JP3280405B2 - 論理レベル制御回路 - Google Patents

論理レベル制御回路

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、大略、相補的金属酸化
物半導体(CMOS)装置に関するものであって、更に
詳細には、供給電圧レベルを一層高くし従ってダイナミ
ックレンジを一層大きくすることを可能とするために、
高密度CMOS回路形態における衝撃イオン化を除去す
る技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】CMOS技術が進化して高密度プロセス
となると、その技術に関する主要な制限事項は、N型M
OSトランジスタに対する許容可能なドレイン対ソース
電圧(Vds)となっている。この制限は、接合が浅く/
シャープであり且つゲート酸化膜が薄く、そのために衝
撃イオン化を発生させるという原因により、典型的に5
Vである。従って、+5Vと−5Vとの間のスイッチン
グ過渡状態期間中に発生する衝撃イオン化のために、サ
ブミクロンプロセスにおいては信頼性の問題が発生す
る。
【0003】多くの混合型アナログ/デジタル集積回路
は、インターフェースの目的のために、0Vと−5Vの
両方の論理低レベルを必要とする。従って、この条件を
充足させるための論理構成は、サブミクロンプロセスに
対し衝撃イオン化問題を発生させる。衝撃イオン化は、
主にNチャンネルMOS装置において発生する現象であ
る。供給電圧が5Vを超えてその装置の許容可能なVds
を超える点まで増加されると、電子の移動度は、ドレイ
ンにおいて衝突が発生するようなものとなる。この様な
衝突は、半導体結晶をイオン化させ且つ電子/ホール対
を発生させる。図1(A)及び(C)に示した如く、こ
の現象が発生すると、ドレイン対基板電流は、通常のリ
ーク電流を超えて増加し、全体的なドレイン電流に貢献
することとなる。このことは、装置に損傷を与えるばか
りか、飽和された装置適用に対し出力インピーダンスを
減少させる。
【0004】軽度にドープした拡散(LDD)又は増加
させた接合深さは従来公知である。これらの両方の技術
は、酸化物における電界を減少させ、ホットキャリア効
果を取除いている。しかしながら、これらの技術は、両
方とも、製造プロセスを複雑化させ且つNチャンネル装
置の寸法を増加させる。別の技術としては、カスケード
技術を使用するものである。しかしながら、これらの技
術は、特別のバイアス回路を必要とする。
【0005】上述した問題は、供給電圧を5Vへ制限し
ており、従ってCMOSアナログ回路に対する最大ダイ
ナミックレンジを減少させている。この効果が除去され
る場合には、より高いダイナミックレンジを得ることが
可能である。このことは、デジタル適用に対して必要と
される一層高い密度のCMOSプロセスを、高いダイナ
ミックレンジのCMOSアナログ回路と集積化させるこ
とを可能とし、技術における進歩を完全に利用すること
を可能とする。
【0006】上述した如き問題を、装置の寸法を増加さ
せるような複雑な処理ステップを使用することにより解
決することが従来知られている。更に、特別のカスコー
ド回路を必要とするカスケードタイプの回路技術を使用
することも知られている。更に、Vdsが二つのデバイス
即ち装置を横断して等しく分割されるようにMOS装置
と直列して固定したゲート電圧を有する第二MOS装置
を提供することは従来公知である。このことは、電圧の
振れを一層高いものとし且つ高い出力インピーダンスを
維持することを可能とし、その際に増幅器に対する利得
を高くし又電流源に対するインピーダンスを高くするこ
とを可能としている。ダイナミックレンジを2倍とする
ことが可能である。なぜならば、これら二つの装置がそ
れらの間で電圧を分割するからである。この方法は、1
988年4月5日に発行された米国特許第4,736,
117号(Wieser)に開示されている。しかしな
がら、この特許に開示される結合型装置は、0Vと−5
Vの両方の基板バイアス電圧を使用する適用に対して使
用することは不可能である。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した如
き従来技術の欠点を解消し、衝撃イオン化の影響を低下
させたNチャンネルCMOS装置を提供することを目的
とする。本発明の別の目的とするところは、衝撃イオン
化の影響を受けることを低下させ且つ装置寸法を増加さ
せるような複雑な処理ステップを必要とすることのない
NチャンネルCMOS装置を提供することである。本発
明の更に別の目的とするところは、特別のバイアス技術
を必要とすることのないNチャンネルCMOS装置を提
供することである。本発明の更に別の目的とするところ
は、衝撃イオン化を減少させ、LDDの制限なしで0又
は−5Vの何れかの低レベルでバイアスさせることが可
能なNチャンネルCMOS装置を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、論理レ
ベル制御回路が、CMOS集積回路におけるインパクト
イオン化即ち衝撃イオン化を防止している。このCMO
S集積回路の基板バイアス電圧は、この制御回路により
検知され、且つ検知されたバイアス電圧に応答して制御
信号が供給される。このバイアス電圧は、0V又は−5
Vの何れかとすることが可能である。このバイアス電圧
が0Vである場合には、制御信号は論理レベル1であ
る。一方、そのバイアス電圧が−5Vである場合には、
その制御信号は論理レベル0である。この制御信号は、
集積回路上の少なくとも1個の被制御装置のゲートへ印
加され、その被制御装置をターンオン又はオフさせて、
バイアス電圧に従って電圧レベルを選択的に分割乃至は
分圧する。
【0009】
【実施例】図2を参照すると、本発明の一実施例に基づ
いて構成された論理レベル制御回路10が示されてい
る。本発明の論理レベル制御回路10は、衝撃イオン化
感受性プロセスにおける基板バイアス電圧(VBB)を検
知し且つその検知した基板バイアス電圧に応答して制御
信号を供給し、NチャンネルCMOS装置における衝撃
イオン化を除去する。論理レベル制御回路10における
制御信号を供給するために検知される基板バイアス電圧
レベルは0V及び−5Vである。
【0010】論理レベル制御回路10の基板バイアス電
圧VBBが0Vであると、制御回路10の出力制御ライン
24上に供給される制御信号は論理レベル1である。論
理レベル制御回路10内の基板バイアス電圧VBBが−5
Vであると、出力制御ライン24上の制御信号は論理レ
ベル0である。論理レベル制御回路10の検知された基
板バイアス電圧VBBに応答して1又は0の何れかの論理
値を有する出力制御ライン24上の制御信号は、論理レ
ベル制御回路10を包含する集積回路上の任意のランダ
ムロジックを制御するために使用することが可能であ
る。
【0011】論理レベル制御回路10によって検知され
たVBBが0Vである場合には、トランジスタ装置12は
常にオンである。なぜならば、トランジスタ装置12の
ゲート26は0VであるVssへ接続されているからであ
る。更に、VBBが0Vである場合には、トランジスタ装
置14及びトランジスタ装置16の両方がターンオフす
る。なぜならば、VTは1Vの7/10にほぼ等しく、
且つVgBは0Vに等しいからである。トランジスタ装置
14及びトランジスタ装置16の両方がオフである場合
には、ターンオンされたトランジスタ装置12によって
ライン22は高状態へプルされる。従って、トランジス
タ装置12によってライン22が高状態へプルされる
と、高レベルがインバータ18へ印加され、そのことは
その出力端にバイアスレベルを与える。インバータ18
へ印加された高レベルは反転され、次いでインバータ2
0によって2度目の反転が行なわれ、出力ライン24に
おいて高論理レベル出力が与えられる。
【0012】論理レベル制御回路10によって検知され
るVBBが−5Vである場合には、トランジスタ装置12
はターンオンされる。なぜならば、VgBは0Vであり、
それはトランジスタ装置12の負のVTよりも大きいか
らである。従って、トランジスタ装置14及びトランジ
スタ装置16はターンオンされる。なぜならば、V
gBは、Nチャンネル装置に対するスレッシュホールド電
圧よりもかなり高いからである。これらの二つの装置、
即ちトランジスタ装置14及びトランジスタ装置16
は、Pチャンネルトランジスタ装置12よりも一層強い
ものである。従って、トランジスタ装置14及びトラン
ジスタ装置16はライン22を低状態へプルする。ライ
ン22は、前述した如く、インバータ18及びインバー
タ20により2度反転されて、出力制御ライン24を低
状態へ移行させる。
【0013】トランジスタ装置14及びトランジスタ装
置16は互いに直列であるので、ライン22と接地との
間の電圧差に起因するホットキャリア効果は防止され
る。トランジスタ装置14及びトランジスタ装置16は
分圧器として作用し、ライン22と接地との間の全電圧
をそれらの間で分割させる。
【0014】図3を参照すると、インバータ回路40が
示されている。インバータ回路40は、論理レベル制御
回路10によって検知される基板バイアス電圧に従って
論理レベル制御回路10の出力制御ライン2により制
御される。出力制御ライン24の制御信号は、トランジ
スタ装置54のゲート52においてインバータ回路40
へ印加される。従来のインバータ回路においては、トラ
ンジスタ装置54に対応するNチャンネル装置は、例え
ばトランジスタ装置48とトランジスタ装置56などの
二つの装置の間に存在することはない。しかしながら、
本発明の論理レベル制御回路10によるインバータ回路
40の制御を可能とするために、インバータ回路40内
にトランジスタ装置54が設けられている。
【0015】論理レベル制御回路10によって検知され
たVBBが0Vであり、論理レベル制御回路10からライ
ン24によってトランジスタ装置54のゲート52へ高
論理レベル制御信号が印加される場合には、インバータ
回路40は以下の如くに動作する。インバータ回路40
の装置54がターンオンする。なぜならば、トランジス
タ装置54のゲート52におけるレベルは5Vだからで
ある。従って、Pチャンネルトランジスタ装置48及び
Nチャンネルトランジスタ装置56は、インバータ回路
40内にあたかも装置54が存在しないかのように、実
質的に従来のインバータ回路として機能する。従って、
入力ライン42によってゲート44及びゲート46へ印
加される高論理レベルは、インバータ回路40の出力端
50において低論理レベルを発生させる。逆に、インバ
ータ回路40の入力端42へ低レベルが印加されると、
インバータ回路40の出力端50において高レベルが表
われる。
【0016】論理レベル制御回路10によって検知され
るVBBが−5Vであり、制御ライン24によりトランジ
スタ装置54のゲート52へ0Vの制御信号が印加され
る場合には、インバータ回路40は次の如くに機能す
る。入力ライン42によって印加される如くインバータ
回路40への電圧入力が−5Vである場合には、Pチャ
ンネル装置48がターンオンし且つNチャンネル装置5
6がターンオフする。このことは、出力ライン0にお
ける電圧レベルを高状態へプルする。ホットキャリア注
入は除去される。なぜならば、典型的に1個のNチャン
ネル装置を横断して存在する10Vが、この場合には、
二つの直列したNチャンネル装置、即ちNチャンネル装
置54及びNチャンネル装置56を横断して降下される
からである。更に、Nチャンネル装置54及びNチャン
ネル装置56は従来の装置であり、且つ動作のために特
別のバイアスを必要とすることはなく又製造上特別の処
理ステップを必要とするものでもない。
【0017】入力ライン42によって印加されるインバ
ータ回路40の入力電圧が+5Vである場合には、Pチ
ャンネル装置48がターンオフする。装置56は強くタ
ーンオンし、ノード58を−5Vへ近くへプルする。こ
の電圧レベルは、典型的に、−5Vレベルの10-8Vの
範囲内である。論理レベル制御回路10からの出力制御
ライン24が低状態であり、装置54のゲート52へ低
レベルを印加しているので、装置54はターンオンする
ことが許容される。トランジスタ装置56に対して前述
した態様において、トランジスタ装置54が強くターン
オンし、その際に出力ライン50における出力レベルを
−5Vの非常に近くにプルする。
【0018】従って、トランジスタ装置54は、論理レ
ベル制御回路10によって検知される基板バイアス電圧
BBに従って、(1)効果的にインバータ40から除去
されるか、又は(2)インバータ40内における分圧器
として作用する。このことは、インバータ40を、0又
は−5Vの何れの基板電圧とも動作することを可能とし
ている。
【0019】図4を参照すると、NANDゲート60が
示されている。NANDゲート60は、論理レベル制御
回路10の出力制御ライン24によって制御される。論
理レベル制御回路10の出力制御ライン24は、NAN
Dゲート60のNANDゲート制御ライン62へ結合さ
れており、且つトランジスタ装置74のゲートへ印加さ
れている。VBBが0Vであると、論理レベル制御回路1
0の出力制御ライン24は高状態にある。NANDゲー
ト入力ライン64及び66の両方が高状態にあると、N
ANDゲート出力ライン72は、NANDゲートの従来
の真理値表に従って低状態にある。NANDゲート入力
ライン64,66が両方とも高状態であると、トランジ
スタ装置78及びトランジスタ装置82の両方がターン
オンされ、その際にノード76を実質的にVBB近くへプ
ルする。VBBが0Vであると、論理レベル制御回路10
の出力制御ライン24は高状態にあるので、トランジス
タ装置74はターンオンし、その際にNANDゲート出
力ライン72をVBBへプルダウンさせる。何れかの入力
ライン64又は66が低状態にあると、少なくとも一方
のトランジスタ装置78又は82がターンオフされ、ノ
ード76をトライステート状態とさせ、一方NANDゲ
ート入力ライン64及び66はNANDゲート出力ライ
ン72を、トランジスタ装置68又はトランジスタ装置
70の何れかによって、論理1へプルする。
【0020】VBBが−5Vであると、論理レベル制御回
路10の出力制御ライン24は低状態にある。NAND
ゲート入力ライン64及び66の両方が高状態にある
と、ノード76は−5VであるVBBへプルされる。この
ことは、トランジスタ装置74のゲート対ドレイン電圧
を上昇させ、従ってNANDゲート出力ライン72は低
状態ヘプルされる。NANDゲート入力ライン64及び
/又はNANDゲート入力ライン66が低状態にある
と、ノード76はフロートし、一方トランジスタ装置6
8又はトランジスタ装置70はNANDゲート出力ライ
ン72を論理レベル1へプルアップする。従って、NA
NDゲート60は、VBBが0Vであるか又は−5Vであ
るかに拘らず、従来のNANDゲートの機能を実施す
る。
【0021】図5を参照すると、NORゲート90が示
されている。NORゲート90は、論理レベル制御回路
10の出力制御ライン24によって制御される。論理レ
ベル制御回路10の出力制御ライン24は、NORゲー
ト90のNOR制御ライン92へ結合されており、且つ
トランジスタ装置104のゲートへ印加される。NOR
ゲート90は、論理レベル制御回路10の出力制御ライ
ン24へ結合されると、VBBが0Vであるか又は−5V
であるかに拘らず、等しく良好に機能する。VBBが0V
である場合には、論理レベル制御回路10の出力制御ラ
イン24は高状態にあり、且つNORゲート90のトラ
ンジスタ装置104はターンオンされる。NORゲート
入力ライン94及び/又はNORゲート入力ライン96
が高状態にあり一方トランジスタ装置104がオンであ
る場合には、ノード110はトランジスタ装置106及
び/又はトランジスタ装置108によって低状態へプル
される。トランジスタ装置104のゲートが高状態であ
り且つトランジスタ装置104がオンしているので、N
ORゲート出力ライン102は約0Vへプルダウンされ
る。NORゲート入力ライン94及びNORゲート入力
ライン96が両方とも低状態であると、トランジスタ1
06及び108は両方ともオフである。同時に、NOR
ゲート入力ライン94及び96が0であるので、トラン
ジスタ装置98及び100はオンであり、その際にNO
Rゲート出力ライン102を高状態へプルする。
【0022】VBBが−5Vであり且つ出力制御ライン2
4が0である場合には、NORゲート90は以下の如く
に動作する。NORゲート入力ライン94及び/又はN
ORゲート入力ライン90が高状態であると、トランジ
スタ装置106及び/又はトランジスタ装置108がタ
ーンオンし、ノード110を−5Vへプルする。トラン
ジスタ104がターンオンし且つNORゲート出力ライ
ン102は低状態へプルされる。トランジスタ装置10
4はトランジスタ装置106及びトランジスタ装置10
8と直列状態にあるので、10Vはこれら二つの間で分
割される。従って、NORゲート90において衝撃イオ
ン化が発生することはない。二つのNORゲート入力ラ
イン94及びNORゲート入力ライン96が両方とも0
Vである場合には、トランジスタ装置106及びトラン
ジスタ装置108は両方ともオフである。従って、トラ
ンジスタ装置98及びトランジスタ装置100はターン
オンされ、その際にNORゲート出力ライン102を高
状態へプルする。
【0023】以上、本発明の具体的実施の態様について
詳細に説明したが、本発明は、これら具体例にのみ限定
されるべきものではなく、本発明の技術的範囲を逸脱す
ることなしに種々の変形が可能であることは勿論であ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 (A)は10V供給電圧を持った従来のNチ
ャンネル装置を示した概略図、(B)は供給電圧の関数
として(A)に示した従来のNチャンネル装置のドレイ
ン対ソース電流を示したグラフ図、(C)は従来のNチ
ャンネル装置に対する出力インピーダンスとドレイン対
ソース電圧の間の関係を示したグラフ図。
【図2】 本発明の一実施例に基づく衝撃イオン化感受
性プロセス用論理レベル制御を示した概略回路図。
【図3】 図2の論理レベル制御回路によって制御され
るインバータ回路を示した概略回路図。
【図4】 図2の論理レベル制御回路によって制御され
るNAND回路を示した概略回路図。
【図5】 図2の論理レベル制御回路によって制御され
るNOR回路を示した概略回路図。
【符号の説明】
10 論理レベル制御回路 12,14,16 トランジスタ装置 26,28,30 ゲート 18,20 インバータ 24 出力制御ライン VBB 基板バイアス電圧
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平1−149448(JP,A) 特開 平3−73565(JP,A) 特開 昭61−71658(JP,A) 特開 昭53−91649(JP,A) 特開 昭63−307771(JP,A) 特表 昭62−501043(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H03K 17/00 - 17/70 H01L 27/04

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数個の基板バイアス電圧レベルで動作
    可能なCMOS集積回路用の論理レベル制御回路におい
    て、前記複数個の基板バイアス電圧レベルのうちの単一
    の基板バイアス電圧レベルを決定する手段が設けられて
    おり、前記決定された単一の基板バイアス電圧レベルに
    対応する論理レベルを有する制御信号を供給する手段が
    設けられており、前記制御信号によりCMOS集積回路
    における衝撃イオン化を防止することを特徴とする論理
    レベル制御回路。
  2. 【請求項2】 請求項1において、前記制御信号が被制
    御装置へ印加されて、前記決定された基板バイアス電圧
    レベルに従って前記被制御装置オン又はオフさせて衝
    撃イオン化の防止を行うことを特徴とする論理レベル制
    御回路。
  3. 【請求項3】 請求項2において、前記被制御装置がオ
    ン又はオフされた場合に前記被制御装置が分圧回路の一
    部を構成することを特徴とする論理レベル制御回路。
  4. 【請求項4】 請求項3において、前記決定された
    バイアス電圧が0Vよりも実質的に大きい場合には、
    前記被制御装置に分圧機能を実施させ一方前記決定
    れた基板バイアス電圧が0Vと実質的に等しい場合に
    は、前記被制御装置に分圧機能を実施させないことを特
    徴とする論理レベル制御回路。
JP30089091A 1990-11-19 1991-11-16 論理レベル制御回路 Expired - Lifetime JP3280405B2 (ja)

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US615071 1990-11-19
US07/615,071 US5117125A (en) 1990-11-19 1990-11-19 Logic level control for impact ionization sensitive processes

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JPH04302213A JPH04302213A (ja) 1992-10-26
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