JPH0750098A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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Publication number
JPH0750098A
JPH0750098A JP21526293A JP21526293A JPH0750098A JP H0750098 A JPH0750098 A JP H0750098A JP 21526293 A JP21526293 A JP 21526293A JP 21526293 A JP21526293 A JP 21526293A JP H0750098 A JPH0750098 A JP H0750098A
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JP
Japan
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circuit
mosfet
common data
data line
read
Prior art date
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Application number
JP21526293A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Aoki
和夫 青木
Ryoichiro Kobayashi
量一郎 小林
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To access at high speeds while carrying out a normal reading operation by providing, between a common data line and a ground potential of a read amplifier circuit, a leak MOSFET for controlling a high level of the common data line to not higher than a predetermined level. CONSTITUTION:A unit read amplifier URA0 has two N-channel MOSFETs N1 and N2 connected in series between a common data line CD0 and a ground potential of a circuit. A read signal R0 which is an output signal from a differential amplifier circuit DA0 is supplied to a gate of the N1. A gate of the N2 is connected to a drain of the N1. The N1 operates as a leak MOSFET and controls a high level of the common data line CD0 to a predetermined level along with the N2. Accordingly, influences of a parasitic capacitor to the level change can be suppressed, and an accessing speed of a mask ROM or the like is made high.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、半導体記憶装置に関
し、例えば、マスクROM(リードオンリーメモリ)等
に利用して特に有効な技術に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a technique which is particularly effective when used for a mask ROM (read only memory) or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】製造時にメモリセルに対する固定的な保
持データの書き込みを行うマスクROMがある。書き込
みを終えたメモリセルは、その保持データに従って異な
るしきい値電圧を持つものとされ、選択時に異なる値の
読み出し電流を流す。マスクROMは、選択されたメモ
リセルから対応するビット線及び共通データ線を介して
流される読み出し電流をセンスし、増幅するリードアン
プを備える。
2. Description of the Related Art There is a mask ROM in which fixed holding data is written in a memory cell during manufacturing. The memory cells that have completed writing are assumed to have different threshold voltages according to the held data, and read currents of different values flow when selected. The mask ROM includes a read amplifier that senses and amplifies a read current flowing from the selected memory cell via the corresponding bit line and common data line.

【0003】リードアンプを備えるマスクROMについ
ては、例えば、1991年9月、株式会社日立製作所発
行の『日立ICメモリデータブック1』第754頁〜第
761頁に記載されている。
A mask ROM provided with a read amplifier is described, for example, in "Hitachi IC Memory Data Book 1", pages 754 to 761, published by Hitachi, Ltd. in September 1991.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記に記載される従来
のマスクROMにおいて、リードアンプRAは、例えば
図5に示されるように、共通データ線CD0〜CD7に
対応して設けられる8個の単位リードアンプURA0〜
URA7を備え、各単位リードアンプは、単位リードア
ンプURA0に代表して示されるように、Nチャンネル
型のチャージMOSFET(金属酸化物半導体型電界効
果トランジスタ。この明細書では、MOSFETをして
絶縁ゲート型電界効果トランジスタの総称とする)N3
及びセンスMOSFETN4を基本構成とする電流セン
ス回路CS0等と、Nチャンネル型の一対の差動MOS
FETN8及びN9を基本構成とする差動増幅回路DA
0等とを備える。電流センス回路CS0等は、チャージ
MOSFETN3から共通データ線CD0等を介して選
択されたメモリセルに読み出し電流を流し込み、これに
よって共通データ線CD0等のチャージ電位が選択され
たメモリセルの保持データに従って選択的に所定のハイ
レベル又はロウレベルとされる。共通データ線CD0等
の電位は、センスMOSFETN4によってセンスさ
れ、増幅される。この結果、電流センス回路CS0等の
出力端子Va0等における電位が選択的にハイレベル又
はロウレベルとされる。電流センス回路CS0等の出力
信号すなわち出力端子Va0における電位は、対応する
差動増幅回路DA0等によって基準電位VRと比較・増
幅され、読み出し信号R0等となる。
In the conventional mask ROM described above, the read amplifier RA has eight units provided corresponding to the common data lines CD0 to CD7 as shown in FIG. 5, for example. Read amplifier URA0
Each unit read amplifier is provided with a URA7, and each unit read amplifier is represented by a unit read amplifier URA0 as represented by an N-channel type charge MOSFET (metal oxide semiconductor field effect transistor. In this specification, MOSFET is used as an insulated gate. Type field effect transistor) N3
And a current sense circuit CS0 having a basic structure of the sense MOSFET N4 and a pair of N-channel differential MOS
Differential amplifier circuit DA based on FETs N8 and N9
0 and so on. The current sense circuit CS0 or the like causes a read current to flow from the charge MOSFET N3 to the selected memory cell via the common data line CD0 or the like, whereby the charge potential of the common data line CD0 or the like is selected according to the held data of the selected memory cell. Is set to a predetermined high level or low level. The potential of the common data line CD0 or the like is sensed and amplified by the sense MOSFET N4. As a result, the potential at the output terminal Va0 or the like of the current sense circuit CS0 or the like is selectively set to the high level or the low level. The output signal of the current sense circuit CS0 or the like, that is, the potential at the output terminal Va0 is compared and amplified with the reference potential VR by the corresponding differential amplifier circuit DA0 or the like, and becomes the read signal R0 or the like.

【0005】ところで、電流センス回路CS0等のセン
スMOSFETN4には、そのゲートにナンドゲートN
A1の出力信号すなわち内部信号CAを受けるNチャン
ネル型のリセットMOSFETN5が並列形態に設けら
れる。また、MOSFETN4及びN5の共通結合され
たドレインと回路の電源電圧との間には、そのゲートに
上記内部信号CAを受けるPチャンネルMOSFETP
1とそのゲート及びソースが共通結合されたデプレッシ
ョンMOSFETD1とが直列形態に設けられる。さら
に、リードアンプRAの単位リードアンプURA0等
は、対応する共通データ線CD0等と回路の接地電位と
の間に設けられそのゲートに内部信号CAを受けるNチ
ャンネル型のリセットMOSFETN11を備える。な
お、内部信号CAは、内部制御信号CE又はATDがロ
ウレベルとされるとき、言い換えるならばマスクROM
が非選択状態とされあるいはマスクROMが選択状態と
されかつ図示されないアドレス遷移検出回路によってア
ドレス信号AY0〜AYjのレベル変化が検出されたと
き、選択的にハイレベルとされる。
By the way, the sense MOSFET N4 such as the current sense circuit CS0 has a NAND gate N at its gate.
An N-channel type reset MOSFET N5 that receives the output signal of A1, that is, the internal signal CA is provided in parallel. Further, between the drains of the MOSFETs N4 and N5 that are commonly connected and the power supply voltage of the circuit, a P-channel MOSFETP that receives the internal signal CA at its gate is formed.
1 and a depletion MOSFET D1 having their gates and sources commonly coupled are provided in series. Further, the unit read amplifier URA0 and the like of the read amplifier RA include an N-channel type reset MOSFET N11 which is provided between the corresponding common data line CD0 and the like and the ground potential of the circuit and which receives the internal signal CA at its gate. The internal signal CA is a mask ROM when the internal control signal CE or ATD is at a low level.
Is set to the non-selected state or the mask ROM is set to the selected state and a level change of the address signals AY0 to AYj is detected by an address transition detection circuit (not shown), the signal is selectively set to the high level.

【0006】内部制御信号CE又はATDがロウレベル
とされることで内部信号CAがハイレベルとされると
き、リードアンプRAの単位リードアンプURA0等で
は、MOSFETP1がオフ状態とされ、MOSFET
N5及びN11がともにオン状態とされる。このため、
電流センス回路CS0等の出力端子Va0等の電位は、
図6に示されるように、リセットMOSFETN5を介
して回路の接地電位のようなロウレベルとされ、共通デ
ータ線CD0等の電位も、リセットMOSFETN11
を介して回路の接地電位のようなロウレベルとされる。
When the internal control signal CE or ATD is set to the low level and the internal signal CA is set to the high level, in the unit read amplifier URA0 and the like of the read amplifier RA, the MOSFET P1 is turned off and the MOSFET P1 is turned off.
Both N5 and N11 are turned on. For this reason,
The potential of the output terminal Va0 of the current sense circuit CS0 and the like is
As shown in FIG. 6, the reset MOSFET N5 is set to a low level like the ground potential of the circuit, and the potential of the common data line CD0 and the like is also set to the reset MOSFET N11.
To a low level like the ground potential of the circuit.

【0007】次に、マスクROMが選択状態とされある
いはアドレス信号AY0〜AYjのレベル変化が落ち着
いて内部信号CAがハイレベルとされると、リードアン
プRAの単位リードアンプURA0等では、MOSFE
TP1がオン状態とされ、MOSFETN5及びN11
はともにオフ状態とされる。このため、電流センス回路
CS0等では、まず出力端子Va0等の電位がMOSF
ETP1を介して回路の電源電圧に近いハイレベルとさ
れ、この出力端子Va0等のハイレベルを受けてチャー
ジMOSFETN3がオン状態とされる。しかるに、選
択されたメモリセルには、チャージMOSFETN3か
ら共通データ線CD0等ならびに対応するビット線を介
してその保持データに応じた読み出し電流が流され、こ
れによって共通データ線CD0等の電位が、選択された
メモリセルの保持データに従って選択的に所定のハイレ
ベル又はロウレベルとされる。
Next, when the mask ROM is selected or the level change of the address signals AY0 to AYj settles down and the internal signal CA is set to the high level, the unit read amplifier URA0 of the read amplifier RA and the like have MOSFE.
TP1 is turned on and MOSFETs N5 and N11
Are both turned off. Therefore, in the current sense circuit CS0 and the like, the potential of the output terminal Va0 and the like is first set to the MOSF.
The voltage is set to a high level close to the power supply voltage of the circuit via ETP1, and the charge MOSFET N3 is turned on in response to the high level of the output terminal Va0 and the like. However, the selected memory cell is supplied with the read current corresponding to the held data from the charge MOSFET N3 via the common data line CD0 and the like and the corresponding bit line, whereby the potential of the common data line CD0 and the like is selected. It is selectively set to a predetermined high level or low level according to the held data of the memory cell.

【0008】すなわち、選択されたメモリセルによって
論理“0”(この明細書では、メモリセルとなるMOS
FETのしきい値電圧が比較的小さくされ比較的大きな
読み出し電流が流される場合の保持データを論理“0”
と称し、逆の場合の保持データを論理“1”と称する)
のデータが保持される場合、このメモリセルを介して比
較的大きな読み出し電流が流されるため、共通データ線
CD0等は、電位V1のような比較的低いレベルとされ
る。したがって、電流センス回路CS0等の出力端子V
a0等が、電位V3のような基準電位VRより高いレベ
ルとされ、これによって差動増幅回路DA0等の出力信
号R0等が回路の接地電位のようなロウレベルとされ
る。一方、選択されたメモリセルによって論理“1”の
データが保持される場合には、このメモリセルを介して
比較的小さな読み出し電流が流されるため、共通データ
線CD0等の電位は電位V5のような比較的高いレベル
とされる。したがって、電流センス回路CS0等の出力
端子Va0等が、電位V6のような基準電位VRより低
いレベルとされ、これによって差動増幅回路DA0等の
出力信号R0等が回路の電源電圧のようなハイレベルと
される。
That is, depending on the selected memory cell, a logic "0" (in this specification, a MOS serving as a memory cell is
When the threshold voltage of the FET is made relatively small and a relatively large read current is made to flow, the held data is logically “0”.
And the data held in the opposite case is called logic "1")
When the data is stored, a relatively large read current flows through this memory cell, so that the common data line CD0 and the like are set to a relatively low level such as the potential V1. Therefore, the output terminal V of the current sense circuit CS0 or the like
a0 and the like are set to a level higher than the reference potential VR such as the potential V3, whereby the output signals R0 and the like of the differential amplifier circuit DA0 and the like are set to a low level such as the ground potential of the circuit. On the other hand, when the data of logic "1" is held by the selected memory cell, a relatively small read current is passed through this memory cell, so that the potential of the common data line CD0 or the like is the potential V5. It is a relatively high level. Therefore, the output terminals Va0 and the like of the current sense circuit CS0 and the like are set to a level lower than the reference potential VR such as the potential V6, whereby the output signals R0 and the like of the differential amplifier circuit DA0 and the like are high like the power supply voltage of the circuit. It is a level.

【0009】ところが、その高集積化・高速化が進むに
したがって、上記のような従来のマスクROMには次の
ような問題点が生じることが本願発明者等によって明ら
かとなった。すなわち、上記マスクROMのリードアン
プRAでは、前述のように、電流センス回路CS0等の
出力端子Va0等の電位が、メモリセルの選択動作が行
われるたびに回路の接地電位のようなロウレベルにリセ
ットされ、さらに一旦回路の電源電圧に近いハイレベル
とされた後、選択されたメモリセルの保持データに従っ
た所定のハイレベル又はロウレベルとされる。電流セン
ス回路CS0等の出力端子Va0等には、マスクROM
の高集積化にしたがって比較的大きな寄生容量が結合さ
れ、これらの寄生容量は、出力端子Va0等の上記のよ
うなレベル変化を遅らせるべく作用する。この結果、マ
スクROMの読み出し動作が遅くされ、そのアクセスタ
イムの高速化が制約されるものとなる。また、これに対
処しようとして、メモリセルの選択動作に際して行われ
る出力端子Va0等及び共通データ線CD0等のリセッ
ト動作を停止すれば、出力端子Va0等や共通データ線
CD0等のレベルがチャージアップし、リードアンプR
Aとして正常な読み出し動作を行うことができなくな
る。
However, it has been made clear by the inventors of the present application that the conventional mask ROM as described above has the following problems as its integration and speed increase. That is, in the read amplifier RA of the mask ROM, as described above, the potentials of the output terminals Va0 and the like of the current sense circuit CS0 and the like are reset to a low level such as the ground potential of the circuit each time the memory cell selecting operation is performed. Further, the voltage is once set to a high level close to the power supply voltage of the circuit, and then set to a predetermined high level or low level according to the data held in the selected memory cell. A mask ROM is provided at the output terminal Va0 of the current sense circuit CS0 and the like.
A relatively large parasitic capacitance is coupled with the higher integration of the above, and these parasitic capacitances act to delay the above-mentioned level change of the output terminal Va0 and the like. As a result, the read operation of the mask ROM is delayed, and the increase in access time is restricted. Further, in order to deal with this, if the reset operation of the output terminal Va0 and the common data line CD0 performed during the memory cell selection operation is stopped, the levels of the output terminal Va0 and the common data line CD0 are charged up. , Read amplifier R
It becomes impossible to perform a normal read operation as A.

【0010】この発明の目的は、正常な読み出し動作を
行いつつアクセスタイムの高速化を図ったマスクROM
等の半導体記憶装置を提供することにある。
It is an object of the present invention to perform a normal read operation and to speed up access time in a mask ROM.
And other semiconductor memory devices.

【0011】この発明の前記ならびにその他の目的と新
規な特徴は、この明細書の記述及び添付図面から明らか
になるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次
の通りである。すなわち、電流センス回路及び差動増幅
回路を含むリードアンプを備えるマスクROM等におい
て、アドレス遷移検出回路の出力信号による電流センス
回路の出力端子ならびに対応する共通データ線のリセッ
ト動作を停止するとともに、対応する共通データ線と回
路の接地電位との間に、差動増幅回路の実質的な出力信
号に従って選択的にオン状態とされ共通データ線のハイ
レベルを所定レベルに制限するリークMOSFETを設
ける。
The outline of the representative one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, in a mask ROM having a read amplifier including a current sense circuit and a differential amplifier circuit, the reset operation of the output terminal of the current sense circuit and the corresponding common data line by the output signal of the address transition detection circuit is stopped and A leak MOSFET is provided between the common data line and the ground potential of the circuit, which is selectively turned on according to a substantial output signal of the differential amplifier circuit and limits the high level of the common data line to a predetermined level.

【0013】[0013]

【作用】上記手段によれば、共通データ線のチャージア
ップを防止しつつ、電流センス回路の出力端子における
信号振幅を制限し、そのレベル変化に対する寄生容量の
影響を抑制することができる。この結果、その読み出し
動作を正常に行いつつ、マスクROM等のアクセスタイ
ムを高速化することができる。
According to the above means, it is possible to limit the signal amplitude at the output terminal of the current sense circuit and prevent the influence of the parasitic capacitance on the level change while preventing the common data line from being charged up. As a result, it is possible to speed up the access time of the mask ROM or the like while performing the read operation normally.

【0014】[0014]

【実施例】図1には、この発明が適用されたマスクRO
Mの一実施例のブロック図が示されている。同図をもと
に、まずこの実施例のマスクROMの構成及び動作の概
要について説明する。なお、図1の各ブロックを構成す
る回路素子は、公知の半導体集積回路の製造技術によ
り、特に制限されないが、単結晶シリコンのような1個
の半導体基板上に形成される。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows a mask RO to which the present invention is applied.
A block diagram of one embodiment of M is shown. First, the outline of the configuration and operation of the mask ROM of this embodiment will be described with reference to FIG. The circuit elements forming each block in FIG. 1 are formed on one semiconductor substrate such as single crystal silicon, though not particularly limited, by a well-known semiconductor integrated circuit manufacturing technique.

【0015】図1において、この実施例のマスクROM
は、半導体基板面の大半を占めて配置されるメモリアレ
イMARYをその基本構成とする。このメモリアレイM
ARYは、同図の垂直方向に平行して配置される複数の
ワード線と水平方向に平行して配置される複数のビット
線ならびにこれらのワード線及びビット線の交点に格子
状に配置される多数のメモリセルとを含む。この実施例
において、メモリアレイMARYを構成するメモリセル
のそれぞれはNチャンネルMOSFETからなり、その
チャンネル部にイオン打ち込みされる不純物の量が選択
的に変化されることで選択的に異なるしきい値電圧を持
つものとされる。すなわち、そのチャンネル部に比較的
少量の不純物がイオン打ち込みされるとき、メモリセル
は比較的小さなしきい値電圧を持つものとされ、いわゆ
るデプレッション型のMOSFETとなる。このとき、
メモリセルは論理“0”のデータを保持するものとさ
れ、選択時において比較的大きな読み出し電流を流す。
一方、そのチャンネル部に比較的多量の不純物がイオン
打ち込みされるとき、メモリセルは比較的大きなしきい
値電圧を持つものとなり、言わば高しきい値電圧のNチ
ャンネルMOSFETとして作用する。このとき、メモ
リセルは論理“1”のデータを保持するものとされ、選
択時において比較的小さな読み出し電流を流す。
In FIG. 1, the mask ROM of this embodiment
Has as its basic structure a memory array MARY which occupies most of the surface of the semiconductor substrate. This memory array M
The ARYs are arranged in a grid pattern at a plurality of word lines arranged in parallel in the vertical direction and a plurality of bit lines arranged in parallel in the horizontal direction and at intersections of these word lines and bit lines. And a large number of memory cells. In this embodiment, each of the memory cells forming the memory array MARY is composed of an N-channel MOSFET, and the threshold voltage is selectively changed by selectively changing the amount of impurities ion-implanted into the channel portion. Is supposed to have. That is, when a relatively small amount of impurities are ion-implanted into the channel portion, the memory cell is assumed to have a relatively small threshold voltage, and becomes a so-called depletion type MOSFET. At this time,
The memory cell is supposed to hold data of logic "0", and a relatively large read current is flowed at the time of selection.
On the other hand, when a relatively large amount of impurities are ion-implanted into the channel portion, the memory cell has a relatively large threshold voltage, so to speak, it acts as a high threshold voltage N-channel MOSFET. At this time, the memory cell is supposed to hold the data of logic "1", and a relatively small read current flows when selected.

【0016】メモリアレイMARYを構成するワード線
は、XアドレスデコーダXDに結合され、択一的にハイ
レベルの選択状態とされる。XアドレスデコーダXDに
は、XアドレスバッファXBからi+1ビットの内部ア
ドレス信号X0〜Xiが供給される。また、Xアドレス
バッファXBには、アドレス入力端子AX0〜AXiを
介してXアドレス信号AX0〜AXiが供給される。
The word lines forming the memory array MARY are coupled to the X address decoder XD and are alternatively set to the high level selected state. The X address decoder XD is supplied with i + 1-bit internal address signals X0 to Xi from the X address buffer XB. Further, the X address buffer XB is supplied with X address signals AX0 to AXi via address input terminals AX0 to AXi.

【0017】XアドレスバッファXBは、アドレス入力
端子AX0〜AXiを介して供給されるXアドレス信号
AX0〜AXiを取り込み、保持するとともに、これら
のXアドレス信号をもとに内部アドレス信号X0〜Xi
を形成し、XアドレスデコーダXDに供給する。Xアド
レスデコーダXDは、XアドレスバッファXBから供給
される内部アドレス信号X0〜Xiをデコードして、メ
モリアレイMARYの対応するワード線を択一的にハイ
レベルの選択状態とする。
The X address buffer XB takes in and holds the X address signals AX0 to AXi supplied via the address input terminals AX0 to AXi, and holds the internal address signals X0 to Xi based on these X address signals.
Are formed and supplied to the X address decoder XD. The X address decoder XD decodes the internal address signals X0 to Xi supplied from the X address buffer XB, and selectively sets the corresponding word lines of the memory array MARY to the high level selected state.

【0018】次に、メモリアレイMARYを構成するビ
ット線は、YスイッチYSの対応するスイッチMOSF
ETに結合され、このYスイッチYSを介して8本ずつ
選択的に共通データ線CD0〜CD7に接続される。Y
スイッチYSは、メモリアレイMARYの各ビット線に
対応して設けられる複数のスイッチMOSFETを含
む。これらのスイッチMOSFETのゲートは、順次8
個ずつ共通結合され、YアドレスデコーダYDから対応
するビット線選択信号が供給される。Yアドレスデコー
ダYDには、YアドレスバッファYBからj+1ビット
の内部アドレス信号Y0〜Yjが供給され、Yアドレス
バッファYBには、アドレス入力端子AY0〜AYjを
介してYアドレス信号AY0〜AYjが供給される。
Next, the bit lines forming the memory array MARY are the switch MOSF corresponding to the Y switch YS.
It is coupled to ET and is selectively connected to the common data lines CD0 to CD7 by 8 lines via the Y switch YS. Y
The switch YS includes a plurality of switch MOSFETs provided corresponding to each bit line of the memory array MARY. The gates of these switch MOSFETs are sequentially 8
Each of them is commonly connected and the corresponding bit line selection signal is supplied from the Y address decoder YD. The Y address decoder YD is supplied with the j + 1-bit internal address signals Y0 to Yj from the Y address buffer YB, and the Y address buffer YB is supplied with the Y address signals AY0 to AYj via the address input terminals AY0 to AYj. It

【0019】YアドレスバッファYBは、アドレス入力
端子AY0〜AYjを介して供給されるYアドレス信号
AY0〜AYjを取り込み、保持するとともに、これら
のYアドレス信号をもとに内部アドレス信号Y0〜Yj
を形成し、YアドレスデコーダYDに供給する。Yアド
レスデコーダYDは、YアドレスバッファYBから供給
される内部アドレス信号Y0〜Yjをデコードして、対
応するビット線選択信号を択一的にハイレベルの選択状
態とする。YスイッチYSを構成するスイッチMOSF
ETは、対応するビット線選択信号がハイレベルとされ
ることで8個ずつ選択的にオン状態とされ、メモリアレ
イMARYの対応する8本のビット線と共通データ線C
D0〜CD7とを選択的に接続状態とする。
The Y address buffer YB fetches and holds the Y address signals AY0 to AYj supplied via the address input terminals AY0 to AYj, and at the same time, based on these Y address signals, the internal address signals Y0 to Yj.
Are formed and supplied to the Y address decoder YD. The Y address decoder YD decodes the internal address signals Y0 to Yj supplied from the Y address buffer YB, and selectively sets the corresponding bit line selection signal to the high level selected state. Switch MOSF that constitutes the Y switch YS
ET is selectively turned on by eight by setting the corresponding bit line selection signal to the high level, and the corresponding eight bit lines of the memory array MARY and the common data line C
D0 to CD7 are selectively connected.

【0020】共通データ線CD0〜CD7は、リードア
ンプRAの対応する単位リードアンプの入力端子に結合
される。これらの単位リードアンプには、タイミング発
生回路TGから内部制御信号CEが共通に供給され、そ
の出力端子は、データ出力バッファOBの対応する単位
回路の入力端子に結合される。データ出力バッファOB
の各単位回路には、タイミング発生回路TGから内部制
御信号OEが共通に供給され、その出力端子は、対応す
るデータ出力端子D0〜D7に結合される。ここで、内
部制御信号CEは、チップイネーブル信号CEB(ここ
で、それが有効とされるとき選択的にロウレベルとされ
るいわゆる反転信号については、その名称の末尾にBを
付して表す。以下同様)のロウレベルを受けて選択的に
ハイレベルとされ、内部制御信号OEは、出力イネーブ
ル信号OEBのロウレベルを受けて選択的にハイレベル
とされる。
The common data lines CD0 to CD7 are coupled to the input terminals of the corresponding unit read amplifiers of the read amplifier RA. An internal control signal CE is commonly supplied from the timing generation circuit TG to these unit read amplifiers, and the output terminal thereof is coupled to the input terminal of the corresponding unit circuit of the data output buffer OB. Data output buffer OB
An internal control signal OE is commonly supplied to each unit circuit from the timing generation circuit TG, and its output terminal is coupled to the corresponding data output terminals D0 to D7. Here, the internal control signal CE is a chip enable signal CEB (here, a so-called inverted signal that is selectively brought to a low level when it is enabled is indicated by adding B to the end of its name. Similarly, the internal control signal OE is selectively set to the high level by receiving the low level of the output enable signal OEB.

【0021】リードアンプRAは、共通データ線CD0
〜CD7に対応して設けられる8個の単位リードアンプ
URA0〜URA7を含む。これらの単位リードアンプ
は、内部制御信号CEに従って選択的にかつ一斉に動作
状態とされ、メモリアレイMARYの選択された8個の
メモリセルから対応する共通データ線CD0〜CD7を
介して出力される読み出し電流を所定の電圧信号に変換
した後、増幅して所定の読み出し信号R0〜R7を形成
し、データ出力バッファOBの対応する単位回路に伝達
する。データ出力バッファOBの各単位回路は、内部制
御信号OEに従って選択的にかつ一斉に動作状態とさ
れ、リードアンプRAの対応する単位リードアンプから
伝達される読み出し信号R0〜R7を対応するデータ出
力端子D0〜D7を介して外部に送出する。なお、リー
ドアンプRAの具体的な構成及び動作ならびにその特徴
については、後で詳細に説明する。
The read amplifier RA has a common data line CD0.
8 unit read amplifiers URA0 to URA7 provided corresponding to CD7. These unit read amplifiers are selectively and simultaneously activated according to the internal control signal CE, and output from the selected eight memory cells of the memory array MARY through the corresponding common data lines CD0 to CD7. The read current is converted into a predetermined voltage signal and then amplified to form predetermined read signals R0 to R7, which are transmitted to the corresponding unit circuits of the data output buffer OB. Each unit circuit of the data output buffer OB is selectively and simultaneously operated in accordance with the internal control signal OE, and outputs the read signals R0 to R7 transmitted from the corresponding unit read amplifier of the read amplifier RA to the corresponding data output terminals. It is sent to the outside via D0 to D7. The specific configuration and operation of the read amplifier RA and its characteristics will be described later in detail.

【0022】タイミング発生回路TGは、外部から起動
制御信号として供給されるチップイネーブル信号CEB
及び出力イネーブル信号OEBをもとに、上記各種の内
部制御信号を形成し、マスクROMの各部に供給する。
The timing generation circuit TG is provided with a chip enable signal CEB supplied as an activation control signal from the outside.
Based on the output enable signal OEB and the output enable signal OEB, the above various internal control signals are formed and supplied to each part of the mask ROM.

【0023】図2には、図1のマスクROMに含まれる
リードアンプRAの一実施例の回路図が示され、図3に
は、その一実施例の信号波形図が示されている。これら
の図をもとに、この実施例のマスクROMのリードアン
プRAの具体的な構成及び動作ならびにその特徴につい
て説明する。なお、以下の回路図において、そのチャン
ネル部に矢印が付されるMOSFETはPチャンネル型
(第2導電型)であって、矢印の付されないNチャンネ
ル型(第1導電型)のMOSFETと区別して示され
る。また、そのチャンネル部が太線で示されるNチャン
ネルMOSFETは、デプレッションMOSFETであ
る。
FIG. 2 shows a circuit diagram of an embodiment of the read amplifier RA included in the mask ROM of FIG. 1, and FIG. 3 shows a signal waveform diagram of the embodiment. Based on these figures, the specific configuration and operation of the read amplifier RA of the mask ROM of this embodiment and its characteristics will be described. In the following circuit diagrams, the MOSFET having an arrow on its channel portion is a P-channel type (second conductivity type) and is distinguished from an N-channel type (first conductivity type) MOSFET without an arrow. Shown. Further, the N-channel MOSFET whose channel portion is shown by a thick line is a depletion MOSFET.

【0024】図2において、リードアンプRAは、共通
データ線CD0〜CD7に対応して設けられる8個の単
位リードアンプURA0〜URA7を備え、これらの単
位リードアンプは、電流センス回路CS0〜CS7なら
びに差動増幅回路DA0〜DA7をそれぞれ備える。単
位リードアンプURA0〜URA7の入力端子は、対応
する共通データ線CD0〜CD7に結合され、その出力
信号は、読み出し信号R0〜R7として、データ出力バ
ッファOBの対応する単位回路に供給される。以下、単
位リードアンプURA0を例に、具体的な説明を進め
る。単位リードアンプURA1〜URA7については、
類推されたい。
In FIG. 2, the read amplifier RA includes eight unit read amplifiers URA0 to URA7 provided corresponding to the common data lines CD0 to CD7. These unit read amplifiers include current sense circuits CS0 to CS7 and The differential amplifier circuits DA0 to DA7 are provided respectively. The input terminals of the unit read amplifiers URA0 to URA7 are coupled to the corresponding common data lines CD0 to CD7, and the output signals thereof are supplied as the read signals R0 to R7 to the corresponding unit circuits of the data output buffer OB. Hereinafter, a specific description will be given by taking the unit read amplifier URA0 as an example. Regarding the unit read amplifiers URA1 to URA7,
I would like to make an analogy.

【0025】単位リードアンプURA0を構成する電流
センス回路CS0は、回路の電源電圧(第1の電源電
圧)と対応する共通データ線CD0との間に設けられそ
のゲートが回路すなわち電流センス回路CS0の出力端
子Va0に結合されるNチャンネル型のチャージMOS
FETN3(第1のMOSFET)と、出力端子Va0
と回路の接地電位(第2の電源電圧)との間に設けられ
そのゲートが対応する共通データ線CD0に結合される
Nチャンネル型のセンスMOSFETN4(第2のMO
SFET)とを含む。ここで、回路の電源電圧は、特に
制限されないが、+5V(ボルト)のような正の電源電
圧とされる。
The current sense circuit CS0 constituting the unit read amplifier URA0 is provided between the power supply voltage of the circuit (first power supply voltage) and the corresponding common data line CD0, and its gate is the circuit, that is, the current sense circuit CS0. N-channel type charge MOS coupled to the output terminal Va0
FET N3 (first MOSFET) and output terminal Va0
And a ground potential (second power supply voltage) of the circuit, and its gate is coupled to the corresponding common data line CD0. An N-channel type sense MOSFET N4 (second MO
SFET). Here, the power supply voltage of the circuit is not particularly limited, but is a positive power supply voltage such as +5 V (volt).

【0026】センスMOSFETN4には、Nチャンネ
ル型のリセットMOSFETN5(第6のMOSFE
T)が並列形態に設けられ、回路の電源電圧と出力端子
Va0との間には、PチャンネルMOSFETP1(第
4のMOSFET)及びデプレッションMOSFETD
1(第5のMOSFET)が直列形態に設けられる。こ
のうち、MOSFETP1及びN5のゲートには、前記
内部制御信号CEが供給され、MOSFETD1のゲー
トはそのソースに結合される。なお、内部制御信号CE
は、前述のように、チップイネーブル信号CEBがロウ
レベルとされマスクROMが選択状態とされるとき、選
択的にハイレベルとされる。
The sense MOSFET N4 includes an N-channel type reset MOSFET N5 (sixth MOSFET).
T) are provided in parallel, and a P-channel MOSFET P1 (fourth MOSFET) and a depletion MOSFET D are provided between the power supply voltage of the circuit and the output terminal Va0.
1 (fifth MOSFET) is provided in series. Of these, the internal control signal CE is supplied to the gates of the MOSFETs P1 and N5, and the gate of the MOSFET D1 is coupled to the sources thereof. The internal control signal CE
As described above, when the chip enable signal CEB is at the low level and the mask ROM is in the selected state, it is selectively set to the high level.

【0027】一方、単位リードアンプURA0を構成す
る差動増幅回路DA0は、Nチャンネル型の一対の差動
MOSFETN8及びN9を含む。これらのMOSFE
Tのドレインは、NチャンネルMOSFETN6及びN
7を介して回路の電源電圧に結合され、その共通結合さ
れたソースは、NチャンネルMOSFETN10を介し
て回路の接地電位に結合される。差動MOSFETN8
のゲートは、対応する電流センス回路CS0の出力端子
Va0に結合され、他方の差動MOSFETN9のゲー
トには、図示されない定電圧発生回路から所定の基準電
位VRが供給される。また、MOSFETN10のゲー
トには、内部制御信号VGが供給され、MOSFETN
6及びN7のゲートは、共通結合された後、MOSFE
TN9のドレインに共通結合される。これにより、MO
SFETN6及びN7は、差動MOSFETN8及びN
9に対するアクティブ負荷として作用する。MOSFE
TN8のドレイン電位は、差動増幅回路DA0の出力信
号すなわち読み出し信号R0として、データ出力バッフ
ァOBの対応する単位回路に供給される。なお、基準電
位VRは、電流センス回路CS0の出力端子Va0にお
けるハイレベル及びロウレベルのほぼ中間レベルとさ
れ、内部制御信号VRは、内部制御信号CEがハイレベ
ルとされるとき、言い換えるならばマスクROMが選択
状態とされるとき選択的にハイレベルとされる。
On the other hand, the differential amplifier circuit DA0 forming the unit read amplifier URA0 includes a pair of N-channel type differential MOSFETs N8 and N9. These MOSFE
The drain of T has N-channel MOSFETs N6 and N
Coupled to the power supply voltage of the circuit through 7, and its commonly coupled source coupled to the ground potential of the circuit through N-channel MOSFET N10. Differential MOSFET N8
Is coupled to the output terminal Va0 of the corresponding current sense circuit CS0, and the gate of the other differential MOSFET N9 is supplied with a predetermined reference potential VR from a constant voltage generating circuit (not shown). Further, the internal control signal VG is supplied to the gate of the MOSFET N10,
The gates of 6 and N7 are connected together and then
Commonly coupled to the drains of TN9. This makes MO
SFETs N6 and N7 are differential MOSFETs N8 and N
Acts as an active load on 9. MOSFE
The drain potential of TN8 is supplied to the corresponding unit circuit of the data output buffer OB as an output signal of the differential amplifier circuit DA0, that is, a read signal R0. The reference potential VR is set to an approximately intermediate level between the high level and the low level at the output terminal Va0 of the current sense circuit CS0, and the internal control signal VR is set to the mask ROM when the internal control signal CE is set to the high level. Is set to a high level selectively when is selected.

【0028】この実施例において、単位リードアンプU
RA0は、さらに、共通データ線CD0と回路の接地電
位との間に直列形態に設けられる2個のNチャンネルM
OSFETN1(第3のMOSFET)及びN2を含
む。このうち、MOSFETN1のゲートには、差動増
幅回路DA0の出力信号すなわち読み出し信号R0が供
給され、MOSFETN2のゲートはそのドレインに結
合される。これにより、MOSFETN1は、いわゆる
リークMOSFETとして作用し、MOSFETN2と
ともに共通データ線CD0のハイレベルを所定レベルに
制限するためのレベル制限手段を構成する。
In this embodiment, the unit read amplifier U
RA0 further includes two N-channels M provided in series between the common data line CD0 and the ground potential of the circuit.
It includes OSFETs N1 (third MOSFET) and N2. Of these, the output signal of the differential amplifier circuit DA0, that is, the read signal R0 is supplied to the gate of the MOSFET N1, and the gate of the MOSFET N2 is coupled to the drain thereof. As a result, the MOSFET N1 acts as a so-called leak MOSFET, and together with the MOSFET N2 constitutes a level limiting means for limiting the high level of the common data line CD0 to a predetermined level.

【0029】チップイネーブル信号CEBがハイレベル
とされることでマスクROMが非選択状態とされ内部制
御信号CEがロウレベルとされるとき、リードアンプR
Aの単位リードアンプURA0では、電流センス回路C
S0のMOSFETP1がオフ状態とされ、リセットM
OSFETN5がオン状態とされる。このため、電流セ
ンス回路CS0の出力端子Va0は、図3に示されるよ
うに、回路の接地電位のようなロウレベルとされ、これ
によってチャージMOSFETN3がオフ状態とされ
る。このとき、差動増幅回路DA0では、MOSFET
N10がオフ状態となって非動作状態とされ、その出力
信号すなわち読み出し信号R0は、回路の電源電圧のよ
うなハイレベルとされる。これにより、リークMOSF
ETN1がオン状態とされ、共通データ線CD0は回路
の接地電位よりMOSFETN2のしきい値電圧分だけ
高い所定のロウレベルとされる。
When the mask ROM is deselected by the chip enable signal CEB being high level and the internal control signal CE is low level, the read amplifier R
In the unit read amplifier URA0 of A, the current sense circuit C
The MOSFET P1 of S0 is turned off, and the reset M
The OSFET N5 is turned on. Therefore, the output terminal Va0 of the current sense circuit CS0 is set to a low level like the ground potential of the circuit as shown in FIG. 3, whereby the charge MOSFET N3 is turned off. At this time, in the differential amplifier circuit DA0, the MOSFET
N10 is turned off and brought into a non-operation state, and its output signal, that is, the read signal R0 is set to a high level like the power supply voltage of the circuit. As a result, the leak MOSF
The ETN1 is turned on, and the common data line CD0 is set to a predetermined low level higher than the ground potential of the circuit by the threshold voltage of the MOSFET N2.

【0030】次に、チップイネーブル信号CEBがロウ
レベルとされることでマスクROMが選択状態とされ内
部制御信号CEがハイレベルとされると、リードアンプ
RAの単位リードアンプURA0では、電流センス回路
CS0のリセットMOSFETN5がオフ状態とされ、
代わってMOSFETP1がオン状態とされる。このた
め、電流センス回路CS0の出力端子Va0は、図3に
示されるように、一時的に回路の電源電圧に近いハイレ
ベルとされ、この出力端子Va0のハイレベルを受けて
チャージMOSFETN3がオン状態とされる。このと
き、差動増幅回路DA0では、MOSFETN10がオ
ン状態とされ、これによって差動MOSFETN8及び
N9による読み出し信号の増幅動作が開始される。メモ
リアレイMARYの選択されたメモリセルには、チャー
ジMOSFETN3から共通データ線CD0ならびに対
応するビット線を介して読み出し電流が流され、これに
よって共通データ線CD0の電位が選択されたメモリセ
ルの保持データに従って選択的に所定のハイレベル又は
ロウレベルとされる。
Next, when the chip enable signal CEB is set to the low level to bring the mask ROM into the selected state and the internal control signal CE is set to the high level, the unit read amplifier URA0 of the read amplifier RA has the current sense circuit CS0. Reset MOSFET N5 is turned off,
Instead, the MOSFET P1 is turned on. Therefore, as shown in FIG. 3, the output terminal Va0 of the current sense circuit CS0 is temporarily set to a high level close to the power supply voltage of the circuit, and the charge MOSFET N3 is turned on in response to the high level of the output terminal Va0. It is said that At this time, in the differential amplifier circuit DA0, the MOSFET N10 is turned on, whereby the amplifying operation of the read signal by the differential MOSFETs N8 and N9 is started. A read current is supplied to the selected memory cell of the memory array MARY from the charge MOSFET N3 through the common data line CD0 and the corresponding bit line, whereby the potential of the common data line CD0 holds data of the selected memory cell. In accordance with this, a predetermined high level or low level is selectively set.

【0031】すなわち、選択されたメモリセルが論理
“0”のデータを保持するものとされそのしきい値電圧
が比較的小さくされるとき、共通データ線CD0には選
択されたメモリセルを介して比較的大きな電流が流され
る。このため、共通データ線CD0の電位は、図3に示
されるように、回路の接地電位からチャージMOSFE
TN3と選択されたメモリセルのコンダクタンス比に見
合った比較的低い電位V1に上昇する。また、共通デー
タ線CD0の電位V1を受けて、センスMOSFETN
4がウィークリーなオン状態とされ、これによって電流
センス回路CS0の出力端子Va0の電位が基準電位V
Rより高い所定の電位V3まで低下する。この出力端子
Va0における電位V3は、差動増幅回路DA0におい
て基準電位VRと比較・増幅され、これによって差動増
幅回路DA0の出力信号すなわち読み出し信号R0が回
路の接地電位のようなロウレベルとされる。このとき、
リークMOSFETN1は読み出し信号R0のロウレベ
ルを受けてオフ状態とされ、共通データ線CD0に対し
て何ら作用しない。
That is, when the selected memory cell holds the data of logic "0" and its threshold voltage is made relatively small, the common data line CD0 is connected to the selected memory cell via the selected memory cell. A relatively large current is applied. Therefore, the potential of the common data line CD0 changes from the ground potential of the circuit to the charge MOSFE, as shown in FIG.
It rises to a relatively low potential V1 commensurate with the conductance ratio of TN3 and the selected memory cell. In addition, when the potential V1 of the common data line CD0 is received, the sense MOSFET N
4 is turned on weekly, whereby the potential of the output terminal Va0 of the current sense circuit CS0 changes to the reference potential V0.
It drops to a predetermined potential V3 higher than R. The potential V3 at the output terminal Va0 is compared and amplified with the reference potential VR in the differential amplifier circuit DA0, whereby the output signal of the differential amplifier circuit DA0, that is, the read signal R0 is at a low level like the ground potential of the circuit. . At this time,
The leak MOSFET N1 is turned off in response to the low level of the read signal R0, and has no effect on the common data line CD0.

【0032】一方、選択されたメモリセルが論理“1”
のデータを保持するものとされそのしきい値電圧が比較
的大きくされると、共通データ線CD0には選択された
メモリセルを介して比較的小さな電流が流される。この
ため、共通データ線CD0の電位は、図3に示されるよ
うに、回路の接地電位からチャージMOSFETN3と
選択されたメモリセルのコンダクタンス比に見合った比
較的高い電位に上昇しようとする。また、共通データ線
CD0の電位上昇を受けて、センスMOSFETN4の
コンダクタンスが大きくされ、これによって電流センス
回路CS0の出力端子Va0の電位が基準電位VRより
低い所定の電位V4まで低下する。この出力端子Va0
における電位V4は、差動増幅回路DA0において基準
電位VRと比較・増幅され、これによって差動増幅回路
DA0の出力信号すなわち読み出し信号R0が回路の電
源電圧のようなハイレベルとされる。このとき、リーク
MOSFETN1は、読み出し信号R0のハイレベルを
受けてオン状態とされ、MOSFETN2とともにレベ
ル制限手段として作用する。この結果、共通データ線C
D0の電位上昇は、ほぼチャージMOSFETN3とリ
ークMOSFETN1及びN2とのコンダクタンス比に
見合った電位V2に制限され、これによって共通データ
線CD0のチャージアップが防止される。
On the other hand, the selected memory cell has a logic "1".
When the threshold voltage of the data is held relatively high, a relatively small current is passed through the common data line CD0 through the selected memory cell. Therefore, the potential of the common data line CD0 tends to rise from the ground potential of the circuit to a relatively high potential commensurate with the conductance ratio of the charge MOSFET N3 and the selected memory cell, as shown in FIG. In addition, the conductance of the sense MOSFET N4 is increased in response to the rise in the potential of the common data line CD0, whereby the potential of the output terminal Va0 of the current sense circuit CS0 drops to a predetermined potential V4 lower than the reference potential VR. This output terminal Va0
The potential V4 at is compared and amplified with the reference potential VR in the differential amplifier circuit DA0, whereby the output signal of the differential amplifier circuit DA0, that is, the read signal R0 is set to a high level like the power supply voltage of the circuit. At this time, the leak MOSFET N1 is turned on in response to the high level of the read signal R0, and acts as a level limiting means together with the MOSFET N2. As a result, the common data line C
The increase in the potential of D0 is limited to the potential V2 corresponding to the conductance ratio between the charge MOSFET N3 and the leak MOSFETs N1 and N2, thereby preventing the common data line CD0 from being charged up.

【0033】以下、リードアンプRAでは、チップイネ
ーブル信号CEBがロウレベルとされる間、Yアドレス
信号AY0〜AYjの変化を受けて同様な読み出し動作
が繰り返され、リードアンプRAの出力端子には、これ
らのYアドレス信号によって指定されるメモリセルの読
み出し信号R0が順次出力される。この間、共通データ
線CD0のレベルは、電位V1と電位V2との間で比較
的小さな振幅をもって変化され、電流センス回路CS0
の出力端子Va0のレベルも、電位V3と電位V4との
間で比較的小さな振幅をもって変化される。これらの結
果、共通データ線CD0のチャージアップを防止し、マ
スクROMの読み出し動作を正常に行うことができると
もに、共通データ線CD0ならびに電流センス回路CS
0の出力端子Va0のレベル変化に対してその寄生容量
が与える影響を抑制し、マスクROMのアクセスタイム
の高速化を推進できるものとなる。
Hereinafter, in the read amplifier RA, while the chip enable signal CEB is at the low level, the same read operation is repeated in response to changes in the Y address signals AY0 to AYj, and these are output to the output terminal of the read amplifier RA. The read signal R0 of the memory cell designated by the Y address signal is sequentially output. During this time, the level of the common data line CD0 is changed with a relatively small amplitude between the potential V1 and the potential V2, and the current sense circuit CS0
The level of the output terminal Va0 of is also changed with a relatively small amplitude between the potential V3 and the potential V4. As a result, the charge-up of the common data line CD0 can be prevented, the read operation of the mask ROM can be normally performed, and the common data line CD0 and the current sense circuit CS can be performed.
It is possible to suppress the influence of the parasitic capacitance on the level change of the output terminal Va0 of 0 and accelerate the access time of the mask ROM.

【0034】以上の本実施例に示されるように、この発
明をマスクROM等の半導体記憶装置に適用すること
で、次のような作用効果が得られる。すなわち、 (1)電流センス回路及び差動増幅回路を含むリードア
ンプを備えるマスクROM等において、アドレス遷移検
出回路の出力信号による電流センス回路の出力端子なら
びに対応する共通データ線のリセット動作を停止すると
ともに、対応する共通データ線と回路の接地電位との間
に、差動増幅回路の実質的な出力信号に従って選択的に
オン状態とされ共通データ線のハイレベルを所定レベル
に制限するリークMOSFETを設けることで、共通デ
ータ線のチャージアップを防止しつつ、共通データ線な
らびに電流センス回路の出力端子における信号振幅を制
限することができるという効果が得られる。 (2)上記(1)項により、共通データ線ならびに電流
センス回路の出力端子のレベル変化に対する寄生容量の
影響を抑制できるという効果が得られる。 (3)上記(1)項及び(2)項により、その読み出し
動作を正常に行いつつ、マスクROM等のアクセスタイ
ムを高速化できるという効果が得られる。
By applying the present invention to a semiconductor memory device such as a mask ROM as shown in the above embodiment, the following operational effects can be obtained. That is, (1) In a mask ROM having a read amplifier including a current sense circuit and a differential amplifier circuit, the reset operation of the output terminal of the current sense circuit and the corresponding common data line by the output signal of the address transition detection circuit is stopped. Along with the corresponding common data line and the ground potential of the circuit, a leak MOSFET that is selectively turned on according to the substantial output signal of the differential amplifier circuit and limits the high level of the common data line to a predetermined level. With the provision, the effect that the signal amplitude at the common data line and the output terminal of the current sense circuit can be limited while preventing the charge-up of the common data line is obtained. (2) According to the item (1), it is possible to suppress the influence of the parasitic capacitance on the level change of the common data line and the output terminal of the current sense circuit. (3) According to the above items (1) and (2), it is possible to obtain the effect that the access time of the mask ROM or the like can be shortened while the reading operation is normally performed.

【0035】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、この発明は、上記実
施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない
範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。例え
ば、図1において、マスクROMは、記憶データを1ビ
ット単位で読み出すものであってよいし、9ビット以上
の記憶データを同時に読み出すものであってもよい。ま
た、メモリアレイMARYは、複数のサブメモリアレイ
に分割できるし、マスクROMのブロック構成は、この
実施例による制約を受けない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say. For example, in FIG. 1, the mask ROM may read the storage data in 1-bit units, or may read the storage data of 9 bits or more at the same time. Further, the memory array MARY can be divided into a plurality of sub memory arrays, and the block configuration of the mask ROM is not restricted by this embodiment.

【0036】図2において、リークMOSFETN1を
含むレベル制限手段は、MOSFETN2を含まないも
のであってよいし、MOSFETN2のようなダイオー
ド形態とされる複数のMOSFETを含むこともでき
る。また、この実施例では、差動増幅回路DA0の出力
信号すなわち読み出し信号R0によってリークMOSF
ETN1を選択的にオン状態としているが、図4に示さ
れるように、電流センス回路CS0の出力信号のインバ
ータINV1による反転信号によってリークMOSFE
TN1を選択的にオン状態としてもよい。マスクROM
がYスイッチを含まずリードアンプがビット線に対応し
て設けられる場合、MOSFETN1を含むレベル制限
手段をビット線ごとに設ける必要がある。さらに、図2
及び図4に示されるリードアンプRAの具体的な回路構
成や電源電圧の極性及び絶対値ならびにMOSFETの
導電型等、種々の実施形態を採りうる。
In FIG. 2, the level limiting means including the leakage MOSFET N1 may not include the MOSFET N2, or may include a plurality of MOSFETs in the diode form such as the MOSFET N2. Further, in this embodiment, the leak MOSF is generated by the output signal of the differential amplifier circuit DA0, that is, the read signal R0.
Although the ETN1 is selectively turned on, as shown in FIG. 4, the leak MOSFE is generated by the inverted signal of the output signal of the current sense circuit CS0 by the inverter INV1.
The TN1 may be selectively turned on. Mask ROM
If the read amplifier is provided corresponding to the bit line without including the Y switch, it is necessary to provide the level limiting means including the MOSFET N1 for each bit line. Furthermore, FIG.
Also, various embodiments such as a specific circuit configuration of the read amplifier RA shown in FIG. 4, the polarity and absolute value of the power supply voltage, and the conductivity type of the MOSFET can be adopted.

【0037】以上の説明では、主として本発明者によっ
てなされた発明をその背景となった利用分野であるマス
クROMに適用した場合について説明したが、それに限
定されるものではなく、例えば、マスクROMを内蔵す
るシングルチップマイクロコンピュータや同様なリード
アンプを含む各種のメモリ集積回路にも適用できる。こ
の発明は、少なくとも電流センス回路及び差動増幅回路
を含むリードアンプを備える半導体記憶装置ならびにこ
のような半導体記憶装置を内蔵するディジタル集積回路
装置に広く適用できる。
In the above description, the case where the invention made by the present inventor is mainly applied to the mask ROM which is the field of application which is the background of the invention has been described. However, the present invention is not limited to this and, for example, a mask ROM is used. It is also applicable to various memory integrated circuits including a built-in single-chip microcomputer and similar read amplifiers. The present invention can be widely applied to a semiconductor memory device including a read amplifier including at least a current sense circuit and a differential amplifier circuit, and a digital integrated circuit device including such a semiconductor memory device.

【0038】[0038]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、電流センス回路及び差動増
幅回路を含むリードアンプを備えるマスクROM等の半
導体記憶装置において、アドレス遷移検出回路の出力信
号による電流センス回路の出力端子ならびに対応する共
通データ線のリセット動作を停止するとともに、対応す
る共通データ線と回路の接地電位との間に、差動増幅回
路の実質的な出力信号に従って選択的にオン状態とされ
共通データ線のハイレベルを所定レベルに制限するリー
クMOSFETを設けることで、共通データ線のチャー
ジアップを防止しつつ、電流センス回路の出力端子にお
ける信号振幅を制限し、そのレベル変化に対する寄生容
量の影響を抑制することができる。この結果、その読み
出し動作を正常に行いつつ、マスクROM等のアクセス
タイムを高速化することができる。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, in a semiconductor memory device such as a mask ROM having a read amplifier including a current sense circuit and a differential amplifier circuit, the reset operation of the output terminal of the current sense circuit and the corresponding common data line by the output signal of the address transition detection circuit is stopped. In addition, the leakage MOSFET that is selectively turned on between the corresponding common data line and the ground potential of the circuit according to the substantial output signal of the differential amplifier circuit to limit the high level of the common data line to a predetermined level. By providing the above, it is possible to limit the signal amplitude at the output terminal of the current sense circuit and prevent the influence of the parasitic capacitance on the level change while preventing the common data line from being charged up. As a result, it is possible to speed up the access time of the mask ROM or the like while performing the read operation normally.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明が適用されたマスクROMの一実施例
を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a mask ROM to which the present invention is applied.

【図2】図1のマスクROMに含まれるリードアンプの
第1の実施例を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a first embodiment of a read amplifier included in the mask ROM of FIG.

【図3】図3のリードアンプの一実施例を示す信号波形
図である。
FIG. 3 is a signal waveform diagram showing an embodiment of the read amplifier of FIG.

【図4】図1のマスクROMに含まれるリードアンプの
第2の実施例を示す回路図である。
4 is a circuit diagram showing a second embodiment of the read amplifier included in the mask ROM of FIG.

【図5】この発明に先立って本願発明者等が開発したマ
スクROMに含まれるリードアンプの一例を示す回路図
である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing an example of a read amplifier included in a mask ROM developed by the inventors of the present application prior to the present invention.

【図6】図5のリードアンプの一例を示す信号波形図で
ある。
FIG. 6 is a signal waveform diagram showing an example of the read amplifier of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

MARY・・・メモリアレイ、XD・・・Xアドレスデ
コーダ、XB・・・Xアドレスバッファ、YS・・・Y
スイッチ、YD・・・Yアドレスデコーダ、YB・・・
Yアドレスバッファ、RA・・・リードアンプ、OB・
・・データ出力バッファ、TG・・・タイミング発生回
路。URA0〜URA7・・・単位リードアンプ、CS
0〜CS7・・・電流センス回路、DA0〜DA7・・
・差動増幅回路、P1・・・PチャンネルMOSFE
T、D1・・・デプレッションMOSFET、N1〜N
11・・・NチャンネルMOSFET、INV1・・・
インバータ。
MARY ... Memory array, XD ... X address decoder, XB ... X address buffer, YS ... Y
Switch, YD ... Y address decoder, YB ...
Y address buffer, RA ... Read amplifier, OB
..Data output buffer, TG ... Timing generation circuit URA0 to URA7 ... Unit read amplifier, CS
0-CS7 ... Current sense circuit, DA0-DA7 ...
.Differential amplifier circuit, P1 ... P channel MOSFE
T, D1 ... Depletion MOSFET, N1 to N
11 ... N-channel MOSFET, INV1 ...
Inverter.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 選択されたメモリセルから対応するビッ
ト線あるいは対応するビット線及び共通データ線を介し
て出力される読み出し信号を増幅するリードアンプと、
上記リードアンプの実質的な出力信号に従って選択的に
有効とされ上記ビット線及び/又は共通データ線の電位
を所定レベルに制限するレベル制限手段とを具備するこ
とを特徴とする半導体記憶装置。
1. A read amplifier for amplifying a read signal output from a selected memory cell through a corresponding bit line or a corresponding bit line and a common data line,
2. A semiconductor memory device, comprising: level limiting means which is selectively enabled according to a substantial output signal of the read amplifier and limits the potential of the bit line and / or the common data line to a predetermined level.
【請求項2】 上記リードアンプは、第1の電源電圧と
上記ビット線又は共通データ線との間に設けられそのゲ
ートが回路の出力端子に結合される第1導電型の第1の
MOSFETならびに回路の出力端子と第2の電源電圧
との間に設けられそのゲートが上記ビット線又は共通デ
ータ線に結合される第1導電型の第2のMOSFETを
含む電流センス回路と、上記電流センス回路の出力信号
ならびに所定の基準電位を受ける差動増幅回路とを備え
るものであって、上記レベル制限手段は、上記ビット線
又は共通データ線と第2の電源電圧との間に設けられそ
のゲートに上記電流センス回路の出力信号の反転信号あ
るいは上記差動増幅回路の出力信号を受ける第1導電型
の第3のMOSFETを含むものであることを特徴とす
る請求項1の半導体記憶装置。
2. The read amplifier is provided between a first power supply voltage and the bit line or the common data line and has a gate coupled to an output terminal of the circuit. A current sense circuit including a second MOSFET of a first conductivity type, the second sense MOSFET being provided between an output terminal of the circuit and a second power supply voltage and having a gate coupled to the bit line or the common data line; And a differential amplifier circuit that receives a predetermined reference potential and the level limiting means is provided between the bit line or common data line and the second power supply voltage, and the gate thereof is provided. 2. The semiconductor according to claim 1, further comprising a third MOSFET of a first conductivity type which receives an inverted signal of the output signal of the current sense circuit or an output signal of the differential amplifier circuit. Storage device.
【請求項3】 上記半導体記憶装置は、マスクROMで
あって、上記電流センス回路は、第1の電源電圧と回路
の出力端子との間に直列形態に設けられマスクROMが
選択状態とされる間オン状態とされる第2導電型の第4
のMOSFETならびにそのゲート及びソースが共通結
合されるデプレッション型の第5のMOSFETと、上
記第2のMOSFETと並列形態に設けられマスクRO
Mが非選択状態とされる間オン状態とされる第1導電型
の第6のMOSFETとを含むものであることを特徴と
する請求項1又は請求項2の半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device is a mask ROM, wherein the current sense circuit is provided in series between a first power supply voltage and an output terminal of the circuit, and the mask ROM is in a selected state. The fourth of the second conductivity type that is turned on for a while.
And a depletion-type fifth MOSFET whose gate and source are commonly coupled, and a mask RO provided in parallel with the second MOSFET.
3. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a sixth MOSFET of the first conductivity type which is turned on while M is in a non-selected state.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100355227B1 (en) * 2000-01-06 2002-10-11 삼성전자 주식회사 Data receiver
US7788017B2 (en) 2006-12-27 2010-08-31 Denso Corporation Engine control, fuel property detection and determination apparatus, and method for the same

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