JP3276452B2 - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JP3276452B2
JP3276452B2 JP11813293A JP11813293A JP3276452B2 JP 3276452 B2 JP3276452 B2 JP 3276452B2 JP 11813293 A JP11813293 A JP 11813293A JP 11813293 A JP11813293 A JP 11813293A JP 3276452 B2 JP3276452 B2 JP 3276452B2
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bit line
potential
precharge
circuit
mosfet
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幸英 鈴木
潔 中井
雅也 村中
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Hitachi Ltd
Hitachi Solutions Technology Ltd
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Hitachi Ltd
Hitachi ULSI Systems Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は半導体記憶装置に関
し、例えば、ビット線プリチャージ回路を備えるダイナ
ミック型RAM(Random Access Mem
ory:ランダムアクセスメモリ)等に利用して特に有
効な技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, for example, a dynamic RAM (Random Access Mem) having a bit line precharge circuit.
ory: a random access memory).

【0002】[0002]

【従来の技術】直交して配置されるワード線及び相補ビ
ット線ならびにこれらのワード線及び相補ビット線の交
点に格子状に配置されるダイナミック型メモリセルを含
むメモリアレイと、相補ビット線に対応して設けられる
単位増幅回路を含むセンスアンプとを具備するダイナミ
ック型RAMがある。これらのダイナミック型RAMに
おいて、センスアンプは、図8に例示されるように、実
質的に対応する相補ビット線B00*〜B0n*ならび
にB10*〜B1n*(ここで、例えば非反転ビット線
B00T及び反転ビット線B00Bを、あわせて相補ビ
ット線B00*のように*を付して表す。また、それが
有効とされるとき選択的にハイレベルとされるいわゆる
非反転信号線等についてはその名称の末尾にTを付して
表し、それが有効とされるとき選択的にロウレベルとさ
れるいわゆる反転信号線等についてはその名称の末尾に
Bを付して表す。以下同様)の非反転及び反転信号線間
にそれぞれ設けられるNチャンネル型のプリチャージM
OSFET(Metal Oxide Semicon
ductor Field Effct Transi
stor:金属酸化物半導体型電界効果トランジスタ。
この明細書では、MOSFETをして絶縁ゲート型電界
効果トランジスタの総称とする)N9と、実質的に対応
する相補ビット線の非反転及び反転信号線とプリチャー
ジ電位供給点HVとの間にそれぞれ設けられるNチャン
ネル型のプリチャージMOSFETN7及びN8とから
なるビット線プリチャージ回路を含む。
2. Description of the Related Art A memory array including a word line and a complementary bit line arranged orthogonally and a dynamic memory cell arranged in a lattice at an intersection of the word line and the complementary bit line, and a complementary bit line are supported. There is a dynamic RAM provided with a sense amplifier including a unit amplifier circuit provided as such. In these dynamic RAMs, as illustrated in FIG. 8, the sense amplifiers substantially correspond to complementary bit lines B00 * to B0n * and B10 * to B1n * (here, for example, non-inverting bit lines B00T and B00T). The inverted bit line B00B is also indicated by asterisks (*), like a complementary bit line B00 *, and the names of so-called non-inverted signal lines that are selectively set to a high level when they are enabled. , And a so-called inverted signal line or the like which is selectively set to a low level when the signal is valid is denoted by suffixed with B. The same applies hereinafter. N-channel type precharge M provided between inverted signal lines
OSFET (Metal Oxide Semiconductor)
ductor Field Effect Transi
Stor: metal oxide semiconductor field effect transistor.
In this specification, MOSFETs are collectively referred to as an insulated gate field effect transistor) N9, and substantially between a non-inverted and inverted signal line of a corresponding complementary bit line and a precharge potential supply point HV, respectively. A bit line precharge circuit including N channel type precharge MOSFETs N7 and N8 is provided.

【0003】ビット線プリチャージ回路を備えるダイナ
ミック型RAMについて、例えば、特開平3−2146
69号公報等に記載されている。
A dynamic RAM having a bit line precharge circuit is disclosed, for example, in Japanese Patent Laid-Open No. Hei 3-2146.
No. 69, etc.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記に記載されるよう
な従来のダイナミック型RAMにおいて、ビット線プリ
チャージ回路を構成するプリチャージMOSFETN7
〜N9のゲートに供給されるプリチャージ制御信号PC
0等は、図9に例示されるように、ロウアドレスストロ
ーブ信号RASBがロウレベルとされダイナミック型R
AMが選択状態とされるとき、回路の接地電位つまり0
Vのような無効レベルとされ、ロウアドレスストローブ
信号RASBがハイレベルとされダイナミック型RAM
が非選択状態とされるとき電源電圧VCCのような有効
レベルとされる。プリチャージ制御信号PC0等が有効
レベルとされるとき、ビット線プリチャージ回路では、
プリチャージMOSFETN7〜N9が一斉にオン状態
となる。この結果、これらのプリチャージMOSFET
を介してビット線B00*〜B0n*の非反転及び反転
信号線が短絡されプリチャージされて、電源電圧VCC
及び回路の接地電位間の中間電位のようなプリチャージ
電位HVにイコライズされる。
In the conventional dynamic RAM as described above, a precharge MOSFET N7 constituting a bit line precharge circuit is used.
Precharge control signal PC supplied to the gates of N9 to N9
0, etc., as shown in FIG. 9, when the row address strobe signal RASB is at a low level and the dynamic type R
When AM is selected, the ground potential of the circuit, ie, 0
V, and the row address strobe signal RASB is set to the high level, and the dynamic RAM
Is set to an effective level such as power supply voltage VCC when is set to a non-selected state. When the precharge control signal PC0 or the like is set to an effective level, the bit line precharge circuit
The precharge MOSFETs N7 to N9 are simultaneously turned on. As a result, these precharge MOSFETs
, The non-inverting and inverting signal lines of the bit lines B00 * to B0n * are short-circuited and precharged, and the power supply voltage VCC
And a precharge potential HV such as an intermediate potential between the ground potentials of the circuit.

【0005】ところが、ダイナミック型RAMの電源電
圧VCCの低電圧化が進むにしたがって、上記従来のビ
ット線プリチャージ回路には次のような問題点が生じる
ことが本願発明者等によって明らかとなった。すなわ
ち、従来のビット線プリチャージ回路では、前述のよう
に、プリチャージ制御信号PC0等の有効レベルが電源
電圧VCCとされ、プリチャージMOSFETN7〜N
9のゲート及びソース間には、電源電圧VCC及びプリ
チャージ電位HVの電位差に相当するゲートソース間電
圧が印加される。周知のように、MOSFETのコンダ
クタンスは、そのゲートソース間電圧としきい値電圧と
の差分に比例して大きくなる。ダイナミック型RAMの
電源電圧VCCの低電圧化が進み、電源電圧VCC及び
プリチャージ電位HV間の電位差が小さくなると、相応
してプリチャージMOSFETN7〜N9のコンダクタ
ンスが小さくなり、プリチャージMOSFETによる相
補ビット線のプリチャージ動作が遅くなる。この結果、
ダイナミック型RAMの読み出し動作マージンが低下
し、そのアクセスタイムが遅くなって、ダイナミック型
RAMの低電圧化が制約を受けるものである。
However, as the power supply voltage VCC of the dynamic RAM has been lowered, the inventors of the present application have found that the following problems occur in the above-mentioned conventional bit line precharge circuit. . That is, in the conventional bit line precharge circuit, as described above, the effective level of the precharge control signal PC0 and the like is set to the power supply voltage VCC, and the precharge MOSFETs N7 to N7
9, a gate-source voltage corresponding to the potential difference between the power supply voltage VCC and the precharge potential HV is applied. As is well known, the conductance of a MOSFET increases in proportion to the difference between its gate-source voltage and its threshold voltage. When the power supply voltage VCC of the dynamic RAM is lowered and the potential difference between the power supply voltage VCC and the precharge potential HV is reduced, the conductance of the precharge MOSFETs N7 to N9 is correspondingly reduced, and the complementary bit line by the precharge MOSFET is reduced. Precharge operation becomes slow. As a result,
The read operation margin of the dynamic RAM is reduced, the access time is delayed, and lowering the voltage of the dynamic RAM is restricted.

【0006】一方、これに対処するため、本願発明者等
は、プリチャージ制御信号PC0等の有効レベルをワー
ド線の選択レベルに相当する高電圧VCHとし、電源電
圧VCCが低電圧化される場合でもプリチャージMOS
FETN7〜N9のゲートソース間電圧を比較的大きな
値に保つ方法を考えた。しかしながら、プリチャージ制
御信号PC0等を伝達する信号線には、相補ビット線B
00*〜B0n*等の組数n+1の3倍にあたるプリチ
ャージMOSFETN7〜N9のゲートが結合され、こ
れらのMOSFETのゲート容量に相当する比較的大き
な寄生容量が結合される。このため、ダイナミック型R
AMが再度選択状態とされるとき、プリチャージ制御信
号PC0等の電位が高電圧VCHから回路の接地電位に
引き下げられるまでに比較的長い時間が必要となり、こ
れによってプリチャージMOSFETN7〜N9のオフ
状態への状態遷移が遅くなって、ダイナミック型RAM
のアクセスタイムが遅くされるという問題が生じた。
On the other hand, in order to cope with this, the present inventors set the effective level of the precharge control signal PC0 and the like to a high voltage VCH corresponding to the word line selection level and reduce the power supply voltage VCC to a lower voltage. But precharge MOS
A method of keeping the gate-source voltages of the FETs N7 to N9 at a relatively large value was considered. However, a signal line transmitting the precharge control signal PC0 and the like includes a complementary bit line B
The gates of the precharge MOSFETs N7 to N9, which are three times the number of sets n + 1 such as 00 * to B0n *, are coupled, and a relatively large parasitic capacitance corresponding to the gate capacitance of these MOSFETs is coupled. Therefore, the dynamic type R
When AM is selected again, a relatively long time is required until the potential of the precharge control signal PC0 or the like is reduced from the high voltage VCH to the ground potential of the circuit, thereby turning off the precharge MOSFETs N7 to N9. State transition to slow, dynamic RAM
Access time is slowed down.

【0007】この発明の目的は、電源電圧が低電圧化さ
れる場合でも、相補ビット線等のイコライズ動作を高速
かつ確実に行いうるダイナミック型RAM等の半導体記
憶装置を実現することにある。この発明の他の目的は、
電源電圧の低電圧化がダイナミック型RAM等の読み出
し動作マージンやアクセスタイムに与える影響を抑制
し、ダイナミック型RAM等の低電圧化を推進すること
にある。
An object of the present invention is to realize a semiconductor memory device such as a dynamic RAM capable of performing an equalizing operation of complementary bit lines and the like at high speed and reliably even when a power supply voltage is lowered. Another object of the present invention is
It is an object of the present invention to suppress the effect of lowering the power supply voltage on a read operation margin and access time of a dynamic RAM or the like, and to promote a lower voltage of a dynamic RAM or the like.

【0008】この発明の前記ならびにその他の目的と新
規な特徴は、この明細書の記述及び添付図面から明らか
になるであろう。
[0008] The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次
の通りである。すなわち、所定のアレイ選択信号に従っ
て選択的に活性状態とされる複数のメモリアレイと、こ
れらのメモリアレイに対応して設けられかつビット線プ
リチャージ回路を含む複数のセンスアンプとを備えるダ
イナミック型RAM等において、ビット線プリチャージ
回路を構成するプリチャージMOSFETのゲートに供
給されるプリチャージ制御信号の有効レベルを、ダイナ
ミック型RAM等が対応するメモリアレイを活性状態と
する形で選択状態とされてから非選択状態とされる直後
にワード線の選択レベルに相当する所定の高電圧とし、
ダイナミック型RAM等が再度選択状態とされてから対
応するメモリアレイが活性状態とされるまでの間、回路
の電源電圧とする。
The following is a brief description of an outline of a typical invention among the inventions disclosed in the present application. More specifically, a dynamic RAM including a plurality of memory arrays selectively activated according to a predetermined array selection signal and a plurality of sense amplifiers provided corresponding to these memory arrays and including a bit line precharge circuit And the like, the effective level of the precharge control signal supplied to the gate of the precharge MOSFET constituting the bit line precharge circuit is set to a selected state in such a manner that a dynamic RAM or the like activates a corresponding memory array. Immediately after being set to a non-selected state, a predetermined high voltage corresponding to the selected level of the word line is set,
The power supply voltage of the circuit is used from the time when the dynamic RAM or the like is again selected to the time when the corresponding memory array is activated.

【0010】[0010]

【作用】上記手段によれば、ダイナミック型RAM等が
非選択状態とされる当初は、プリチャージMOSFET
のゲートソース間電圧を大きくして相補ビット線のイコ
ライズ動作を高速かつ確実に行うことができるととも
に、ダイナミック型RAM等が再度選択状態とされてか
ら対応するメモリアレイが活性状態とされるまでの間
は、プリチャージ制御信号の電位を回路の電源電圧まで
引き下げ、対応するメモリアレイが活性状態とされてか
らプリチャージMOSFETがオフ状態となるまでの時
間を短縮することができる。これ結果、電源電圧が低電
圧化される場合でも、相補ビット線等のイコライズ動作
を高速かつ確実に行い、読み出し信号レベルを大きくす
ることができるため、電源電圧の低電圧化がダイナミッ
ク型RAM等の読み出し動作マージンやアクセスタイム
に与える影響を抑制し、ダイナミック型RAM等の低電
圧化を推進することができる。
According to the above means, when the dynamic RAM or the like is initially set to the non-selected state, the precharge MOSFET
, The equalizing operation of the complementary bit line can be performed quickly and reliably, and the time from when the dynamic RAM or the like is again selected to when the corresponding memory array is activated is activated. During that time, the potential of the precharge control signal is reduced to the power supply voltage of the circuit, and the time from when the corresponding memory array is activated to when the precharge MOSFET is turned off can be reduced. As a result, even when the power supply voltage is reduced, the equalizing operation of the complementary bit lines and the like can be performed quickly and reliably, and the read signal level can be increased. The influence on the read operation margin and the access time can be suppressed, and lowering the voltage of a dynamic RAM or the like can be promoted.

【0011】[0011]

【実施例】図1には、この発明が適用されたダイナミッ
ク型RAMの一実施例のブロック図が示されている。ま
た、図2には、図1のダイナミック型RAMに含まれる
メモリアレイARY0の一実施例の回路図が示され、図
3には、図1のダイナミック型RAMに含まれるセンス
アンプSA0の一実施例の回路図が示されている。これ
らの図をもとに、この実施例のダイナミック型RAMの
構成及び動作の概要ならびにその特徴について説明す
る。なお、図2及び図3の各回路素子ならびに図1の各
ブロックを構成する回路素子は、公知のMOSFET集
積回路の製造技術により、単結晶シリコンのような1個
の半導体基板上に形成される。また、以下の回路図にお
いて、そのチャンネル(バックゲート)部に矢印が付さ
れるMOSFETはPチャンネル型であり、矢印の付さ
れないNチャンネルMOSFETと区別して示される。
さらに、メモリアレイ及びセンスアンプの具体的な構成
については、図2のメモリアレイARY0及び図3のセ
ンスアンプSA0を例に進められるが、他のメモリアレ
イARY1〜ARY7ならびにセンスアンプSA1〜S
A3については、同様な構成とされるので類推された
い。
FIG. 1 is a block diagram showing one embodiment of a dynamic RAM to which the present invention is applied. FIG. 2 is a circuit diagram of one embodiment of a memory array ARY0 included in the dynamic RAM of FIG. 1, and FIG. 3 is an embodiment of a sense amplifier SA0 included in the dynamic RAM of FIG. An example circuit diagram is shown. An outline of the configuration and operation of the dynamic RAM according to the present embodiment and the features thereof will be described with reference to these drawings. The circuit elements shown in FIGS. 2 and 3 and the circuit elements constituting each block shown in FIG. 1 are formed on a single semiconductor substrate such as single crystal silicon by a known MOSFET integrated circuit manufacturing technique. . Further, in the following circuit diagrams, MOSFETs having an arrow at the channel (back gate) portion are of a P-channel type, and are distinguished from N-channel MOSFETs without an arrow.
Further, the specific configurations of the memory array and the sense amplifier can be advanced by taking the memory array ARY0 of FIG. 2 and the sense amplifier SA0 of FIG. 3 as examples, but other memory arrays ARY1 to ARY7 and the sense amplifiers SA1 to SA1
Since A3 has the same configuration, it should be analogized.

【0012】図1において、この実施例のダイナミック
型RAMはいわゆるシェアドセンス方式を採り、対応す
るセンスアンプSA0〜SA3をはさむように配置され
る合計8個のメモリアレイARY0〜ARY7をその基
本構成要素とする。
In FIG. 1, the dynamic RAM of this embodiment employs a so-called shared sense system, and includes a total of eight memory arrays ARY0-ARY7 arranged so as to sandwich corresponding sense amplifiers SA0-SA3. And

【0013】メモリアレイARY0〜ARY7は、図2
のメモリアレイARY0に代表して示されるように、図
の垂直方向に平行して配置されるm+1本のワード線W
00〜W0m(ここで、メモリアレイARY0を構成す
るワード線をW00〜W0mと称し、他のメモリアレイ
ARY1〜ARY7を構成するワード線をそれぞれW1
0〜W1mないしW70〜W7mと称する。以下、相補
ビット線等についても同様)と、水平方向に平行して配
置されるn+1組の相補ビット線B00*〜B0n*と
を含む。これらのワード線及び相補ビット線の交点に
は、情報蓄積キャパシタCs及びアドレス選択MOSF
ETQaからなる(m+1)×(n+1)個のダイナミ
ック型メモリセルが格子状に配置される。
The memory arrays ARY0 to ARY7 are shown in FIG.
Of the memory array ARY0, m + 1 word lines W arranged in parallel in the vertical direction in FIG.
00 to W0m (here, the word lines forming the memory array ARY0 are referred to as W00 to W0m, and the word lines forming the other memory arrays ARY1 to ARY7 are W1 respectively.
0 to W1m to W70 to W7m. Hereinafter, the same applies to complementary bit lines and the like) and n + 1 sets of complementary bit lines B00 * to B0n * arranged in parallel in the horizontal direction. At the intersection of the word line and the complementary bit line, an information storage capacitor Cs and an address selection MOSF
(M + 1) × (n + 1) dynamic memory cells composed of ETQa are arranged in a lattice.

【0014】メモリアレイARY0の同一の行に配置さ
れるn+1個のメモリセルのアドレス選択MOSFET
Qaのゲートは、対応するワード線W00〜W0mに共
通結合される。また、メモリアレイARY0の同一の列
に配置されるm+1個のメモリセルのアドレス選択MO
SFETQaのドレインは、対応する相補ビット線B0
0*〜B0n*の非反転又は反転信号線に所定の規則性
をもって交互に結合される。メモリアレイARY0を構
成するすべてのメモリセルの情報蓄積キャパシタCsの
他方の電極には、所定のプレート電圧VPが供給され
る。
Address selection MOSFET of n + 1 memory cells arranged in the same row of memory array ARY0
The gates of Qa are commonly coupled to corresponding word lines W00-W0m. Further, the address selection MO of (m + 1) memory cells arranged in the same column of the memory array ARY0.
The drain of the SFET Qa is connected to the corresponding complementary bit line B0.
Non-inverted or inverted signal lines of 0 * to B0n * are alternately coupled with a predetermined regularity. A predetermined plate voltage VP is supplied to the other electrodes of the information storage capacitors Cs of all the memory cells constituting the memory array ARY0.

【0015】メモリアレイARY0〜ARY7を構成す
るワード線W00〜W0mないしW70〜W7mは、対
応するワード線駆動回路WD0〜WD7に結合され、択
一的に選択状態とされる。ワード線駆動回路WD0〜W
D7には、対応するXアドレスデコーダXD0〜XD7
から図示されないワード線選択信号WS00〜WS0m
ないしWS70〜WS7mが供給される。また、図示さ
れない高電圧発生回路から所定の高電圧VCHが供給さ
れ、タイミング発生回路TGから内部制御信号WXが共
通に供給される。この実施例において、高電圧VCH
は、その絶対値が電源電圧VCCの絶対値より所定値だ
け大きい+5Vのような正電位とされ、電源電圧VCC
は+3.3Vのような正電位とされる。
The word lines W00 to W0m to W70 to W7m forming the memory arrays ARY0 to ARY7 are coupled to the corresponding word line drive circuits WD0 to WD7, and are selectively selected. Word line drive circuits WD0-W
D7 has corresponding X address decoders XD0 to XD7.
From the word line selection signals WS00 to WS0m (not shown)
Or WS70 to WS7m are supplied. Further, a predetermined high voltage VCH is supplied from a high voltage generation circuit (not shown), and an internal control signal WX is commonly supplied from the timing generation circuit TG. In this embodiment, the high voltage VCH
Has a positive potential such as +5 V whose absolute value is larger than the absolute value of the power supply voltage VCC by a predetermined value.
Is set to a positive potential such as + 3.3V.

【0016】一方、XアドレスデコーダXD0〜XD7
には、XアドレスバッファXBから上位3ビットを除く
i−2ビットの内部アドレス信号X0〜Xi−3が共通
に供給され、アレイ選択回路ASから対応する内部制御
信号XG0〜XG7がそれぞれ供給される。Xアドレス
バッファXBの一方の入力端子には、アドレス入力端子
A0〜Aiを介してXアドレス信号AX0〜AXiが時
分割的に供給され、その他方の入力端子には、リフレッ
シュアドレスカウンタRFCからリフレッシュアドレス
信号R0〜Riが供給される。Xアドレスバッファに
は、さらにタイミング発生回路TGから内部制御信号R
EFが供給され、図示されない内部制御信号XLが供給
される。なお、内部制御信号REFは、ダイナミック型
RAMがリフレッシュモードとされるとき選択的にハイ
レベルとされる。
On the other hand, X address decoders XD0 to XD7
, The i-bit internal address signals X0 to Xi-3 excluding the upper three bits are commonly supplied from the X address buffer XB, and the corresponding internal control signals XG0 to XG7 are supplied from the array selection circuit AS, respectively. . An X address signal AX0 to AXi is supplied to one input terminal of the X address buffer XB in a time-division manner via address input terminals A0 to Ai, and a refresh address from a refresh address counter RFC is supplied to the other input terminal. Signals R0 to Ri are supplied. The X address buffer further includes an internal control signal R from the timing generation circuit TG.
EF is supplied, and an internal control signal XL (not shown) is supplied. The internal control signal REF is selectively set to a high level when the dynamic RAM is set to the refresh mode.

【0017】XアドレスバッファXBは、ダイナミック
型RAMが通常の動作モードで選択状態とされ内部制御
信号REFがロウレベルとされるとき、アドレス入力端
子A0〜Aiを介して供給されるXアドレス信号AX0
〜AXiを、またダイナミック型RAMがリフレッシュ
モードで選択状態とされ内部制御信号REFがハイレベ
ルとされるとき、リフレッシュアドレスカウンタRFC
から供給されるリフレッシュアドレス信号R0〜Riを
それぞれ内部制御信号XLに従って取り込み、保持する
とともに、これらのXアドレス信号又はリフレッシュア
ドレス信号をもとに内部アドレス信号X0〜Xiを形成
する。このうち、特に制限されないが、上位3ビットの
内部アドレス信号Xi−2〜Xiは後述するアレイ選択
回路ASに供給され、その他の内部アドレス信号X0〜
Xi−3は、前述のように、XアドレスデコーダXD0
〜XD7に共通に供給される。
When the dynamic RAM is selected in the normal operation mode and the internal control signal REF is at the low level, the X address buffer XB is supplied with the X address signal AX0 supplied through the address input terminals A0 to Ai.
AXi, and when the dynamic RAM is selected in the refresh mode and the internal control signal REF is set to the high level, the refresh address counter RFC
And fetches and holds the refresh address signals R0 to Ri supplied from the internal control signal XL, respectively, and forms the internal address signals X0 to Xi based on the X address signal or the refresh address signal. Among these, although not particularly limited, the internal address signals Xi-2 to Xi of the upper 3 bits are supplied to an array selection circuit AS described later, and the other internal address signals X0 to Xi are supplied.
Xi-3 is the X address decoder XD0 as described above.
To XD7.

【0018】XアドレスデコーダXD0〜XD7は、対
応する内部制御信号XG0〜XG7がハイレベルとされ
ることで選択的に動作状態とされ、内部アドレス信号X
0〜Xi−3をデコードして、対応する上記ワード線選
択信号WS00〜WS0mないしWS70〜WS7mを
択一的にハイレベルとする。また、ワード線駆動回路W
D0〜WD7は、ワード線選択信号WS00〜WS0m
ないしWS70〜WS7mのハイレベルを受けて、対応
するメモリアレイARY0〜ARY7の対応する1本の
ワード線を択一的に高電圧VCHのような選択レベルと
する。つまり、この実施例のダイナミック型RAMは、
いわゆるスタティックワード線選択方式を採るものであ
って、そのワード線の選択動作は、所定の高電圧VCH
を指定されたワード線に択一的に伝達することによって
実現される。
The X address decoders XD0 to XD7 are selectively activated by the corresponding internal control signals XG0 to XG7 being set to the high level, and the internal address signals XD0 to XD7 are selectively activated.
0 to Xi-3, and the corresponding word line selection signals WS00 to WS0m to WS70 to WS7m are alternatively set to the high level. Further, the word line driving circuit W
D0 to WD7 are the word line selection signals WS00 to WS0m
In response to the high levels of WS70 to WS7m, the corresponding one word line of the corresponding memory arrays ARY0 to ARY7 is alternatively set to a selection level such as the high voltage VCH. That is, the dynamic RAM of this embodiment is
A so-called static word line selection method is employed, and the operation of selecting the word line is performed by a predetermined high voltage VCH.
Is selectively transmitted to a designated word line.

【0019】アレイ選択回路ASは、Xアドレスバッフ
ァXBから供給される上位3ビットの内部アドレス信号
Xi−2〜Xiをデコードして、上記内部制御信号XG
0〜XG7とアレイ選択信号AS0〜AS7を択一的に
ハイレベルとし、内部制御信号SL0〜SL3及びSR
0〜SR3を択一的にロウレベルとする。このうち、内
部制御信号XG0〜XG7は、前述のように、対応する
XアドレスデコーダXD0〜XD7に供給され、内部制
御信号SL0〜SL3及びSR0〜SR3は、対応する
センスアンプSA0〜SA3に供給される。また、アレ
イ選択信号AS0〜AS7は、後述するセンスアンプ制
御回路SCに供給されるとともに、データ入出力回路I
Oに供給される。なお、内部制御信号SL0〜SL3及
びSR0〜SR3のハイレベルは、上記高電圧VCHと
され、ロウレベルは0Vとされる。
The array selection circuit AS decodes the internal address signals Xi-2 to Xi of the upper 3 bits supplied from the X address buffer XB, and outputs the internal control signals XG
0 to XG7 and array selection signals AS0 to AS7
High level, and the internal control signals SL0 to SL3 and SR
0 to SR3 are alternatively set to the low level. Among these, the internal control signals XG0 to XG7 are supplied to the corresponding X address decoders XD0 to XD7 as described above, and the internal control signals SL0 to SL3 and SR0 to SR3 are supplied to the corresponding sense amplifiers SA0 to SA3. You. Further, the array selection signals AS0 to AS7 are supplied to a later-described sense amplifier control circuit SC, and the data input / output circuit I
O is supplied. The high level of the internal control signals SL0 to SL3 and SR0 to SR3 is the high voltage VCH, and the low level is 0V.

【0020】次に、偶数番号のメモリアレイARY0〜
ARY6を構成する相補ビット線B00*〜B0n*な
いしB60*〜B6n*は、その右側において対応する
センスアンプSA0〜SA3の対応する単位回路に結合
され、奇数番号のメモリアレイARY1〜ARY7を構
成する相補ビット線B10*〜B1n*ないしB70*
〜B7n*は、その左側において対応するセンスアンプ
SA0〜SA3の対応する単位回路に結合される。セン
スアンプSA0〜SA3には、アレイ選択回路ASか
ら、対応する内部制御信号SL0〜SL3及びSR0〜
SR3が供給される。また、センスアンプ制御回路SC
から対応するプリチャージ制御信号PCS0〜PCS3
(第1のプリチャージ制御信号)ならびにPC0〜PC
3(第2のプリチャージ制御信号)が供給され、図示さ
れないコモンソース線SP及びSNを介して回路の電源
電圧及び接地電位が選択的に供給される。センスアンプ
制御回路SCには、前述のように、アレイ選択回路AS
からアレイ選択信号AS0〜AS7が供給されるととも
に、タイミング発生回路TGから内部制御信号R1が供
給され、さらに高電圧VCHが供給される。
Next, the even-numbered memory arrays ARY0 to ARY0
Complementary bit lines B00 * to B0n * to B60 * to B6n * constituting ARY6 are coupled to the corresponding unit circuits of the corresponding sense amplifiers SA0 to SA3 on the right side thereof to form odd-numbered memory arrays ARY1 to ARY7. Complementary bit lines B10 * to B1n * to B70 *
B7n * are coupled to the corresponding unit circuits of the corresponding sense amplifiers SA0 to SA3 on the left side. The sense amplifiers SA0 to SA3 receive corresponding internal control signals SL0 to SL3 and SR0 from the array selection circuit AS.
SR3 is supplied. Further, the sense amplifier control circuit SC
From the corresponding precharge control signals PCS0 to PCS3
(First precharge control signal) and PC0 to PC
3 (second precharge control signal) is supplied, and the power supply voltage and the ground potential of the circuit are selectively supplied via common source lines SP and SN (not shown). As described above, the sense amplifier control circuit SC includes the array selection circuit AS.
Supplies the array selection signals AS0 to AS7, supplies the internal control signal R1 from the timing generation circuit TG, and further supplies the high voltage VCH.

【0021】センスアンプ制御回路SCは、アレイ選択
回路ASから供給されるアレイ選択信号AS0〜AS7
とタイミング発生回路TGから供給される内部制御信号
R1とをもとに、プリチャージ制御信号PCS0〜PC
S3ならびにPC0〜PC3を選択的に有効レベルとす
る。この実施例において、プリチャージ制御信号PC0
〜PC3は、ダイナミック型RAMが非選択状態とされ
るときともに電源電圧VCCのような有効レベルとさ
れ、ダイナミック型RAMが選択状態とされるとき上位
3ビットの内部アドレス信号Xi−2〜Xiに従って択
一的に回路の接地電位のような無効レベルとされる。ま
た、プリチャージ制御信号PCS0〜PCS3は、ダイ
ナミック型RAMが対応するメモリアレイARY0又は
ARY1ないしARY6又はARY7を活性状態とする
形で選択状態とされてから非選択状態とされる直後にお
いて高電圧VCHのような有効レベルとされ、ダイナミ
ック型RAMが再度選択状態とされてから対応するメモ
リアレイARY0又はARY1ないしARY6又はAR
Y7が活性状態とされるまでの間、電源電圧VCCのよ
うな有効レベルとされる。対応するメモリアレイARY
0又はARY1ないしARY6又はARY7が活性状態
とされるとき、プリチャージ制御信号PCS0〜PCS
3は回路の接地電位のような無効レベルとされる。セン
スアンプ制御回路SCの具体的な構成及び動作について
は、後で詳細に説明する。
The sense amplifier control circuit SC includes array selection signals AS0 to AS7 supplied from the array selection circuit AS.
And precharge control signals PCS0 to PCS0 based on internal control signal R1 supplied from timing generation circuit TG.
S3 and PC0 to PC3 are selectively set to the effective level. In this embodiment, the precharge control signal PC0
PC3 is set to an effective level such as power supply voltage VCC when the dynamic RAM is in the non-selected state, and according to the internal address signals Xi-2 to Xi of the upper three bits when the dynamic RAM is in the selected state. Alternatively, it is set to an invalid level such as the ground potential of the circuit. The precharge control signals PCS0 to PCS3 are set to the high voltage VCH immediately after the dynamic RAM is set to the selected state in a state where the corresponding memory array ARY0 or ARY1 to ARY6 or ARY7 is activated and then to the non-selected state. And the dynamic type RAM is again selected, and the corresponding memory array ARY0 or ARY1 to ARY6 or AR
Until Y7 is activated, it is kept at an effective level such as power supply voltage VCC. Corresponding memory array ARY
0 or ARY1 to ARY6 or ARY7 are activated, the precharge control signals PCS0 to PCS
Numeral 3 is an invalid level such as the ground potential of the circuit. The specific configuration and operation of the sense amplifier control circuit SC will be described later in detail.

【0022】センスアンプSA0〜SA3は、図3のセ
ンスアンプSA0に代表して示されるように、対応する
メモリアレイARY0及びARY1の相補ビット線B0
0*〜B0n*ならびにB10*〜B1n*に対応して
設けられるn+1個の単位回路を含み、これらの単位回
路のそれぞれは、PチャンネルMOSFETP1及びN
チャンネルMOSFETN1ならびにPチャンネルMO
SFETP2及びNチャンネルMOSFETN2からな
る一対のCMOSインバータが交差接続されてなる単位
増幅回路を含む。以下、センスアンプSA0を例に、セ
ンスアンプSA0〜SA3の具体的な説明を進める。
The sense amplifiers SA0 to SA3 are, as represented by the sense amplifier SA0 in FIG. 3, complementary bit lines B0 of the corresponding memory arrays ARY0 and ARY1.
0 * to B0n * and n + 1 unit circuits provided corresponding to B10 * to B1n *, each of which includes a P-channel MOSFET P1 and an N-channel MOSFET N1.
Channel MOSFET N1 and P-channel MO
It includes a unit amplifier circuit formed by cross-connecting a pair of CMOS inverters composed of an SFET P2 and an N-channel MOSFET N2. Hereinafter, the sense amplifiers SA0 to SA3 will be specifically described with the sense amplifier SA0 as an example.

【0023】センスアンプSA0の各単位回路を構成す
る単位増幅回路の非反転及び反転入出力ノードは、その
左側において、対応するNチャンネル型のスイッチMO
SFETN3及びN4を介してメモリアレイARY0の
対応する相補ビット線B00*〜B0n*に結合され、
その右側において、対応するNチャンネル型のスイッチ
MOSFETNA及びNBを介してメモリアレイARY
1の対応する相補ビット線B10*〜B1n*に結合さ
れる。このうち、スイッチMOSFETN3及びN4の
ゲートには、内部制御信号SL0が共通に供給され、ス
イッチMOSFETNA及びNBのゲートには、内部制
御信号SR0が共通に供給される。各単位増幅回路を構
成するMOSFETP1及びP2のソースは、コモンソ
ース線SP0に共通結合され、MOSFETN1及びN
2のソースは、コモンソース線SN0に共通結合され
る。前述のように、コモンソース線SP0及びSN0に
は、対応するメモリアレイARY0又はARY1が活性
状態とされるとき、電源電圧VCC及び回路の接地電位
がそれぞれ選択的に供給される。
The non-inverting and inverting input / output nodes of the unit amplifier circuit constituting each unit circuit of the sense amplifier SA0 have a corresponding N-channel switch MO on the left side thereof.
Coupled to corresponding complementary bit lines B00 * -B0n * of memory array ARY0 via SFETs N3 and N4,
On the right side, the memory array ARY is provided via corresponding N-channel type switch MOSFETs NA and NB.
Coupled to one corresponding complementary bit line B10 * -B1n *. The internal control signal SL0 is commonly supplied to the gates of the switch MOSFETs N3 and N4, and the internal control signal SR0 is commonly supplied to the gates of the switch MOSFETs NA and NB. The sources of the MOSFETs P1 and P2 constituting each unit amplifier circuit are commonly coupled to a common source line SP0, and the MOSFETs N1 and N2
The two sources are commonly coupled to a common source line SN0. As described above, the power supply voltage VCC and the circuit ground potential are selectively supplied to the common source lines SP0 and SN0 when the corresponding memory array ARY0 or ARY1 is activated.

【0024】これらのことから、センスアンプSA0の
各単位増幅回路は、内部制御信号SR0がハイレベルか
らロウレベルとされるとき、右側に配置されたメモリア
レイARY1の対応する相補ビツト線B10*〜Bln
*が選択的に切り離され、内部制御信号SL0がハイレ
ベルからロウレベルとされるとき、左側に配置されたメ
モリアレイARY0の対応する相補ビット線B00*〜
B0n*が選択的に切り離される。このとき、各単位増
幅回路は、コモンソース線SP0及びSN0を介して電
源電圧VCC及び回路の接地電位が供給されることで選
択的にかつ一斉に動作状態とされ、メモリアレイARY
0又はARY1の選択されたワード線に結合されるn+
1個のメモリセルから対応する相補ビット線を介して出
力される微小読み出し信号を増幅して、電源電圧VCC
のようなハイレベル又は回路の接地電位のようなロウレ
ベルの2値読み出し信号とする。なお、内部制御信号S
L0及びSR0のハイレベルは、前述のように、高電圧
VCHとされる。このため、センスアンプSA0の各単
位増幅回路の非反転及び反転入出力ノードに確立された
2値読み出し信号は、スイッチMOSFETN3及びN
4あるいはNA及びNBのしきい値電圧によって低下さ
れることなくメモリアレイARY0又はARY1の対応
する相補ビット線B00*〜B0n*あるいはB10*
〜Bln*に伝達される。
From these facts, each unit amplifier circuit of the sense amplifier SA0 determines whether the internal control signal SR0 is at a high level.
When that is Luo low level, it arranged on the right side Memoria
The corresponding complementary bit line of Ray ARY1 B10 * ~Bln
Is selectively disconnected, and the internal control signal SL0 goes high.
When the level is changed from the bell to the low level , the corresponding complementary bit lines B00 * to B00 * of the memory array ARY0 arranged on the left side are set.
B0n * is selectively disconnected . At this time, each of the unit amplifier circuits is selectively and simultaneously activated by the supply of the power supply voltage VCC and the ground potential of the circuit via the common source lines SP0 and SN0.
N + coupled to a selected word line of 0 or ARY1
A small read signal output from one memory cell via a corresponding complementary bit line is amplified to supply a power supply voltage VCC.
, Or a low level binary read signal such as a circuit ground potential. The internal control signal S
The high level of L0 and SR0 is the high voltage VCH as described above. Therefore, the binary read signals established at the non-inverting and inverting input / output nodes of each unit amplifier circuit of the sense amplifier SA0 are output from the switch MOSFETs N3 and N3.
4 or the corresponding complementary bit lines B00 * -B0n * or B10 * of the memory array ARY0 or ARY1 without being reduced by the threshold voltages of NA and NB.
~ Bln *.

【0025】センスアンプSAの各単位回路は、さら
に、単位増幅回路の非反転及び反転入出力ノードと相補
共通データ線CD0*及びCD1*との間に設けられる
Nチャンネル型の一対のスイッチMOSFETN5及び
N6をそれぞれ含み、単位増幅回路の非反転及び反転入
出力ノード間つまりは実質的に対応する相補ビット線B
00*〜B0n*ならびにB10*〜B1n*の非反転
及び反転信号線間に設けられるNチャンネル型のプリチ
ャージMOSFETN9(第1のMOSFET)と、実
質的に対応する相補ビット線B00*〜B0n*ならび
にB10*〜B1n*の非反転及び反転信号線とプリチ
ャージ電位供給点HVとの間にそれぞれ設けられるNチ
ャンネル型の2個のプリチャージMOSFETN7(第
2のMOSFET)及びN8(第3のMOSFET)と
からなるビット線プリチャージ回路をそれぞれ含む。こ
のうち、スイッチMOSFETN5及びN6のゲート
は、2対ずつそれぞれ共通結合され、Yアドレスデコー
ダYDから対応するビット線選択信号YS0〜YSpが
供給される。また、プリチャージMOSFETN9のゲ
ートには、プリチャージ制御信号PCS0が共通に供給
され、プリチャージMOSFETN7及びN8のゲート
には、プリチャージ制御信号PC0が共通に供給され
る。なお、ビット線選択信号YS0〜YSpのビット数
p+1が、メモリアレイARY0及びARY1の相補ビ
ット線の組数n+1に対して、 p+1=(n+1)/2 なる関係にあることは言うまでもない。
Each unit circuit of the sense amplifier SA further includes a pair of N-channel type switch MOSFETs N5 and N5 provided between the non-inverting and inverting input / output nodes of the unit amplifier circuit and the complementary common data lines CD0 * and CD1 *. N6, and between the non-inverting and inverting input / output nodes of the unit amplifier circuit, that is, substantially corresponding complementary bit lines B
N-channel type precharge MOSFET N9 (first MOSFET) provided between non-inverted and inverted signal lines of 00 * to B0n * and B10 * to B1n *, and complementary bit lines B00 * to B0n * substantially corresponding thereto. And two N-channel precharge MOSFETs N7 (second MOSFET) and N8 (third MOSFET) provided between the non-inversion and inversion signal lines of B10 * to B1n * and the precharge potential supply point HV, respectively. ) Respectively. Among them, the gates of the switch MOSFETs N5 and N6 are commonly coupled in pairs, and the corresponding bit line selection signals YS0 to YSp are supplied from the Y address decoder YD. The precharge control signal PCS0 is commonly supplied to the gate of the precharge MOSFET N9, and the precharge control signal PC0 is commonly supplied to the gates of the precharge MOSFETs N7 and N8. It is needless to say that the bit number p + 1 of the bit line selection signals YS0 to YSp has a relationship of p + 1 = (n + 1) / 2 with respect to the number n + 1 of complementary bit lines of the memory arrays ARY0 and ARY1.

【0026】センスアンプSA0の各単位回路を構成す
るスイッチMOSFETN5及びN6は、対応するビッ
ト線選択信号YS0〜YSpがハイレベルとされること
で選択的にかつ2組ずつ同時にオン状態とされ、対応す
る2個の単位増幅回路の非反転及び反転入出力ノードつ
まりはメモリアレイARY0又はARY1の対応する2
組の相補ビット線と相補共通データ線CD0*及びCD
1*とを選択的に接続状態とする。一方、各単位回路の
ビット線プリチャージ回路を構成するプリチャージMO
SFETN9は、プリチャージ制御信号PCS0が高電
圧VCHのようなハイレベルとされることで選択的にか
つ一斉にオン状態となり、対応する単位増幅回路の非反
転及び反転入出力ノードつまりはメモリアレイARY0
又はARY1の対応する相補ビット線の非反転及び反転
信号線を短絡する。また、プリチャージMOSFETN
7及びN8は、プリチャージ制御信号PC0が電源電圧
VCCのようなハイレベルとされることで選択的にオン
状態となり、対応する単位増幅回路の非反転及び反転入
出力ノードつまりはメモリアレイARY0又はARY1
の対応する相補ビット線の非反転及び反転信号線にプリ
チャージ電位HVを供給する。この結果、センスアンプ
SA0に結合され活性状態にあったメモリアレイARY
0又はARY1の相補ビット線B00*〜B0n*ある
いはB10*〜B1n*の非反転及び反転信号線はイコ
ライズされ、ともに電源電圧VCCの中間電位のような
プリチャージ電位HVにプリチャージされる。
The switch MOSFETs N5 and N6 constituting each unit circuit of the sense amplifier SA0 are selectively and simultaneously turned on by two sets when the corresponding bit line select signals YS0 to YSp are set to the high level. The non-inverting and inverting input / output nodes of the two unit amplifier circuits, that is, the corresponding two of the memory arrays ARY0 or ARY1
Set of complementary bit lines and complementary common data lines CD0 * and CD
1 * is selectively connected. On the other hand, a precharge MO constituting a bit line precharge circuit of each unit circuit
The SFET N9 is selectively and simultaneously turned on when the precharge control signal PCS0 is set to a high level such as the high voltage VCH, and the non-inverting and inverting input / output nodes of the corresponding unit amplifier circuit, that is, the memory array ARY0
Alternatively, the non-inversion and inversion signal lines of the corresponding complementary bit lines of ARY1 are short-circuited. Also, the precharge MOSFET N
7 and N8 are selectively turned on when the precharge control signal PC0 is set to a high level such as the power supply voltage VCC, and the non-inverted and inverted input / output nodes of the corresponding unit amplifier circuit, that is, the memory array ARY0 or ARY1
The precharge potential HV is supplied to the non-inversion and inversion signal lines of the corresponding complementary bit lines. As a result, the active memory array ARY coupled to the sense amplifier SA0
The non-inverted and inverted signal lines of the complementary bit lines B00 * to B0n * or B10 * to B1n * of 0 or ARY1 are equalized and both are precharged to a precharge potential HV such as an intermediate potential of the power supply voltage VCC.

【0027】ところで、プリチャージMOSFETN9
のゲートに供給されるプリチャージ制御信号PCS0
は、前述のように、ダイナミック型RAMが対応するメ
モリアレイARY0を活性状態とする形で選択状態とさ
れてから非選択状態とされる直後において高電圧VCH
とされ、ダイナミック型RAMが再度選択状態とされて
から対応するメモリアレイARY0が活性状態とされる
までの間、電源電圧VCCとされる。また、プリチャー
ジMOSFETN7〜N9によるイコライズが行われる
直前において、メモリアレイARY0及びARY1の相
補ビット線B00*〜B0n*ならびにB10*〜B1
n*の非反転及び反転信号線は、2値読み出し信号レベ
ルつまり電源電圧VCCのようなハイレベル又は回路の
接地電位なロウレベルとされる。これらのことから、プ
リチャージMOSFETN7〜N9によるイコライズ効
果は、各相補ビット線の非反転及び反転信号線を短絡す
る作用を持つプリチャージMOSFETN9に頼る部分
が大きく、加えてこのプリチャージMOSFETN9の
ゲートに供給されるプリチャージ制御信号PCS0が高
電圧VCHのような有効レベルとされることで、プリチ
ャージMOSFETN9のゲートソース間電圧が大きく
され、これによって各相補ビット線のイコライズが高速
かつ確実に行われるものとなる。なお、ダイナミック型
RAMの各部の信号波形ならびにセンスアンプSA0〜
SA3のビット線プリチャージ回路によるイコライズ動
作については、後で詳細に説明する。
By the way, the precharge MOSFET N9
Precharge control signal PCS0 supplied to the gate of
As described above, immediately after the dynamic RAM is set to the selected state in a state where the corresponding memory array ARY0 is activated and then to the non-selected state, the high voltage VCH
The power supply voltage VCC is maintained from when the dynamic RAM is again selected to when the corresponding memory array ARY0 is activated. Immediately before the equalization by the precharge MOSFETs N7 to N9 is performed, the complementary bit lines B00 * to B0n * and B10 * to B1 of the memory arrays ARY0 and ARY1 are used.
The n * non-inverting and inverting signal lines are at a binary read signal level, that is, a high level such as the power supply voltage VCC or a low level which is the ground potential of the circuit. From these facts, the equalizing effect of the precharge MOSFETs N7 to N9 largely depends on the precharge MOSFET N9 which has a function of short-circuiting the non-inverting and inverting signal lines of each complementary bit line. By setting the supplied precharge control signal PCS0 to an effective level such as the high voltage VCH, the voltage between the gate and the source of the precharge MOSFET N9 is increased, whereby the equalization of each complementary bit line is performed quickly and reliably. It will be. The signal waveforms of the respective parts of the dynamic RAM and the sense amplifiers SA0 to SA0
The equalizing operation by the SA3 bit line precharge circuit will be described later in detail.

【0028】YアドレスデコーダYDには、Yアドレス
バッファYBからi+1ビットの内部アドレス信号Y0
〜Yiが供給され、タイミング発生回路TGから図示さ
れない内部制御信号YGが供給される。また、Yアドレ
スバッファYBには、アドレス入力端子A0〜Aiを介
してYアドレス信号AY0〜AYiが供給され、タイミ
ング発生回路TGから図示されない内部制御信号YLが
供給される。
The Y address decoder YD supplies an i + 1 bit internal address signal Y0 from the Y address buffer YB.
To Yi, and an internal control signal YG (not shown) from the timing generation circuit TG. The Y address buffer YB is supplied with Y address signals AY0 to AYi via address input terminals A0 to Ai, and an internal control signal YL (not shown) from the timing generation circuit TG.

【0029】YアドレスバッファYBは、アドレス入力
端子A0〜Aiを介して時分割的に供給されるYアドレ
ス信号AY0〜AYiを、内部制御信号YLに従って取
り込み、保持するとともに、これらのYアドレス信号を
もとに内部アドレス信号Y0〜Yiを形成して、Yアド
レスデコーダYDに供給する。また、Yアドレスデコー
ダYDは、内部制御信号YGがハイレベルとされること
で選択的に動作状態とされ、内部アドレス信号Y0〜Y
iをデコードして、対応する上記ビット線選択信号YS
0〜YSpを択一的にハイレベルとする。
The Y address buffer YB captures and holds the Y address signals AY0 to AYi supplied in a time-division manner via the address input terminals A0 to Ai in accordance with the internal control signal YL, and stores these Y address signals. Originally, internal address signals Y0 to Yi are formed and supplied to a Y address decoder YD. The Y address decoder YD is selectively activated when the internal control signal YG is set to a high level, and the internal address signals Y0 to Y
i, and decodes the corresponding bit line selection signal YS.
0 to YSp is alternatively set to a high level.

【0030】以上の説明から明らかなように、8個のメ
モリアレイARY0〜ARY7は、対応するXアドレス
デコーダXD0〜XD7が内部制御信号XG0〜XG7
つまりは上位3ビットの内部アドレス信号Xi−2〜X
iに従って択一的に動作状態とされ、またそれぞれが内
部制御信号SL0〜SL3ならびにSR0〜SR3つま
りは上位3ビットの内部アドレス信号Xi−2〜Xiに
従って対応するセンスアンプSA0〜SA3に選択的に
接続状態とされることで、言わば択一的に活性状態とさ
れる。そして、活性状態とされる1個のメモリアレイか
ら、内部アドレス信号Y0〜Yiにより指定される2組
の相補ビット線が選択され、対応する2組の相補共通デ
ータ線CD0*及びCD1*ないしCD6*及びCD7
*に選択的に接続状態とされるものとなる。
As is clear from the above description, the eight memory arrays ARY0 to ARY7 have the corresponding X address decoders XD0 to XD7 having the internal control signals XG0 to XG7.
That is, the internal address signals Xi-2 to Xi of the upper three bits
i and selectively actuated according to internal control signals SL0 to SL3 and SR0 to SR3, that is, corresponding sense amplifiers SA0 to SA3 in accordance with internal address signals Xi-2 to Xi of upper three bits. By being in the connected state, it is alternatively activated. Two sets of complementary bit lines designated by internal address signals Y0 to Yi are selected from one activated memory array, and two corresponding sets of complementary common data lines CD0 * and CD1 * to CD6 are selected. * And CD7
* Is selectively connected.

【0031】メモリアレイARY0〜ARY7の指定さ
れる2組の相補ビット線が選択的に接続状態とされる相
補共通データ線CD0*〜CD7*は、データ入出力回
路IOに結合される。データ入出力回路IOは、相補共
通データ線CD0*〜CD7*に対応して設けられる8
個のライトアンプ及びメインアンプと、これらのライト
アンプ及びメインアンプにそれぞれ共通に設けられる1
個のデータ入力バッファ及びデータ出力バッファを含
む。このうち、各ライトアンプの出力端子及び各メイン
アンプの入力端子は、対応する相補共通データ線CD0
*〜CD7*にそれぞれ共通結合される。一方、各ライ
トアンプの入力端子は、データ入力バッファの出力端子
に共通結合され、このデータ入力バッファの入力端子
は、データ入力端子Dinに結合される。また、各メイ
ンアンプの出力端子は、データ出力バッファの入力端子
に共通結合され、このデータ出力バッファの出力端子
は、データ出力端子Doutに結合される。各ライトア
ンプには、タイミング発生回路TGから図示されない内
部制御信号WPが共通に供給されるとともに、アレイ選
択回路ASから対応するアレイ選択信号AS0〜AS7
がそれぞれ供給される。また、データ出力バッファに
は、タイミング発生回路TGから図示されない内部制御
信号DOCが供給されるとともに、アレイ選択回路AS
から上記アレイ選択回路AS0〜AS7が供給される。
Complementary common data lines CD0 * to CD7 *, to which two designated complementary bit lines of memory arrays ARY0 to ARY7 are selectively connected, are coupled to data input / output circuit IO. Data input / output circuit IO is provided corresponding to complementary common data lines CD0 * to CD7 *.
Write amplifiers and main amplifiers, and 1
Data input buffers and data output buffers. Among these, the output terminal of each write amplifier and the input terminal of each main amplifier are connected to the corresponding complementary common data line CD0.
* To CD7 *, respectively. On the other hand, the input terminal of each write amplifier is commonly coupled to the output terminal of the data input buffer, and the input terminal of this data input buffer is coupled to the data input terminal Din. The output terminal of each main amplifier is commonly coupled to the input terminal of the data output buffer, and the output terminal of the data output buffer is coupled to the data output terminal Dout. Each write amplifier is commonly supplied with an internal control signal WP (not shown) from a timing generation circuit TG, and receives corresponding array selection signals AS0 to AS7 from an array selection circuit AS.
Are supplied respectively. The data output buffer is supplied with an internal control signal DOC (not shown) from the timing generation circuit TG, and the array selection circuit AS
Supplies the array selection circuits AS0 to AS7.

【0032】データ入出力回路IOのデータ入力バッフ
ァは、ダイナミック型RAMが書き込みモードで選択状
態とされるとき、データ入力端子Dinを介して供給さ
れる書き込みデータを取り込み、8個のライトアンプに
共通に伝達する。このとき、各ライトアンプは、内部制
御信号WPがハイレベルとされかつ対応するアレイ選択
信号AS0〜AS7がハイレベルとされることで択一的
に動作状態とされ、データ入力バッファから伝達される
書き込みデータを所定の相補書き込み信号とする。これ
らの相補書き込み信号は、動作状態とされる1個のライ
トアンプから対応する1組の相補共通データ線CD0〜
CD7*を介してメモリアレイARY0〜ARY7の選
択されたメモリセルに伝達され、書き込まれる。
The data input buffer of the data input / output circuit IO receives the write data supplied via the data input terminal Din when the dynamic RAM is selected in the write mode, and is shared by the eight write amplifiers. To communicate. At this time, each of the write amplifiers is selectively activated by setting the internal control signal WP to the high level and the corresponding array selection signals AS0 to AS7 to the high level, and is transmitted from the data input buffer. The write data is a predetermined complementary write signal. These complementary write signals are supplied from a single write amplifier which is brought into operation to a corresponding set of complementary common data lines CD0 to CD0.
The data is transmitted to the selected memory cell of the memory arrays ARY0 to ARY7 via the CD7 * and written.

【0033】一方、データ入出力回路IOのメインアン
プは、ダイナミック型RAMが読み出しモードで選択状
態とされるとき、メモリアレイARY0〜ARY7の選
択された2個のメモリセルから対応する相補共通データ
線CD0*〜CD7*を介して出力される2値読み出し
信号をさらに増幅して、データ出力バッファに伝達す
る。このとき、データ出力バッファは、内部制御信号D
OCがハイレベルとされることで選択的に動作状態とさ
れ、アレイ選択信号AS0〜AS7に従って対応する1
個のメインアンプから出力される読み出し信号を択一的
に選択し、データ出力端子Doutを介してダイナミッ
ク型RAMの外部に送出する。
On the other hand, when the dynamic RAM is selected in the read mode, the main amplifier of the data input / output circuit IO outputs the corresponding complementary common data line from the two selected memory cells of the memory arrays ARY0 to ARY7. The binary read signal output via CD0 * to CD7 * is further amplified and transmitted to the data output buffer. At this time, the data output buffer outputs the internal control signal D
When OC is set to the high level, it is selectively activated, and the corresponding 1 according to the array selection signals AS0 to AS7.
The read signals output from the main amplifiers are alternatively selected and sent out of the dynamic RAM via the data output terminal Dout.

【0034】タイミング発生回路TGは、外部から起動
制御信号として供給されるロウアドレスストローブ信号
RASB,カラムアドレスストローブ信号CASB及び
ライトイネーブル信号WEBをもとに上記各種の内部制
御信号を選択的に形成し、ダイナミック型RAMの各部
に供給する。
The timing generation circuit TG selectively forms the various internal control signals based on a row address strobe signal RASB, a column address strobe signal CASB, and a write enable signal WEB supplied from outside as a start control signal. , And to each part of the dynamic RAM.

【0035】図5には、図1のダイナミック型RAMに
含まれるセンスアンプ制御回路SCの一実施例のブロッ
ク図が示されている。また、図6には、図5のセンスア
ンプ制御回路SCに含まれる単位センスアンプ制御回路
USC0の一実施例の回路図が示され、図7には、図1
のダイナミック型RAMの一実施例の信号波形図が示さ
れている。これらの図をもとに、この実施例のダイナミ
ック型RAMに含まれるセンスアンプ制御回路SCの具
体的な構成及び動作ならびにその特徴について説明す
る。なお、単位センスアンプ制御回路USC0〜USC
3に関する以下の説明は、単位センスアンプ制御回路U
SC0を例に進められるが、他の単位センスアンプ制御
回路USC1〜USC3については類推されたい。
FIG. 5 is a block diagram showing one embodiment of the sense amplifier control circuit SC included in the dynamic RAM of FIG. FIG. 6 is a circuit diagram of one embodiment of the unit sense amplifier control circuit USC0 included in the sense amplifier control circuit SC of FIG. 5, and FIG.
1 is a signal waveform diagram of one embodiment of the dynamic RAM. With reference to these figures, the specific configuration and operation of the sense amplifier control circuit SC included in the dynamic RAM of this embodiment and the features thereof will be described. The unit sense amplifier control circuits USC0 to USC
3 will be described below.
SC0 is taken as an example, but analogy should be made for the other unit sense amplifier control circuits USC1 to USC3.

【0036】図5において、センスアンプ制御回路SC
は、センスアンプSA0〜SA3に対応して設けられる
4個の単位センスアンプ制御回路USC0〜USC3を
備える。これらの単位センスアンプ制御回路には、内部
制御信号R1及び高電圧VCHが共通に供給されるとと
もに、対応する2ビットのアレイ選択信号AS0及びA
S1ないしAS6及びAS7がそれぞれ供給される。単
位センスアンプ制御回路USC0の出力信号は、プリチ
ャージ制御信号PCS0及びPC0として対応するセン
スアンプSA0に供給され、単位センスアンプ制御回路
USC1〜USC3の出力信号は、プリチャージ制御信
号PCS1〜PCS3ならびにPC1〜PC3として対
応するセンスアンプSA1〜SA3に供給される。
Referring to FIG. 5, sense amplifier control circuit SC
Includes four unit sense amplifier control circuits USC0 to USC3 provided corresponding to the sense amplifiers SA0 to SA3. The internal control signal R1 and the high voltage VCH are commonly supplied to these unit sense amplifier control circuits, and the corresponding two-bit array selection signals AS0 and A
S1 to AS6 and AS7 are supplied respectively. The output signal of unit sense amplifier control circuit USC0 is supplied to corresponding sense amplifier SA0 as precharge control signals PCS0 and PC0, and the output signals of unit sense amplifier control circuits USC1 to USC3 are precharge control signals PCS1 to PCS3 and PC1. PCPC3 are supplied to the corresponding sense amplifiers SA1 to SA3.

【0037】なお、内部制御信号R1は、図7に示され
るように、ロウアドレスストローブ信号RASBのロウ
レベル変化を受けて選択的にハイレベルとされる。ま
た、ダイナミック型RAMは、ロウアドレスストローブ
信号RASBがロウレベルとされ内部制御信号R1ハイ
レベルとされることで選択的に選択状態とされる。アド
レス入力端子A0〜Aiには、ロウアドレスストローブ
信号RASBの最初の立ち下がりエッジに同期して、例
えばメモリアレイARY0のワード線W00を指定する
組み合わせでXアドレス信号AX0〜AXiが供給さ
れ、カラムアドレスストローブ信号CASBの最初の立
ち下がりエッジに同期して所定の相補ビット線を指定す
る組み合わせでYアドレス信号AY0〜AYiが供給さ
れる。また、ロウアドレスストローブ信号RASBの2
回目の立ち下がりエッジに同期して、例えばメモリアレ
イARY3のワード線W30を指定する組み合わせでX
アドレス信号AX0〜AXiが供給され、カラムアドレ
スストローブ信号CASBの2回目の立ち下がりエッジ
に同期して他の所定の相補ビット線を指定する組み合わ
せでYアドレス信号AY0〜AYiが供給される。
As shown in FIG. 7, the internal control signal R1 is selectively turned to a high level in response to a low level change of the row address strobe signal RASB. Further, the dynamic RAM is selectively selected by setting the row address strobe signal RASB to a low level and setting the internal control signal R1 to a high level. To the address input terminals A0 to Ai, X address signals AX0 to AXi are supplied in synchronism with the first falling edge of the row address strobe signal RASB, for example, in a combination designating the word line W00 of the memory array ARY0, The Y address signals AY0 to AYi are supplied in a combination designating a predetermined complementary bit line in synchronization with the first falling edge of the strobe signal CASB. Also, the row address strobe signal RASB 2
In synchronism with the second falling edge, for example, a combination specifying the word line W30 of the memory array ARY3 is set to X
The address signals AX0 to AXi are supplied, and the Y address signals AY0 to AYi are supplied in a combination that designates another predetermined complementary bit line in synchronization with the second falling edge of the column address strobe signal CASB.

【0038】ダイナミック型RAMでは、ロウアドレス
ストローブ信号RASBの最初のロウレベル変化つまり
は内部制御信号R1の最初のハイレベル変化を受けて、
メモリアレイARY1に対応する内部制御信号SR0が
ロウレベルとされ、センスアンプSA0からメモリアレ
イARY1が切り離されると共に、メモリアレイARY
0に対応するアレイ選択回路AS0が電源電圧VCCの
ようなハイレベルとされる。また、所定のタイミングで
Xアドレス信号AX0〜AXiにより指定されるメモリ
アレイARY0のワード線W00が択一的に高電圧VC
Hのような選択レベルとされ、やや遅れてコモンソース
線SP0及びSN0に電源電圧VCC及び回路の接地電
位が供給される。
In the dynamic RAM, upon receiving the first low-level change of the row address strobe signal RASB, that is, the first high-level change of the internal control signal R1,
The internal control signal SR0 corresponding to the memory array ARY1 is
It is set to the low level, and the memory array is
I ARY1 is disconnected and the memory array ARY
The array selection circuit AS0 corresponding to 0 is set to a high level like the power supply voltage VCC. At a predetermined timing, the word line W00 of the memory array ARY0 specified by the X address signals AX0 to AXi is alternatively supplied with the high voltage VC.
The power supply voltage VCC and the ground potential of the circuit are supplied to the common source lines SP0 and SN0 with a selection level such as H.

【0039】これにより、メモリアレイARY0の相補
ビット線B00*〜B0n*がセンスアンプSA0の対
応する単位回路に結合され、各相補ビット線には、メモ
リアレイARY0の選択されたワード線W00に結合さ
れるn+1個のメモリセルからその保持データに従った
微小読み出し信号が出力される。これらの微小読み出し
信号は、コモンソース線SP0及びSN0に電源電圧V
CC及び回路の接地電位が供給されることで、センスア
ンプSA0の対応する単位増幅回路によってそれぞれ増
幅され、ハイレベル又はロウレベルの2値読み出し信号
となる。
Thus, the complementary bit lines B00 * to B0n * of the memory array ARY0 are connected to the corresponding unit circuits of the sense amplifier SA0, and each complementary bit line is connected to the selected word line W00 of the memory array ARY0. A minute readout signal is output from the (n + 1) memory cells according to the held data. These minute read signals are supplied to the common source lines SP0 and SN0 by the power supply voltage V
When the CC and the ground potential of the circuit are supplied, the signal is amplified by the corresponding unit amplifier circuit of the sense amplifier SA0, and becomes a high-level or low-level binary read signal.

【0040】次に、ロウアドレスストローブ信号RAS
Bの2回目のロウレベル変化つまりは内部制御信号R1
の2回目のハイレベル変化を受けて、メモリアレイAR
Y4に対応する内部制御信号SL1が口ウレベルとさ
れ、センスアンプSA1からメモリアレイARY4が切
り離されると共に、メモリアレイARY3に対応するア
レイ選択回路AS3が電源電圧VCCのようなハイレベ
ルとされる。また、所定のタイミングでXアドレス信号
AX0〜AXiにより指定されるメモリアレイARY3
のワード線W30が択一的に高電圧VCHのような選択
レベルとされ、やや遅れてコモンソース線SP1及びS
N1に電源電圧VCC及び回路の接地電位が供給され
る。
Next, the row address strobe signal RAS
B for the second low level change, that is, the internal control signal R1
Of the memory array AR
When the internal control signal SL1 corresponding to Y4 is
And the memory array ARY4 is disconnected from the sense amplifier SA1.
At the same time, the array selection circuit AS3 corresponding to the memory array ARY3 is set to a high level such as the power supply voltage VCC. The memory array ARY3 specified by the X address signals AX0 to AXi at a predetermined timing
Is set to a selection level such as the high voltage VCH, and the common source lines SP1 and S
The power supply voltage VCC and the ground potential of the circuit are supplied to N1.

【0041】これにより、メモリアレイARY3の相補
ビット線B00*〜B0n*がセンスアンプSA1の対
応する単位回路に結合され、各相補ビット線には、メモ
リアレイARY3の選択されたワード線W30に結合さ
れるn+1個のメモリセルからその保持データに従った
微小読み出し信号が出力される。これらの微小読み出し
信号は、コモンソース線SP1及びSN1に電源電圧V
CC及び回路の接地電位が供給されることで、センスア
ンプSA1の対応する単位増幅回路によってそれぞれ増
幅され、ハイレベル又はロウレベルの2値読み出し信号
となる。
As a result, the complementary bit lines B00 * to B0n * of the memory array ARY3 are connected to the corresponding unit circuits of the sense amplifier SA1, and each complementary bit line is connected to the selected word line W30 of the memory array ARY3. A minute readout signal is output from the (n + 1) memory cells according to the held data. These minute read signals are supplied to the common source lines SP1 and SN1 by the power supply voltage V
When the CC and the ground potential of the circuit are supplied, they are respectively amplified by the corresponding unit amplifier circuits of the sense amplifier SA1, and become a high-level or low-level binary read signal.

【0042】ところで、センスアンプ制御回路SCを構
成する単位センスアンプ制御回路USC0〜USC3
は、図6の単位センスアンプ制御回路USC0に代表し
て示されるように、対応するアレイ選択信号AS0及び
AS1を受けるノアゲートNOG1を含む。このノアゲ
ートNOG1の出力信号は、2個のインバータV6及び
V7を経た後、プリチャージ制御信号PC0となる。こ
れにより、プリチャージ制御信号PC0は、図7に示さ
れるように、アレイ選択信号AS0及びAS1がともに
ロウレベルとされるとき、言い換えるならばセンスアン
プSA0に対応するメモリアレイARY0及びARY1
がともに活性状態にないとき、電源電圧VCCのような
有効レベルとされ、アレイ選択信号AS0又はAS1が
ハイレベルとされるとき、つまりは対応するメモリアレ
イARY0又はARY1が活性状態とされるとき、回路
の接地電位のような無効レベルとされる。
The unit sense amplifier control circuits USC0 to USC3 constituting the sense amplifier control circuit SC
Includes a NOR gate NOG1 for receiving corresponding array select signals AS0 and AS1, as representatively shown in unit sense amplifier control circuit USC0 of FIG. The output signal of the NOR gate NOG1 becomes a precharge control signal PC0 after passing through two inverters V6 and V7. As a result, as shown in FIG. 7, the precharge control signal PC0 is turned on when the array selection signals AS0 and AS1 are both at the low level, in other words, the memory arrays ARY0 and ARY1 corresponding to the sense amplifier SA0.
Are not in the active state, they are set to an effective level such as the power supply voltage VCC, and when the array selection signal AS0 or AS1 is set to the high level, that is, when the corresponding memory array ARY0 or ARY1 is activated, An invalid level such as the ground potential of the circuit.

【0043】単位センスアンプ制御回路USC0は、さ
らにPチャンネルMOSFETP3及びP4ならびにN
チャンネルMOSFETNC及びNDからなるクロック
ドインバータCN1を含む。このクロックドインバータ
CN1を構成するMOSFETNDのゲートには、上記
内部制御信号R1が供給され、MOSFETP3のゲー
トには、そのインバータV1による反転信号が供給され
る。また、MOSFETP4及びNCのゲートには、上
記ノアゲートNOG1の出力信号が共通に供給され、そ
の出力信号つまりMOSFETP4及びNCの共通結合
されたドレインにおける電位は、2個のインバータV2
及びV3が交差結合されてなるラッチ回路LT1の入力
ノードに供給される。
The unit sense amplifier control circuit USC0 further includes P-channel MOSFETs P3 and P4 and N
It includes a clocked inverter CN1 composed of channel MOSFETs NC and ND. The internal control signal R1 is supplied to the gate of the MOSFET ND constituting the clocked inverter CN1, and the inverted signal of the inverter V1 is supplied to the gate of the MOSFET P3. The output signal of the NOR gate NOG1 is commonly supplied to the gates of the MOSFETs P4 and NC, and the output signal, that is, the potential at the commonly coupled drains of the MOSFETs P4 and NC is set to two inverters V2 and V3.
And V3 are supplied to an input node of a latch circuit LT1 which is cross-coupled.

【0044】これにより、クロックドインバータCN1
の出力信号は、内部制御信号R1がハイレベルとされノ
アゲートNOG1の出力信号がロウレベルとされると
き、言い換えるならばダイナミック型RAMが対応する
メモリアレイARY0又はARY1を活性状態とする形
で選択状態とされるとき選択的にハイレベルとされるも
のとなり、ラッチ回路LT1の出力信号は、クロックド
インバータCN1の出力信号がハイレベルとされるとき
選択的にロウレベルとされる。なお、アレイ選択信号A
S0〜AS7は、内部制御信号R1がハイレベルとされ
た後に択一的にハイレベルとされ、内部制御信号R1が
ロウレベルとされた後にロウレベルに戻される。したが
って、インバータV2及びV3からなるラッチ回路LT
1の出力信号は、ダイナミック型RAMが他のメモリア
レイARY2〜ARY7を活性状態とする形で選択状態
とされるまで、ロウレベルのままとされる。
Thus, the clocked inverter CN1
Are selected when the internal control signal R1 is at a high level and the output signal of the NOR gate NOG1 is at a low level, in other words, the dynamic RAM activates the corresponding memory array ARY0 or ARY1. And the output signal of the latch circuit LT1 is selectively set to the low level when the output signal of the clocked inverter CN1 is set to the high level. The array selection signal A
S0 to AS7 are alternatively set to the high level after the internal control signal R1 is set to the high level, and are returned to the low level after the internal control signal R1 is set to the low level. Therefore, latch circuit LT including inverters V2 and V3
The output signal of 1 remains at the low level until the dynamic RAM is selected by activating the other memory arrays ARY2 to ARY7.

【0045】ラッチ回路LT1の出力信号は、ノアゲー
トNOG2の一方の入力端子に供給される。このノアゲ
ートNOG2の他方の入力端子には、ナンドゲートNA
G1の出力信号が供給される。ナンドゲートNAG1の
一方の入力端子には、内部制御信号R1のインバータV
1による反転信号が供給され、その他方の入力端子には
ノアゲートNOG1の出力信号が供給される。これによ
り、ナンドゲートNAG1の出力信号は、インバータV
1及びノアゲートNOG1の出力信号がともにハイレベ
ルとされるとき、言い換えるならばダイナミック型RA
Mが非選択状態とされしかもメモリアレイARY0又は
ARY1が活性状態にないとき選択的にロウレベルとさ
れる。また、ノアゲートNOG2の出力信号は、ナンド
ゲートNAG1及びラッチ回路LT1の出力信号がとも
にロウレベルとされるとき、つまりはダイナミック型R
AMが対応するメモリアレイARY0又はARY1を活
性状態とする形で選択状態とされてから非選択状態とさ
れた直後にハイレベルとされ、再度選択状態とされるこ
とでロウレベルに戻される。
The output signal of latch circuit LT1 is supplied to one input terminal of NOR gate NOG2. The other input terminal of the NOR gate NOG2 has a NAND gate NA.
The output signal of G1 is supplied. One input terminal of the NAND gate NAG1 is connected to the inverter V of the internal control signal R1.
1 and an output signal of the NOR gate NOG1 is supplied to the other input terminal. Thus, the output signal of the NAND gate NAG1 is output from the inverter V
1 and the output signal of the NOR gate NOG1 are both at the high level, in other words, the dynamic RA
When M is in the non-selected state and the memory array ARY0 or ARY1 is not in the active state, it is selectively set to the low level. The output signal of the NOR gate NOG2 is output when both the output signal of the NAND gate NAG1 and the output signal of the latch circuit LT1 are at low level, that is, the dynamic type R
The AM is set to the high level immediately after being set to the selected state in the form of activating the corresponding memory array ARY0 or ARY1 and then to the non-selected state, and returned to the low level by being set to the selected state again.

【0046】ノアゲートNOG2の出力信号は、高電圧
VCHを動作電源とする一対のノアゲートNOG3及び
NOG4からなるラッチ回路LT2に供給される。この
ラッチ回路LT2の出力信号は、PチャンネルMOSF
ETP5のゲートに供給されるとともに、高電圧VCH
を動作電源とするインバータV8を介してPチャンネル
MOSFETP7のゲートに供給される。MOSFET
P5のソースは電源電圧VCCに結合され、そのドレイ
ンは、PチャンネルMOSFETP6及びNチャンネル
MOSFETNEを介して回路の接地電位に結合され
る。これらのMOSFETP6及びNEのゲートには、
ノアゲートNOG1の出力信号のインバータV5による
反転信号が供給され、その共通結合されたドレインの電
位は、上記プリチャージ制御信号PCS0となる。一
方、MOSFETP7のソースは高電圧VCHに結合さ
れ、そのソースは上記MOSFETP6及びNEのドレ
インつまりプリチャージ制御信号線PCS0に共通結合
される。
The output signal of the NOR gate NOG2 is supplied to a latch circuit LT2 composed of a pair of NOR gates NOG3 and NOG4 using the high voltage VCH as an operating power supply. The output signal of the latch circuit LT2 is a P-channel MOSF
The high voltage VCH is supplied to the gate of ETP5.
Is supplied to the gate of a P-channel MOSFET P7 via an inverter V8 having an operating power supply. MOSFET
The source of P5 is coupled to power supply voltage VCC, and its drain is coupled to the circuit ground via P-channel MOSFET P6 and N-channel MOSFET NE. The gates of these MOSFETs P6 and NE are:
An inverted signal of the output signal of the NOR gate NOG1 by the inverter V5 is supplied, and the potential of the commonly coupled drain becomes the precharge control signal PCS0. On the other hand, the source of the MOSFET P7 is coupled to the high voltage VCH, and the source is commonly coupled to the drains of the MOSFETs P6 and NE, that is, the precharge control signal line PCS0.

【0047】前述のように、ノアゲートNOG2つまり
ラッチ回路LT2の出力信号は、ダイナミック型RAM
が対応するメモリアレイARY0又はARY1を活性状
態とする形で選択状態とされてから非選択状態とされた
直後にハイレベルとされ、再度選択状態とされることで
ロウレベルに戻される。ノアゲートNOG2つまりラッ
チ回路LT2の出力信号がハイレベルとされるとき、M
OSFETP5はオフ状態とされ、MOSFETP7が
オン状態とされる。このため、プリチャージ制御信号線
PCS0には、MOSFETP7を介して高電圧VCH
が供給され、プリチャージ制御信号PCS0は高電圧V
CHのような有効レベルとなる。一方、ノアゲートNO
G2つまりラッチ回路LT2の出力信号がロウレベルと
されるとき、MOSFETP7はオフ状態とされ、代わ
ってMOSFETP5がオン状態とされる。このとき、
メモリアレイARY0及びARY1がともに活性状態と
されずノアゲートNOG1の出力信号がハイレベルであ
る間は、MOSFETP6がオン状態とされ、プリチャ
ージ制御信号PCS0は電源電圧VCCのような有効レ
ベルとなるが、メモリアレイARY0又はARY1が再
度活性状態とされると、代わってMOSFETNEがオ
ン状態とされ、プリチャージ制御信号PCS0は回路の
接地電位のような無効レベルとなる。
As described above, the output signal of the NOR gate NOG2, that is, the latch circuit LT2 is a dynamic RAM
Are set to the high level immediately after the corresponding memory array ARY0 or ARY1 is set to the selected state and then to the non-selected state in the active state, and returned to the low level by being set to the selected state again. When the output signal of the NOR gate NOG2, that is, the latch circuit LT2 is at a high level, M
OSFET P5 is turned off, and MOSFET P7 is turned on. Therefore, the high voltage VCH is connected to the precharge control signal line PCS0 via the MOSFET P7.
Is supplied, and the precharge control signal PCS0 is
It becomes an effective level like CH. On the other hand, NOR gate NO
When G2, that is, the output signal of the latch circuit LT2 is at a low level, the MOSFET P7 is turned off, and the MOSFET P5 is turned on instead. At this time,
While both the memory arrays ARY0 and ARY1 are not activated and the output signal of the NOR gate NOG1 is at high level, the MOSFET P6 is turned on and the precharge control signal PCS0 is at an effective level like the power supply voltage VCC. When the memory array ARY0 or ARY1 is activated again, the MOSFET NE is turned on instead, and the precharge control signal PCS0 becomes an invalid level such as the ground potential of the circuit.

【0048】これらの結果、プリチャージ制御信号PC
S0は、図7に示されるように、ダイナミック型RAM
が対応するメモリアレイARY0又はARY1を活性状
態とする形で選択状態とされるとき、回路の接地電位の
ような無効レベルとされる。そして、ダイナミック型R
AMが対応するメモリアレイARY0又はARY1を活
性状態とする形で選択状態とされてから非選択状態とさ
れる直後に高電圧VCHのような有効レベルとされ、さ
らにダイナミック型RAMが再度選択状態とされること
によって電源電圧VCCのような有効レベルとされる。
As a result, the precharge control signal PC
S0 is a dynamic RAM as shown in FIG.
Is set to the selected state by activating the corresponding memory array ARY0 or ARY1 to an invalid level such as the ground potential of the circuit. And dynamic type R
The AM is set to a valid state such as the high voltage VCH immediately after the AM is set to the selected state in the form of activating the corresponding memory array ARY0 or ARY1 and then to the non-selected state, and the dynamic RAM is again set to the selected state. As a result, an effective level such as the power supply voltage VCC is set.

【0049】プリチャージ制御信号PCS0が高電圧V
CHとされるとき、センスアンプSA0では、ビット線
プリチャージ回路を構成するプリチャージMOSFET
N9がオン状態とされ、これによってメモリアレイAR
Y0の相補ビット線B00*〜B0n*の非反転及び反
転信号線間が短絡される。このとき、プリチャージ制御
信号PC0は電源電圧VCCのようなハイレベルとさ
れ、センスアンプSA0の他のプリチャージMOSFE
TN7及びN8もオン状態とされる。このため、メモリ
アレイARY0の相補ビット線B00*〜B0n*の非
反転及び反転信号線は、プリチャージMOSFETN9
を介して短絡されることとプリチャージMOSFETN
7及びN8がオン状態とされることによって急速にプリ
チャージ電位HVにプリチャージされ、イコライズされ
るものとなる。
When the precharge control signal PCS0 is high voltage V
When set to CH, in the sense amplifier SA0, a precharge MOSFET constituting a bit line precharge circuit
N9 is turned on, whereby the memory array AR
The non-inverted and inverted signal lines of the complementary bit lines B00 * to B0n * of Y0 are short-circuited. At this time, the precharge control signal PC0 is set to a high level such as the power supply voltage VCC, and the other precharge MOSFE of the sense amplifier SA0.
TN7 and N8 are also turned on. Therefore, the non-inverted and inverted signal lines of the complementary bit lines B00 * to B0n * of the memory array ARY0 are connected to the precharge MOSFET N9.
And the precharge MOSFET N
When N7 and N8 are turned on, they are quickly precharged to the precharge potential HV and equalized.

【0050】周知のように、MOSFETのコンダクタ
ンスは、そのゲートソース間電圧としきい値電圧との差
分に比例して大きくなる。また、センスアンプSA0〜
SA3のビット線プリチャージ回路では、特に対応する
相補ビット線の非反転及び反転信号線を短絡するプリチ
ャージMOSFETN9の効果が大きく、このMOSF
ETN9のコンダクタンスが大きくされることによって
イコライズ動作が高速化される。上記のように、この実
施例では、ダイナミック型RAMが非選択状態とされる
直後に活性状態とされていたメモリアレイに対応するプ
リチャージ制御信号PCS0〜PCS3が選択的に高電
圧VCHのような有効レベルとされる。このため、対応
するプリチャージMOSFETN9のゲートソース間電
圧は高電圧VCHと電源電圧VCCとの電位差分だけ大
きくなり、相応してプリチャージMOSFETN9のコ
ンダクタンスが大きくなって、ビット線プリチャージ回
路によるイコライズ動作が高速化されるものとなる。
As is well known, the conductance of a MOSFET increases in proportion to the difference between its gate-source voltage and its threshold voltage. Also, the sense amplifiers SA0 to SA0
In the bit line precharge circuit of SA3, the effect of the precharge MOSFET N9 for short-circuiting the non-inverting and inverting signal lines of the corresponding complementary bit line is particularly great.
The equalizing operation is sped up by increasing the conductance of the ETN 9. As described above, in this embodiment, the precharge control signals PCS0 to PCS3 corresponding to the memory array which has been activated immediately after the dynamic RAM is brought into the non-selected state are selectively applied to the high voltage VCH. The effective level is set. Therefore, the voltage between the gate and the source of the corresponding precharge MOSFET N9 increases by the potential difference between the high voltage VCH and the power supply voltage VCC, and the conductance of the precharge MOSFET N9 increases accordingly, and the equalizing operation by the bit line precharge circuit is performed. Is speeded up.

【0051】一方、プリチャージ制御信号PCS0〜P
CS3は、ダイナミック型RAMが再度選択状態とされ
ることによって電源電圧VCCに戻され、対応するメモ
リアレイARY0〜ARY7が再度活性状態とされるこ
とによって回路の接地電位のような無効レベルとされ
る。このため、センスアンプSA0〜SA3のビット線
プリチャージ回路では、まずプリチャージ制御信号PC
S0〜PCS3が電源電圧VCCとされることでプリチ
ャージMOSFETN9のコンダクタンスがやや小さく
され、さらにプリチャージ制御信号PCS0〜PCS3
が回路の接地電位とされることで完全なオフ状態とされ
る。つまり、この実施例のダイナミック型RAMでは、
プリチャージ制御信号PCS0〜PCS3が高電圧VC
Hとされビット線プリチャージ回路によるイコライズ動
作が高速化されるにもかかわらず、ダイナミック型RA
Mが再度選択状態とされることによるプリチャージMO
SFETN9のオフ状態への状態遷移は高速化されるた
め、プリチャージ制御信号PCS0〜PCS3が高電圧
VCHとされることにともなうダイナミック型RAMの
アクセスタイムへの影響は抑制されるものとなる。
On the other hand, precharge control signals PCS0-P
CS3 is returned to the power supply voltage VCC when the dynamic RAM is selected again, and is set to an invalid level such as the ground potential of the circuit when the corresponding memory arrays ARY0 to ARY7 are activated again. . Therefore, in the bit line precharge circuits of the sense amplifiers SA0 to SA3, first, the precharge control signal PC
By setting S0 to PCS3 to the power supply voltage VCC, the conductance of the precharge MOSFET N9 is slightly reduced, and the precharge control signals PCS0 to PCS3 are further reduced.
Is set to the ground potential of the circuit, whereby the circuit is completely turned off. That is, in the dynamic RAM of this embodiment,
When the precharge control signals PCS0 to PCS3 are high voltage VC
H and the equalizing operation by the bit line precharge circuit is accelerated, but the dynamic RA
Precharge MO by M being selected again
Since the state transition of the SFET N9 to the off state is accelerated, the influence on the access time of the dynamic RAM due to the high voltage VCH of the precharge control signals PCS0 to PCS3 is suppressed.

【0052】以上の結果、この実施例のダイナミック型
RAMでは、その電源電圧VCCが+3.3Vに低電圧
化されるにもかかわらず、相補ビット線B00*〜B0
n*ないしB70*〜B7n*のイコライズ動作を高速
かつ確実に行うことができるとともに、各相補ビット線
において充分な読み出し信号レベルを得ることができ
る。これにより、電源電圧VCCの低電圧化がダイナミ
ック型RAMの読み出し動作マージンやアクセスタイム
に与える影響を抑制し、ダイナミック型RAM等の低電
圧化を推進することができるものである。
As a result, in the dynamic RAM of this embodiment, the complementary bit lines B00 * to B0 are provided despite that the power supply voltage VCC is lowered to + 3.3V.
The equalizing operation of n * to B70 * to B7n * can be performed quickly and reliably, and a sufficient read signal level can be obtained in each complementary bit line. As a result, the effect of lowering the power supply voltage VCC on the read operation margin and access time of the dynamic RAM can be suppressed, and the lowering of the voltage of the dynamic RAM can be promoted.

【0053】以上の本実施例に示されるように、この発
明をビット線プリチャージ回路を備えるダイナミック型
RAM等の半導体記憶装置に適用することで、次のよう
な作用効果を得ることができる。すなわち、 (1)所定のアレイ選択信号に従って選択的に活性状態
とされる複数のメモリアレイと、これらのメモリアレイ
に対応して設けられかつビット線プリチャージ回路を含
む複数のセンスアンプとを備えるダイナミック型RAM
等において、ビット線プリチャージ回路を構成するプリ
チャージMOSFETのゲートに供給されるプリチャー
ジ制御信号の有効レベルを、ワード線の選択レベルに相
当する所定の高電圧とすることで、プリチャージMOS
FETのゲートソース間電圧を大きくして、これらのプ
リチャージMOSFETによる相補ビット線のイコライ
ズ動作を高速かつ確実に行うことができるという効果が
得られる。
As shown in the present embodiment, by applying the present invention to a semiconductor memory device such as a dynamic RAM having a bit line precharge circuit, the following operation and effect can be obtained. That is, (1) a plurality of memory arrays selectively activated according to a predetermined array selection signal, and a plurality of sense amplifiers provided corresponding to these memory arrays and including a bit line precharge circuit. Dynamic RAM
In such a case, the effective level of the precharge control signal supplied to the gate of the precharge MOSFET constituting the bit line precharge circuit is set to a predetermined high voltage corresponding to the selected level of the word line.
By increasing the voltage between the gate and the source of the FET, it is possible to obtain an effect that the equalizing operation of the complementary bit line by these precharge MOSFETs can be performed quickly and reliably.

【0054】(2)上記(1)項において、プリチャー
ジ制御信号の有効レベルを、ダイナミック型RAM等が
対応するメモリアレイを活性状態とする形で選択状態と
されてから非選択状態とされる直後にワード線の選択レ
ベルに相当する所定の高電圧とし、ダイナミック型RA
M等が再度選択状態とされてから対応するメモリアレイ
が活性状態とされるまでの間回路の電源電圧とすること
で、ダイナミック型RAM等が再度選択状態とされてか
ら対応するメモリアレイが活性状態とされるまでの間
は、プリチャージ制御信号の電位を回路の電源電圧まで
引き下げ、対応するメモリアレイが活性状態とされてか
らプリチャージMOSFETがオフ状態となるまでの時
間を短縮することができるという効果が得られる。 (3)上記(1)項及び(2)項により、電源電圧が低
電圧化される場合でも、相補ビット線等のイコライズ動
作を高速かつ確実に行い、充分な読み出し信号レベルを
得ることができるという効果が得られる。 (4)上記(1)項〜(3)項により、電源電圧の低電
圧化がダイナミック型RAM等の読み出し動作マージン
やアクセスタイムに与える影響を抑制し、ダイナミック
型RAM等の低電圧化を推進できるという効果が得られ
る。
(2) In the above item (1), the effective level of the precharge control signal is set to a selected state in such a manner that a memory array corresponding to a dynamic RAM or the like is activated, and then to a non-selected state. Immediately thereafter, a predetermined high voltage corresponding to the word line selection level is set, and the dynamic RA
By setting the power supply voltage of the circuit between the time when M and the like are again selected and the time when the corresponding memory array is activated, the corresponding memory array is activated after the dynamic RAM or the like is again selected. Until the state is changed, the potential of the precharge control signal is reduced to the power supply voltage of the circuit, and the time from when the corresponding memory array is activated to when the precharge MOSFET is turned off is shortened. The effect that it can be obtained is obtained. (3) According to the above items (1) and (2), even when the power supply voltage is lowered, the equalizing operation of the complementary bit lines and the like can be performed quickly and reliably, and a sufficient read signal level can be obtained. The effect is obtained. (4) By the above items (1) to (3), the effect of lowering the power supply voltage on the read operation margin and access time of a dynamic RAM or the like is suppressed, and the lowering of the voltage of a dynamic RAM or the like is promoted. The effect that it can be obtained is obtained.

【0055】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、この発明は、上記実
施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない
範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。例え
ば、図1において、ダイナミック型RAMは、複数ビッ
トの記憶データを同時に入力又は出力するいわゆる多ビ
ット構成を採ることができる。このとき、ダイナミック
型RAMがいわゆる×8ビット構成とされ、すべての相
補共通データ線CD0*〜CD7*を介して読み出し信
号が一斉に伝達される場合、つまりセンスアンプSA0
〜SA3が常に一斉に動作状態とされる場合には、すべ
てのプリチャージ制御信号PCS0〜PCS3について
上記のようなレベル変化をさせればよい。ダイナミック
型RAMは、シェアドセンス方式及びアドレスマルチプ
レックス方式を採ることを必須条件としないし、そのブ
ロック構成や起動制御信号及びアドレス信号の組み合わ
せ等は種々の実施形態を採りうる。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments, the invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the gist of the invention. Needless to say, there is. For example, in FIG. 1, the dynamic RAM can adopt a so-called multi-bit configuration in which a plurality of bits of storage data are simultaneously input or output. At this time, when the dynamic RAM has a so-called × 8-bit configuration and read signals are transmitted all at once via all the complementary common data lines CD0 * to CD7 *, that is, the sense amplifier SA0
In the case where .about.SA3 are always operated simultaneously, all the precharge control signals PCS0 to PCS3 may be changed in level as described above. The dynamic RAM does not require the use of the shared sense system and the address multiplex system, and its block configuration, the combination of the start control signal and the address signal, and the like can take various embodiments.

【0056】図3において、ダイナミック型RAMは、
各センスアンプに対応して1組の相補共通データ線を備
えることができるし、4組以上の相補共通データ線を備
えることもできる。センスアンプSA0〜SA3のビッ
ト線プリチャージ回路を構成するMOSFETN7〜N
9は、図4に示されるように、そのゲートにすべて第2
のプリチャージ制御信号PCS0〜PCS3を受けるも
のとしてもよい。さらに、図2ないし図6に示されるメ
モリアレイ及びセンスアンプならびに単位センスアンプ
制御回路の具体的な回路構成や電源電圧の極性及び絶対
値ならびにMOSFETの導電型等は、種々の実施形態
を採りうる。
In FIG. 3, the dynamic RAM is
One set of complementary common data lines can be provided corresponding to each sense amplifier, or four or more sets of complementary common data lines can be provided. MOSFETs N7 to N7 forming bit line precharge circuits of sense amplifiers SA0 to SA3
9 are all connected to the gate as shown in FIG.
May be received. Further, various embodiments can be adopted for the specific circuit configuration of the memory array, the sense amplifier, the unit sense amplifier control circuit, the polarity and absolute value of the power supply voltage, the conductivity type of the MOSFET, and the like shown in FIGS. 2 to 6. .

【0057】図7において、プリチャージ制御信号PC
S0〜PCS3は、ダイナミック型RAMが非選択状態
とされてから再度選択状態とされるまでの間高電圧VC
Hとされるが、例えばダイナミック型RAMが非選択状
態とされてから所定の時間だけ一時的に高電圧VCHと
することもできる。この場合、プリチャージ制御信号P
CS0〜PCS3は、ダイナミック型RAMが再度選択
状態とされるのを待つことなく電源電圧VCCに戻さ
れ、ビット線プリチャージ回路を構成するプリチャージ
MOSFETのオフ状態への状態遷移がさらに高速化さ
れる。ダイナミック型RAMにおける起動制御信号及び
アドレス信号の組み合わせならびに各内部制御信号等の
論理レベルは、この実施例による制約を受けない。
In FIG. 7, a precharge control signal PC
S0 to PCS3 are high voltage VCs from when the dynamic RAM is deselected to when it is again selected.
However, for example, the high voltage VCH may be temporarily set for a predetermined time after the dynamic RAM is deselected. In this case, the precharge control signal P
CS0 to PCS3 are returned to the power supply voltage VCC without waiting for the dynamic RAM to be set to the selected state again, and the state transition of the precharge MOSFET constituting the bit line precharge circuit to the off state is further accelerated. You. The combination of the start control signal and the address signal in the dynamic RAM and the logic level of each internal control signal are not restricted by this embodiment.

【0058】以上の説明では、主として本発明者によっ
てなされた発明をその背景となった利用分野であるダイ
ナミック型RAMのビット線プリチャージ回路に適用し
た場合について説明したが、それに限定されるものでは
なく、例えば、相補共通データ線等のプリチャージ回路
にも適用できるし、ダイナミック型RAMを基本構成と
するマルチポートメモリ及び擬似スタティック型RAM
等の各種メモリ集積回路やこのようなメモリ集積回路を
内蔵する論理集積回路装置等にも適用できる。この発明
は、少なくとも相補信号線を備える半導体記憶装置なら
びにこのような半導体記憶装置を内蔵する半導体装置に
広く適用できる。
In the above description, the case where the invention made by the present inventor is mainly applied to the bit line precharge circuit of the dynamic RAM, which is the application field as the background, has been described. For example, the present invention can be applied to a precharge circuit such as a complementary common data line or the like, and a multiport memory and a pseudo static RAM having a dynamic RAM as a basic configuration.
And the like, and a logic integrated circuit device incorporating such a memory integrated circuit. INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be widely applied to a semiconductor memory device having at least a complementary signal line and a semiconductor device incorporating such a semiconductor memory device.

【0059】[0059]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、所定のアレイ選択信号に従
って選択的に活性状態とされる複数のメモリアレイと、
これらのメモリアレイに対応して設けられビット線プリ
チャージ回路を含む複数のセンスアンプとを備えるダイ
ナミック型RAM等において、ビット線プリチャージ回
路を構成するプリチャージMOSFETのゲートに供給
されるプリチャージ制御信号の有効レベルを、ダイナミ
ック型RAM等が対応するメモリアレイを活性状態とす
る形で選択状態とされてから非選択状態とされる直後に
ワード線の選択レベルに相当する所定の高電圧とし、ダ
イナミック型RAM等が再度選択状態とされてから対応
するメモリアレイが活性状態とされるまでの間、回路の
電源電圧とする。これにより、ダイナミック型RAM等
が非選択状態とされる当初は、プリチャージMOSFE
Tのゲートソース間電圧を大きくして相補ビット線のイ
コライズ動作を高速かつ確実に行うことができるととも
に、ダイナミック型RAM等が再度選択状態とされてか
ら対応するメモリアレイが活性状態とされるまでの間
は、プリチャージ制御信号の電位を回路の電源電圧まで
引き下げ、対応するメモリアレイが活性状態とされてか
らプリチャージMOSFETが完全なオフ状態となるま
での時間を短縮することができる。これ結果、電源電圧
が低電圧化される場合でも、相補ビット線等のイコライ
ズ動作を高速かつ確実に行い、充分な読み出し信号レベ
ルを得ることができるため、電源電圧の低電圧化がダイ
ナミック型RAM等の読み出し動作マージンやアクセス
タイムに与える影響を抑制し、ダイナミック型RAM等
の低電圧化を推進することができる。
The effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, a plurality of memory arrays selectively activated according to a predetermined array selection signal;
In a dynamic RAM or the like including a plurality of sense amplifiers including a bit line precharge circuit provided corresponding to these memory arrays, a precharge control supplied to the gate of a precharge MOSFET constituting the bit line precharge circuit The effective level of the signal is set to a predetermined high voltage corresponding to the selected level of the word line immediately after the dynamic RAM or the like is set to the selected state in a state where the corresponding memory array is activated and then to the non-selected state, The power supply voltage of the circuit is used from the time when the dynamic RAM or the like is again selected to the time when the corresponding memory array is activated. As a result, when the dynamic RAM or the like is initially set to the non-selected state, the precharge MOSFE
By increasing the voltage between the gate and source of T, the equalizing operation of the complementary bit line can be performed quickly and reliably, and from when the dynamic RAM or the like is again selected to when the corresponding memory array is activated. During this period, the potential of the precharge control signal is reduced to the power supply voltage of the circuit, and the time from when the corresponding memory array is activated to when the precharge MOSFET is completely turned off can be reduced. As a result, even when the power supply voltage is reduced, the equalizing operation of the complementary bit lines and the like can be performed quickly and reliably, and a sufficient read signal level can be obtained. And the like, which affect the read operation margin and the access time, so that the voltage of the dynamic RAM or the like can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明が適用されたダイナミック型RAMの
一実施例を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing one embodiment of a dynamic RAM to which the present invention is applied.

【図2】図1のダイナミック型RAMに含まれるメモリ
アレイの一実施例を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing one embodiment of a memory array included in the dynamic RAM of FIG. 1;

【図3】図1のダイナミック型RAMに含まれるセンス
アンプの第1の実施例を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a first embodiment of a sense amplifier included in the dynamic RAM of FIG. 1;

【図4】図1のダイナミック型RAMに含まれるセンス
アンプの第2の実施例を示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a second embodiment of the sense amplifier included in the dynamic RAM of FIG. 1;

【図5】図1のダイナミック型RAMに含まれるセンス
アンプ制御回路の一実施例を示すブロック図である。
FIG. 5 is a block diagram showing one embodiment of a sense amplifier control circuit included in the dynamic RAM of FIG. 1;

【図6】図5のセンスアンプ制御回路に含まれる単位セ
ンスアンプ制御回路の一実施例を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing one embodiment of a unit sense amplifier control circuit included in the sense amplifier control circuit of FIG. 5;

【図7】図1のダイナミック型RAMの一実施例を示す
信号波形図である。
FIG. 7 is a signal waveform diagram showing one embodiment of the dynamic RAM of FIG. 1;

【図8】従来のダイナミック型RAMに含まれるセンス
アンプの一例を示す回路図である。
FIG. 8 is a circuit diagram showing an example of a sense amplifier included in a conventional dynamic RAM.

【図9】従来のダイナミック型RAMの一例を示す信号
波形図である。
FIG. 9 is a signal waveform diagram showing an example of a conventional dynamic RAM.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

ARY0〜ARY7・・・メモリアレイ、WD0〜WD
7・・・ワード線駆動回路、XD0〜XD7・・・Xア
ドレスデコーダ、XB・・・Xアドレスバッファ、RF
C・・・リファレンスアドレスカウンタ、AS・・・ア
レイ選択回路、SA0〜SA3・・・センスアンプ、S
S・・・センスアンプ制御回路、YD・・・Yアドレス
デコーダ、YB・・・Yアドレスバッファ、IO・・・
データ入出力回路、TG・・・タイミング発生回路。U
SC0〜USC3・・・単位センスアンプ制御回路。C
s・・・情報蓄積キャパシタ、Qa・・・アドレス選択
MOSFET、P1〜P7・・・PチャンネルMOSF
ET、N1〜NE・・・NチャンネルMOSFET、V
1〜V8・・・インバータ、NAG1・・・ナンド(N
AND)ゲート、NOG1〜NOG4・・・ノア(NO
R)ゲート、LT1〜LT2・・・ラッチ回路、CN1
・・・クロックドインバータ。
ARY0 to ARY7: memory array, WD0 to WD
7 ... word line drive circuit, XD0 to XD7 ... X address decoder, XB ... X address buffer, RF
C: Reference address counter, AS: Array selection circuit, SA0 to SA3: Sense amplifier, S
S: sense amplifier control circuit, YD: Y address decoder, YB: Y address buffer, IO ...
Data input / output circuit, TG ... timing generation circuit. U
SC0 to USC3 ··· Unit sense amplifier control circuit. C
s: information storage capacitor, Qa: address selection MOSFET, P1 to P7: P-channel MOSF
ET, N1 to NE: N-channel MOSFET, V
1 to V8 ... inverter, NAG1 ... NAND (N
AND gates, NOG1 to NOG4... Noah (NO)
R) Gate, LT1 to LT2 ... Latch circuit, CN1
... Clocked inverter.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中井 潔 東京都青梅市今井2326番地 株式会社 日立製作所デバイス開発センタ内 (72)発明者 村中 雅也 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日立超エル・エス・アイ・エンジニアリ ング株式会社内 (56)参考文献 特開 平5−62463(JP,A) 特開 昭64−46291(JP,A) 特開 昭62−51094(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 11/409 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Kiyoshi Nakai 2326 Imai, Ome-shi, Tokyo Inside the Device Development Center, Hitachi, Ltd. (72) Masaya Murana 5-2-1, Josuihoncho, Kodaira-shi, Tokyo (56) References JP-A-5-62463 (JP, A) JP-A-64-46291 (JP, A) JP-A-62-51094 (JP, A) A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) G11C 11/409

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 第1ワード線と第1ビット線対との交点
に設けられた第1メモリセルと、 第2ワード線と第2ビット線対との交点に設けられた第
2メモリセルと、 前記第1及び第2ビット線対と接続される共通ビット線
対と、 前記第1及び第2メモリセルから読み出された信号を第
1電位又は前記第1電位より高い第2電位に増幅するた
めに設けられ前記共通ビット線対に接続された前記セン
スアンプと、 前記第1ビット線対と前記共通ビット線対との接続を制
御するための第1スイッチ手段と、 前記第2ビット線対と前記共通ビット線対との接続を制
御するための第2スイッチ手段と、 前記第1及び第2ビット線対をプリチャージ電位にプリ
チャージするために前記共通ビット線対に接続されたプ
リチャージ回路とを具備し前記プリチャージ回路は、前
記共通ビット線対の一方と他方との間にソース−ドレイ
ン経路が接続されたN型の第1MOSFETを有し、 前記プリチャージ回路を制御する制御信号は、前記第1
MOSFETのゲートに入力され、前記プリチャージ回
路を動作状態とする際に、前記第2電位より高い第3電
位とされ、かつ、前記第1又は第2ワード線が選択され
た際に、前記第1電位にされ、前記第1又は第2ワード
線が選択状態から非選択状態にされた際に、所定の時間
前記第3電位とされ、前記所定の時間経過後、前記第2
電位とされることを特徴とする半導体記憶装置。
A first memory cell provided at an intersection of a first word line and a first bit line pair; a second memory cell provided at an intersection of a second word line and a second bit line pair; A pair of common bit lines connected to the first and second bit line pairs; and amplifying a signal read from the first and second memory cells to a first potential or a second potential higher than the first potential. The sense amplifier connected to the common bit line pair, first switch means for controlling connection between the first bit line pair and the common bit line pair, and the second bit line. A second switch for controlling connection between the pair and the common bit line pair; and a pre-switch connected to the common bit line pair for precharging the first and second bit line pairs to a precharge potential. A charge circuit; The storage circuit has an N-type first MOSFET having a source-drain path connected between one and the other of the common bit line pair.
When the precharge circuit is inputted to the gate of the MOSFET and the precharge circuit is put into an operation state, the third potential is set higher than the second potential , and the first or second word line is selected.
When the first or second word is set to the first potential.
When the line is changed from the selected state to the non-selected state, a predetermined time
The third potential, and after the lapse of the predetermined time, the second potential
A semiconductor memory device which is set to a potential .
【請求項2】 請求項1において、 前記第1及び第2ワード線は、選択された際に前記第3
電位とされることを特徴とする半導体記憶装置。
2. The method according to claim 1, wherein the first and second word lines are connected to the third word line when selected.
A semiconductor memory device which is set to a potential.
【請求項3】 請求項1又は2において、 前記プリチャージ回路は、前記共通ビット線対の一方と
前記プリチャージ電位との間にソース−ドレイン経路が
接続されたN型の第2MOSFETと、前記共通ビット
線対の他方と前記プリチャージ電位との間にソース−ド
レイン経路が接続されたN型の第3MOSFETとを更
に具備し、 前記第2及び第3MOSFETのゲートには、前記第1
MOSFETと共通の前記制御信号が入力されることを
特徴とする半導体記憶装置。
3. The precharge circuit according to claim 1, wherein the precharge circuit includes an N-type second MOSFET having a source-drain path connected between one of the common bit line pair and the precharge potential. An N-type third MOSFET having a source-drain path connected between the other of the common bit line pair and the precharge potential; and a gate of the second and third MOSFETs,
A semiconductor memory device to which the control signal common to a MOSFET is input.
【請求項4】 請求項1ないし3のいずれかにおいて、 前記第1スイッチ手段は、N型の第4MOSFET対で
あり、 前記第2スイッチ手段は、N型の第5MOSFET対で
あり、 前記第4MOSFET対のゲートには、前記第1ビット
線対と前記共通ビット線対が接続状態とされる際に、前
記第3電位が入力され、前記第1ビット線対と前記共通
ビット線対が非接続状態とされる際に前記第1電位が入
力され、 前記第5MOSFET対のゲートには、前記第2ビット
線対と前記共通ビット線対が接続状態とされる際に、前
記第3電位が入力され、前記第2ビット線対と前記共通
ビット線対が非接続状態とされる際に前記第1電位が入
力されることを特徴とする半導体記憶装置。
4. The device according to claim 1, wherein the first switch is an N-type fourth MOSFET pair, the second switch is an N-type fifth MOSFET pair, The third potential is input to the pair of gates when the first bit line pair and the common bit line pair are connected, and the first bit line pair and the common bit line pair are disconnected. The first potential is input when the state is set, and the third potential is input to the gate of the fifth MOSFET pair when the second bit line pair and the common bit line pair are connected. Wherein the first potential is input when the second bit line pair and the common bit line pair are disconnected.
【請求項5】 請求項1からのいずれかにおいて、 前記プリチャージ電位は、前記第1電位と前記第2電位
の中間の電位であることを特徴とする半導体記憶装置。
5. In any one of claims 1 to 4, wherein the pre-charge potential, the semiconductor memory device which is a potential intermediate in the second potential and the first potential.
【請求項6】 請求項1からのいずれかにおいて、 前記第1及び第2メモリセルは、ダイナミック型メモリ
セルであることを特徴とする半導体記憶装置。
6. In any one of claims 1 to 5, wherein the first and second memory cell, the semiconductor memory device which is a dynamic memory cell.
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