JP3288564B2 - 冷凍機 - Google Patents
冷凍機Info
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- JP3288564B2 JP3288564B2 JP27597395A JP27597395A JP3288564B2 JP 3288564 B2 JP3288564 B2 JP 3288564B2 JP 27597395 A JP27597395 A JP 27597395A JP 27597395 A JP27597395 A JP 27597395A JP 3288564 B2 JP3288564 B2 JP 3288564B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- displacer
- cylinder
- expansion chamber
- working gas
- Prior art date
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25B—REFRIGERATION MACHINES, PLANTS OR SYSTEMS; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS
- F25B2309/00—Gas cycle refrigeration machines
- F25B2309/003—Gas cycle refrigeration machines characterised by construction or composition of the regenerator
Landscapes
- Separation By Low-Temperature Treatments (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、冷凍機に関し、特
に作動ガスの断熱膨張によって寒冷を発生する冷凍機に
関する。
に作動ガスの断熱膨張によって寒冷を発生する冷凍機に
関する。
【０００２】
【従来の技術】スターリング冷凍機等の冷凍機では、膨
張室の体積と、膨張室内の作動ガスの圧力とを一定の位
相差をもって周期的に変化させることによって寒冷を発
生する。シリンダ内にディスプレーサを挿入し、このデ
ィスプレーサを往復運動させることによって膨張室の体
積を変化させる。作動ガスは、圧縮機からガス流路を通
って膨張室内に導入され、同一経路で排気される。
張室の体積と、膨張室内の作動ガスの圧力とを一定の位
相差をもって周期的に変化させることによって寒冷を発
生する。シリンダ内にディスプレーサを挿入し、このデ
ィスプレーサを往復運動させることによって膨張室の体
積を変化させる。作動ガスは、圧縮機からガス流路を通
って膨張室内に導入され、同一経路で排気される。
【０００３】極低温を発生するために、作動ガスとして
液化点の低いヘリウムガスが使用される。ヘリウムの液
化点は４．２Ｋであるため、それ以上の温度で作動ガス
として機能する。
液化点の低いヘリウムガスが使用される。ヘリウムの液
化点は４．２Ｋであるため、それ以上の温度で作動ガス
として機能する。
【０００４】作動ガスの中には不純物ガスが含まれてい
る。不純物ガスは、例えば圧縮機、冷凍機の機構部品か
らのアウトガス等である。この不純物ガスの液化点はヘ
リウムよりも高い。冷凍機の低温部の温度が不純物ガス
の液化点以下になると、不純物ガスが液化もしくは固化
する。液化もしくは固化した不純物が、ディスプレーサ
とシリンダとの間隙部に付着すると、ディスプレーサの
往復運動を妨げ、冷凍能力を低下させる。
る。不純物ガスは、例えば圧縮機、冷凍機の機構部品か
らのアウトガス等である。この不純物ガスの液化点はヘ
リウムよりも高い。冷凍機の低温部の温度が不純物ガス
の液化点以下になると、不純物ガスが液化もしくは固化
する。液化もしくは固化した不純物が、ディスプレーサ
とシリンダとの間隙部に付着すると、ディスプレーサの
往復運動を妨げ、冷凍能力を低下させる。
【０００５】従来、アウトガスの発生を抑えるため、部
品、製品レベルでのベーキング、ランニングによるクリ
ーニングを行っていた。
品、製品レベルでのベーキング、ランニングによるクリ
ーニングを行っていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】部品、製品レベルでの
ベーキング、またはランニングによるクリーニング等に
より、アウトガスの発生を抑制することはできるが、全
てのアウトガスを除去することは困難である。また、ベ
ーキング及びランニングに長時間を必要とする。
ベーキング、またはランニングによるクリーニング等に
より、アウトガスの発生を抑制することはできるが、全
てのアウトガスを除去することは困難である。また、ベ
ーキング及びランニングに長時間を必要とする。
【０００７】本発明の目的は、作動ガス中の不純物ガス
を容易に除去することができる冷凍機を提供することで
ある。
を容易に除去することができる冷凍機を提供することで
ある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の冷凍機は、内部
空洞を有するシリンダと、前記シリンダ内に挿入され
て、シリンダの内部空洞の一端に寒冷を発生する膨張室
を画定するディスプレーサと、前記ディスプレーサの中
に形成されて、前記膨張室に接続され、作動ガスの導
入、排気を行うガス流路と、前記ガス流路内の一部に配
置され、ガス流路を流れる作動ガスと熱交換を行う蓄冷
器と、前記蓄冷器よりも膨張室側の前記ガス流路内に配
置され、前記ディスプレーサに着脱可能に取り付けられ
ており、作動ガス中の不純物を吸着する吸着材とを有す
る。
空洞を有するシリンダと、前記シリンダ内に挿入され
て、シリンダの内部空洞の一端に寒冷を発生する膨張室
を画定するディスプレーサと、前記ディスプレーサの中
に形成されて、前記膨張室に接続され、作動ガスの導
入、排気を行うガス流路と、前記ガス流路内の一部に配
置され、ガス流路を流れる作動ガスと熱交換を行う蓄冷
器と、前記蓄冷器よりも膨張室側の前記ガス流路内に配
置され、前記ディスプレーサに着脱可能に取り付けられ
ており、作動ガス中の不純物を吸着する吸着材とを有す
る。
【０００９】作動ガスの流路内の極低温部に吸着材を配
置することにより、作動ガス中の不純物を吸着すること
ができる。吸着材により作動ガス中の不純物を除去でき
るため、極低温部の可動機構部に液体もしくは固体不純
物が付着することを防止できる。このため、可動機構部
の動作が妨げられることによる冷凍能力の低下を防止で
きる。
置することにより、作動ガス中の不純物を吸着すること
ができる。吸着材により作動ガス中の不純物を除去でき
るため、極低温部の可動機構部に液体もしくは固体不純
物が付着することを防止できる。このため、可動機構部
の動作が妨げられることによる冷凍能力の低下を防止で
きる。
【００１０】
【発明の実施の形態】図１を参照して、本発明の実施例
による冷凍機の構造を、スターリング冷凍機を例にとっ
て説明する。
による冷凍機の構造を、スターリング冷凍機を例にとっ
て説明する。
【００１１】図１は、本発明の実施例によるスターリン
グ冷凍機の断面図を示す。ステンレス等で形成された円
筒状のシリンダ１内に布入りフェノール等で形成された
ディスプレーサ２が挿入されている。シリンダ１の図の
右端開口部には銅製のシリンダキャップ３が取り付けら
れ、シリンダ１、ディスプレーサ２及びシリンダキャッ
プ３で膨張室４が画定されている。
グ冷凍機の断面図を示す。ステンレス等で形成された円
筒状のシリンダ１内に布入りフェノール等で形成された
ディスプレーサ２が挿入されている。シリンダ１の図の
右端開口部には銅製のシリンダキャップ３が取り付けら
れ、シリンダ１、ディスプレーサ２及びシリンダキャッ
プ３で膨張室４が画定されている。
【００１２】シリンダ１の左端近傍には、その外周面に
密着するように円筒状の保持部材５ａが取り付けられて
いる。保持部材５ａの図の左端開口部は蓋６で密閉さ
れ、シリンダ１、ディスプレーサ２、保持部材５ａ及び
蓋６により圧縮空間７が画定されている。蓋６とディス
プレーサ２の相対向する面にはバネ座が形成されてお
り、両バネ座にまたがるように同期バネ８が取り付けら
れている。同期バネ８により、ディスプレーサ２がシリ
ンダ１の軸方向に弾性的に保持されている。
密着するように円筒状の保持部材５ａが取り付けられて
いる。保持部材５ａの図の左端開口部は蓋６で密閉さ
れ、シリンダ１、ディスプレーサ２、保持部材５ａ及び
蓋６により圧縮空間７が画定されている。蓋６とディス
プレーサ２の相対向する面にはバネ座が形成されてお
り、両バネ座にまたがるように同期バネ８が取り付けら
れている。同期バネ８により、ディスプレーサ２がシリ
ンダ１の軸方向に弾性的に保持されている。
【００１３】支持部材５ａの図の右端には、フランジ部
５ｂが取り付けられている。支持部材５ａは銅で形成さ
れ、フランジ部５ｂはステンレス鋼で形成されている。
支持部材とフランジ部の接合部は、機械的強度及び気密
性保持のために銀ろう付けされている。
５ｂが取り付けられている。支持部材５ａは銅で形成さ
れ、フランジ部５ｂはステンレス鋼で形成されている。
支持部材とフランジ部の接合部は、機械的強度及び気密
性保持のために銀ろう付けされている。
【００１４】保持部材５ａには、圧縮室７と外部とを連
絡するガス導入管９が設けられている。ガス導入管９
は、図には示さない圧縮機に接続され、圧縮室７内に圧
縮ガスを供給し、または圧縮室７からガスを排気する。
ディスプレーサ２内には空洞１０ａが形成されており、
さらに空洞１０ａと圧縮室７とを連通するガス流路１０
ｂ及び空洞１０ａと膨張室４とを連通するガス流路１０
ｃが形成されている。空洞１０ａ及びガス流路１０ｂ、
１０ｃを通して作動ガスが圧縮室７と膨張室４との間で
輸送される。
絡するガス導入管９が設けられている。ガス導入管９
は、図には示さない圧縮機に接続され、圧縮室７内に圧
縮ガスを供給し、または圧縮室７からガスを排気する。
ディスプレーサ２内には空洞１０ａが形成されており、
さらに空洞１０ａと圧縮室７とを連通するガス流路１０
ｂ及び空洞１０ａと膨張室４とを連通するガス流路１０
ｃが形成されている。空洞１０ａ及びガス流路１０ｂ、
１０ｃを通して作動ガスが圧縮室７と膨張室４との間で
輸送される。
【００１５】次に、ディスプレーサ２の低温側の構造に
ついて説明する。図２（Ａ）に示すように、空洞１０ａ
内には、ステンレス製金網等の蓄冷材１１とモレキュラ
シーブ１２が充填されている。モレキュラシーブ１２
は、金網のケース１５に充填されて外部に散逸しないよ
うにされ、空洞１０ａ内の膨張室４側すなわち低温側に
配置されている。
ついて説明する。図２（Ａ）に示すように、空洞１０ａ
内には、ステンレス製金網等の蓄冷材１１とモレキュラ
シーブ１２が充填されている。モレキュラシーブ１２
は、金網のケース１５に充填されて外部に散逸しないよ
うにされ、空洞１０ａ内の膨張室４側すなわち低温側に
配置されている。
【００１６】ディスプレーサ２は、例えば、開口端を有
する円筒状部材２ａの中に蓄冷材１１とモレキュラシー
ブ１２とを充填した後、円筒状部材２ａと同径の側壁及
び底を有する蓋部材２ｂを被せて、電子ビーム溶接して
形成することができる。蓋部材２ｂの底にはガス流路１
０ｃが形成されている。
する円筒状部材２ａの中に蓄冷材１１とモレキュラシー
ブ１２とを充填した後、円筒状部材２ａと同径の側壁及
び底を有する蓋部材２ｂを被せて、電子ビーム溶接して
形成することができる。蓋部材２ｂの底にはガス流路１
０ｃが形成されている。
【００１７】蓋部材２ｂの外周面の膨張室側の端部に
は、シリンダ１の内周面との間隙をシールするためのシ
ール部材１３が取り付けられている。シリンダ１とディ
スプレーサ２との間隙がシールされるため、作動ガスは
ガス流路１０ｃ、空洞１０ａを通って輸送される。
は、シリンダ１の内周面との間隙をシールするためのシ
ール部材１３が取り付けられている。シリンダ１とディ
スプレーサ２との間隙がシールされるため、作動ガスは
ガス流路１０ｃ、空洞１０ａを通って輸送される。
【００１８】次に、このように構成されたスターリング
冷凍機の動作について、図１を参照して説明する。ガス
導入管９から圧縮ヘリウムガスが圧縮室７内に導入され
る。これにより、圧縮室７で発熱が生じるとともに、デ
ィスプレーサ２は中立点から図の右方に移動する。圧力
が最大になると、ディスプレーサ２は同期バネ８によっ
て中立点に引き戻される。このとき、圧縮ガスはガス流
路１０ｂ、空洞１０ａ及びガス流路１０ｃを通過して蓄
冷材１１と熱交換しながら膨張空間４に移動する。
冷凍機の動作について、図１を参照して説明する。ガス
導入管９から圧縮ヘリウムガスが圧縮室７内に導入され
る。これにより、圧縮室７で発熱が生じるとともに、デ
ィスプレーサ２は中立点から図の右方に移動する。圧力
が最大になると、ディスプレーサ２は同期バネ８によっ
て中立点に引き戻される。このとき、圧縮ガスはガス流
路１０ｂ、空洞１０ａ及びガス流路１０ｃを通過して蓄
冷材１１と熱交換しながら膨張空間４に移動する。
【００１９】ガス導入管９からヘリウムガスが排気され
る。このとき、シリンダ１内の圧力が減少する。また、
ディスプレーサ２は図の左方に向かって移動しているの
で膨張空間４の容積が増加する。これに伴って膨張室４
内のヘリウムガスが膨張し吸熱が生じる。シリンダ１内
の圧力が最低になると、ディスプレーサ２は同期バネ８
により中立点に押し戻される。このとき、冷却された膨
張室４内のガスは、蓄冷材１１を冷却しながら圧縮室７
へ移動する。
る。このとき、シリンダ１内の圧力が減少する。また、
ディスプレーサ２は図の左方に向かって移動しているの
で膨張空間４の容積が増加する。これに伴って膨張室４
内のヘリウムガスが膨張し吸熱が生じる。シリンダ１内
の圧力が最低になると、ディスプレーサ２は同期バネ８
により中立点に押し戻される。このとき、冷却された膨
張室４内のガスは、蓄冷材１１を冷却しながら圧縮室７
へ移動する。
【００２０】このように、ガス導入管９から圧縮ヘリウ
ムガスの導入、排気を周期的に繰り返し、ディスプレー
サ２がヘリウムガスの圧力変化に対して遅れた位相で往
復運動することにより、膨張室４で吸熱が生じ、圧縮室
７で発熱が生じる。
ムガスの導入、排気を周期的に繰り返し、ディスプレー
サ２がヘリウムガスの圧力変化に対して遅れた位相で往
復運動することにより、膨張室４で吸熱が生じ、圧縮室
７で発熱が生じる。
【００２１】膨張室内の作動ガスは極低温まで冷却され
る。作動ガスによってモレキュラシーブも冷却され、不
純物ガスに対する吸着能を増加させる。冷却された不純
物ガスがモレキュラシーブ１２を通過するときに液体あ
るいは固体の状態で吸着される。このようにして、作動
ガス中の不純物ガスが取り除かれる。なお、ヘリウムガ
スは吸着力が弱く、たとえモレキュラシーブ１２に吸着
されていても容易に他の不純物ガスに置換される。不純
物ガスは液化もしくは固化する前にモレキュラシーブに
よって捕捉され、ほとんど脱離しない。
る。作動ガスによってモレキュラシーブも冷却され、不
純物ガスに対する吸着能を増加させる。冷却された不純
物ガスがモレキュラシーブ１２を通過するときに液体あ
るいは固体の状態で吸着される。このようにして、作動
ガス中の不純物ガスが取り除かれる。なお、ヘリウムガ
スは吸着力が弱く、たとえモレキュラシーブ１２に吸着
されていても容易に他の不純物ガスに置換される。不純
物ガスは液化もしくは固化する前にモレキュラシーブに
よって捕捉され、ほとんど脱離しない。
【００２２】液体あるいは固体の不純物が、ディスプレ
ーサ２とシリンダ１との間隙部に付着すると、ディスプ
レーサ２の往復運動を妨げる。不純物ガスを除去するこ
とにより液体及び固体不純物の可動機構部への付着を防
止することができ、冷凍能力の低下を防止できる。
ーサ２とシリンダ１との間隙部に付着すると、ディスプ
レーサ２の往復運動を妨げる。不純物ガスを除去するこ
とにより液体及び固体不純物の可動機構部への付着を防
止することができ、冷凍能力の低下を防止できる。
【００２３】次に、図２を参照して他の実施例について
説明する。図２（Ｂ）は、他の実施例によるディスプレ
ーサの低温側部分の断面図である。低温側部分以外の構
造は、図１に示すスターリング冷凍機と同様である。
説明する。図２（Ｂ）は、他の実施例によるディスプレ
ーサの低温側部分の断面図である。低温側部分以外の構
造は、図１に示すスターリング冷凍機と同様である。
【００２４】ディスプレーサ２の低温側の端部は開放さ
れており、内周面にネジ溝が切られている。ディスプレ
ーサ２内の空洞１０ａに、蓄冷材１１が充填され、さら
に金網のケースに充填されたモレキュラシーブ１２が挿
入されている。モレキュラシーブ１２が脱落しないよう
に蓋部材１４が開口部にはめ込まれている。蓋部材１４
は、ディスプレーサ２の内周面に形成されたネジ溝に勘
合している。
れており、内周面にネジ溝が切られている。ディスプレ
ーサ２内の空洞１０ａに、蓄冷材１１が充填され、さら
に金網のケースに充填されたモレキュラシーブ１２が挿
入されている。モレキュラシーブ１２が脱落しないよう
に蓋部材１４が開口部にはめ込まれている。蓋部材１４
は、ディスプレーサ２の内周面に形成されたネジ溝に勘
合している。
【００２５】蓋部材１４には、空洞１０ａと膨張室４と
を連通させるガス流路１０ｃが形成されている。また、
蓋部材１４の外周面先端部には、シリンダ１の内周面と
の間隙をシールするためのシール部材１３が取り付けら
れている。
を連通させるガス流路１０ｃが形成されている。また、
蓋部材１４の外周面先端部には、シリンダ１の内周面と
の間隙をシールするためのシール部材１３が取り付けら
れている。
【００２６】蓋部材１４を取り外せば、モレキュラシー
ブ１２をディスプレーサ２から取り出すことができる。
モレキュラシーブ１２が不純物ガスを吸着して飽和する
と、モレキュラシーブ１２を取り出して新しいモレキュ
ラシーブと交換することができる。また、飽和したモレ
キュラシーブは、ベーキングして再生することができ
る。
ブ１２をディスプレーサ２から取り出すことができる。
モレキュラシーブ１２が不純物ガスを吸着して飽和する
と、モレキュラシーブ１２を取り出して新しいモレキュ
ラシーブと交換することができる。また、飽和したモレ
キュラシーブは、ベーキングして再生することができ
る。
【００２７】このように、モレキュラシーブ１２をディ
スプレーサ２から着脱可能にし、交換及び再利用可能に
することにより、常に良好な状態で冷凍機を運転するこ
とができる。
スプレーサ２から着脱可能にし、交換及び再利用可能に
することにより、常に良好な状態で冷凍機を運転するこ
とができる。
【００２８】図２（Ｃ）は、さらに他の実施例によるス
ターリング冷凍機の低温部の断面図を示す。金網のケー
ス１５内に充填されたモレキュラシーブ１２が、ディス
プレーサ２の内部空洞１０ａ内ではなく、膨張室４内に
配置されている。その他の構造は図１に示すスターリン
グ冷凍機と同様である。このように、モレキュラシーブ
１２を膨張室内に配置しても、作動ガス中の不純物を除
去することができる。
ターリング冷凍機の低温部の断面図を示す。金網のケー
ス１５内に充填されたモレキュラシーブ１２が、ディス
プレーサ２の内部空洞１０ａ内ではなく、膨張室４内に
配置されている。その他の構造は図１に示すスターリン
グ冷凍機と同様である。このように、モレキュラシーブ
１２を膨張室内に配置しても、作動ガス中の不純物を除
去することができる。
【００２９】上記実施例では、不純物吸着のためにモレ
キュラシーブを用いる場合について説明したが、作動ガ
スを吸着せず不純物のみをを吸着するものであれば、そ
の他の吸着材を用いてもよい。例えば、活性炭を用いて
もよい。なお、モレキュラシーブを用いる場合には、想
定される不純物を効率的に吸着するポア径を有するもの
を選択することが好ましい。
キュラシーブを用いる場合について説明したが、作動ガ
スを吸着せず不純物のみをを吸着するものであれば、そ
の他の吸着材を用いてもよい。例えば、活性炭を用いて
もよい。なお、モレキュラシーブを用いる場合には、想
定される不純物を効率的に吸着するポア径を有するもの
を選択することが好ましい。
【００３０】上記実施例では、スターリング冷凍機を例
にとって説明したが、その他の冷凍機に適用してもよ
い。特に、極低温部分に可動機構のある冷凍機に適用す
ると、効果が高い。例えば、ギフォードマクマホン（Ｇ
Ｍ）冷凍機、ジュールトムソン冷凍機等に適用しても効
果が期待できるであろう。
にとって説明したが、その他の冷凍機に適用してもよ
い。特に、極低温部分に可動機構のある冷凍機に適用す
ると、効果が高い。例えば、ギフォードマクマホン（Ｇ
Ｍ）冷凍機、ジュールトムソン冷凍機等に適用しても効
果が期待できるであろう。
【００３１】以上実施例に沿って本発明を説明したが、
本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種
々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に
自明であろう。
本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種
々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に
自明であろう。
【００３２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
冷凍機の極低温部の可動機構部分に液体もしくは固体が
付着して、冷凍能力が低下することを防止できる。これ
により、冷凍機の長寿命化、メンテナンスコストの削減
等が可能になる。
冷凍機の極低温部の可動機構部分に液体もしくは固体が
付着して、冷凍能力が低下することを防止できる。これ
により、冷凍機の長寿命化、メンテナンスコストの削減
等が可能になる。
【図１】本発明の実施例によるスターリング冷凍機の断
面図である。
面図である。
【図２】本発明の実施例によるスターリング冷凍機の低
温部の断面図である。
温部の断面図である。
１ シリンダ ２ ディスプレーサ ３ シリンダキャップ ４ 膨張室 ５ 保持部材 ６ 蓋 ７ 圧縮室 ８ 同期バネ ９ ガス導入管 １０ ガス流路 １１ 蓄冷材 １２ モレキュラシーブ １３ シール部材 １４ 蓋部材 １５ 金網のケース
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−323658（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−200863（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−166269（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−116869（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) F25B 9/00 F25B 9/14 510
Claims (2)
- 【請求項１】 内部空洞を有するシリンダと、 前記シリンダ内に挿入されて、シリンダの内部空洞の一
端に寒冷を発生する膨張室を画定するディスプレーサ
と、 前記ディスプレーサの中に形成されて、前記膨張室に接
続され、作動ガスの導入、排気を行うガス流路と、 前記ガス流路内の一部に配置され、ガス流路を流れる作
動ガスと熱交換を行う蓄冷器と、 前記蓄冷器よりも膨張室側の前記ガス流路内に配置さ
れ、前記ディスプレーサに着脱可能に取り付けられてお
り、作動ガス中の不純物を吸着する吸着材とを有する冷
凍機。 - 【請求項２】 内部空洞を有するシリンダと、 前記シリンダ内に挿入されて、シリンダの内部空洞の一
端に寒冷を発生する膨張室を画定するディスプレーサ
と、 前記膨張室に接続され、作動ガスの導入、排気を行うガ
ス流路と、 前記ガス流路内の一部に配置され、ガス流路を流れる作
動ガスと熱交換を行う蓄冷器と、 前記蓄冷器よりも膨張室側の前記ガス流路内もしくは膨
張室内に配置され、作動ガス中の不純物を吸着するモレ
キュラシーブとを有する冷凍機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27597395A JP3288564B2 (ja) | 1995-10-24 | 1995-10-24 | 冷凍機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27597395A JP3288564B2 (ja) | 1995-10-24 | 1995-10-24 | 冷凍機 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09119727A JPH09119727A (ja) | 1997-05-06 |
| JP3288564B2 true JP3288564B2 (ja) | 2002-06-04 |
Family
ID=17563005
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27597395A Expired - Fee Related JP3288564B2 (ja) | 1995-10-24 | 1995-10-24 | 冷凍機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3288564B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3751175B2 (ja) * | 1999-12-21 | 2006-03-01 | シャープ株式会社 | スターリング冷凍機 |
| JP2012207830A (ja) * | 2011-03-29 | 2012-10-25 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 冷凍機 |
| CN108692476B (zh) * | 2018-03-19 | 2020-02-21 | 浙江大学 | 一种带吸附装置的用于空间探测器冷却的低温制冷系统 |
-
1995
- 1995-10-24 JP JP27597395A patent/JP3288564B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09119727A (ja) | 1997-05-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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