JP3265219B2 - 排気処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は排気中に含まれる有
機原ガスを除去する吸着剤を再生する脱着塔を備えた排
気処理装置に関するものである。

【０００２】近年、半導体工場には、半導体装置（ＬＳ
Ｉ）の大量製造に伴って、半導体装置の製造装置の排気
に含まれる有機原ガスを吸着剤にて除去する排気処理装
置が設置されている。吸着剤は、排気処理装置内の脱着
塔にて再生され、循環活用されるので、吸着剤を効率良
く再生することが要求されている。

【０００３】

【従来の技術】図９（ａ）は、従来の排気処理装置に備
えられた脱着塔１の概略縦断面図である。脱着塔１に
は、図示しない吸着塔にて有機原ガスを吸着した吸着剤
としての活性炭がその上端から供給される。活性炭は脱
着部２にて加熱される。脱着温度まで活性炭が加熱され
ると、活性炭に吸着した有機原ガスが活性炭から離れて
活性炭が再生される。再生された活性炭は冷却部３にて
冷却され、再び吸着塔に供給される。

【０００４】図９（ｂ）に示すように、脱着部２は、円
筒形の脱着塔１内面に沿って設けられた真鍮電熱ヒータ
４と、脱着塔１の中心部とヒータとの間に放射状に設け
られヒータの熱が伝導されるフィン５とから構成され
る。フィン５は、活性炭が直接落下しないように、垂直
方向（図９（ｂ）において図面表裏方向）において一部
が重なり合うように設けられている。従って、活性炭
は、落下する際に当たったフィン５に伝導された熱によ
って間接的に加熱される。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、半導
体装置の製造工程には、沸点の高い有機原ガス（例え
ば、Ｎメチル−２ピロリドン（ＮＭＰ）、沸点２０２
℃）が用いられるようになってきている。そのため、脱
着塔１では、沸点の高い有機原ガスに対応して活性炭を
２００℃以上の高温な脱着温度に加熱して活性炭の再生
を行う必要がある。

【０００６】しかしながら、従来の脱着塔１では、活性
炭をヒータ４から放射状に備えられたフィン５にて間接
的に加熱しているため、２００℃以上の高温に加熱する
ことが難しく活性炭を効率よく再生することができな
い。低温にて活性炭を再生すると、活性炭の吸着能力が
低下し排気処理装置の処理能力が低下する。例えば、低
温にて再生した活性炭の吸着性能を示す比表面積は、新
しい活性炭の比表面積の約４０％にまで低下する。その
ため、従来の排気処理装置では、処理能力を維持するた
めに活性炭を常に新たな活性炭と交換する必要があり、
その交換に多くの費用がかかるので、排気処理装置の稼
働費用が上昇するという問題がある。

【０００７】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたものであって、その目的は吸着剤を高温にて効率よ
く再生することができる脱着塔を備えた排気処理装置を
提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１に記載の発明は、上端に設けられた供給口
から供給され塔内を落下する原ガスを吸着した吸着剤を
所定の脱着温度に加熱して該吸着剤を再生する脱着部を
有する脱着塔を備えた排気処理装置において、前記脱着
部には、塔内を落下する吸着剤を加熱するヒータを脱着
塔内に直装し、前記ヒータの表面に、前記吸着剤の一部
表面が接する凹部を形成したことを要旨とする。

【０００９】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の排気処理装置において、前記供給口とヒータとの間
に、落下する吸着剤を塔内に均等に分散させる分散部を
設けたことを要旨とする。請求項３に記載の発明は、請
求項１又は２に記載の排気処理装置において、前記脱着
塔のうち、少なくとも前記脱着部の部分を内壁と外壁と
の二重構造とし、内壁と外壁との間に不活性ガスを供給
したことを要旨とする。

【００１０】請求項４に記載の発明は、請求項３に記載
の排気処理装置において、前記内壁と外壁に供給する不
活性ガスの供給量を制御する制御手段を備えたことを要
旨とする。

【００１１】請求項５に記載の発明は、請求項１乃至４
のうちのいずれか１項に記載の排気処理装置において、
前記脱着塔の供給口と、前記再生した吸着剤を排出する
排出口とに前記脱着塔内を密閉する弁を備えたことを要
旨とする。

【００１２】請求項６に記載の発明は、上端に設けられ
た供給口から供給され塔内を落下する原ガスを吸着した
吸着剤を所定の脱着温度に加熱して該吸着剤を再生する
脱着部を有する脱着塔を備えた排気処理装置において、
前記脱着部には、塔内を落下する吸着剤を加熱するヒー
タを脱着塔内に直装し、前記脱着塔のうち、少なくとも
前記脱着部の部分を内壁と外壁との二重構造とし、内壁
と外壁との間に不活性ガスを供給したことを要旨とす
る。請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の排気処
理装置において、前記内壁と外壁に供給する不活性ガス
の供給量を制御する制御手段を備えたことを要旨とす
る。請求項８に記載の発明は、請求項６又は７に記載の
排気処理装置において、前記脱着塔の供給口と、前記再
生した吸着剤を排出する排出口とに前記脱着塔内を密閉
する弁を備えたことを要旨とする。

【００１３】（作用）従って、請求項１に記載の発明に
よれば、原ガスを吸着した吸着剤は、脱着塔内に直装さ
れたヒータにて直接加熱され、原ガスの沸点より高い所
定の脱着温度まで上昇し、原ガスが脱着される。

【００１４】また、ヒータの表面には、吸着剤の一部表
面が接する凹部が形成され、吸着剤とヒータとの接触面
積が大きくなる。請求項２に記載の発明によれば、供給
口とヒータとの間には、落下する吸着剤を塔内に均等に
分散させる分散部が設けられ、吸着剤が均一に加熱され
る。

【００１５】請求項３、６に記載の発明によれば、脱着
側壁のうち、少なくとも脱着部の部分が内壁と外壁との
二重構造とされ、内壁と外壁との間には不活性ガスが供
給されて脱着部が保温される。

【００１６】請求項４、７に記載の発明によれば、内壁
と外壁に供給する不活性ガスの供給量を制御する制御手
段が備えられ、不活性ガスが供給制御される。請求項
５、８に記載の発明によれば、脱着塔の供給口と、前記
再生した吸着剤を排出する排出口とには弁が設けられ、
その弁によって脱着塔内が密閉される。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明を具体化した一実施
形態を図１〜図５に従って説明する。図１に示すよう
に、本実施形態の有機排気処理装置１１には、吸着塔１
２と脱着塔１３とが設けられている。吸着塔１２は、図
示しない半導体製造装置の排気ガスから、その排気ガス
に含まれる有機原ガスを吸着剤としての活性炭に吸着さ
せて浄化するために設けられている。脱着塔１３は、活
性炭に吸着した有機原ガスを脱着させ、活性炭を再生す
るために設けられている。

【００１８】吸着塔１２は、その下端が輸送管１４を介
して図示しない半導体製造装置に連結され、その製造装
置の排気が輸送管１４に設けられたモーターファン１５
によって供給される。吸着塔１２には、活性炭流動部１
６が垂直方向に複数段設けられている。最上段の活性炭
流動部１６には、脱着塔１３にて再生された活性炭（以
下、脱着炭という））が常時供給される。各活性炭流動
部１６は、供給される活性炭を所定の方向に水平移動さ
せるとともに、活性炭を上段から下段へ向かって徐々に
搬送させる。

【００１９】従って、吸着塔１２に供給された排気ガス
は、吸着塔１２の下端から上端に向かって上昇する間
に、各活性炭流動部１６により搬送される活性炭間を通
過する。そして、排気ガスは、その排気ガスに含まれる
有機原ガスが活性炭に吸着され、浄化された浄化ガスと
して吸着塔１２下端から排出される。有機原ガスを吸着
した活性炭（以下、吸着炭という）は、脱着塔１３上端
に搬送される。

【００２０】脱着塔１３は四角形筒状に形成されてい
る。脱着塔１３には、脱着部１７が設けられている。脱
着部１７は、搬送される吸着炭を所定の脱着温度まで加
熱するために設けられている。脱着温度は、有機原ガス
の沸点に対応した高温（例えば、４００〜５００℃）に
設定されている。例えば、有機原ガスとしてＮメチル−
２ピロリドン（ＮＭＰ）の場合、沸点が２０２℃である
ため、吸着炭は、有機原ガスの沸点よりも十分に高い温
度に加熱される。すると、吸着炭に吸着した有機原ガス
は容易に脱着し、吸着炭が再生されて脱着炭となる。

【００２１】例えば、本出願人は、本実施形態の排気処
理装置１１を用いて吸着炭を５００℃の高温にて再生
し、脱着炭の比表面積が新しい活性炭の比表面積の約９
３％となることを実験により得ている。また、本出願人
は、従来の排気処理装置（脱着温度２００℃）にて再生
した脱着炭の比表面積が、新しい活性炭の比表面積の約
４１％となることを実験により得ている。従って、吸着
炭は、吸着した有機原ガスのほとんどが脱着され、有機
原ガスの除去効率がよい。

【００２２】有機ガスが脱着された脱着炭は、前記吸着
塔１２に循環され、再利用される。吸着炭から脱着され
た有機原ガスは、濃縮塔１８に送られる。濃縮塔１８に
はコンデンサ１９が設けられ、その濃縮塔１８に送られ
た有機原ガスはコンデンサ１９に循環供給される冷却水
によって冷却されて液化し、回収溶剤として図示しない
貯留槽に蓄えられる。

【００２３】また、排気処理装置１１には、上方搬送部
２０が設けられている。上方搬送部２０は、吸着塔１２
と脱着塔１３との間で活性炭を循環させるとともに、搬
送する活性炭を各塔の上方から供給するために設けられ
ている。上方搬送部２０は、吸着炭搬送部２１と脱着炭
搬送部２２とから構成される。両搬送部２１，２２に
は、モーターファン２３にて大気が供給される。吸着炭
搬送部２１は、供給される大気によって吸着塔１２から
排出された吸着炭を脱着塔１３上端へ搬送する。脱着炭
搬送部２２は、供給される大気によって脱着塔１３から
排出された脱着炭を吸着塔１２上部へ搬送する。

【００２４】次に、脱着塔１３の構成を図２及び図３に
従って詳述する。図２に示すように、脱着塔１３は、そ
の上端に供給口２４が設けられ、前記吸着炭搬送部２１
により搬送された吸着炭２５は供給口２４を介して脱着
塔１３内に供給され、脱着部１７へ落下する。

【００２５】供給口２４と脱着部１７との間には、分散
部としての分散板２６が設けられている。分散板２６
は、供給される脱着炭を脱着部１７に対して水平方向均
等に分散させるために設けられている。分散板２６は、
脱着炭が通過可能な所定の内径に形成された貫通孔が複
数形成された金属板（パンチングメタル）よりなり、脱
着塔１３中心を頂点とする山形状に形成されている。

【００２６】脱着塔１３内に供給された吸着炭は、分散
板２６の頂点付近に集中して落下する。そして、吸着炭
は、山形状の分散板２６によって脱着塔１３内壁方向に
移動するとともに、その分散板２６に形成された貫通孔
を通過して脱着部１７上に落下する。その結果、集中し
て供給された吸着炭は、分散板２６によって水平方向均
等に分散され、脱着部１７に供給される。

【００２７】図３に示すように、脱着部１７は、四角形
筒状に形成された対向する側面に渡って複数のヒータ２
７が所定の配列で直挿されている。各ヒータ２７の配列
は、分散されて落下する吸着炭が必ずヒータ２７に当た
るように設定されている。

【００２８】図４に示すように、各ヒータ２７は、耐熱
性及び熱伝導性のよい材質を断面略円筒状に形成し、吸
着炭２５を加熱するためのニクロム線２８が内装されて
いる。また、各ヒータ２７の表面には、吸着炭の外形形
状と略同一の凹部２９が形成されている。従って、吸着
炭の一部表面が凹部２９と接触するため、各ヒータ２７
と吸着炭との接触面積が大きくなり、ヒータ２７の熱が
効率よく吸着炭に伝えられる。また、吸着炭は、前記分
散板２６によって脱着部１７に均等に分散され落下する
ので、各吸着炭の温度は、ばらつきがなくほぼ均一とな
る。

【００２９】従って、吸着炭は、脱着塔１３内を落下す
る間にヒータ２７により直接加熱されるとともに、大き
な接触面積によってヒータ２７の熱が容易に吸着炭に伝
達される。その結果、各吸着炭の温度は、高温の脱着温
度（本実施形態では５００℃）まで上昇する。

【００３０】すると、吸着炭に吸着された有機原ガス
は、高温によって吸着したほとんどが容易に脱着される
ので、吸着炭は新しい活性炭と同様（再生された吸着炭
の比表面積が新しい活性炭の比表面積の約９３％以上）
にまで再生された脱着炭となる。また、各吸着炭は、ほ
ぼ均一な温度に加熱されるので、各吸着炭にばらつきが
なく、均一に再生される。

【００３１】再生された脱着炭は、脱着部１７の下方に
設けられた冷却部３０に落下する。冷却部３０は、コン
デンサよりなり、脱着部１７にて加熱再生された脱着炭
を冷却するために設けられている。即ち、脱着炭は、冷
却部３０に供給循環される冷却水により冷却される。そ
して、冷却された脱着炭は、脱着塔１３下端に設けられ
た排出口３１より排出され、上方搬送部２０によって吸
着塔１２に再び供給される。

【００３２】従って、本実施形態では、従来の低温で活
性炭を再生する場合に比べて、吸着炭を効率よく再生す
ることができるので、活性炭を長期間に渡って利用する
ことができる。その結果、活性炭を交換する必要が少な
くなり、交換期間が長くなるので、排気処理装置１１の
稼働コストを低減することができる。また、活性炭を効
率よく再生することができるので、吸着塔１２における
有機原ガスの吸着能力、即ち排気処理装置１１の初期性
能を容易に維持することができる。

【００３３】脱着塔１３上端に設けられた供給口２４に
は、電磁弁３２が設けられている。また、脱着塔１３下
端に設けられた排出口３１には、電磁弁３３が設けられ
ている。両電磁弁３２，３３は、脱着塔１３内を密閉す
るために利用される。また、両電磁弁３２，３３は、脱
着塔１３内の温度を一定に保つために設けられている。
即ち、上端の電磁弁３２を開路すると、その電磁弁３２
を介してヒータ２７により加熱された脱着塔１３内の空
気が塔外へ排出される。また、下端の電磁弁３３を開路
すると、その電磁弁３３を介して脱着塔１３内に比べて
低い温度の大気が脱着塔１３内に供給され、脱着塔１３
内の温度が低下する。従って、電磁弁３２，３３をそれ
ぞれ適宜開閉することにより、脱着塔１３内の温度を一
定とすることができる。

【００３４】また、脱着塔１３の側壁１３ａは、内壁３
４と外壁３５との二重構造に形成され、外壁３５と内壁
３４との間には、窒素ガス等の不活性ガスが脱着塔１３
下端及び上端に設けられた電磁弁３６，３７の開閉操作
により加圧供給されている。従って、脱着塔１３内の温
度は、二重構造の内壁３４、外壁３５、及び、供給され
る不活性ガスによって外部へ伝播しにくくなっている。
即ち、二重構造の側壁及び不活性ガスにより脱着塔１３
の保温部が構成されている。

【００３５】また、不活性ガスは、脱着塔１３内の温度
を一定に保つために利用される。即ち、電磁弁３６，３
７を閉路のまま保持すると、不活性ガスにより脱着塔１
３内の温度は外部へ伝播し難く、上昇する。一方、電磁
弁３６，３７を開路して不活性ガスを循環させると、脱
着塔１３内の温度は循環する不活性ガスに奪われて低く
なる。これにより、脱着塔１３内を所定の温度に保つこ
とができる。

【００３６】尚、二重構造の側壁は、いわゆる防爆構造
となっている。即ち、脱着塔１３の内壁３４が劣化等の
原因により破損しても、二重構造の外壁３５によって高
温になったヒータ２７、吸着炭等が破損した部分から脱
着塔１３外部へ噴出するのを防ぐことができる。

【００３７】また、脱着塔１３の脱着部１７側壁には、
温度計取り付け口３８が設けられ、その温度計取り付け
口から図５に示す温度計３９（図２において図示略）が
脱着塔１３内にて挿入されている。温度計３９は、脱着
部１７における脱着塔１３内の温度を検出するために設
けられている。検出された温度は、例えば前記電磁弁３
２，３３，３６，３７を開閉制御するために用いられ
る。即ち、温度計３９により検出した脱着塔１３内温度
に基づいて、電磁弁３２，３３を開閉制御して塔内の高
温の気体を塔外へ排出、温度の低い大気を塔内に供給す
ることにより脱着塔１３内の温度を一定に保つようにな
っている。また、塔内温度に基づいて、電磁弁３６，３
７を開閉して不活性ガスの供給・停止を制御することに
より、塔内温度を一定に保つようになっている。

【００３８】更に、前記冷却部３０下方の側壁には、温
度計取り付け口４０が設けられ、その温度計取り付け口
から図５に示す温度計４１（図２において図示略）が脱
着塔１３内に挿入されている。温度計４１は、脱着炭の
温度を検出するために設けられている。検出された温度
は、図５に示されるポンプ４２を駆動制御するために利
用される。即ち、即ち、冷却部３０により冷却された脱
着炭の温度が所望の温度よりも高い場合、ポンプ４２を
駆動制御して冷却水の供給量を多くし、脱着炭の温度を
低くするようになっている。

【００３９】図５は、有機排気処理装置１１の電気的構
成の一例を示すブロック図である。有機排気処理装置１
１には、制御装置４３が設けられている。制御装置４３
には、温度計３９，４１、ヒータ２７、ポンプ４２及び
電磁弁３２，３３，３６，３７が接続されている。

【００４０】また、制御装置４３は、ヒータ２７を制御
して脱着塔１３内に供給される吸着炭を所定の脱着温度
に加熱するとともに、温度計３９により検出された脱着
塔１３内の温度を入力し、その温度に基づいて電磁弁３
２〜３７を開閉制御して脱着塔１３内温度を一定に保
つ。また、制御装置４３は、温度計４１により検出され
た脱着炭の温度を入力し、その温度に基づいてポンプ４
２を制御して冷却水の供給量を制御し、脱着炭の温度を
所定の温度に保つ。

【００４１】以上記述したように、本実施形態によれ
ば、以下の効果を奏する。本実施形態では、脱着塔１３
の脱着部１７にヒータ２７を直装し、ヒータ２７上に吸
着炭を落下させて吸着炭を直接加熱するようにした。吸
着炭は、高温の脱着温度まで加熱され、吸着炭に吸着さ
れた有機原ガスは、高温によって吸着したほとんどが容
易に脱着され、吸着炭は新しい活性炭と同様にまでほぼ
再生される。その結果、活性炭を長期間に渡って交換す
る必要がないので、排気処理装置１１の稼働コストを低
減することができる。また、吸着炭が新しい活性炭と同
様にまでほぼ再生されるので、吸着塔１２における有機
原ガスの吸着能力、即ち、排気処理装置１１の初期性能
を長期間維持することができる。

【００４２】また、吸着炭の供給口と脱着部１７との間
に分散板２６を設け、その分散板２６により吸着炭を分
散させて脱着部１７に落下させるようにした。従って、
各吸着炭を均一に加熱することができる。

【００４３】また、ヒータ２７の表面に吸着炭の外形形
状と略同一の凹部２９を形成した。吸着炭は、凹部２９
においてヒータ２７と接触し、その接触面積が大きくな
る。従って、吸着炭には、ヒータ２７の熱が効率よく伝
播するので、吸着炭が高温に効率よく加熱することがで
きる。

【００４４】尚、本発明は前記実施の形態の他、以下の
態様で実施してもよい。上記実施形態では、脱着塔１３
の脱着部１７上方に山形状の分散板２６を設けて落下す
る吸着炭が脱着部１７に対して平面的に均等に分散する
ようにして加熱効率を高めるようにしたが、図６に示す
ように、二股の分離部２６ａを設けて活性炭を分散させ
るようにしてもよい。

【００４５】上記実施形態では、脱着塔１３の側面全体
二重構造として内壁３４と外壁３５との間に窒素ガス等
の不活性ガスを加圧供給して保温部としたが、保温部を
脱着塔１３の一部にのみ設けるようにして実施してもよ
い。例えば、図７に示すように、脱着部１７側面のみを
不活性ガスにより覆うようにして実施してもよい。ま
た、図８に示すように、脱着部１７側面のみを不活性ガ
スにより覆うとともに、供給口２４及び排出口３１の電
磁弁のうちの少なくとも一方（図８において双方）を省
略した構成で実施してもよい。

【００４６】上記実施形態では、ヒータ２７の外周に活
性炭の大きさに対応した径を有する凹部２９を形成した
が、外周を単純な円筒形状等の任意の形状にして実施し
てもよい。

【００４７】上記実施形態では、脱着塔１３に吸着炭を
再生する脱着部１７と、再生された脱着炭を冷却する冷
却部３０とを一体に備えたが、脱着部１７と冷却部３０
とを別体の構成として実施してもよい。

【００４８】上記実施形態では、吸着剤として活性炭を
用いて有機原ガスを除去したが、モレキュラーシープ，
活性アルミナ，特殊薬剤添加吸着剤等の吸着剤を用いて
実施してもよい。

【００４９】上記実施形態では、有機原ガスを吸着して
排気ガスを浄化する排気処理装置１１に具体化したが、
有機原ガス以外の原ガスを吸着して処理する排気処理装
置に具体化して実施してもよい。

【００５０】

【発明の効果】以上詳述したように、請求項１乃至８に
記載の発明によれば、吸着剤を高温にて効率よく再生す
ることが可能な脱着塔を備えた排気処理装置を提供する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 一実施形態の有機排気処理装置の概略構成
図。

【図２】 一実施形態の脱着塔の概略構成図。

【図３】 図２のＢ−Ｂ線断面図。

【図４】 一実施形態のヒータの断面図。

【図５】 有機排気処理装置の電気的構成ブロック図。

【図６】 別の脱着塔の概略構成図。

【図７】 別の脱着塔の概略構成図。

【図８】 別の脱着塔の概略構成図。

【図９】 (a) は従来の脱着塔の概略縦断面図、(b) は
概略平断面図。

【符号の説明】 １１ 排気処理装置 １３ 脱着塔 １７ 脱着部 ２５ 吸着剤としての活性炭 ２６ 分散部としての分散板 ２７ ヒータ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭52−98678（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−66222（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−346811（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−266832（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−30275（ＪＰ，Ａ) 実開 昭58−137441（ＪＰ，Ｕ) 特公 昭59−3208（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B01D 53/04 B01D 53/81

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 上端に設けられた供給口から供給され塔
   内を落下する原ガスを吸着した吸着剤を所定の脱着温度
   に加熱して該吸着剤を再生する脱着部を有する脱着塔を
   備えた排気処理装置において、 前記脱着部には、塔内を落下する吸着剤を加熱するヒー
   タを脱着塔内に直装し、 前記ヒータの表面に、前記吸着剤の一部表面が接する凹
   部を形成し た排気処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の排気処理装置におい
   て、前記供給口とヒータとの間に、落下する吸着剤を塔内に
   均等に分散させる分散部を設けた 排気処理装置。
3. 【請求項３】 請求項１又は２に記載の排気処理装置に
   おいて、前記脱着塔のうち、少なくとも前記脱着部の部分を内壁
   と外壁との二重構造とし、内壁と外壁との間に不活性ガ
   スを供給した 排気処理装置。
4. 【請求項４】 請求項３に記載の排気処理装置におい
   て、 前記内壁と外壁に供給する不活性ガスの供給量を制御す
   る制御手段を備えた 排気処理装置。
5. 【請求項５】 請求項１乃至４のうちのいずれか１項に
   記載の排気処理装置において、 前記脱着塔の供給口と、前記再生した吸着剤を排出する
   排出口とに前記脱着塔内を密閉する弁を備えた 排気処理
   装置。
6. 【請求項６】 上端に設けられた供給口から供給され塔
   内を落下する原ガスを吸着した吸着剤を所定の脱着温度
   に加熱して該吸着剤を再生する脱着部を有する脱着塔を
   備えた排気処理装置において、 前記脱着部には、塔内を落下する吸着剤を加熱するヒー
   タを脱着塔内に直装し、 前記脱着塔のうち、少なくとも前記脱着部の部分を内壁
   と外壁との二重構造とし、内壁と外壁との間に不活性ガ
   スを供給した 排気処理装置。
7. 【請求項７】 請求項６に記載の排気処理装置におい
   て、 前記内壁と外壁に供給する不活性ガスの供給量を制御す
   る制御手段を備えた排気処理装置。
8. 【請求項８】 請求項６又は７に記載の排気処理装置に
   おいて、 前記脱着塔の供給口と、前記再生した吸着剤を排出する
   排出口とに前記脱着塔内を密閉する弁を備えた排気処理
   装置。