JP3301692B2 - 除錆剤組成物 - Google Patents
除錆剤組成物Info
- Publication number
- JP3301692B2 JP3301692B2 JP03284596A JP3284596A JP3301692B2 JP 3301692 B2 JP3301692 B2 JP 3301692B2 JP 03284596 A JP03284596 A JP 03284596A JP 3284596 A JP3284596 A JP 3284596A JP 3301692 B2 JP3301692 B2 JP 3301692B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- rust
- rust remover
- composition
- semiconductor photocatalyst
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は金属に発生する錆
を、常温においても効果的にかつ安全に除去することが
でき、素材金属に対する腐食の少ない除錆剤組成物に関
する。
を、常温においても効果的にかつ安全に除去することが
でき、素材金属に対する腐食の少ない除錆剤組成物に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来から金属の脱スケールや除錆剤とし
て塩酸、硫酸や硝酸等の鉱酸を用いる方法が知られてい
る。しかし、これら鉱酸は、劇物として取扱いが困難で
あり、さらに金属素材そのものへの腐食が大きいという
欠点がある。また、リン酸に増粘剤を加えたものや硫酸
にアルミナを加えたクリーム状のもの（米国特許327556
0）などが知られているが効果が少なく、金属素材その
ものへの腐食があり、満足すべきものではなかった。ま
た、金属に対する腐食性を改善するため、穏和な有機酸
やキレート剤が使用されている。シュウ酸、クエン酸、
グルコン酸、EDTA、等を併用した除錆剤が提案されてい
る（例えば特公昭45-37360号、特公昭62-156281号）
が、効果が小さく実質的に除錆剤としては使用できなか
った。
て塩酸、硫酸や硝酸等の鉱酸を用いる方法が知られてい
る。しかし、これら鉱酸は、劇物として取扱いが困難で
あり、さらに金属素材そのものへの腐食が大きいという
欠点がある。また、リン酸に増粘剤を加えたものや硫酸
にアルミナを加えたクリーム状のもの（米国特許327556
0）などが知られているが効果が少なく、金属素材その
ものへの腐食があり、満足すべきものではなかった。ま
た、金属に対する腐食性を改善するため、穏和な有機酸
やキレート剤が使用されている。シュウ酸、クエン酸、
グルコン酸、EDTA、等を併用した除錆剤が提案されてい
る（例えば特公昭45-37360号、特公昭62-156281号）
が、効果が小さく実質的に除錆剤としては使用できなか
った。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、素材金属を犯す塩酸、硫酸、硝酸、燐酸等の鉱酸を
使用せず、錆取り効果が高く、人体に対して安全な除錆
剤組成物を提供することを課題とする。
は、素材金属を犯す塩酸、硫酸、硝酸、燐酸等の鉱酸を
使用せず、錆取り効果が高く、人体に対して安全な除錆
剤組成物を提供することを課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上に述べた
問題点を解決するために鋭意検討を行った結果、塩酸、
硫酸、硝酸、リン酸を使用せず、キレート剤と半導体光
触媒を組み合わせることにより上記課題を解決すること
ができることを見いだし本発明を完成した。
問題点を解決するために鋭意検討を行った結果、塩酸、
硫酸、硝酸、リン酸を使用せず、キレート剤と半導体光
触媒を組み合わせることにより上記課題を解決すること
ができることを見いだし本発明を完成した。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明の組成物の必須成分の１つ
であるキレート剤は、キレート効果を有する化合物であ
れば特に限定されない。例えばシュウ酸、クエン酸、マ
レイン酸、マロン酸、グルコン酸、イタコン酸、リンゴ
酸、酒石酸、チオグリコール酸、アクリル酸、ニトリロ
トリ酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、乳酸等のオキ
シ酸ないしポリカルボン酸、アスパラギン酸、アラニ
ン、アルギニン、グアノシン、グリシン、システイン、
セリン、トリプトファン、スレオニン、ニコチン酸、ヒ
スチジン、フェニルアラニン、プロリン、メチオニン、
リジン、ロイシン等のアミノ酸類、ポリアクリル酸、ポ
リマレイン酸等のポリマー酸、エチレンジアミン、トリ
エタノール等のアミン類、サリチルアルデヒド等のアル
デヒド類、アセチルアセトン等のケトン類等が挙げら
れ、これらは塩の形態であってもよく、単独で、または
２種以上を混合して用いてもよい。好ましいのはシュウ
酸、クエン酸、エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴ
Ａ）またはこれらの塩である。
であるキレート剤は、キレート効果を有する化合物であ
れば特に限定されない。例えばシュウ酸、クエン酸、マ
レイン酸、マロン酸、グルコン酸、イタコン酸、リンゴ
酸、酒石酸、チオグリコール酸、アクリル酸、ニトリロ
トリ酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、乳酸等のオキ
シ酸ないしポリカルボン酸、アスパラギン酸、アラニ
ン、アルギニン、グアノシン、グリシン、システイン、
セリン、トリプトファン、スレオニン、ニコチン酸、ヒ
スチジン、フェニルアラニン、プロリン、メチオニン、
リジン、ロイシン等のアミノ酸類、ポリアクリル酸、ポ
リマレイン酸等のポリマー酸、エチレンジアミン、トリ
エタノール等のアミン類、サリチルアルデヒド等のアル
デヒド類、アセチルアセトン等のケトン類等が挙げら
れ、これらは塩の形態であってもよく、単独で、または
２種以上を混合して用いてもよい。好ましいのはシュウ
酸、クエン酸、エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴ
Ａ）またはこれらの塩である。
【０００６】本発明の組成物の必須成分である半導体光
触媒としては、例えばＴｉＯ2、ＳｒＴｉＯ3、ＫＴａＯ
3、ＳｎＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、ＷＯ3、Ｆｅ2Ｏ3、Ｂｉ2Ｏ3、
ＦｅＴｉＯ8、ＺｎＯ、ＣｄＯ、ＭｏＳ2、Ｓｉ、及びＳ
ｉＯ2などの光の照射により酸化力を発生する半導体が
挙げられ、好ましくは、ＴｉＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、ＳｎＯ2、
ＷＯ3、およびＳｉＯ2が挙げられる。より好ましくは、
ＴｉＯ2およびＦｅ2Ｏ3である。ＴｉＯ2等の半導体光触
媒の粒子径は、特に限定されないが、例えば、１nm〜１
mm程度、好ましくは、１〜５０nm程度である。ＴｉＯ2
等の半導体光触媒の比表面積は、特に限定されないが、
例えば、０.０００１〜１０００m2／g程度が好ましく、
２００〜４００m2／g程度がより好ましい。ＴｉＯ2の結
晶形は、いずれのタイプでもよいが、好ましくは、アナ
ターゼ型である。半導体光触媒は、電荷分離が良好に行
えるように、適宜処理をすることができる。例えば、P
t、Au、Pd、Ir、Ag、Rh、Ru、Zn、Cu、Ni、Co、Feおよ
びVからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属また
は金属化合物を該半導体光触媒に担持させてもよい。ま
た、電荷分離した電子のアクセプターとして、メチルビ
オローゲンや、酸化還元色素等を系中に添加してもよ
い。更に、電子のドナーとして、Sn、Cuなどを系中に添
加してもよい。
触媒としては、例えばＴｉＯ2、ＳｒＴｉＯ3、ＫＴａＯ
3、ＳｎＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、ＷＯ3、Ｆｅ2Ｏ3、Ｂｉ2Ｏ3、
ＦｅＴｉＯ8、ＺｎＯ、ＣｄＯ、ＭｏＳ2、Ｓｉ、及びＳ
ｉＯ2などの光の照射により酸化力を発生する半導体が
挙げられ、好ましくは、ＴｉＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、ＳｎＯ2、
ＷＯ3、およびＳｉＯ2が挙げられる。より好ましくは、
ＴｉＯ2およびＦｅ2Ｏ3である。ＴｉＯ2等の半導体光触
媒の粒子径は、特に限定されないが、例えば、１nm〜１
mm程度、好ましくは、１〜５０nm程度である。ＴｉＯ2
等の半導体光触媒の比表面積は、特に限定されないが、
例えば、０.０００１〜１０００m2／g程度が好ましく、
２００〜４００m2／g程度がより好ましい。ＴｉＯ2の結
晶形は、いずれのタイプでもよいが、好ましくは、アナ
ターゼ型である。半導体光触媒は、電荷分離が良好に行
えるように、適宜処理をすることができる。例えば、P
t、Au、Pd、Ir、Ag、Rh、Ru、Zn、Cu、Ni、Co、Feおよ
びVからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属また
は金属化合物を該半導体光触媒に担持させてもよい。ま
た、電荷分離した電子のアクセプターとして、メチルビ
オローゲンや、酸化還元色素等を系中に添加してもよ
い。更に、電子のドナーとして、Sn、Cuなどを系中に添
加してもよい。
【０００７】本発明の好ましい除錆剤組成物としては、
キレート剤としてクエン酸、シュウ酸、エチレンジアミ
ンテトラ酢酸、及びそれらの塩からなる群から選ばれる
少なくとも一種であり、半導体光触媒が、ＴｉＯ2であ
る組成物が挙げられる。
キレート剤としてクエン酸、シュウ酸、エチレンジアミ
ンテトラ酢酸、及びそれらの塩からなる群から選ばれる
少なくとも一種であり、半導体光触媒が、ＴｉＯ2であ
る組成物が挙げられる。
【０００８】本発明の組成物は、水に溶解あるいは分散
させて使用する。使用する水は、イオン交換水が好まし
い。
させて使用する。使用する水は、イオン交換水が好まし
い。
【０００９】本除錆剤組成物におけるキレート剤の使用
量は、組成物全体に対する重量比で0.1重量%〜50重量
%、好ましくは5重量%〜20重量%である。半導体光触媒の
使用量は、全体量に対して0.1重量%〜40重量%、好まし
くは1重量%〜10重量%である。半導体光触媒は水に溶解
しないため静置して置くと沈澱するが、使用時には攪拌
し分散状態で使用するとよい。
量は、組成物全体に対する重量比で0.1重量%〜50重量
%、好ましくは5重量%〜20重量%である。半導体光触媒の
使用量は、全体量に対して0.1重量%〜40重量%、好まし
くは1重量%〜10重量%である。半導体光触媒は水に溶解
しないため静置して置くと沈澱するが、使用時には攪拌
し分散状態で使用するとよい。
【００１０】なお錆への浸透性を促進するためにアニオ
ン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、非イオン系界
面活性剤を併用できる。その使用量は、組成物全体に対
して０．０１〜１０重量％程度である。
ン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、非イオン系界
面活性剤を併用できる。その使用量は、組成物全体に対
して０．０１〜１０重量％程度である。
【００１１】水溶液のpHは、特に限定するものではない
が、キレート剤を溶かすためにNaOH、KOH、アンモニア
水等でpHを調整してもよい。
が、キレート剤を溶かすためにNaOH、KOH、アンモニア
水等でpHを調整してもよい。
【００１２】
【実施例】以下、本発明を実施例および比較例を用いて
より詳細に説明する。
より詳細に説明する。
【００１３】実施例１〜５および比較例１〜４ 冷間圧延鋼板（JIS G3141 SPCC-SD）を１Ｎ塩酸に５秒
間浸漬後１カ月大気暴露をおこない強制的に錆を発生さ
せたテストピースを、表１に示す本発明の組成物１〜５
および比較組成物１〜４中に１０分間の浸漬（室温、静
置）を行い、浸漬後における錆の除去の程度を観察し、
錆の除去の程度をパーセントで評価した。結果を表１に
示した。
間浸漬後１カ月大気暴露をおこない強制的に錆を発生さ
せたテストピースを、表１に示す本発明の組成物１〜５
および比較組成物１〜４中に１０分間の浸漬（室温、静
置）を行い、浸漬後における錆の除去の程度を観察し、
錆の除去の程度をパーセントで評価した。結果を表１に
示した。
【００１４】
【表１】
【００１５】なお、表１中、各成分の数値の単位は、重
量％であり、錆の除去率の単位は％である。
量％であり、錆の除去率の単位は％である。
【００１６】実施例６〜９及び比較例５〜８ 表１に示した実施例１及び比較例１の成分組成を実施例
６〜９および比較例５〜８に用い、テストピースとして
表２に記載した材質を、上記実施例と同様に錆を発生さ
せたものを用い、同様の錆取り試験を行った。結果を表
２に示した。評価方法は、上記と同様である。
６〜９および比較例５〜８に用い、テストピースとして
表２に記載した材質を、上記実施例と同様に錆を発生さ
せたものを用い、同様の錆取り試験を行った。結果を表
２に示した。評価方法は、上記と同様である。
【００１７】
【表２】
【００１８】なお、表２中の数値は、錆の除去率であ
り、単位は％である。
り、単位は％である。
【００１９】表１および表２の結果から本発明の組成物
は、錆を効果的に除去することが明かである。
は、錆を効果的に除去することが明かである。
【００２０】
【発明の効果】本発明は、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等
の強力な酸を使用しないので、金属素材を侵すことな
く、錆取り効果が高く、人体に対しても安全な除錆剤組
成物である。
の強力な酸を使用しないので、金属素材を侵すことな
く、錆取り効果が高く、人体に対しても安全な除錆剤組
成物である。
Claims (4)
- 【請求項１】 キレート剤と半導体光触媒を必須成分と
する除錆剤組成物。 - 【請求項２】 キレート剤が、シュウ酸、クエン酸およ
びエチレンジアミンテトラ酢酸、およびそれらの塩から
なる群から選ばれる少なくとも１種である請求項１に記
載の除錆剤組成物。 - 【請求項３】 半導体光触媒が、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ｗ
Ｏ3、ＳｉＯ2およびＦｅ2Ｏ3からなる群から選ばれる少
なくとも１種である請求項１および２に記載の除錆剤組
成物。 - 【請求項４】 半導体光触媒が、ＴｉＯ2、及びＦｅ2Ｏ
3である請求項１及び２に記載の除錆剤組成物。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03284596A JP3301692B2 (ja) | 1996-01-25 | 1996-01-25 | 除錆剤組成物 |
| PCT/JP1998/000610 WO1999041202A1 (fr) | 1996-01-25 | 1998-02-16 | Desodorisant a base d'ozone |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03284596A JP3301692B2 (ja) | 1996-01-25 | 1996-01-25 | 除錆剤組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09202982A JPH09202982A (ja) | 1997-08-05 |
| JP3301692B2 true JP3301692B2 (ja) | 2002-07-15 |
Family
ID=12370171
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03284596A Expired - Fee Related JP3301692B2 (ja) | 1996-01-25 | 1996-01-25 | 除錆剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3301692B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100486485B1 (ko) * | 2001-12-27 | 2005-05-03 | 남택권 | 부식억제 배합물 및 이를 제조하는 방법 |
-
1996
- 1996-01-25 JP JP03284596A patent/JP3301692B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09202982A (ja) | 1997-08-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3898801B2 (ja) | 銀製品の変色皮膜除去剤及び除去方法 | |
| JPH0394074A (ja) | 金属面へのコーテイング付与用改良組成物および付与方法 | |
| KR102555554B1 (ko) | 멀티-금속에 대한 거의 중성 pH의 산세액 | |
| CA2509446A1 (en) | Rinse aid composition containing water-soluble metal salt for use in automatic dishwashing for metal corrosion and rust formation protection | |
| TWI418656B (zh) | Surface treatment method | |
| JP2006219691A (ja) | 金属表面処理方法 | |
| JP5586614B2 (ja) | ステンレス鋼の表面処理方法 | |
| JP3301692B2 (ja) | 除錆剤組成物 | |
| Venkatasubramanian et al. | Inhibitive effect of Ce (III) and La (III) cations for AA2219 aluminium alloy corrosion in sodium chloride medium | |
| CA1046387A (en) | Method and composition for cleaning the surface of ferrous metal | |
| JP2000199087A (ja) | 除錆剤組成物 | |
| JP2004143530A (ja) | 金属表面洗浄剤 | |
| JPH044397B2 (ja) | ||
| JP5073998B2 (ja) | 銀器類の改良方法 | |
| US3997361A (en) | Coin cleaner | |
| JP3814698B2 (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| US5264041A (en) | Method for cleaning a vessel | |
| WO2000011240A1 (fr) | Detergents pour articles en metal et procede de nettoyage d'articles en metal avec de tels detergents | |
| JP4147135B2 (ja) | 麺類調理装置の洗浄方法 | |
| JP3441875B2 (ja) | 除錆剤組成物 | |
| US2913360A (en) | Method of descaling nickel alloys | |
| AU757069B2 (en) | Method for cleaning a container | |
| CN1067275A (zh) | 一种酸性水基金属清洗剂 | |
| JPH0450393B2 (ja) | ||
| JPH04344864A (ja) | 銅製部品のばり取り方法及びその廃液処理方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080426 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090426 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100426 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110426 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120426 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130426 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130426 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140426 Year of fee payment: 12 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |