ M) in each row Line 106 (1)
To 106 (M), arbitrarily selected memory cell 104
A sense amplifier 102 that reads a logical value stored in (i, j), and an arbitrarily selected memory cell 104 (i, j).
j) that writes a logical value to the bit line pair 105 (j) arbitrarily selected from the N bit line pairs 105 (1) to 105 (N). It includes column selection circuits 501 (1) to 501 (N) connected to the write driver 103. The column selection circuit 501 (j) has one bit line pair 105 (j).
And two PMOS transistors MP
(J), MPB (j) and two NMOS transistors MN (j), MNB (j). The PMOS transistor MP (j) is a selection transistor for reading, and the NMOS transistors MN (j) and MNB (j)
Is a select transistor for writing. The drain terminal of the PMOS transistor MP (j) and the drain terminal of the NMOS transistor MN (j) are connected to the bit line 105a.
(J) and the PMOS transistor MPB (j)
And the drain terminal of the NMOS transistor MNB (j) are connected to the bit line 105b (j).
The gate terminals of the PMOS transistors MP (j) and MPB (j) are connected to a read column select line 502 (j), and the gate terminals of the NMOS transistors MN (j) and MNB (j) are connected to a write column select line. 503 (j). PMOS transistors MP (j), MPB
The source terminal (j) is connected to the input terminal of the sense amplifier 102 by the read bit common bit line pair 504a, 504b.
, And an NMOS transistor MN (j),
The source terminal of MNB (j) is connected to the output terminal of the write driver 103 via the write common bit line pair 505a, 505b.

【0003】次に、任意に選択されたメモリセル104
(i、j)からデータを読み出す場合の動作を説明す
る。
Next, an arbitrarily selected memory cell 104
The operation when data is read from (i, j) will be described.

【0004】ワード線106(i)(1≦i≦M)を活
性化することにより、全てのビット線対105(1)〜
105(N)にメモリセル104(i、1)〜104
(i、N)内のデータがそれぞれ出力される。同時に、
読み出し動作前の非選択状態においてHigh電位とな
っていた読み出し用列選択線502(1)〜502
(M)のうちで、読み出し用列選択線502(j)をL
ow電位とすることにより、列選択回路501(j)の
中のPMOSトランジスタMP(j)、MPB(j)が
導通状態となり、これにより、ビット線対105a
(j)、105b(j)とセンスアンプ102とが読み
出し用共通ビット線対504a、504bを介して電気
的に接続される。一定時間後に、列選択線502(j)
をHigh電位とすることにより、ビット線対105a
(j)、105b(j)とセンスアンプ102とを切り
離してから、センスアンプ102を活性化すると同時
に、ワード線106(i)を非活性化する。センスアン
プ102は、読み出し用共通ビット線対504a、50
4b間の浮遊容量により維持されている電位差を増幅
し、増幅結果を出力する。
By activating the word line 106 (i) (1 ≦ i ≦ M), all the bit line pairs 105 (1) to 105 (1) to
At 105 (N), memory cells 104 (i, 1) to 104
The data in (i, N) is output. at the same time,
Read column select lines 502 (1) to 502 which were at the High potential in the non-selection state before the read operation
In (M), the read column select line 502 (j) is set to L
By setting the potential to the ow potential, the PMOS transistors MP (j) and MPB (j) in the column selection circuit 501 (j) are turned on, whereby the bit line pair 105a is set.
(J), 105b (j) and the sense amplifier 102 are electrically connected via a read common bit line pair 504a, 504b. After a certain time, the column selection line 502 (j)
At the High potential, the bit line pair 105a
(J) and 105b (j) are separated from the sense amplifier 102, and then the sense amplifier 102 is activated and the word line 106 (i) is deactivated at the same time. The sense amplifier 102 includes a read common bit line pair 504a, 50
It amplifies the potential difference maintained by the floating capacitance between 4b and outputs the amplification result.

【0005】次に、任意に選択されたメモリセル104
(i、j)にデータを書き込む場合の動作を説明する。
Next, an arbitrarily selected memory cell 104
The operation for writing data to (i, j) will be described.

【0006】書き込み動作前の非選択状態においてLo
w電位となっていた書き込み用列選択線503(1)〜
503(N)のうちで、書き込み用列選択線503
(j)をHigh電位とする。これにより、NMOSト
ランジスタMN(j)、MNB(j)が導通し、ビット
線対105a(j)、105b(j)と書き込みドライ
バ103とが書き込み用共通ビット線対505a、50
5bを介して電気的に接続される。同時に、書き込みド
ライバ103を活性化し、ビット線対105a(j)、
105b(j)の一方をLow電位とする。この時、ワ
ード線106(i)も活性化することにより、メモリセ
ル(i、j)にデータが書き込まれる。
In a non-selected state before a write operation, Lo
The write column selection line 503 (1)-
Of the 503 (N), the write column selection line 503
(J) is High potential. As a result, the NMOS transistors MN (j) and MNB (j) become conductive, and the bit line pair 105a (j) and 105b (j) and the write driver 103 connect the write common bit line pair 505a and 50b.
5b are electrically connected. At the same time, the write driver 103 is activated, and the bit line pair 105a (j),
One of the lines 105b (j) is set to a low potential. At this time, the data is written into the memory cell (i, j) by activating the word line 106 (i).

【0007】図8を参照すると、従来例2による半導体
記憶装置が、従来例1の半導体記憶装置と構成において
異なる点は、書き込み用列選択線503(1)〜503
(N)が、書き込み線607に置き換わる点と、読み出
し用列選択線502(j)と書き込み線607との否定
論理和を演算するNORゲート606(j)を列選択回
路601(j)に追加して、NORゲート606(j)
の出力をNMOSトランジスタMN(j)、MNB
(j)のゲート端子に接続した点である。列選択回路6
01では、読み出し用列選択線502(j)と書き込み
線607との否定論理和をNORゲート606(j)に
よりとって、NORゲート606(j)の出力線を書き
込み用列選択線608(j)とする。
Referring to FIG. 8, the semiconductor memory device according to Conventional Example 2 differs from the semiconductor memory device according to Conventional Example 1 in the configuration of write column select lines 503 (1) to 503.
(N) is replaced with the write line 607, and a NOR gate 606 (j) for calculating the NOR of the read column select line 502 (j) and the write line 607 is added to the column select circuit 601 (j). Then, the NOR gate 606 (j)
Of the NMOS transistors MN (j) and MNB
This is the point connected to the gate terminal of (j). Column selection circuit 6
At 01, the NOR gate of the read column select line 502 (j) and the write line 607 is taken by the NOR gate 606 (j), and the output line of the NOR gate 606 (j) is set to the write column select line 608 (j). ).

【0008】従来例2による半導体記憶装置が、従来例
1の半導体記憶装置と動作において異なる点は、読み出
し動作時に、書き込み線607をHigh電位とする
点、任意に選択されたメモリセル(i、j)へのデータ
の書き込み動作時に、書き込み線607をLow電位と
し、読み出し用列選択線502(j)をLow電位とす
る点である。また、任意に選択されたメモリセル(i、
j)への書き込み動作時には、PMOSトランジスタM
P(j)、MPB(j)も同時に導通してしまうが、セ
ンスアンプ102を活性化しないため、この導通は書き
込み動作に影響を与えない。
The semiconductor memory device according to Conventional Example 2 is different in operation from the semiconductor memory device according to Conventional Example 1 in that a write line 607 is set to a High potential at the time of a read operation, and an arbitrarily selected memory cell (i, The point is that the write line 607 is set to the low potential and the read column select line 502 (j) is set to the low potential during the operation of writing data to j). In addition, arbitrarily selected memory cells (i,
j), the PMOS transistor M
Although P (j) and MPB (j) also conduct at the same time, the conduction does not affect the write operation because the sense amplifier 102 is not activated.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】従来例の半導体記憶装
置の問題点は、ビット線を選択するための列選択回路及
び列選択線のハードウェア規模が増大する点である。
The problem of the conventional semiconductor memory device is that the hardware scale of the column selection circuit for selecting the bit line and the column selection line increases.

【0010】図7に示す従来例1では、読み出し動作時
にビット線対105(1)〜105(N)の中から任意
の1のビット線対105(j)を選択するためには、N
本の読み出し用列選択線502(1)〜502(N)が
必要であり、書き込み動作時にビット線対105(1)
〜105(N)の中から任意の1個のビット線対105
(j)を選択するためには、N本の書き込み用列選択線
503(1)〜503(N)が必要であり、合わせて2
N本の選択線が必要である。
In the conventional example 1 shown in FIG. 7, in order to select any one bit line pair 105 (j) from the bit line pairs 105 (1) to 105 (N) during the read operation, N
The read column selection lines 502 (1) to 502 (N) are required, and the bit line pair 105 (1) is used during a write operation.
105105 (N), any one bit line pair 105
In order to select (j), N write column select lines 503 (1) to 503 (N) are required.
N selection lines are required.

【0011】図8に示す従来例2では、ビット線対当た
りのトランジスタ数は、NORゲート606(j)を構
成するトランジスタ4個、PMOSトランジスタMP
(j)、MPB(j)2個、PMOSトランジスタMN
(j)、MNB(j)2個の計8個であり、全列につい
て合計すると、8N個である。
In the conventional example 2 shown in FIG. 8, the number of transistors per bit line pair is four transistors constituting the NOR gate 606 (j) and the PMOS transistor MP
(J), two MPB (j), PMOS transistors MN
(J) and two MNB (j), for a total of eight, for a total of 8N for all columns.

【0012】本発明の目的は、読み出し動作と書き込み
動作とが共に高速化され、且つ、列選択のためのハード
ウェア規模が削減された半導体記憶装置を提供すること
を目的とする。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device in which both the read operation and the write operation are speeded up and the hardware scale for column selection is reduced.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明による半導体記憶
装置は、行列状に配列される複数のメモリセルと、各々
が各行の複数のメモリに接続される複数のワード線と、
各々が各列の複数のメモリに接続される複数の列ビット
線対と、前記複数のメモリセルのいずれかにデータを書
き込むための書き込みドライバと、前記複数のメモリセ
ルのいずれかからデータを読み出すためのセンスアンプ
と、前記書き込みドライバに接続される書き込み用共通
ビット線対と、前記センスアンプに接続される読み出し
用共通ビット線対と、各々が各列の列ビット線対、前記
書き込み用共通ビット線対及び前記読み出し用共通ビッ
ト線対に接続される複数の列選択回路と、各々が各列の
列選択回路に接続される複数の列選択線と、を備え、各
列の列選択回路は、第1の第1導電型トランジスタと、
第2の第1導電型トランジスタと、第1の第2導電型ト
ランジスタと、第2の第2導電型トランジスタと、を備
え、前記第1の第1導電型トランジスタのドレインと、
前記第1の第2導電型トランジスタのドレインは、対応
する列の列ビット線対の一方の線に接続され、前記第2
の第1導電型トランジスタのドレインと、前記第2の第
2導電型トランジスタのドレインは、前記対応する列の
列ビット線対の他方の線に接続され、前記第1の第1導
電型トランジスタのソースと、前記第1の第2導電型ト
ランジスタのゲートと、前記第2の第1導電型トランジ
スタのソースと、前記第2の第2導電型トランジスタの
ゲートは、前記対応する列の列選択線に接続され、前記
第1の第1導電型トランジスタのゲートは、前記書き込
み用共通ビット線対の一方の線に接続され、前記第2の
第1導電型トランジスタのゲートは、前記書き込み用共
通ビット線対の他方の線に接続され、前記第1の第2導
電型トランジスタのソースは前記読み出し用共通ビット
線対の一方の線に接続され、前記第2の第2導電型トラ
ンジスタのソースは前記読み出し用共通ビット線対の他
方の線に接続されることを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a semiconductor memory device comprising: a plurality of memory cells arranged in a matrix; a plurality of word lines each connected to a plurality of memories in each row;
A plurality of column bit line pairs each connected to a plurality of memories in each column; a write driver for writing data to any of the plurality of memory cells; and reading data from any of the plurality of memory cells Amplifier, a write common bit line pair connected to the write driver, a read common bit line pair connected to the sense amplifier, a column bit line pair of each column, and the write common bit line pair. A plurality of column selection circuits connected to the bit line pair and the read common bit line pair; and a plurality of column selection lines each connected to the column selection circuit of each column. Is a first first conductivity type transistor;
A second first-conductivity-type transistor, a first second-conductivity-type transistor, and a second second-conductivity-type transistor; and a drain of the first first-conductivity-type transistor;
The drain of the first second conductivity type transistor is connected to one line of a column bit line pair of a corresponding column,
The drain of the first conductivity type transistor and the drain of the second second conductivity type transistor are connected to the other line of the pair of column bit lines of the corresponding column, and the drain of the first first conductivity type transistor A source, a gate of the first second conductivity type transistor, a source of the second first conductivity type transistor, and a gate of the second second conductivity type transistor are connected to a column selection line of the corresponding column. And the gate of the first first conductivity type transistor is connected to one of the write common bit line pairs, and the gate of the second first conductivity type transistor is connected to the write common bit line. The source of the first second conductivity type transistor is connected to the other line of the line pair, the source of the first second conductivity type transistor is connected to one line of the read common bit line pair, and the source of the second second conductivity type transistor is connected. Characterized in that it is connected to the other line of the common bit line pair for the read.

【0014】また、本発明による半導体記憶装置は、上
記の半導体記憶装置において、前記複数のワード線のう
ち入力した行アドレスの値に対応したワード線と、前記
複数の列選択線のうち入力した列アドレスの値に対応し
た列選択線とを同時に活性化する第1の活性化手段を更
に備えることを特徴とする。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention, in the semiconductor memory device described above, a word line corresponding to an input row address value among the plurality of word lines and an input signal among the plurality of column selection lines are provided. A first activating means for simultaneously activating a column selection line corresponding to a value of a column address is further provided.

【0015】更に、本発明による半導体記憶装置は、上
記の半導体記憶装置において、前記第1の活性化手段に
より活性化している列選択線を非活性化する第1の非活
性化手段を更に備えることを特徴とする。
Further, the semiconductor memory device according to the present invention, in the above-mentioned semiconductor memory device, further comprises a first deactivating means for deactivating a column selection line activated by the first activating means. It is characterized by the following.

【0016】更に、本発明による半導体記憶装置は、上
記の半導体記憶装置において、前記非活性化手段が列選
択線を非活性化してから前記センスアンプを活性化する
第2の活性化手段を更に備えることを特徴とする。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention, the semiconductor memory device further includes a second activating means for activating the sense amplifier after the deactivating means deactivates a column selection line. It is characterized by having.

【0017】更に、本発明による半導体記憶装置は、上
記の半導体記憶装置において、前記第1の非活性化手段
により列選択線が非活性化されるとき又はされた後でワ
ード線を非活性化する第2の非活性化手段を更に備える
ことを特徴とする。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention, in the semiconductor memory device described above, the word line is deactivated when or after the column selection line is deactivated by the first deactivating means. And a second deactivating means.

【0018】更に、本発明による半導体記憶装置は、上
記の半導体記憶装置において、前記複数のワード線のう
ち入力した行アドレスの値に対応したワード線と、前記
複数の列選択線のうち入力した列アドレスの値に対応し
た列選択線とを同時に活性化すると共に、前記書き込み
用共通ビット線対のうち指定された論理値の値に対応し
た側の線を第1の論理値レベルにする書き込み手段を更
に備えることを特徴とする。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention, in the semiconductor memory device described above, a word line corresponding to an input row address value among the plurality of word lines and an input signal among the plurality of column selection lines are input. A column select line corresponding to a column address value is simultaneously activated, and a line corresponding to a specified logical value of the write common bit line pair is set to a first logical value level. It is characterized by further comprising means.

【0019】更に、本発明による半導体記憶装置は、上
記の半導体記憶装置において、前記書き込み手段により
前記書き込み用共通ビット線対のうち指定された論理値
の値に対応した側の線が第1の論理値レベルにされると
きに、前記書き込み用共通ビット線対のうち指定された
論理値の値に対応した側でない側の線を第2の論理値レ
ベルにする書き込み補助手段を更に備えることを特徴と
する。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention, in the semiconductor memory device described above, the line on the side corresponding to the designated logical value of the write common bit line pair by the writing means is the first line. When the logical value level is set, a write assisting means for setting a line of the write common bit line pair that is not the side corresponding to the specified logical value to a second logical value level is further provided. Features.

【0020】更に、本発明による半導体記憶装置は、上
記の半導体記憶装置において、前記複数のメモリセル
と、前記複数のワード線と、前記複数の列ビット線対
と、前記書き込みドライバと、前記センスアンプと、前
記書き込み用共通ビット線対と、前記読み出し用共通ビ
ット線対と、前記複数の列選択回路と、前記複数の列選
択線と、よりなる組が複数備わることを特徴とする。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention, in the semiconductor memory device described above, the plurality of memory cells, the plurality of word lines, the plurality of column bit line pairs, the write driver, and the sense A plurality of sets each including an amplifier, the pair of write common bit lines, the pair of read common bit lines, the plurality of column selection circuits, and the plurality of column selection lines are provided.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態について
図面を参照して説明する。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0022】図1を参照すると、半導体記憶装置の実施
形態1は、複数のメモリセル104(1、1)、・・・
104(1、N)、・・・、104(M、1)、・・
・、104(M、N)、各々が各列の複数のメモリセル
104(1、j)〜104(M、j)(1≦j≦N)に
接続されるN個(Nは自然数)のビット線対105
(1)〜105(N)、各々が各行の複数のメモリセル
104(i、1)〜104(i、N)(1≦i≦M)に
接続されるM個(Mは自然数)のワード線106(1)
〜106(M)、任意に選択されたメモリセル104
(i、j)に記憶されている論理値を読みとるセンスア
ンプ102、任意に選択されたメモリセル104(i、
j)に論理値を書き込む書き込みドライバ103、各々
がN個のビット線対105(1)〜105(N)のうち
から任意に選択された1のビット線対105(j)をセ
ンスアンプ102又は書き込みドライバ103と接続す
る列選択回路101(1)〜101(N)、入力するエ
ンコードされた行アドレス201をデコードしてデコー
ド結果に対応したワード線106(j)を活性化する行
デコーダ200、入力するエンコードされた列アドレス
301をデコードしてデコード結果に対応した列選択線
107(j)を活性化する列デコーダ301、センスア
ンプ102、書き込みドライバ103、行デコーダ20
0、列デコーダ300のタイミングを制御線401、4
02、403、404を介して制御する制御部400を
備える。列選択回路101(j)は、1つのビット線対
105(j)に対して1個あり、PMOSトランジスタ
MP(j)、MPB(j)、NMOSトランジスタMN
(j)、MNB(j)を備える。PMOSトランジスタ
MP(j)、MPB(j)は、読み出し用の選択トラン
ジスタであり、NMOSトランジスタMN(j)、MN
B(j)は、書き込み用の選択トランジスタである。P
MOSトランジスタMP(j)のドレイン端子とNMO
SトランジスタMN(j)のドレイン端子はビット線1
05a(j)に接続され、PMOSトランジスタMPB
(j)のドレイン端子とNMOSトランジスタMNB
(j)のドレイン端子はビット線105b(j)に接続
される。PMOSトランジスタMP(j)、MPB
(j)のゲート端子及びNMOSトランジスタMN
(j)、MNB(j)のソース端子は、列選択線107
(j)に接続さる。PMOSトランジスタMP(j)、
MPB(j)のソース端子は、読み出し用共通ビット線
対108a、108bを介してセンスアンプ102の入
力端子に接続される。NMOSトランジスタMN
(j)、MNB(j)のゲート端子は、書き込み用共通
ビット線対109a、109bを介して書き込みドライ
バ103の出力端子に接続される。
Referring to FIG. 1, a first embodiment of the semiconductor memory device includes a plurality of memory cells 104 (1, 1),.
104 (1, N),..., 104 (M, 1),.
, 104 (M, N), each of which is connected to a plurality of memory cells 104 (1, j) to 104 (M, j) (1 ≦ j ≦ N) in each column (N is a natural number) Bit line pair 105
(1) to 105 (N), M (M is a natural number) words each connected to a plurality of memory cells 104 (i, 1) to 104 (i, N) (1 ≦ i ≦ M) in each row Line 106 (1)
To 106 (M), arbitrarily selected memory cell 104
A sense amplifier 102 that reads a logical value stored in (i, j), and an arbitrarily selected memory cell 104 (i, j).
j) that writes a logical value to the bit line pair 105 (j) arbitrarily selected from the N bit line pairs 105 (1) to 105 (N). A column selection circuit 101 (1) to 101 (N) connected to the write driver 103, a row decoder 200 for decoding the input encoded row address 201 and activating the word line 106 (j) corresponding to the decoding result; A column decoder 301, a sense amplifier 102, a write driver 103, and a row decoder 20 for decoding an input encoded column address 301 and activating a column selection line 107 (j) corresponding to the decoding result.
0, the timing of the column decoder 300 is
02, 403, and 404. One column selection circuit 101 (j) is provided for one bit line pair 105 (j), and the PMOS transistors MP (j), MPB (j), and the NMOS transistor MN
(J), MNB (j). The PMOS transistors MP (j) and MPB (j) are selection transistors for reading, and the NMOS transistors MN (j) and MN
B (j) is a select transistor for writing. P
Drain terminal of MOS transistor MP (j) and NMO
The drain terminal of S transistor MN (j) is bit line 1
05a (j) and the PMOS transistor MPB
(J) Drain terminal and NMOS transistor MNB
The drain terminal of (j) is connected to the bit line 105b (j). PMOS transistors MP (j), MPB
(J) Gate terminal and NMOS transistor MN
(J), the source terminal of MNB (j)
(J). PMOS transistor MP (j),
The source terminal of MPB (j) is connected to the input terminal of the sense amplifier 102 via the read common bit line pair 108a, 108b. NMOS transistor MN
(J), the gate terminal of MNB (j) is connected to the output terminal of the write driver 103 via the write common bit line pair 109a, 109b.

【0023】図2を参照すると、半導体記憶装置の実施
形態2は、図1に示す実施形態1のアレイ部100を1
個もしくは複数個を列方向に配列して、アレイ部100
の列選択線107(1)〜107(N)を互いに接続し
た構成を有する。ワード線106(1)〜106(N)
は行デコーダ200により駆動され、列選択線107
(1)〜107(N)は、列デコーダ205により駆動
される。制御部500は、制御部400と同様に各部の
タイミングを制御する。例えば、同一アドレスの各ビッ
トを各アレイ部100に割り当てるが、異なったアドレ
スのビットを各アレイ部に割り当てて、制御部500に
より各アレイ部の活性化を制御しても良い。
Referring to FIG. 2, a second embodiment of the semiconductor memory device is the same as the first embodiment shown in FIG.
One or a plurality thereof are arranged in the column direction, and the array unit 100
Column selection lines 107 (1) to 107 (N) are connected to each other. Word lines 106 (1) to 106 (N)
Are driven by the row decoder 200 and the column selection lines 107
(1) to 107 (N) are driven by the column decoder 205. The control unit 500 controls the timing of each unit similarly to the control unit 400. For example, although each bit of the same address is allocated to each array unit 100, a bit of a different address may be allocated to each array unit, and the control unit 500 controls activation of each array unit.

【0024】図3を参照すると、センスアンプ102の
第1の実施形態は、ラッチ型のセンスアンプであり、読
み出し用共通ビット線対108a、108bを入出力線
として使用し、活性化信号線304が論理値Highと
なったときに活性化される。
Referring to FIG. 3, a first embodiment of the sense amplifier 102 is a latch type sense amplifier, which uses a read common bit line pair 108a, 108b as an input / output line and an activation signal line 304. Is activated when the signal has a logical value High.

【0025】図4を参照すると、センスアンプ102の
第2の実施形態は、差動型センスアンプ401と、書き
込みドライバ出力109a、109bを入力として、セ
ンスアンプ401の入力108a、108bと電源との
導通を制御するPMOSトランジスタ402、403に
より構成され、活性化信号線304が論理値Highと
なったときに出力線12に有効な論理値を出力する。
Referring to FIG. 4, in a second embodiment of the sense amplifier 102, the differential sense amplifier 401 and the write driver outputs 109a and 109b are used as inputs and the inputs 108a and 108b of the sense amplifier 401 are connected to the power supply. It is constituted by PMOS transistors 402 and 403 for controlling conduction, and outputs a valid logical value to the output line 12 when the activation signal line 304 has a logical value of High.

【0026】次に、半導体記憶装置の実施形態1におい
て任意の値をとる行アドレス201と列アドレス301
により決定されたメモリセル104(i、j)からデー
タを読み出す時の動作を図5を参照して説明する。
Next, in the first embodiment of the semiconductor memory device, a row address 201 and a column address 301 which take arbitrary values
The operation at the time of reading data from the memory cell 104 (i, j) determined by the above will be described with reference to FIG.

【0027】まず、時刻t1で、行デコーダ200がワ
ード線106(i)をHigi電位に活性化すると、メ
モリセル104(i、1)〜104(i、N)に書き込
まれているデータがビット線対105(1)〜105
(N)に出力される。同時に、列デコーダ300が書き
込み動作前の非選択状態において、High電位となっ
ていた全ての列選択線のうちの1本の列選択線107
(j)をLow電位に活性化する。これにより、PMO
SトランジスタMP(j)、MPB(j)が導通し、選
択されたビット線対105(j)とセンスアンプ102
の入力端子とが読み出し用共通ビット線対108a、1
08bを介して電気的に接続される。一定時間後の時刻
t2で、列デコーダ300が列選択線107(j)をH
igh電位に非活性化することにより、ビット線対10
5(j)とセンスアンプ102とを切り離してから、制
御部400が活性化信号線304をHigh電位に活性
化することによりセンスアンプ102を活性化する。更
に時刻t2で、行デコーダ200がワード線106
(i)をlow電位に非活性化する。但し、ワード線1
06(i)をLow電位に非活性化するのは時刻t2よ
り後でも良い。センスアンプ102は、読み出し用共通
ビット線対108a、108bの電位差を増幅し、増幅
結果を出力する。
First, at time t1, when the row decoder 200 activates the word line 106 (i) to the High potential, the data written in the memory cells 104 (i, 1) to 104 (i, N) becomes a bit. Line pair 105 (1) to 105
(N). At the same time, in a non-selected state before the column decoder 300 performs a write operation, one column select line 107 of all the column select lines that have been at the High potential.
(J) is activated to a low potential. With this, PMO
The S transistors MP (j) and MPB (j) become conductive, and the selected bit line pair 105 (j) and the sense amplifier 102
Are connected to the read common bit line pair 108a, 1
08b. At time t2 after a certain time, the column decoder 300 sets the column selection line 107 (j) to H
By deactivating to the high potential, the bit line pair 10
After disconnecting 5 (j) from the sense amplifier 102, the control unit 400 activates the activation signal line 304 to a High potential to activate the sense amplifier 102. Further, at time t2, the row decoder 200 sets the word line 106
(I) is deactivated to a low potential. However, word line 1
06 (i) may be deactivated to a Low potential after time t2. The sense amplifier 102 amplifies the potential difference between the read common bit line pair 108a and 108b, and outputs an amplification result.

【0028】次に、半導体記憶装置の実施形態1におい
て任意の値をとる行アドレス201と列アドレス301
により決定されたメモリセル104(i、j)に指定さ
れた論理値のデータを書き込む時の動作を図6を参照し
て説明する。
Next, in Embodiment 1 of the semiconductor memory device, a row address 201 and a column address 301 which take arbitrary values
Referring to FIG. 6, an operation when writing data of a specified logical value to the memory cell 104 (i, j) determined by the above will be described.

【0029】まず、時刻t3で、列デコーダ300が書
き込み動作前の非選択状態において、High電位とな
っていた全ての列選択線のうちの1本の列選択線107
(j)をLow電位に活性化する。これにより、NMO
SトランジスタMN(j)、MNB(j)のソース電位
がLow電位となる。同時に、書き込みドライバ103
が書き込み動作前にはlow電位であった書き込み用共
通ビット線対109a、109bのうちの書き込みデー
タの論理値に応じた一方の線109a又は109bをH
igh電位とすることにより、NMOSトランジスタM
N(j)、MNB(j)のうちの一方のトランジスタM
N(j)又はMNB(j)のソース−ドレイン間を導通
とする。これにより、NMOSトランジスタMN(j)
のソース−ドレイン間が導通する場合には、ビット線1
05a(j)がHigh電位からlow電位となり、ビ
ット線105b(j)はHigh電位を維持する。一
方、NMOSトランジスタMNB(j)のソース−ドレ
イン間が導通する場合には、ビット線105b(j)が
High電位からlow電位となり、ビット線105a
(j)はHigh電位を維持する。時刻t3では、更
に、行デコーダ200がワード線106(i)をHig
h電位に活性化することによりメモリセル104(i、
j)へのデータの書き込みが行われる。一定時間後の時
刻t4で書き込みが終了し、書き込みドライバ103、
行デコーダ200、列デコーダ300は、時刻t3で活
性化した信号線を非活性化する。
First, at time t3, in a non-selection state before the column decoder 300 performs a write operation, one column selection line 107 of all the column selection lines having the High potential has been set.
(J) is activated to a low potential. With this, NMO
The source potentials of the S transistors MN (j) and MNB (j) become Low potential. At the same time, the write driver 103
, One of the write common bit line pairs 109a and 109b, which had a low potential before the write operation, is set to one of the lines 109a or 109b corresponding to the logical value of the write data.
By setting the potential to high, the NMOS transistor M
N (j), one transistor M of MNB (j)
Conduction is performed between the source and the drain of N (j) or MNB (j). Thereby, the NMOS transistor MN (j)
Of the bit line 1
05a (j) changes from the High potential to the Low potential, and the bit line 105b (j) maintains the High potential. On the other hand, when the source-drain of the NMOS transistor MNB (j) conducts, the bit line 105b (j) changes from the high potential to the low potential, and the bit line 105a
(J) maintains the High potential. At time t3, the row decoder 200 further sets the word line 106 (i) to Hig.
Activating the memory cell 104 (i,
Data writing to j) is performed. The writing ends at time t4 after a certain time, and the writing driver 103
The row decoder 200 and the column decoder 300 deactivate the signal line activated at the time t3.

【0030】書き込み動作時において、選択されたビッ
ト線対105(j)に接続されるPMOSトランジスタ
MP(j)、MPB(j)のソースドレイン間が同時に
導通するが、センスアンプ102の活性化信号線304
が活性化されないため、その導通は、ビット線105a
(j)又は105b(j)をLow電位に引き落とす動
作には全く影響を与えない。
In the write operation, the source and drain of the PMOS transistors MP (j) and MPB (j) connected to the selected bit line pair 105 (j) conduct simultaneously, but the activation signal of the sense amplifier 102 is activated. Line 304
Is not activated, the conduction is made to the bit line 105a.
There is no effect on the operation of pulling (j) or 105b (j) to the low potential.

【0031】逆に、図3、図4に示すセンスアンプ10
2を用いることにより、Low電位に引き落とされるビ
ット線105a(j)又は105b(j)と対をなすも
う一方のビット線105b(j)又は105a(j)を
High電位に固定できる。これにより、ビット線対1
05(j)の一方にHigh電位を、その他方にLow
電位を与えることができ、安定に書き込み動作が行うこ
とが可能である。
Conversely, the sense amplifier 10 shown in FIGS.
By using 2, the other bit line 105b (j) or 105a (j) paired with the bit line 105a (j) or 105b (j) pulled down to the Low potential can be fixed at the High potential. Thereby, bit line pair 1
05 (j) has a High potential, and the other has a Low potential.
A potential can be given, so that a writing operation can be performed stably.

【0032】すなわち、図3に示すセンスアンプでは、
センスアンプ入出力線108a、108bの一方が、L
ow電位となるため、PMOSトランジスタ13、14
の一方のドレインが電源に導通し、センスアンプ入出力
線108a、108bの他方がHigh電位となる。ま
た、選択されたビット線対105(j)に接続されるP
MOSトランジスタMP(j)、MPB(j)のソース
ドレイン間が同時に導通している。従って、Low電位
に引き落とされるビット線105a(j)又は105b
(j)と対をなすもう一方のビット線105b(j)又
は105a(j)をHigh電位となる。
That is, in the sense amplifier shown in FIG.
One of the sense amplifier input / output lines 108a and 108b
ow potential, the PMOS transistors 13 and 14
Is connected to the power supply, and the other of the sense amplifier input / output lines 108a and 108b has the High potential. Also, P connected to the selected bit line pair 105 (j)
The source and drain of the MOS transistors MP (j) and MPB (j) are simultaneously conducting. Therefore, the bit line 105a (j) or 105b pulled down to the low potential
The other bit line 105b (j) or 105a (j) paired with (j) is set to High potential.

【0033】図4に示すセンスアンプでは、書き込み用
共通ビット線109a、109bの論理値を、インバー
タ404、405で反転し、PMOSトランジスタ40
2、403に入力する。従って、High電位となって
いる書き込み用共通ビット線109a又は109bとは
反対側のセンスアンプ入力線108a又は108bをH
igh電位に固定することができる。また、選択された
ビット線対105(j)に接続されるPMOSトランジ
スタMP(j)、MPB(j)のソースドレイン間が同
時に導通している。従って、Low電位に引き落とされ
るビット線105a(j)又は105b(j)と対をな
すもう一方のビット線105b(j)又は105a
(j)をHigh電位となる。
In the sense amplifier shown in FIG. 4, the logic values of the write common bit lines 109a and 109b are inverted by inverters 404 and 405, and the PMOS transistor 40
2, 403 is input. Therefore, the sense amplifier input line 108a or 108b on the opposite side of the write common bit line 109a or 109b having the High potential is set to H level.
It can be fixed at the high potential. The source and drain of the PMOS transistors MP (j) and MPB (j) connected to the selected bit line pair 105 (j) are simultaneously conducting. Therefore, the other bit line 105b (j) or 105a paired with the bit line 105a (j) or 105b (j) pulled down to the Low potential.
(J) becomes High potential.

【0034】なお、上記実施形態のトランジスタの導電
型を全て反転しても良い。すなわち、PMOSトランジ
スタをNMOSトランジスタに置き換え、NMOSトラ
ンジスタをPMOSトランジスタに置き換えても良い。
The conductivity types of the transistors of the above embodiment may be all inverted. That is, the PMOS transistor may be replaced with an NMOS transistor, and the NMOS transistor may be replaced with a PMOS transistor.

【0035】[0035]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、読
み出し用の列選択線と書き込み用の列選択線とを共通に
用いることが可能である。共通に用いることで、図7に
示す従来例1と比較して、列選択線の数を2N本からN
本まで半減できる効果がある。また、図8に示す従来例
2と比較して、1つの列選択回路当たりのトランジスタ
数を8個から4個まで半減できる効果がある。
As described above, according to the present invention, a column select line for reading and a column select line for writing can be commonly used. By using them in common, the number of column selection lines can be increased from 2N to N as compared with the conventional example 1 shown in FIG.
There is an effect that can be reduced by half to books Further, as compared with the conventional example 2 shown in FIG. 8, there is an effect that the number of transistors per column selection circuit can be reduced by half from eight to four.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による半導体記憶装置の実施形態1を示
す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing Embodiment 1 of a semiconductor memory device according to the present invention.

【図2】本発明による半導体記憶装置の実施形態2を示
すブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram showing a second embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention;

【図3】本発明によるセンスアンプの実施形態2を示す
回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a second embodiment of the sense amplifier according to the present invention;

【図4】本発明によるセンスアンプの実施形態2を示す
回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a second embodiment of the sense amplifier according to the present invention;

【図5】本発明による半導体記憶装置の実施形態1の読
み出し動作時のタイミング図である。
FIG. 5 is a timing chart at the time of a read operation of the first embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention;

【図6】本発明による半導体記憶装置の実施形態1の書
き込み動作時のタイミング図である。
FIG. 6 is a timing chart at the time of a write operation of the first embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention;

【図7】従来例1による半導体記憶装置を示す回路図で
ある。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a semiconductor memory device according to Conventional Example 1.

【図8】従来例2による半導体記憶装置を示す回路図で
ある。
FIG. 8 is a circuit diagram showing a semiconductor memory device according to Conventional Example 2.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

MN(1)〜MN(N)、MNB(1)〜MNB(N)
NMOSトランジスタ MP(1)〜MP(N)、MPB(1)〜MPB(N)
PMOSトランジスタ 101 列選択回路 102 センスアンプ 103 書き込みドライバ 104(1、1)〜104(M、N) メモリセル 105(1)〜105(N) ビット線対 106(1)〜106(M) ワード線 107(1)〜107(N) 列選択線 108a、108b 読み出し用共通ビット線 109a、109b 書き込み用共通ビット線 200 行デコーダ 300 列デコーダ 400 制御部
MN (1) to MN (N), MNB (1) to MNB (N)
NMOS transistors MP (1) to MP (N), MPB (1) to MPB (N)
PMOS transistor 101 Column selection circuit 102 Sense amplifier 103 Write driver 104 (1, 1) to 104 (M, N) Memory cell 105 (1) to 105 (N) Bit line pair 106 (1) to 106 (M) Word line 107 (1) to 107 (N) Column selection lines 108a, 108b Common bit lines for reading 109a, 109b Common bit lines for writing 200 Row decoder 300 Column decoder 400 Control unit

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 行列状に配列される複数のメモリセル
と、 各々が各行の複数のメモリに接続される複数のワード線
と、 各々が各列の複数のメモリに接続される複数の列ビット
線対と、 前記複数のメモリセルのいずれかにデータを書き込むた
めの書き込みドライバと、 前記複数のメモリセルのいずれかからデータを読み出す
ためのセンスアンプと、 前記書き込みドライバに接続される書き込み用共通ビッ
ト線対と、 前記センスアンプに接続される読み出し用共通ビット線
対と、 各々が各列の列ビット線対、前記書き込み用共通ビット
線対及び前記読み出し用共通ビット線対に接続される複
数の列選択回路と、 各々が各列の列選択回路に接続される複数の列選択線
と、を備え、 各列の列選択回路は、第1の第1導電型トランジスタ
と、第2の第1導電型トランジスタと、第1の第2導電
型トランジスタと、第2の第2導電型トランジスタと、
を備え、 前記第1の第1導電型トランジスタのドレインと、前記
第1の第2導電型トランジスタのドレインは、対応する
列の列ビット線対の一方の線に接続され、 前記第2の第1導電型トランジスタのドレインと、前記
第2の第2導電型トランジスタのドレインは、前記対応
する列の列ビット線対の他方の線に接続され、 前記第1の第1導電型トランジスタのソースと、前記第
1の第2導電型トランジスタのゲートと、前記第2の第
1導電型トランジスタのソースと、前記第2の第2導電
型トランジスタのゲートは、前記対応する列の列選択線
に接続され、 前記第1の第1導電型トランジスタのゲートは、前記書
き込み用共通ビット線対の一方の線に接続され、 前記第2の第1導電型トランジスタのゲートは、前記書
き込み用共通ビット線対の他方の線に接続され、 前記第1の第2導電型トランジスタのソースは前記読み
出し用共通ビット線対の一方の線に接続され、 前記第2の第2導電型トランジスタのソースは前記読み
出し用共通ビット線対の他方の線に接続されることを特
徴とする半導体記憶装置。
1. A plurality of memory cells arranged in a matrix, a plurality of word lines each connected to a plurality of memories in each row, and a plurality of column bits each connected to a plurality of memories in each column. A line pair, a write driver for writing data to any of the plurality of memory cells, a sense amplifier for reading data from any of the plurality of memory cells, and a write common connected to the write driver A bit line pair; a read common bit line pair connected to the sense amplifier; and a plurality of each connected to the column bit line pair of each column, the write common bit line pair, and the read common bit line pair. And a plurality of column selection lines each connected to the column selection circuit of each column. The column selection circuit of each column includes a first first conductivity type transistor, a second A first conductivity type transistor, a first second conductivity type transistor, a second second conductivity type transistor,
A drain of the first first conductivity type transistor and a drain of the first second conductivity type transistor are connected to one line of a column bit line pair of a corresponding column, The drain of the one-conductivity-type transistor and the drain of the second second-conductivity-type transistor are connected to the other line of the column bit line pair of the corresponding column, and the source of the first first-conductivity-type transistor A gate of the first second conductivity type transistor, a source of the second first conductivity type transistor, and a gate of the second second conductivity type transistor are connected to a column selection line of the corresponding column. The gate of the first first conductivity type transistor is connected to one of the write common bit line pairs, and the gate of the second first conductivity type transistor is connected to the write common bit line. The source of the first second conductivity type transistor is connected to one line of the read common bit line pair, and the source of the second second conductivity type transistor is connected to the read line. A semiconductor memory device connected to the other line of the common bit line pair.
【請求項2】 請求項1に記載の半導体記憶装置におい
て、前記複数のワード線のうち入力した行アドレスの値
に対応したワード線と、前記複数の列選択線のうち入力
した列アドレスの値に対応した列選択線とを同時に活性
化する第1の活性化手段を更に備えることを特徴とする
半導体記憶装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a word line corresponding to an input row address value among said plurality of word lines, and an input column address value among said plurality of column selection lines. A semiconductor memory device, further comprising a first activating means for simultaneously activating a column selection line corresponding to.
【請求項3】 請求項2に記載の半導体記憶装置におい
て、前記第1の活性化手段により活性化している列選択
線を非活性化する第1の非活性化手段を更に備えること
を特徴とする半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 2, further comprising: a first deactivating means for deactivating a column selection line activated by said first activating means. Semiconductor storage device.
【請求項4】 請求項3に記載の半導体記憶装置におい
て、前記非活性化手段が列選択線を非活性化してから前
記センスアンプを活性化する第2の活性化手段を更に備
えることを特徴とする半導体記憶装置。
4. The semiconductor memory device according to claim 3, further comprising a second activating means for activating said sense amplifier after said deactivating means deactivates a column selection line. Semiconductor storage device.
【請求項5】 請求項3又は4に記載の半導体記憶装置
において、前記第1の非活性化手段により列選択線が非
活性化されるとき又はされた後でワード線を非活性化す
る第2の非活性化手段を更に備えることを特徴とする半
導体記憶装置。
5. The semiconductor memory device according to claim 3, wherein a word line is deactivated when or after a column selection line is deactivated by said first deactivating means. 2. A semiconductor memory device further comprising: 2 deactivating means.
【請求項6】 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の
半導体記憶装置において、前記複数のワード線のうち入
力した行アドレスの値に対応したワード線と、前記複数
の列選択線のうち入力した列アドレスの値に対応した列
選択線とを同時に活性化すると共に、前記書き込み用共
通ビット線対のうち指定された論理値の値に対応した側
の線を第1の論理値レベルにする書き込み手段を更に備
えることを特徴とする半導体記憶装置。
6. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a word line corresponding to an input row address value among said plurality of word lines and said plurality of column selection lines are connected to each other. And simultaneously activating the column selection line corresponding to the input column address value, and setting the line of the write common bit line pair corresponding to the specified logical value to the first logical value level. A semiconductor memory device further comprising a writing unit.
【請求項7】 請求項6に記載の半導体記憶装置におい
て、前記書き込み手段により前記書き込み用共通ビット
線対のうち指定された論理値の値に対応した側の線が第
1の論理値レベルにされるときに、前記書き込み用共通
ビット線対のうち指定された論理値の値に対応した側で
ない側の線を第2の論理値レベルにする書き込み補助手
段を更に備えることを特徴とする半導体記憶装置。
7. The semiconductor memory device according to claim 6, wherein a line on a side corresponding to a specified logical value of said write common bit line pair is set to a first logical value level by said writing means. A write assisting means for setting a line on the side of the write common bit line pair that is not the side corresponding to the specified logical value to a second logical value level Storage device.
【請求項8】 請求項1乃至7のいずれか1項に記載の
半導体記憶装置において、前記複数のメモリセルと、前
記複数のワード線と、前記複数の列ビット線対と、前記
書き込みドライバと、前記センスアンプと、前記書き込
み用共通ビット線対と、前記読み出し用共通ビット線対
と、前記複数の列選択回路と、前記複数の列選択線と、
よりなる組が複数備わることを特徴とする半導体記憶装
置。
8. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said plurality of memory cells, said plurality of word lines, said plurality of column bit line pairs, and said write driver are provided. The sense amplifier, the common bit line pair for writing, the common bit line pair for reading, the plurality of column selection circuits, and the plurality of column selection lines.
A semiconductor memory device comprising a plurality of sets.
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