JPH07141885A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPH07141885A
JPH07141885A JP14766693A JP14766693A JPH07141885A JP H07141885 A JPH07141885 A JP H07141885A JP 14766693 A JP14766693 A JP 14766693A JP 14766693 A JP14766693 A JP 14766693A JP H07141885 A JPH07141885 A JP H07141885A
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writing
column decoder
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内 秀 輝 竹
Masayuki Hayakawa
川 誠 幸 早
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    • G11C7/1006Data managing, e.g. manipulating data before writing or reading out, data bus switches or control circuits therefor
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    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors

Abstract

PURPOSE:To attain the high speed of an operation, to attain a stable operation with high reliability, to increase number of writing bits larger than that of reading bits and to increase latitude of design. CONSTITUTION:In the case of writing data from data input lines DIN, DINI through writing transistors 2 into a cell 1 selected by a word line WL among cells 1 connected with a same bit pair BL NBL since only a first column decoder is present between a common data line pair DL, NDL and the bit line pair BL, NBL the floated voltages of low potential data are suppressed and then writings of data are performed surely. Further, the number of writing data bits can be formed larger than that of output data bits by enabling writing transistors 2 to write data having numbers of bits corresponding to the common data line pair DL, NDL.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体記憶装置に係り、
特に階層的なカラムデコーダを2段以上設けたランダム
アクセス型の半導体記憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device,
In particular, the present invention relates to a random access type semiconductor memory device having two or more hierarchical column decoders.

【0002】[0002]

【従来の技術】ランダムにデータの書き込み、読み出し
が可能なランダムアクセスメモリ(RAM)では、メモ
リセルを2次元状(マトリクス状)に配列し、選択され
たワード線とビット線の交点のメモリセルに、外部より
与えられたデータを書き込んだり、このメモリセルから
センスアンプリファイアを通じてデータを読み出したり
する機能を有する。
2. Description of the Related Art In a random access memory (RAM) capable of writing and reading data at random, memory cells are arranged in a two-dimensional (matrix) form, and memory cells at intersections of selected word lines and bit lines are arranged. In addition, it has a function of writing data given from the outside and reading data from this memory cell through a sense amplifier.

【0003】つまり、データの書き込み時には、まず外
部より入力されたアドレス信号によりワード線が選択さ
れ、そのワード線に接続されているメモリセルが選択さ
れる。ここで、外部より入力されたデータは、書き込み
回路により共通データ線を通じて選択されたビット線対
上に出力され、メモリセルに書き込まれる。
That is, when writing data, a word line is first selected by an address signal input from the outside, and a memory cell connected to the word line is selected. Here, the data inputted from the outside is outputted to the bit line pair selected by the write circuit through the common data line and written in the memory cell.

【0004】一方、データの読み出し時には、まず外部
より入力されたアドレス信号によりワード線が選択さ
れ、そのワード線に接続されているメモリセルが選択さ
れる。次に、選択されたメモリセルは、自己が記憶して
いるデータに応じたデータをビット線対に出力する。ビ
ット線上に出力されたデータは、カラムデコーダを介し
て共通ビット線対上を伝わり、センスアンプリファイア
により増幅されて外部に出力される。
On the other hand, when reading data, a word line is first selected by an address signal input from the outside, and a memory cell connected to the word line is selected. Next, the selected memory cell outputs the data corresponding to the data stored in itself to the bit line pair. The data output on the bit line is transmitted on the common bit line pair via the column decoder, amplified by the sense amplifier, and output to the outside.

【0005】ここで、4MSRAMを例にとって従来の
半導体記憶装置を説明する。図3は従来の半導体記憶装
置の部分回路構成図である。図において示すように、ビ
ット線BLとビット線NBL(ビット線BLの反転信号
線)より構成されるビット線対にはデータを格納するた
めの複数のセル1,1,…が接続される。セル1は、例
えば図6に示すスタティック型のメモリセルを用い、そ
れらをマトリクス状に配置してメモリセルアレイを構成
している。このメモリセルアレイの中で同一の列(カラ
ム)に配置される複数のメモリセル1,1,…がビット
線BL,NBLに接続され、同一の行(ロウ)に配置さ
れた複数のメモリセルが複数のワード線WL(1),W
L(2),…によって選択されることになる。図では、
1つのビット線対と、2本のワード線WL(1),WL
(2)のみを示している。さて、セル1(1)はワード
線WL(1)により選択される。このセル(1)が接続
されたビット線対には、カラムデコード信号CDとCD
I(カラムデコード信号CDの反転信号)が与えられる
第1のカラムデコーダFCDと、カラムデコード信号C
DPとCDPI(カラムデコード信号CDPの反転信
号)が与えられる第2のカラムデコーダSCDが接続さ
れる。そして、ビット線BL,NBLは、第1のカラム
デコーダFCD、第2のカラムデコーダSCDを介して
共通データ線DL,NDLからなるデータ線対に接続さ
れる。この共通データ線DL,NDLには、データ入力
線DINとデータ入力線DINI(データ入力線DIN
の反転信号)が入力される、書き込みトランジスタ2が
接続されている。
Here, a conventional semiconductor memory device will be described by taking a 4MSRAM as an example. FIG. 3 is a partial circuit configuration diagram of a conventional semiconductor memory device. As shown in the figure, a plurality of cells 1, 1, ... For storing data are connected to a bit line pair composed of a bit line BL and a bit line NBL (inverted signal line of the bit line BL). As the cell 1, for example, static type memory cells shown in FIG. 6 are used, and they are arranged in a matrix to form a memory cell array. In this memory cell array, a plurality of memory cells 1, 1, ... Which are arranged in the same column are connected to bit lines BL, NBL, and a plurality of memory cells arranged in the same row are arranged. A plurality of word lines WL (1), W
It will be selected by L (2), .... In the figure,
One bit line pair and two word lines WL (1), WL
Only (2) is shown. Now, the cell 1 (1) is selected by the word line WL (1). The column decode signals CD and CD are connected to the bit line pair to which the cell (1) is connected.
The first column decoder FCD to which I (inverted signal of the column decode signal CD) is applied, and the column decode signal C
A second column decoder SCD to which DP and CDPI (inverted signal of column decode signal CDP) are applied is connected. The bit lines BL and NBL are connected to the data line pair including the common data lines DL and NDL via the first column decoder FCD and the second column decoder SCD. The common data lines DL and NDL include a data input line DIN and a data input line DINI (data input line DIN
The write transistor 2 to which the inverted signal of 1) is input is connected.

【0006】図3の半導体記憶装置は入出力のビット数
が8ビットである。ワード線選択方式としては2重ワー
ド線方式が採用されており、メインワード線としてはア
ドレスX1〜X9により選択される512本が設けられ
る。また、セクションは32に分割されており、1セク
ションは16本X8ビット=128本のカラムにより構
成されている。そして、図3に示すように、カラム選択
は階層的に構成された第1、第2のカラムデコーダFC
D,SCDにより行なわれる。つまり、第1のカラムデ
コーダFCDは4本づつのカラムを単位とし、第2のカ
ラムデコーダも4本づつのカラムを単位として配置され
る。すなわち、カラムデコード信号CD,CDIおよび
カラムデコード信号CDP,CDPIにより16本のカ
ラムのうちの1本が選択されることになる。このように
すれば、第1,第2のカラムデコーダFCD,SCDに
よりカラム選択を階層的に行うことによりカラムデコー
ド信号の本数が少なくなる、センスアンプのレイアウト
が容易になりパターン面積が小さくなる等の利点があ
る。例えば、1段のカラムデコーダの場合デコード信号
は32本必要であるが、2段のカラムデコーダにより1
6本のカラムを階層的に選択するとカラムデコード信号
は16本あればよい。この時カラムデコード信号線に付
くゲート容量も減るためアクセスタイムも速くなる。
The semiconductor memory device of FIG. 3 has 8 input / output bits. A double word line system is adopted as a word line selection system, and 512 main lines selected by addresses X1 to X9 are provided. Further, the section is divided into 32, and one section is composed of columns of 16 × 8 bits = 128. Then, as shown in FIG. 3, the column selection is performed by the first and second column decoders FC configured hierarchically.
D, SCD. That is, the first column decoder FCD is arranged in units of four columns, and the second column decoder is also arranged in units of four columns. That is, one of 16 columns is selected by the column decode signals CD, CDI and the column decode signals CDP, CDPI. With this configuration, the column selection is hierarchically performed by the first and second column decoders FCD and SCD, so that the number of column decode signals is reduced, the layout of the sense amplifier is facilitated, and the pattern area is reduced. There are advantages. For example, in the case of a one-stage column decoder, 32 decode signals are required, but one 2
If 6 columns are hierarchically selected, 16 column decode signals are enough. At this time, since the gate capacitance attached to the column decode signal line is reduced, the access time is shortened.

【0007】ここで、セル1(1)に対するデータの書
き込みの動作を説明する。先ず、ワード線WL(1)が
選択されると、これに接続されたセル1(1)が選択さ
れる。また、第1のカラムデコーダFCDのカラムデコ
ード信号CD,CDIと第2のカラムデコーダSCDの
カラムデコード信号CDP,CDPIにより、16本の
カラムのうちの1本が選択される。外部から入力された
書き込みデータに応じて生成されデータ入力線DIN,
DINIに入力される1組の書き込みデータは図4
(A)の波形図に示すように、一方が高電位、他方が低
電位として与えられる。ここで、セクションデコード信
号SDと書き込み信号WEの論理積信号が与えられる
と、書き込みトランジスタ2が選択される。書き込みト
ランジスタ2は、データ入力線DIN,DINIのデー
タに基づき、共通データ線DL,NDLのデータ線対に
それぞれ高電位と低電位を与える。この共通データ線D
L,NDLのデータは、第1のカラムデコーダ、第2の
カラムデコーダを介して、ビット線BL,NBLに伝え
られる。
Here, the operation of writing data to the cell 1 (1) will be described. First, when the word line WL (1) is selected, the cell 1 (1) connected to it is selected. Also, one of the 16 columns is selected by the column decode signals CD, CDI of the first column decoder FCD and the column decode signals CDP, CDPI of the second column decoder SCD. A data input line DIN, which is generated according to write data input from the outside,
A set of write data input to DINI is shown in FIG.
As shown in the waveform diagram of (A), one is applied as a high potential and the other is applied as a low potential. Here, when the logical product signal of the section decode signal SD and the write signal WE is given, the write transistor 2 is selected. The write transistor 2 applies a high potential and a low potential to the data line pair of the common data lines DL and NDL, respectively, based on the data of the data input lines DIN and DINI. This common data line D
The data of L and NDL are transmitted to the bit lines BL and NBL via the first column decoder and the second column decoder.

【0008】以上のようにして、ビット線BL,NBL
にデータが与えられると、ワード線WL(1)により選
択されているセル1(1)にデータが書き込まれること
になる。
As described above, the bit lines BL, NBL
When the data is applied to the cell 1, the data is written to the cell 1 (1) selected by the word line WL (1).

【0009】一方、データの読み出しについても全く同
様のプロセスでセル1(1)とビット線BL,NBLが
選択され、共通データ線DL,NDLにセル1(1)か
らのデータが導出され、図示しないセンスアンプリファ
イアを介してデータの読み出しが行なわれる。
On the other hand, for reading data, the cell 1 (1) and the bit lines BL and NBL are selected by the same process, and the data from the cell 1 (1) is derived to the common data lines DL and NDL. Data is read through the sense amplifier.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】ここで、データの書き
込み動作について考えるに、データ入力線DIN,DI
NIのデータは、書き込みトランジスタ2およびオン動
作している第1、第2のカラムデコーダFCD,SCD
を介してビット線BL,NBLの一方に伝送され、セル
1に与えられる。しかし、書き込みトランジスタ2と第
1、第2のカラムデコーダのトランジスタにオン抵抗が
あるため、ビット線BL,NBLの線対の低電位側の電
位がデータ入力線DIN,DINIの低電位側の電位よ
りもかなり高くなってしまう。つまり、図4(B)に示
すように、ビット線BL,NBLに伝達されるデータの
低電位は、データ入力線DIN,DINIに与えられた
データの低電位よりも、ΔV1だけ高くなる。
Here, to consider the data write operation, the data input lines DIN and DI will be described.
The data of NI is the write transistor 2 and the first and second column decoders FCD and SCD which are on.
Is transmitted to one of the bit lines BL and NBL via the line and applied to the cell 1. However, since the write transistor 2 and the transistors of the first and second column decoders have ON resistance, the potential on the low potential side of the line pair of the bit lines BL and NBL is the potential on the low potential side of the data input lines DIN and DINI. Will be much higher than That is, as shown in FIG. 4B, the low potential of the data transmitted to the bit lines BL and NBL is higher by ΔV1 than the low potential of the data supplied to the data input lines DIN and DINI.

【0011】ビット線対の低電位側の電位が上記のよう
に高くなると、セル1には寄生抵抗の影響などによる非
対称性があるために、セル1にデータが書き込みにくく
なってしまうという問題が生じる。
When the potential on the low potential side of the bit line pair becomes high as described above, there is a problem that it becomes difficult to write data to the cell 1 because the cell 1 has asymmetry due to the influence of parasitic resistance. Occurs.

【0012】このように、従来の半導体記憶装置で、カ
ラムデコーダを2段以上備えたものの場合は、カラムデ
コーダのトランジスタのオン抵抗により低電位側の電位
が高くなってしまい、セル1にデータを書き込みにくく
なるという欠点があり、アクセス速度向上の妨げになる
ばかりでなく、信頼性低下の原因ともなっていた。
As described above, when the conventional semiconductor memory device is provided with two or more stages of column decoders, the on-resistance of the transistors of the column decoder raises the potential on the low potential side and the data is stored in the cell 1. There is a drawback that writing becomes difficult, which not only hinders improvement in access speed, but also causes a decrease in reliability.

【0013】更に、従来の半導体記憶装置は、入出力の
ビット数は同じ(例えば共に8ビット)であり、入力の
ビット数と出力のビット数が異なる構成、特に入力ビッ
ト数が出力ビット数よりも多い構成を設計することは困
難であり、アクセス速度の向上のための設計の自由度が
低いという問題があった。
Further, in the conventional semiconductor memory device, the number of input / output bits is the same (for example, both are 8 bits), and the number of input bits is different from the number of output bits. It is difficult to design a large number of configurations, and there is a problem that the degree of freedom in design for improving the access speed is low.

【0014】本発明は上記従来技術の問題点を解消し、
動作の高速化が可能になると共に安定した信頼性の高い
動作が可能となり、書き込みビット数を読み出しビット
数よりも増やすことができ設計の自由度の高い半導体記
憶装置を得ることを目的とする。
The present invention solves the above problems of the prior art,
It is an object of the present invention to obtain a semiconductor memory device which enables higher speed operation and stable and highly reliable operation, which allows the number of write bits to be larger than the number of read bits and has a high degree of freedom in design.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、マトリクス状に配置されたメモリセルアレイの同一
行の複数のメモリセルを選択する複数のワード線と、前
記メモリセルアレイの同一の列の複数のメモリセルに共
通に接続され、前記ワード線によって選択されたメモリ
セルとの間でデータの授受を行う、複数のビット線対
と、予め決めた数の前記ビット線対のうちの1つを選択
的に、複数の第1の共通データ線対のうちの対応する1
つのものに接続可能な第1のカラムデコーダと、前記各
第1の共通データ線対に接続され、外部より各データ入
力線対を介して入力されたデータに基づいて、選択され
たメモリセルにデータを書き込むための複数の書き込み
手段と、前記複数の第1の共通データ線対のうちの1つ
を選択的に第2の共通データ線対に接続可能な第2のカ
ラムデコーダと、前記第2の共通データ線対と接続さ
れ、選択されたメモリセルからのデータを第1の共通デ
ータ線対及び第2の共通データ線対を介して読み出すセ
ンスアンプリファイアと、を備えるものとして構成され
る。
A semiconductor memory device of the present invention includes a plurality of word lines for selecting a plurality of memory cells in the same row of a memory cell array arranged in a matrix and a plurality of word lines in the same column of the memory cell array. One of a plurality of bit line pairs, which are commonly connected to a plurality of memory cells and exchange data with the memory cells selected by the word line, and a predetermined number of the bit line pairs. Selectively corresponding to one of the plurality of first common data line pairs.
A first column decoder connectable to one of the memory cells and a first common data line pair, and to a selected memory cell based on data externally input via each data input line pair. A plurality of writing means for writing data, a second column decoder capable of selectively connecting one of the plurality of first common data line pairs to a second common data line pair, and the second column decoder A sense amplifier connected to the two common data line pairs and reading data from the selected memory cell via the first common data line pair and the second common data line pair. .

【0016】[0016]

【作用】データを書き込む場合に、第1の共通データ線
対とビット線対の間に1つのカラムデコーダ(第1のカ
ラムデコーダ)しか介在しないので、低電位データの電
圧の浮き上がりが抑制されデータの書き込みが確実に行
われる。さらに、書き込み手段によって、第1の共通デ
ータ線対に対応したビット数のデータ書き込みができる
ようにしたので、書き込みデータのビット数を出力デー
タビット数よりも大きく取ることができるようになる。
When writing data, since only one column decoder (first column decoder) is interposed between the first common data line pair and the bit line pair, floating of the voltage of the low potential data is suppressed. Is surely written. Further, since the writing means can write the data of the bit number corresponding to the first common data line pair, the bit number of the write data can be made larger than the output data bit number.

【0017】[0017]

【実施例】以下、図面を参照しながら本発明の実施例を
説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0018】図1は本発明の一実施例に係る半導体記憶
装置の部分回路構成図である。図において示すように、
カラムデコード信号CD,CDIが入力される第1のカ
ラムデコーダFCDは、セル1の接続されるビット線B
L,NBLと、書き込みトランジスタ2が接続される共
通データ線DL,NDLとの間に接続されている。一
方、カラムデコード信号CDP,CDPIが入力される
第2のカラムデコーダは、共通データ線DL,NDLに
接続された第2の共通データ線SDL,SNDLに接続
されている。なお、書き込みトランジスタ2に対して
は、セクションデコード信号SDとカラムデコード信号
CDPと書き込み信号WEの論理積信号とが与えられ
る。ちなみに、図示しないが、第2の共通データ線SD
L,SNDLには、セル1(図6参照)からのデータを
センス、増幅するための、センスアンプリファイアが接
続される。このほか、図3の構成と同様に、カラムデコ
ード信号CD,CDIが与えられる第1のカラムデコー
ダFCDはビット線BL,NBLを含む4つのビット線
対の中からビット線BL,NBLを選択するものであ
る。カラムデコード信号CDP,CDPIが与えられる
第2のカラムデコーダは、共通データ線DL,NDLを
含む4つのデータ線対の中から共通データ線DL,ND
Lを選択するものである。ここで、図1において図示し
ていないが書き込みトランジスタ2の数は従来例の回路
に比べて4倍になるが、カラムデコード信号CD・CD
I,CDP・CDPIおよびデータ入力線DIN・DI
NIの本数は同じであるため従来例とほぼ同じレイアウ
トパターン面積で図1の回路を実現することができる。
FIG. 1 is a partial circuit configuration diagram of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. As shown in the figure,
The first column decoder FCD to which the column decode signals CD and CDI are input is a bit line B to which the cell 1 is connected.
It is connected between L and NBL and common data lines DL and NDL to which the write transistor 2 is connected. On the other hand, the second column decoder to which the column decode signals CDP and CDPI are input is connected to the second common data lines SDL and SNDL connected to the common data lines DL and NDL. The logical product signal of the section decode signal SD, the column decode signal CDP, and the write signal WE is applied to the write transistor 2. Incidentally, although not shown, the second common data line SD
A sense amplifier for sensing and amplifying data from the cell 1 (see FIG. 6) is connected to L and SNDL. Besides, similarly to the configuration of FIG. 3, the first column decoder FCD to which the column decode signals CD and CDI are applied selects the bit lines BL and NBL from four bit line pairs including the bit lines BL and NBL. It is a thing. The second column decoder to which the column decode signals CDP and CDPI are applied is provided with the common data lines DL and ND from the four data line pairs including the common data lines DL and NDL.
This is to select L. Although not shown in FIG. 1, the number of write transistors 2 is four times that of the conventional circuit, but the column decode signals CD
I, CDP / CDPI and data input lines DIN / DI
Since the number of NIs is the same, the circuit of FIG. 1 can be realized with a layout pattern area almost the same as that of the conventional example.

【0019】以上述べたような構成において、次にその
動作を説明する。
The operation of the above-described structure will be described below.

【0020】先ず、データの書き込みについて説明す
る。先ずワード線WL(1)が選択され、このワード線
WL(1)に接続されるセル1(1)が選択される。次
に、第2のカラムデコーダSCDに与えられるカラムデ
コード信号CDP,CDPIにより、第2の共通データ
線SDL,SNDLが選択され、共通データ線DL,N
DLに接続される。この時、書き込みトランジスタ2が
オン状態となる。更に、第1のカラムデコーダFCDに
与えられるカラムデコード信号CD,CDIにより、ビ
ット線BL,NBLと共通データ線DL,NDLとが接
続される。この時点で、書き込みトランジスタ2とセル
1が接続され、且つ外部からデータ入力線DIN,DI
NIに入力されたデータに基づき共通データ線DL,N
DLが高電位および低電位になる。そして、選択された
セル1に外部からのデータが書き込まれる。
First, the writing of data will be described. First, the word line WL (1) is selected, and the cell 1 (1) connected to this word line WL (1) is selected. Next, the second common data lines SDL, SNDL are selected by the column decode signals CDP, CDPI provided to the second column decoder SCD, and the common data lines DL, N are selected.
Connected to DL. At this time, the writing transistor 2 is turned on. Further, the bit lines BL and NBL are connected to the common data lines DL and NDL by the column decode signals CD and CDI provided to the first column decoder FCD. At this time, the write transistor 2 and the cell 1 are connected, and the data input lines DIN, DI are externally supplied.
Common data lines DL, N based on the data input to NI
DL becomes high potential and low potential. Then, external data is written in the selected cell 1.

【0021】さて、以上のような動作の結果、図2
(A)に示すように、データ入力線DIN,DINIの
データの高電位、低電位に対して、データの書き込みに
際しては第1のカラムデコーダしか存在しないので、図
2(B)に示すように、トランジスタのオン抵抗による
共通データ線DL,NDLの低電位側の電位の浮上がり
をΔV2まで抑制することが可能であり、セル1への書
き込みを確実に行なわせることができる。ちなみに、図
2(B)と図4(B)を比較すると判かるように、低電
位側の電位の浮上がりΔV2は従来の低電位の浮上がり
ΔV1に比べて第2のカラムデコーダが存在しない分だ
け十分に抑制されたものとなっている。
Now, as a result of the above operation, FIG.
As shown in FIG. 2A, since only the first column decoder exists when writing data with respect to the high potential and low potential of the data on the data input lines DIN and DINI, as shown in FIG. The rise of the potential on the low potential side of the common data lines DL and NDL due to the on resistance of the transistors can be suppressed to ΔV2, and writing to the cell 1 can be reliably performed. By the way, as can be seen by comparing FIG. 2B and FIG. 4B, the second column decoder does not exist in the potential rise ΔV2 on the low potential side as compared with the conventional low potential rise ΔV1. It has been sufficiently suppressed.

【0022】また、データの読み出し時にはセル1
(1)に接続されるビット線BL,NBLを第1のカラ
ムデコーダFCDにより選択して共通データ線DL,N
DLに接続する。更に共通データ線DL,NDLを第2
のカラムデコーダSCDにより選択して第2の共通デー
タ線SDL,SNDLに接続する。これにより、セル1
(1)を図示しないセンスアンプリファイアに接続し、
セル1(1)のデータを増幅して外部に導出する。
When reading data, cell 1
The bit lines BL and NBL connected to (1) are selected by the first column decoder FCD to select the common data lines DL and N
Connect to DL. Further, the common data lines DL and NDL are set to the second
Selected by the column decoder SCD and connected to the second common data lines SDL and SNDL. This makes cell 1
Connect (1) to a sense amplifier (not shown),
The data of the cell 1 (1) is amplified and led to the outside.

【0023】以上のように、階層的に複数設けられたカ
ラムデコーダを分散して配置し、書き込みトランジスタ
2とセル1との間に介在するカラムデコーダを1つとし
たことにより、書き込みデータの低電位の浮き上がりを
抑止でき、高速での確実なデータの書き込みを可能にす
ることができる。
As described above, a plurality of column decoders arranged hierarchically are arranged in a distributed manner, and one column decoder is interposed between the write transistor 2 and the cell 1, so that the low potential of write data is obtained. It is possible to suppress the floating of the data and enable reliable writing of data at high speed.

【0024】図5は本発明の他の実施例に係る半導体記
憶装置の部分回路構成図である。図において示すよう
に、セル1を含むカラムのビット線BL,NBLには複
数のメモリセルが接続される。メモリセルはワード線W
L1,WL2…を選択することにより選択される。セン
スアンプリファイア4には、それぞれ第2の共通データ
線SDL,SNDLが接続される。なお、センスアンプ
リファイア4は、出力8ビットに対応して8組設けられ
ているので、共通データ線対の数は合計8組となる。こ
の共通データ線対には、カラムデコード信号CDP1,
CDPI1,CDP2,CDPI2…によって選択動作
する4組の第2のカラムデコーダSCDが接続され、共
通データ線DL,NDLを含む4組のデータ線対のうち
の1組を、それぞれ1つのセンスアンプリファイア4に
接続する。つまりセクション全体では8組のデータ線対
が選択される。ちなみに、セクション全体では32組の
共通データ線が設けられる。さて、この32組の共通デ
ータ線対には、データ入力線DIN1−1,DINI1
−1,DIN1−2,DINI1−2…を通じて4組の
データが入力され、データ入力線DIN2−1,DIN
I2−1,DIN2−2,DINI2−2…を通じて4
組のデータが入力され、同様にして更に4組X6=24
組のデータが入力され、各共通データ線対毎に対応して
設けられる32組の書き込み回路3に与えられる。各書
き込み回路3は、カラムデコード信号CD1,CDI
1,CD2,CDI2…が与えられる4組の第1のカラ
ムデコーダFCDに接続され、ビット線BL,NBLを
含むビット線対に接続される。つまり、32組設けられ
る書き込み回路3にはすべて異なるデータ入力線が接続
されており、それぞれが共通ビット線対に対応している
ので、32ビット単位の書き込みを行なうことを可能と
している。
FIG. 5 is a partial circuit configuration diagram of a semiconductor memory device according to another embodiment of the present invention. As shown in the figure, a plurality of memory cells are connected to the bit lines BL and NBL of the column including the cell 1. Memory cells are word lines W
It is selected by selecting L1, WL2 ... Second common data lines SDL and SNDL are connected to the sense amplifier 4, respectively. Since eight sets of sense amplifiers 4 are provided corresponding to 8-bit output, the number of common data line pairs is eight in total. The column decode signals CDP1, CDP1,
Four sets of second column decoders SCD which are selectively operated by CDPI1, CDP2, CDPI2, ... Connect to 4. That is, eight data line pairs are selected in the entire section. Incidentally, 32 sets of common data lines are provided in the entire section. By the way, the 32 common data line pairs are connected to the data input lines DIN1-1, DINI1.
Four sets of data are input via -1, DIN1-2, DINII1-2, and data input lines DIN2-1, DIN.
4 through I2-1, DIN2-2, DINI2-2 ...
4 sets of X6 = 24 are input in the same way as the data of the set is input.
A set of data is input and given to 32 sets of write circuits 3 provided corresponding to each common data line pair. Each write circuit 3 has column decode signals CD1 and CDI.
1, CD2, CDI2 ... Are provided to four sets of first column decoders FCD and are connected to a bit line pair including bit lines BL and NBL. That is, since different sets of data input lines are connected to the 32 sets of write circuits 3 and each of them corresponds to a common bit line pair, it is possible to write in 32 bit units.

【0025】以上述べたような構成において、次にその
動作を説明する。
The operation of the above-described structure will be described below.

【0026】先ず、データの書き込みに当たっては、ワ
ード線WL(1),WL(2)…の内の一本が選択さ
れ、選択したワード線に接続されたメモリセル1,1,
…が選択される。この時、書き込み回路3に入力されて
いる信号により、選択されたセクション内の全ての書き
込みトランジスタ2がオンとなる。さらに、第1のカラ
ムデコーダFCDに与えられるカラムデコード信号CD
1,CDI1,CD2,CDI2…により第1のカラム
デコーダFCDを介して共通データ線対に接続されるビ
ット線対の一本が選択される。ここで共通データ線対は
4本あるので、結局16本のカラムのうちの4本が選択
されることになる。そして、1セクション内では4本X
8=32本のカラムが選択される。この時、32ビット
のデータが外部から入力されると、入力されたデータに
基づき共通データ線対が高電位、低電位になり選択され
たメモリセルにデータの書き込みが行なわれる。以上の
ようにして、32ビットのデータが同時に書き込まれる
ことになる。
First, in writing data, one of the word lines WL (1), WL (2) ... Is selected and the memory cells 1, 1, connected to the selected word line are selected.
... is selected. At this time, all the write transistors 2 in the selected section are turned on by the signal input to the write circuit 3. Further, the column decode signal CD supplied to the first column decoder FCD
1, CDI1, CD2, CDI2 ... Select one bit line pair connected to the common data line pair via the first column decoder FCD. Here, since there are four common data line pairs, four of the 16 columns will eventually be selected. And 4 in one section
8 = 32 columns are selected. At this time, when 32-bit data is input from the outside, the common data line pair is set to high potential and low potential based on the input data, and data is written to the selected memory cell. As described above, 32-bit data is simultaneously written.

【0027】一方、データの読み出し時には、第1のカ
ラムデコーダFCDにより4本のビット線対の一本が選
択され、共通データ線に接続される。同様に、第2のカ
ラムデコーダSCDにより4本の共通データ線の一本が
選択され第2の共通データ線に接続される。そして、第
2の共通データ線に接続されたセンスアンプリファイア
4を通じてメモリセルのデータの増幅と読み出しが行な
われるので、結局8ビットのデータが読み出されること
になる。
On the other hand, when reading data, one of the four bit line pairs is selected by the first column decoder FCD and connected to the common data line. Similarly, one of the four common data lines is selected by the second column decoder SCD and connected to the second common data line. Then, since the data in the memory cell is amplified and read through the sense amplifier 4 connected to the second common data line, 8-bit data is eventually read.

【0028】以上のように、書き込み時には32ビット
のデータを同時に書き込むことができるので、書き込み
動作の高速化が可能となり、メモリセルの高速でのアク
セスが可能となる。
As described above, since 32-bit data can be simultaneously written at the time of writing, the write operation can be speeded up and the memory cell can be accessed at high speed.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上述べたように、本発明の半導体記憶
装置によれば、カラムデコーダを階層化したメモリセル
アレイにおいてデータの書き込みを確実にすることがで
きるので、アクセスの高速化と高信頼化が計れ、更に読
み出しデータのビット数に対して書き込みデータのビッ
ト数を大きくすることが可能なので、動作の更なる高速
化を実現できるという効果がある。
As described above, according to the semiconductor memory device of the present invention, it is possible to surely write data in the memory cell array in which the column decoder is hierarchized, so that the access speed is increased and the reliability is increased. Since it is possible to increase the number of bits of write data with respect to the number of bits of read data, there is an effect that a higher speed operation can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例に係る半導体記憶装置の部分
回路構成図である。
FIG. 1 is a partial circuit configuration diagram of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の構成の動作を説明するための波形図であ
る。
FIG. 2 is a waveform diagram for explaining the operation of the configuration of FIG.

【図3】従来の半導体記憶装置の部分回路構成図であ
る。
FIG. 3 is a partial circuit configuration diagram of a conventional semiconductor memory device.

【図4】図3の構成の動作を説明するための波形図であ
る。
FIG. 4 is a waveform diagram for explaining the operation of the configuration of FIG.

【図5】本発明の他の実施例に係る半導体記憶装置の部
分回路構成図である。
FIG. 5 is a partial circuit configuration diagram of a semiconductor memory device according to another embodiment of the present invention.

【図6】スタティック型メモリセルの一例である。FIG. 6 is an example of a static memory cell.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 セル 2 書き込みトランジスタ 3 書き込み回路 4 センスアンプリファイア BL,NBL ビット線 WL,WL1,WL2 ワード線 DL,NDL 共通データ線 SDL,SNDL 第2の共通データ線 1 cell 2 write transistor 3 write circuit 4 sense amplifier BL, NBL bit line WL, WL1, WL2 word line DL, NDL common data line SDL, SNDL second common data line

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】マトリクス状に配置されたメモリセルアレ
イの同一行の複数のメモリセルを選択する複数のワード
線と、 前記メモリセルアレイの同一の列の複数のメモリセルに
共通に接続され、前記ワード線によって選択されたメモ
リセルとの間でデータの授受を行う、複数のビット線対
の複数と、 予め決めた数の前記ビット線対のうちの1つを選択的
に、複数の第1の共通データ線対のうちの対応する1つ
のものに接続可能な第1のカラムデコーダと、 前記各第1の共通データ線対に接続され、外部より各デ
ータ入力線対を介して入力されたデータに基づいて、選
択されたメモリセルにデータを書き込むための複数の書
き込み手段の複数と、 前記複数の第1の共通データ線対のうちの1つを選択的
に第2の共通データ線対に接続可能な第2のカラムデコ
ーダと、 前記第2の共通データ線対と接続され、選択されたメモ
リセルからのデータを第1の共通データ線対及び第2の
共通データ線対を介して読み出すセンスアンプリファイ
アと、 を備えることを特徴とする半導体記憶装置。
1. A plurality of word lines that select a plurality of memory cells in the same row of a memory cell array arranged in a matrix and a plurality of word lines that are commonly connected to a plurality of memory cells in the same column of the memory cell array. A plurality of bit line pairs for exchanging data with a memory cell selected by a line and one of a predetermined number of the bit line pairs are selectively selected. A first column decoder connectable to a corresponding one of the common data line pairs, and data input to the first common data line pairs from the outside via each data input line pair. A plurality of write means for writing data to the selected memory cell, and one of the plurality of first common data line pairs is selectively changed to a second common data line pair. Second connectable A column decoder, and a sense amplifier connected to the second common data line pair for reading data from the selected memory cell via the first common data line pair and the second common data line pair. A semiconductor memory device comprising:
【請求項2】前記書き込み手段の制御は、前記第1のカ
ラムデコーダに入力されるデコード信号に基づく制御信
号により行われる、請求項1記載の装置。
2. The device according to claim 1, wherein the control of the writing means is performed by a control signal based on a decode signal input to the first column decoder.
【請求項3】前記データ入力線対の数が、外部にデータ
を出力する出力バッファの数より多い、請求項1又は2
記載の装置。
3. The number of the data input line pairs is greater than the number of output buffers for outputting data to the outside.
The described device.
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