JP3294474B2 - 太陽電池セル、太陽電池モジュールおよび太陽電池セルの製造方法 - Google Patents

太陽電池セル、太陽電池モジュールおよび太陽電池セルの製造方法

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JP3294474B2
JP3294474B2 JP16747895A JP16747895A JP3294474B2 JP 3294474 B2 JP3294474 B2 JP 3294474B2 JP 16747895 A JP16747895 A JP 16747895A JP 16747895 A JP16747895 A JP 16747895A JP 3294474 B2 JP3294474 B2 JP 3294474B2
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impurity diffusion
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    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

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  • Photovoltaic Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は太陽電池セル、太
陽電池モジュールおよび太陽電池セルの製造方法に関
し、特にBSF(Back Surface Field)効果を有する太
陽電池セル、太陽電池モジュールおよび太陽電池セルの
製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】図18は従来の太陽電池モジュールの構
成を説明するための略断面図である。
【0003】太陽電池モジュールは複数の太陽電池セル
23a,23b,……を含む。太陽電池セル23a,2
3b,……は充填樹脂18と白板強化ガラス17とによ
り封入される。太陽電池セル23a,23b,……の各
々は導電性材料であるインターコネクタ15により、各
々の受光面(白板強化ガラス17に面する面であり、
「表面」ともいう)および裏面とで直列に接続される。
太陽電池モジュールはモジュールフレーム枠21により
挾持される。
【0004】図19は図18に示される1つの太陽電池
セルと他の太陽電池セルとの接続関係を示した図であ
る。
【0005】図を参照して、太陽電池セル23a,23
bの各々は、P型半導体基板6と、P型半導体基板6の
受光面に形成されたれN+ 不純物拡散層9と、裏面に形
成されたP+ 不純物拡散層7とを備える。N+ 不純物拡
散層9には、N+ 型電極2が電気的に接続されており、
+ 不純物拡散層7には裏面Al金属層部8が電気的に
接続されており、裏面Al金属層部8には裏面P+ 電極
22が電気的に接続されている。
【0006】図19においては、太陽電池セル23aの
裏面P+ 電極22と、太陽電池セル23bのN+ 型電極
2とが導電材料であるインターコネクタ15により相互
に接続されている。太陽電池モジュールに含まれる他の
太陽電池セルも同様にインターコネクタにより直列に接
続される。
【0007】図20は従来の太陽電池セルの製造工程を
示すための略断面図である。図は(a)を工程の始めと
して、(d)を工程の終りとして順に示している。図
(a)を参照して(100)の主面を有するP型半導体
基板(シリコン基板)6の表面には、光の反射を低減す
るためのテクスチャである微細なピラミッド状の凹凸
(以下「テクスチャ」という。)10が形成される。こ
のテクスチャ10を形成するために、P型半導体基板6
は、アルコールなどを添加してボイルしたアルカリ水溶
液のエッチング液に20から30分浸漬される。なおテ
クスチャ10は実際には微細な構造であるため、(b)
以降の工程においてその図示は省略する。
【0008】次に図21に示されるように、P型半導体
基板6はスピンコータにより回転され、その回転中心に
拡散源(リン化合物など)、および反射防止膜源(金属
酸化物など)を含むドーパント剤が、ドーパント剤吐出
ノズル11からスピン塗布時の基板回転中心12に対し
て滴下され、これによりP型半導体基板6の主面にはド
ーパント剤が塗布される。
【0009】ドーパント剤の塗布されたP型半導体基板
6には、900℃前後の温度にて熱処理が施される。こ
れにより図20(b)に示されるように、P型半導体基
板6にはN+ 不純物拡散層9および反射防止膜14が同
時に形成される。なお(c)以降の工程の図において
は、反射防止膜14の記載は省略する。
【0010】次にP型半導体基板6の裏面には、裏面A
l金属層部8がスクリーン印刷などによりパターニング
される。その後P型半導体基板6は高温で熱処理され
る。これにより図20(c)に示されるようにP型半導
体基板6の裏面にはP+ 不純物拡散層7が形成される。
【0011】次に図20(d)に示されるように、裏面
Al金属層部8に電気的に接続される裏面P+ 銀電極2
2、およびN+ 不純物拡散層9に電気的に接続されるお
もて面N+ 型銀電極2がスクリーン印刷などによりパタ
ーニングされる。その後P型半導体基板6には高温で熱
処理が施される。熱処理の行なわれたP型半導体基板6
の裏面P+ 電極22およびN+ 電極2には半田ディップ
が行なわれる。以上の工程を経て太陽電池セルの製造工
程であるセルプロセスは終了する。
【0012】次にセルプロセスにより製造された太陽電
池セルの接続により、太陽電池モジュールを製造する工
程であるモジュールプロセスについて説明する。
【0013】図22を参照して、各々の太陽電池セル2
3の表面であるN+ 電極2には、半田コートが行われた
インターコネクタ15が半田付けにより接続される。図
24に示されるように、インターコネクタ15が接続さ
れた太陽電池セルの各々は一列に並べられ、各々の太陽
電池セル23のインターコネクタ15は、接続対象であ
る太陽電池セルの裏面の裏面P+ 電極22に半田付けに
より接続される。このとき図23に示したようにインタ
ーコネクタ15は屈曲される。
【0014】このようにして直列に接続された複数の太
陽電池セルは図25に示されるように、図面に対して下
から準に白板強化ガラス17、充填樹脂18、太陽電池
セル23とインターコネクタ15とからなる太陽電池セ
ルの集合、充填樹脂18、耐候性白色フィルム19の順
にラミネーション(積層)される。その後、図18に示
されるようにフレーム枠21および端子部が取付けら
れ、これにより太陽電池モジュールは完成する。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】ところで太陽電池モジ
ュールにおいて、高い電圧を得るためには太陽電池セル
を複数個直列に接続する必要がある。このとき前述した
とおり、従来の太陽電池セルにはP型(P+ )電極(+
側電極)とN型(N+ )電極(−側電極)とがP型半導
体基板の表面と裏面とに別々に形成されているため、直
列接続を行なうときには、インターコネクタなどで表面
と裏面とを接続する必要がある。この作業は、シリコン
基板を扱うため、繊細な作業となり作業に労力と時間を
要する。また完全な自動化を図るためには、センシティ
ブで高精度の装置が必要となる。
【0016】また樹脂によるラミネーションが行なわれ
る前の工程では、インターコネクタにより接続された1
つの太陽電池セルには、その表面にも裏面にも電極によ
る凹凸が形成されることとなる。作業を行なう面などに
太陽電池セルを置いたときには、表面または裏面に垂直
方向の力が加わると電極による凹凸が起点となり太陽電
池セルの破損を生ずる場合があった。
【0017】さらにインターコネクタにより接続された
太陽電池セルが充填樹脂により封入されるときには、脱
泡などのために、太陽電池モジュールの表面と裏面とに
垂直な力を加える必要があるが、この加えた力により、
たとえば図19に示される“A”の方向に樹脂が流動し
たときには、インターコネクタ15には“A”向きの応
力が加わり、太陽電池セル23aのインターコネクタ1
5と接続されている位置には上向き“C”の力が、太陽
電池セル23bのインターコネクタ15と接続されてい
る位置に下向き“B”の力が加わり、これらの力によ
り、条件が悪い場合には太陽電池セル23a,23bの
破損が生ずることがあるという問題点があった。
【0018】本発明は上記の問題点を解決するためにな
されたもので、接続を容易に行なうことができ、破損の
生じにくい太陽電池モジュール、太陽電池セルおよび太
陽電池セルの製造方法を提供することを目的としてい
る。
【0019】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の太陽電
池セルは、第1の主面と第1の主面と異なる第2の主面
とを有するP型半導体基板と、第1の主面に形成された
N型不純物拡散層と、第2の主面に形成されたP型不純
物拡散層と、P型不純物拡散層と電気的に接続される、
第1の主面に形成されたドーナツ形状のP型不純物拡散
部と、N型不純物拡散層に形成されたN型電極と、P型
不純物拡散部に形成されたP型電極とを備えたものであ
る。
【0020】請求項1に記載の太陽電池セルでは、第1
の主面上にN型電極およびP型電極が形成されるため、
第1の主面のみを用いて配線を行なうことができる。
【0021】請求項2に記載の太陽電池モジュールは、
複数の請求項1に記載の太陽電池セルと、インターコネ
クタとを備えた太陽電池モジュールであって、インター
コネクタは、太陽電池セルの1つのN型電極に接続され
る第1の端部と、太陽電池セルの1つに対して接続対象
となる太陽電池セルの、P型電極に接続される第2の端
部と、第1の端部と前記第2の端部とを接続する接続部
と、第1の主面に面する側に設けられた絶縁部とを含む
ものである。
【0022】請求項2に記載の太陽電池モジュールは、
第1の主面に面する側に設けられた絶縁部を有するイン
ターコネクタにより、請求項1に記載の太陽電池セルと
太陽電池セル同士が接続されるため、インターコネクタ
により1つの太陽電池セルの中でのN型電極とP型電極
との短絡が防止される。
【0023】請求項3に記載の太陽電池モジュールは、
請求項2に記載の太陽電池モジュールであって、インタ
ーコネクタの接続対象となる太陽電池セルの第1の主面
に対する投影範囲の面積が30mm2 以下であることを
特徴とするものである。
【0024】請求項3に記載の太陽電池モジュールは、
請求項2に記載の太陽電池モジュールの作用に加えて、
インターコネクタの接続対象となる太陽電池セルの第1
の主面に対する投影範囲の面積が30mm2 以下とな
る。
【0025】請求項4に記載の太陽電池モジュールは、
少なくとも2つの請求項1に記載の太陽電池セルと、太
陽電池セルの1つのN型電極と、その接続対象である太
陽電池セルのP型電極とを電気的に接続するためのイン
ターコネクタまたは印刷された導電性のプリントパター
ンよりなる導電部を備えたガラスとを備えたものであ
る。
【0026】請求項4に記載の太陽電池モジュールで
は、請求項1に記載の太陽電池セル同士がインターコネ
クタまたは印刷された導電性のプリントパターンよりな
導電部を備えたガラスにより電気的に接続される。
【0027】請求項5に記載の太陽電池セルの製造方法
は、主面を有する基板を主面を貫通する軸を中心として
回転させる第1の工程と、回転する基板の主面上の点で
あって、軸と主面の交点以外の点にドーパント剤を滴下
させる第2の工程を含み、軸と主面の交点を中心とし、
軸と主面の交点からドーパント剤を滴下させる点までの
間の距離を半径とする円の外部に対してドーパント剤を
塗布するものである。
【0028】請求項5に記載の太陽電池セルの製造方法
は、主面を有する基板を主面を貫通する軸を中心として
回転させ、回転する基板の主面上であって軸と主面の交
点以外の点にドーパント剤を滴下させることにより、軸
と主面の交点を中心とし軸と主面の交点からドーパント
剤を滴下させる点までの間の距離を半径とする円の外部
に対してドーパント剤を塗布する。
【0029】請求項6に記載の太陽電池セルの製造方法
は、第1の主面と第2の主面とを有するP型半導体基板
の第1の主面にアルミニウムのパターニングを行なう工
程と、第2の主面にアルミニウムのパターニングを行な
う工程と、パターニングの行なわれたP型半導体基板を
熱処理し、P型半導体基板のアルミニウムのパターニン
グが行なわれた部分にアルミニウムの不純物拡散部を形
成させることにより、第1の主面上のアルミニウムと第
2の主面上のアルミニウムとを電気的に接続させる工程
とを含むものである。
【0030】請求項6に記載の太陽電池セルの製造方法
は、第1の主面と第2の主面とを有するP型半導体基板
の第1の主面にアルミニウムのパターニングを行ない、
第2の主面にアルミニウムのパターニングを行ない、パ
ターニングの行なわれたP型半導体基板を熱処理しP型
半導体基板のアルミニウムのパターニングが行なわれた
部分にアルミニウムの不純物拡散部を形成させることに
より、第1の主面上のアルミニウムと第2の主面上のア
ルミニウムとを電気的に接続させる。
【0031】請求項7に記載の太陽電池セルの製造方法
は、P型半導体基板の第1の主面の中央にP型不純物拡
散部を有する請求項1に記載の太陽電池セルを形成する
工程と、第1の主面に交わりかつP型不純物拡散部に交
わる面にて前記太陽電池セルを切断する工程とを含むも
のである。
【0032】請求項7に記載の太陽電池セルの製造方法
は、P型半導体基板の第1の主面の中央にP型不純物拡
散部を有する請求項1に記載の太陽電池セルを形成し、
第1の主面に交わりかつP型不純物拡散部に交わる面に
て前記太陽電池セルを切断する。
【0033】
【発明の実施の形態】図2は本発明の第1の実施例にお
ける太陽電池モジュールの平面図であり、図1は図2の
XI−XI断面図である。
【0034】図面においては、説明の明瞭化のために寸
法などは個々に拡大、縮小されており、必ずしも実際の
太陽電池の寸法とは一致させていない。
【0035】図を参照して、太陽電池モジュールは複数
(図においては20個)の太陽電池セル20を有する。
そして、太陽電池セル20の各々はインターコネクタ1
5により接続されるが、その接続の特徴とする点は太陽
電池セル20の受光面のみを用いて接続が行なわれる点
である。なお太陽電池モジュールが白板強化ガラス1
7、充填樹脂18および耐候性白色フィルム19による
ラミネーションにより構成され、モジュールフレーム枠
21により挾持されている点は従来と同様である。
【0036】図4は図2に示される太陽電池セル20の
1つの平面図であり、図3は図4のV−V断面図であ
る。また図3(a)は本実施例における太陽電池セルの
断面図を示すが、図3(b)はその変形例である太陽電
池セルのP+ 窓開け境界部付近における断面図を示して
いる。
【0037】図を参照して、太陽電池セルはセル受光面
(表面)1側の面に、N+ 電極2と、P+ 電極5とを有
することを特徴としている。さらに詳しく説明すると、
太陽電池セルはP型半導体基板6により構成され、P型
半導体基板6の受光面1側には従来と同じくN+ 不純物
拡散層9と、N+ 不純物拡散層9に電気的に接続される
+ 電極2とが形成されている。しかし従来と異なりN
+ 不純物拡散層9はP型半導体基板6の受光面の全面に
形成されているわけではなく、P+ 窓開け部3と呼ばれ
る円形形状を有する部分においてはN+ 不純物拡散層9
は形成されていない。P+ 窓開け部3はセル受光面1の
端部(図4においては、図面に対して右側寄りの部分)
に形成されている。またN+ 型電極2は、図4に示され
るように、P+ 窓開け部3から、その最も近い太陽電池
セルの端部(図面に対してはP+窓開け部3から右側の
端部)までの領域35においては形成されていない。さ
らにP+ 窓開け部3においては、裏面のP+ 不純物拡散
層7に電気的に接続されるP+ 不純物拡散部37と、P
+ 不純物拡散部37に電気的に接続されるP+ Alドー
ナツパターン部4と、P+ Alドーナツパターン部4に
電気的に接続されるP+ 電極5とが形成されている。
【0038】一方P型半導体基板6の裏面には、P+
純物拡散部37に電気的に接続されるP+ 不純物拡散層
7と、P+ 不純物拡散層7に電気的に接続される裏面A
l金属層部8とが形成されている。
【0039】本実施例においては、P+ 不純物拡散部3
7とP+ 不純物拡散層7とは図3(a)に示されるよう
に共に接するが、P+ 不純物拡散部37とP+ 不純物拡
散層7とが電気的に接続されるのであれば、図3(b)
の変形例に示されるように、P+ 不純物拡散部37とP
+ 不純物拡散層7との間に距離があってもよい。
【0040】なおP+ 不純物拡散部37を形成させず
に、セル受光面1にP+ 電極5を形成させるだけでも、
+ 電極5とP+ 不純物拡散層7とを電気的に接続させ
ることは可能であるが、この場合上の面抵抗が大きく、
電流が出力されにくいため、図3(a)に示されるよう
に、P+ 不純物拡散部37を受光面1上に設けることが
より望ましい。
【0041】図5は試験的に製造された本実施例におけ
る太陽電池セルのI−Vカーブ(電圧−電流曲線)を示
す図である。たとえばP+ 不純物拡散部37とP+ 不純
物拡散層7との接続をよりよくすることにより、さらに
よいカーブを有する太陽電池セルを製造することができ
ると考えられる。
【0042】ところで図3に示される太陽電池セルのN
+ 不純物拡散層9とP+ 窓開け部3とを有する構造を形
成するために、従来の技術では以下に示す2種類の方法
のうちいずれかの方法が用いられていた。
【0043】方法1:フォトリソグラフィ技術を用い
て、窓開け部3に位置する部分に酸化物のマスクを作っ
て、N+ 不純物拡散層9がP型半導体基板6のP+ 窓開
け部3の位置に拡散されることを防ぐ方法。
【0044】方法2:受光面にあたるP型半導体基板6
の全面に、N+ 不純物拡散層9を拡散させておき、その
後にフォトリソグラフィ技術により、レジストによるP
+ 窓開け部3に位置する部分以外のパターンのマスクを
形成し、P+ 窓開け部3のシリコンをエッチングする方
法。
【0045】しかしながら、上述の方法1,2のいずれ
を用いても、数回のプロセスに分けて作業を必要とし、
特に地上用の太陽電池においては、製造コスト的に不適
当であった。
【0046】今回発明者はさらに上記方法1,2よりも
簡単に、図3に示される太陽電池セルを製造する方法を
発明した。この製造方法により工程数を増やすことな
く、太陽電池セルを製造することが可能となった。その
方法を以下に説明する。
【0047】図6は図3に示される太陽電池セルの製造
工程を説明するための図である。なお図6における工程
図は(a)を始めとし、(e)を終りとする太陽電池セ
ルの一連の製造工程として示されている。
【0048】まず従来技術と同じく、(100)の主面
を有する厚さ約0.3mmのP型Si半導体基板6にテ
クスチャを形成する処理が行なわれ、(a)に示すよう
なP型半導体基板6が製造される。
【0049】次に拡散源(リン化合物)および反射防止
膜源(金属酸化物など)を含むドーパント剤がP型半導
体基板6に対して塗布される。この塗布の工程において
は、図8に示されるように、P型半導体基板6は、P+
窓開け部3を形成する点をスピン塗布時の基板回転中心
12として回転される。P型半導体基板6が回転してい
るときに、スピン塗布時の基板回転中心12から距離L
離れた基板上の位置に、ドーパント剤吐出ノズル11か
らドーパント剤13が滴下される。このLの距離は、P
+ 窓開け部3の半径+αの長さとして決められる任意の
距離である。これによりドーパント剤はP型半導体基板
6上の部分であって、スピン塗布時の基板回転中心12
を中心とし、スピン塗布時の基板回転中心12からドー
パント剤を滴下させる位置までを半径とする円以外の部
分に塗布されることとなる。ドーパント剤の塗布された
P型半導体基板は、900℃程度の熱処理が施されるこ
とにより、図6(b)に示されるように、表面のP+
開け部3の部分以外で、受光面となるN+ 不純物拡散層
9と、その上面を覆う反射防止膜14が同時に形成され
ることとなる。
【0050】次に、P型半導体基板6には表面にP+
純物拡散部37が、裏面にP+ 不純物拡散層7が形成さ
れることとなる。この形成のために従来の技術では一般
的にボロンなどをフォトリソグラフィ技術を用いて所望
のパターンとして拡散させるプロセスが用いられる。し
かしそのような方法には、複数の工程を必要とし、地上
用の太陽電池セルの製造にはコスト的に不適当である。
そこで発明者は、以下に述べるように、新規な技術を開
発することにより、従来の地上用太陽電池セルの製造工
程と同程度の工程数で、図3に示される太陽電池セルを
製造することを可能とした。
【0051】図6(b)に示されるようにN+ 不純物拡
散層9の形成された太陽電池セルに対して、図6(c)
に示されるように、裏面に任意のAlパターン8と、表
面のP+ 窓開け部3にドーナツ状のAlパターン4がス
クリーン印刷法などにより形成される。なおP+ 窓開け
部3に形成されるAlのパターンの形状として、本実施
例においてはドーナツ形状を用いたが、円状、四角など
の任意のパターンを形成することが可能である。パター
ニングの行なわれたP型半導体基板6は700℃以上の
高温で熱処理される。この熱処理により、図6(d)に
示されるように、パターニングされたAlはP型半導体
基板6の表面と裏面から基板内部に拡散され、基板内に
おいてアルミによる高濃度の不純物拡散層である、P+
不純物拡散層7およびP+ 不純物拡散部37が形成され
る。このときP+ 不純物拡散部37とP+ 不純物拡散層
7とは図6(d)に示されるように接することが望まし
いが、図7で示されるように、電気的接続を保つのであ
れば接することなく近接していてもよい。
【0052】本実施例においては、パターニングを行な
う元素としてアルミニウムを使用するため、ボロンなど
を用い拡散層を形成するよりも、さらに内部抵抗の低い
太陽電池セルを提供することが可能となり、かつ従来と
同じくBSF(Back Surface Field )効果を有する太
陽電池セルを製造することができ、かつ裏面と表面に金
属の層を同時に形成することができる。
【0053】その後、図6(e)に示されるように、表
面のN+ 不純物拡散層9には、銀電極であるN+ 電極2
が、P+ Alドーナツパターン部4には銀電極であるP
+ 電極5が同時に印刷により形成される。その後P型半
導体基板6は高温で熱処理され、各々の電極には半田デ
ィップが行なわれる。これによりセルプロセスは終了す
る。
【0054】図9は図1に示される太陽電池セル20同
士の接続関係について説明するための略断面図である。
【0055】図を参照して、前述したとおり、太陽電池
セル20a,20bの各々の受光面には、N+ 電極2
と、P+ 電極5とが形成されている。その接続は、導電
材料であるインターコネクタ15により行なわれる。従
来の技術においては図19に示されるように、インター
コネクタは、太陽電池セル23a,23bの各々の表面
と裏面とを接続するために用いられていたため、インタ
ーコネクタ15自体には、何ら絶縁加工を行なわなくと
も、一つの太陽電池セルに含まれるP+ 型電極とN+
極とが短絡することはなかった。しかしながら、本実施
例においては、図9に示されるように、1つの太陽電池
セル20aのP+ 電極5に接続されたインターコネクタ
15は、その太陽電池セル20aの表面に形成されたN
+ 不純物拡散層9の上を経由して、その接続対象である
太陽電池セル20bのN+ 電極2に接続される。
【0056】ここで、前述したように、1つの太陽電池
セル20aのP+ 電極5から、その最も近い太陽電池セ
ルの端部においては、N+ 電極の形成されない領域35
が形成されているため、N+ 電極の形成されない領域3
5の表面に残存する反射防止膜14により、直接インタ
ーコネクタ15と反射防止膜の下のN+ 不純物拡散層9
とが短絡することは通常は考えられないが、反射防止膜
にピンホールなどがあった場合や、インターコネクタ1
5の周囲に存在するN+ 電極にインターコネクタ15が
接する場合などが考えられる。その様なときには従来の
インターコネクタのように半田コートが行なわれただけ
のインターコネクタでは、1つの太陽電池セル内のN+
電極とP+ 電極とが短絡してしまうこととなる。そのた
め、本実施例においてインターコネクタ15には、太陽
電池セルの主面に面する側に絶縁部16が設けられてい
る。これにより1つの太陽電池セル内でのP型電極とN
型電極の間の短絡は防止される。
【0057】このように本実施例における太陽電池モジ
ュールは太陽電池セルの各々を直列接続するときには、
表面同士の電極をインターコネクタで接続すればよい。
そのため、モジュールプロセスの自動化が非常に容易と
なり、製造プロセス中の状態および太陽電池をモジュー
ルとして加工した状態において、太陽電池セルに加わる
力を少なくすることができる。これによりウェハの薄型
化が容易となり、太陽電池の製造コストを下げることが
できる。
【0058】なお本実施例における太陽電池モジュール
においては、図2に示されるように、太陽電池セルの受
光面上をインターコネクタが経由することとなり、イン
ターコネクタによる影がセル受光面上に投影されるた
め、光により生じる電流の値を下げてしまう傾向があ
る。この傾向を防止するために、できる限り太陽電池セ
ルのP型電極からセルの端部までの距離は短くした方が
よい。太陽電池セルの性能を落とさないために、インタ
ーコネクタの接続対象となる太陽電池セルの受光面に対
する投影範囲の面積は30mm2 以下であることが望ま
しい(125mm角のセルを用いた場合)。これにより
インターコネクタの影による光電流の低下を少なくする
ことができる。そしてこのようにP+ 電極がセルの端部
に位置する太陽電池セルは、図8に示されるように、ド
ーパント剤のスピン塗布時にウェハ回転中心12を太陽
電池セルの端部に近い位置に持っていくことで、容易に
製造することが可能である。
【0059】図10は本発明の第2の実施例における小
電力用として使用される分割型太陽電池セルの平面図で
あり、図11は図10におけるVII−VII断面図で
ある。
【0060】一般に住宅用などに使用される太陽電池セ
ルはフルセル(100mm角,125mm角、直径φ1
25mmなど)状態のまま、直列接続されたものが主流
である。しかしながら設置面積の小さい場所で用いられ
る太陽電池モジュールやたとえば夜間表示灯などの小電
力しか必要としない装置を駆動するための太陽電池モジ
ュールとして、モジュールの電圧がフルセル型と同等
で、電流の値はフルセル型より小さい特性を持つ太陽電
池が従来より存在する。このような小電力用の太陽電池
セルの製造においては、フルセル型の太陽電池セルがダ
イシングにより分割される。分割された太陽電池セルは
直列接続され太陽電池モジュールとして形成される(こ
のような太陽電池を「分割型太陽電池」という。)。こ
のような分割型太陽電池においても、従来の太陽電池セ
ルを用いる場合には、従来技術において説明したとおり
表面と裏面とをインターコネクタなどで直列接続する必
要があった。しかしながら、分割型太陽電池において
も、本発明を実施することにより表面のみで各々の太陽
電池セルを直列接続することが可能となる。
【0061】この場合図10に示されるように、たとえ
ばフルセル型125mm角の太陽電池セルの製造工程に
おいて、第1の実施例と同じ手順によりフルセル型太陽
電池の中央部分にP+ 窓開け部3と、P+ Alドーナツ
パターン部4と、P+ 電極5とが形成される。その後P
+ 窓開け部3を縦横に通るダイシングライン24にてフ
ルセル型太陽電池セルはダイシング(切断)される。切
断された分割型太陽電池セルは図11(a)に示される
ように、セルの受光面にN型電極2およびP型電極5が
形成された構成を有する。P型電極5は、太陽電池セル
の端部に位置する。このように製造された太陽電池セル
は、図12に示されるように、インターコネクタ15に
より、直列に接続され、太陽電池モジュールとして活用
される。なお、図11(b)に示されるように、分割型
太陽電池セルにおいても、P+ 不純物拡散部37と、P
+ 不純物拡散層7とは、電気的に接続されるのであれ
ば、接する必要はない。
【0062】図13は本発明の第3の実施例における太
陽電池モジュールの一部を示す平面図である。本実施例
における太陽電池モジュールでは、予めその受光面側に
位置する白板強化ガラス17の所定の位置にインターコ
ネクタ15が載置(あるいは接着)される。これによ
り、従来の太陽電池モジュールの製造プロセスにおいて
大きなウェイトを占めていたインターコネクタの接続を
安価にかつ短時間に行なうことができる。
【0063】すなわち、図13を参照して白板強化ガラ
ス17の太陽電池セル20と接する面においては、イン
ターコネクタの位置を決定するためのインターコネクタ
固定用突起30が複数個設けられている。太陽電池モジ
ュールの製作にあたって、予めインターコネクタ固定用
突起30により規定される位置にインターコネクタは配
置される。
【0064】すべての太陽電池セル直列接続するための
インターコネクタが白板強化ガラス17上に並べられる
ことにより、従来のように太陽電池セル同士を1つ1つ
インターコネクタにより接続するという工程が除かれる
ため、太陽電池モードの製造プロセスは大幅に減少され
る。
【0065】より具体的には、本実施例における太陽電
池モジュールは、以下に説明する工程により製造され
る。
【0066】まず図14に示されるように、白板強化ガ
ラス26上に形成されたインターコネクタ固定用突起3
0により規定される位置にインターコネクタ15は配置
される。
【0067】その後、図15に示されるように、インタ
ーコネクタ上に太陽電池セル20は配置される。このと
き、薄板強化ガラス26側の面には、近赤外ランプ光発
生源27により、近赤外線などが照射される。これによ
りインターコネクタと太陽電池セルの電極が接する部分
は、190℃前後に加熱され、インターコネクタ15と
セルの電極は各々半田付けにより接続される。その後、
図16に示されるように、従来技術と同様に充填樹脂1
8および耐候性白色フィルム19とで太陽電池セルはラ
ミネートされ、最後に図17に示されるように太陽電池
モジュールはフレーム枠21により挾持され、同時に端
子部が取付けられモジュールプロセスは終了する。
【0068】このように本実施例における太陽電池モジ
ュールは、製造工程において従来非常に大きなウェイト
を占めていたインターコネクタ付けの配線作業を容易に
完了することができ、太陽電池モジュールの製造コス
ト、製造時間ともに減少させることができる。
【0069】なお第3の実施例において、白板強化ガラ
ス上に配置されるインターコネクタの代わりに、白板強
化ガラス上に導電性のプリントパターンを印刷により形
成してもよい。
【0070】ところで、本発明によれば特にフルセル状
態では受光面(表面)上にP+ 電極を設けるため、受光
面積が従来よりも減少し太陽電池の出力は明らかに下が
ることとなる。そのためややもすると製造コスト/Wは
セルサイズによっては従来より高くなることもある。し
かし、現在太陽電池セルの大口径化は進んでおり、さら
に今後もさらなる低コスト化を図るため大口径化は進む
と推察される。太陽電池セルの大口径化が進んでも本発
明の実施においてP+ 電極の最適な面積は小口径におけ
る太陽電池セルとは異ならない。そのため本発明による
+ 電極の形成によって減少する受光面積の割合は、大
口径セルほど小さくなり、これにより製造コスト/Wは
従来の太陽電池セルより安価にできるようになると考え
られる。
【0071】
【発明の効果】請求項1に記載の太陽電池セルでは、P
型半導体基板の片側の面にP型電極およびN型電極が形
成されるため、太陽電池セル同士の接続を容易に行なう
ことが可能となり、かつ破損の生じにくい太陽電池セル
を提供することが可能となる。
【0072】請求項2に記載の太陽電池モジュールで
は、P型半導体基板の主面に面する側に設けられた絶縁
部を有するインターコネクタにより、太陽電池セル同士
を接続するため、1つの太陽電池セルの中での短絡が防
止される。
【0073】請求項3に記載の太陽電池モジュールで
は、インターコネクタの接続対象となる太陽電池セルの
主面に対する投影範囲の面積が30mm2 以下となるた
め、光電流の低下を少なくすることができる。
【0074】請求項4に記載の太陽電池モジュールで
は、導電部を備えたガラスにより、太陽電池セル同士を
電気的に接続するため、その製造工程を容易にすること
ができる。
【0075】請求項5に記載の太陽電池セルの製造方法
では、太陽電池セルの製造において、その工程を容易に
することができる。
【0076】請求項6に記載の太陽電池セルの製造方法
では、太陽電池セルの製造における工程において、その
工程を容易にすることができる。
【0077】請求項7に記載の太陽電池セルの製造方法
では、太陽電池セル同士の接続が容易に行なうことがで
き、かつ破損の生じにくい分割型太陽電池セルを製造す
ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例における太陽電池モジュ
ールの略断面図である。
【図2】本発明の第1の実施例における太陽電池モジュ
ールの平面図である。
【図3】本発明の第1の実施例における太陽電池モジュ
ールを構成する1つの太陽電池セルの略断面図である。
【図4】本発明の第1の実施例における太陽電池モジュ
ールを構成する太陽電池セルの1つの平面図である。
【図5】本発明の第1の実施例における太陽電池モジュ
ールを構成する1つの太陽電池セルのI−Vカーブを示
す図である。
【図6】本発明の第1の実施例における太陽電池モジュ
ールを構成する太陽電池セルの1つを作る工程を示す図
である。
【図7】本発明の第1の実施例における太陽電池モジュ
ールを構成する1つの太陽電池セルの変形例を示す略断
面図である。
【図8】本発明の第1の実施例における太陽電池モジュ
ールを構成する太陽電池セルを製造する工程の1つを説
明するための図である。
【図9】図1における太陽電池セル同士の接続関係を示
す略断面図である。
【図10】本発明の第2の実施例における分割型太陽電
池セルの平面図である。
【図11】図10におけるVII−VII断面図であ
る。
【図12】本発明の第2の実施例における分割型太陽電
池セルを用いた太陽電池モジュールの平面図てある。
【図13】本発明の第3の実施例における太陽電池モジ
ュールの一部を示す平面図である。
【図14】本発明の第3の実施例における太陽電池モジ
ュールを製造する第1の工程を示す図である。
【図15】本発明の第3の実施例における太陽電池モジ
ュールを製造する第2の工程を示す図である。
【図16】本発明の第3の実施例における太陽電池モジ
ュールを製造する第3の工程を示す図である。
【図17】本発明の第3の実施例における太陽電池モジ
ュールを製造する第4の工程を示す図である。図であ
る。
【図18】従来の太陽電池モジュールの具体例を示す略
断面図である。
【図19】図18における太陽電池セル23同士の接続
関係を説明するための略断面図である。
【図20】従来の太陽電池セルの製造工程を説明するた
めの図である。
【図21】従来の太陽電池セルの製造工程におけるドー
パント剤の塗布方法について説明するための図である。
【図22】従来の太陽電池セルにおけるインターコネク
タの接続方法について説明するための第1の図である。
【図23】従来の太陽電池セルにおけるインターコネク
タの接続方法について説明するための第2の図である。
【図24】従来の太陽電池セルが直列接続された状態を
示す図である。
【図25】従来の太陽電池モジュールの製造工程におけ
る略断面図である。
【符号の説明】
1 セル受光面 2 N+ 電極 3 P+ 窓開け部 4 P+ Alドーナツパターン部 5 P+ 電極 6 P型半導体基板 7 P+ 不純物拡散層 8 裏面Al金属層部 9 N+ 不純物拡散層 11 ドーパント剤吐出ノズル 12 スピン塗布時の基板回転中心(回転軸と主面の交
点) 13 ドーパント剤 15 インターコネクタ 16 絶縁材料(絶縁部) 17 白板強化ガラス 18 充填樹脂 20 太陽電池セル 22 裏面P+ 電極 24 分割セルダイシングライン(切断面) 25 分割型太陽電池セル 26 白板強化ガラス 27 近赤外ランプ光照射源 29 分割型太陽電池セル 30 インターコネクタ固定用突起 37 P+ 不純物拡散部

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1の主面と第1の主面と異なる第2の主
    面とを有するP型半導体基板と、 前記第1の主面に形成されたN型不純物拡散層と、 前記第2の主面に形成されたP型不純物拡散層と、 前記P型不純物拡散層と電気的に接続される、前記第1
    の主面に形成されたドーナツ形状のP型不純物拡散部
    と、 前記N型不純物拡散層に形成されたN型電極と、 前記P型不純物拡散部に形成されたP型電極とを備え
    た、太陽電池セル。
  2. 【請求項2】 複数の請求項1に記載の太陽電池セル
    と、 インターコネクタとを備えた太陽電池モジュールであっ
    て、 前記インターコネクタは、 前記太陽電池セルの1つの前記N型電極に接続される第
    1の端部と、 前記太陽電池セルの1つに対して接続対象となる太陽電
    池セルの、前記P型電極に接続される第2の端部と、 前記第1の端部と前記第2の端部とを接続する接続部
    と、 前記第1の主面に面する側に設けられた絶縁部とを含
    む、太陽電池モジュール。
  3. 【請求項3】 前記インターコネクタの前記接続対象と
    なる太陽電池セルの第1の主面に対する投影範囲の面積
    が30mm2以下であることを特徴とする、 請求項2に記載の太陽電池モジュール。
  4. 【請求項4】 少なくとも2つの請求項1に記載の太陽
    電池セルと、 前記太陽電池セルの1つを前記N型電極と、その接続対
    象である太陽電池セルの前記P型電極とを電気的に接続
    するためのインターコネクタまたは印刷された導電性の
    プリントパターンよりなる導電部を備えたガラスとを備
    えた、太陽電池モジュール。
  5. 【請求項5】 太陽電池セルの製造方法であって、 主面を有する基板を、前記主面を貫通する軸を中心とし
    て回転させる第1の工程と、 前記回転する基板の主面上の点であって、前記軸と前記
    主面の交点以外の点にドーパント剤を滴下させる第2の
    工程を含み、 前記軸と前記主面の交点を中心とし、前記軸と前記主面
    の交点から前記ドーパント剤を滴下させるまでの間の距
    離を半径とする円の外部に対して前記ドーパント剤を塗
    布する、太陽電池セルの製造方法。
  6. 【請求項6】 前記P型半導体基板の第1の主面の中央
    に前記P型不純物拡散部を有する請求項1に記載の太陽
    電池セルを形成する工程と、 前記第1の主面に交わりかつ前記P型不純物拡散部に交
    わる面にて前記太陽電池セルを切断する工程とを含む、
    太陽電池セルの製造方法。
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