JP3257433B2 - Method for producing anisotropic conductive sheet and anisotropic conductive sheet - Google Patents

Method for producing anisotropic conductive sheet and anisotropic conductive sheet

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JP3257433B2
JP3257433B2 JP05015197A JP5015197A JP3257433B2 JP 3257433 B2 JP3257433 B2 JP 3257433B2 JP 05015197 A JP05015197 A JP 05015197A JP 5015197 A JP5015197 A JP 5015197A JP 3257433 B2 JP3257433 B2 JP 3257433B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば電子部品な
どの回路素子相互間の電気的接続やプリント基板の検査
装置におけるコネクターとして好ましく用いられる異方
導電性シートの製造方法および異方導電性シートに関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing an anisotropically conductive sheet which is preferably used as a connector in an electrical connection between circuit elements such as electronic parts and a printed circuit board inspection apparatus, and an anisotropically conductive sheet. <br>.

【0002】[0002]

【従来の技術】異方導電性エラストマーシートは、厚み
方向にのみ導電性を示すもの、または厚み方向に加圧さ
れたときに厚み方向にのみ導電性を示す加圧導電性導電
部を有するものであり、ハンダ付けあるいは機械的嵌合
などの手段を用いずにコンパクトな電気的接続を達成す
ることが可能であること、機械的な衝撃やひずみを吸収
してソフトな接続が可能であることなどの特長を有する
ため、このような特長を利用して、例えば電子計算機、
電子式デジタル時計、電子カメラ、コンピューターキー
ボードなどの分野において、回路素子、例えばプリント
回路基板とリードレスチップキャリアー、液晶パネルな
どとの相互間の電気的な接続を達成するためのコネクタ
ーとして広く用いられている。
2. Description of the Related Art An anisotropic conductive elastomer sheet has conductivity only in the thickness direction, or has a pressurized conductive portion which has conductivity only in the thickness direction when pressed in the thickness direction. And it is possible to achieve a compact electrical connection without using means such as soldering or mechanical fitting, and it is possible to absorb mechanical shocks and strains and make a soft connection Because of these features, using such features, for example, computers,
In the fields of electronic digital watches, electronic cameras, computer keyboards, etc., it is widely used as a connector for achieving an electrical connection between circuit elements, for example, a printed circuit board and a leadless chip carrier, a liquid crystal panel, etc. ing.

【0003】また、プリント基板などの回路基板の電気
的検査においては、検査対象である回路基板の一面に形
成された被検査電極と、検査用回路基板の表面に形成さ
れた接続用電極との電気的な接続を達成するために、回
路基板の被検査電極領域と検査用回路基板の接続用電極
領域との間に異方導電性エラストマーシートを介在させ
ることが行われている。
In electrical inspection of a circuit board such as a printed board, an electrode to be inspected formed on one surface of a circuit board to be inspected and a connection electrode formed on the surface of the inspection circuit board are electrically connected. In order to achieve electrical connection, an anisotropic conductive elastomer sheet is interposed between an electrode area to be inspected on a circuit board and a connection electrode area on a circuit board for inspection.

【0004】従来、このような異方導電性エラストマー
シートとしては、種々の構造のものが知られており、例
えば特開昭51−93393号公報等には、金属粒子を
エラストマー中に均一に分散して得られる異方導電性エ
ラストマーシート(以下、これを「分散型異方導電性エ
ラストマーシート」という。)が開示され、また、特開
昭53−147772号公報等には、導電性磁性体粒子
をエラストマー中に不均一に分布させることにより、厚
み方向に伸びる多数の導電路形成部と、これらを相互に
絶縁する絶縁部とが形成されてなる異方導電性エラスト
マーシート(以下、これを「偏在型異方導電性エラスト
マーシート」という。)が開示され、更に、特開昭61
−250906号公報等には、導電路形成部の表面と絶
縁部との間に段差が形成された偏在型異方導電性エラス
トマーシートが開示されている。
Conventionally, as such an anisotropic conductive elastomer sheet, those having various structures are known. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 51-93393 discloses that metal particles are uniformly dispersed in an elastomer. Anisotropic conductive elastomer sheet (hereinafter referred to as “dispersion type anisotropic conductive elastomer sheet”) obtained by the method described in JP-A-53-147772 is disclosed. By distributing the particles non-uniformly in the elastomer, an anisotropic conductive elastomer sheet (hereinafter, referred to as an electrically conductive elastomer sheet) in which a number of conductive path forming portions extending in the thickness direction and insulating portions that insulate them from each other are formed. "Eccentrically distributed anisotropic conductive elastomer sheet") is disclosed.
Japanese Unexamined Patent Publication No. 250906/2005 discloses an unevenly distributed anisotropic conductive elastomer sheet in which a step is formed between the surface of a conductive path forming portion and an insulating portion.

【0005】そして、偏在型異方導電性エラストマーシ
ートは、回路基板等の電極パターンと対掌のパターンに
従って導電路形成部が形成されているため、分散型異方
導電性エラストマーシートに比較して、接続すべき電極
が小さいピッチで配置されている回路基板などに対して
も電極間の電気的接続を高い信頼性で達成することがで
きる点で、有利である。
[0005] The unevenly distributed anisotropic conductive elastomer sheet has a conductive path forming portion formed in accordance with a pattern opposite to an electrode pattern of a circuit board or the like. This is advantageous in that electrical connection between the electrodes can be achieved with high reliability even on a circuit board or the like on which electrodes to be connected are arranged at a small pitch.

【0006】しかしながら、従来の偏在型異方導電性エ
ラストマーシートは、以下のような問題があることが判
明した。従来、偏在型異方導電性エラストマーシート
は、例えば、次のようにして製造される。図14に示す
ように、例えば検査対象である回路基板の被検査電極と
同一のパターンに従って強磁性体部分81が配置される
と共に、当該強磁性体部分81以外の部分に非磁性体部
分82が配置されてなる一方の型(以下、「上型」とい
う。)80と、検査対象である回路基板の被検査電極と
対掌のパターンに従って強磁性体部分86が配置される
と共に、当該強磁性体部分86以外の部分に非磁性体部
分87が配置されてなる他方の型(以下、「下型」とい
う。)85とを用い、上型80と下型85との間に、硬
化されて弾性高分子物質となる高分子物質形成材料中に
導電性磁性体粒子が分散されてなる異方導電性エラスト
マー形成材料層90Aを形成する。
[0006] However, it has been found that the conventional unevenly distributed anisotropic conductive elastomer sheet has the following problems. Conventionally, an unevenly distributed anisotropic conductive elastomer sheet is manufactured, for example, as follows. As shown in FIG. 14, for example, a ferromagnetic material portion 81 is arranged according to the same pattern as an electrode to be inspected on a circuit board to be inspected, and a non-magnetic material portion 82 is provided in a portion other than the ferromagnetic material portion 81. The ferromagnetic portion 86 is arranged in accordance with a pattern 80 (hereinafter, referred to as an “upper mold”) and a pattern opposite to an electrode to be inspected of a circuit board to be inspected. The other mold (hereinafter referred to as “lower mold”) 85 in which the non-magnetic material part 87 is disposed in a part other than the body part 86, is cured between the upper mold 80 and the lower mold 85. An anisotropic conductive elastomer-forming material layer 90A is formed by dispersing conductive magnetic particles in a polymer-forming material to be an elastic polymer material.

【0007】次いで、図15に示すように、上型80の
上面および下型85の下面に一対の電磁石83,88を
配置して当該電磁石83,88を作動させることによ
り、上型80の強磁性体部分81からこれに対応する下
型85の強磁性体部分86に向かう方向に平行磁場を作
用させる。その結果、異方導電性エラストマー形成材料
層90Aにおいては、当該異方導電性エラストマー形成
材料層90A中に分散されていた導電性磁性体粒子が、
上型80の強磁性体部分81と下型85の強磁性体部分
86との間に位置する部分に集合し、更に厚み方向に並
ぶよう配向する。そして、この状態で、異方導電性エラ
ストマー形成材料層90Aに対して例えば加熱による硬
化処理を行うことにより、図16に示すように、厚み方
向に伸びる多数の導電路形成部91と、これらを相互に
絶縁する絶縁部92とが形成されてなる偏在型異方導電
性エラストマーシート90が製造される。
Next, as shown in FIG. 15, a pair of electromagnets 83 and 88 are arranged on the upper surface of the upper die 80 and the lower surface of the lower die 85, and the electromagnets 83 and 88 are actuated. A parallel magnetic field is applied in a direction from the magnetic part 81 to the corresponding ferromagnetic part 86 of the lower die 85. As a result, in the anisotropic conductive elastomer-forming material layer 90A, the conductive magnetic particles dispersed in the anisotropic conductive elastomer-forming material layer 90A are:
It gathers at a portion located between the ferromagnetic portion 81 of the upper die 80 and the ferromagnetic portion 86 of the lower die 85, and is oriented so as to be aligned in the thickness direction. Then, in this state, the anisotropic conductive elastomer forming material layer 90A is subjected to, for example, a curing treatment by heating to form a plurality of conductive path forming portions 91 extending in the thickness direction, as shown in FIG. The unevenly distributed anisotropic conductive elastomer sheet 90 having the insulating portions 92 insulated from each other is manufactured.

【0008】而して、極めて小さいピッチ例えば100
μm以下のピッチで被検査電極が配置された検査対象回
路基板に対応する偏在型異方導電性エラストマーシート
を例えば300μmの厚さで製造する場合には、当然の
ことながら強磁性体部分81,86が極めて小さいピッ
チで配置された上型80および下型85を用いることが
必要である。然るに、このような上型80および下型8
5を用い、上述のようにして例えば厚みが300μmの
偏在型異方導電性エラストマーシートを製造する場合に
は、図17に示すように、上型80および下型85の各
々において、或る強磁性体部分81a,86aとこれに
隣接する強磁性体部分81b,86bとの離間距離が小
さく、しかも、上型80および下型85の間隔が大きい
ために、上型80の強磁性体部分81aからこれに対応
する下型85の強磁性体部分86aに向かう方向(矢印
Xで示す)のみならず、例えば上型80の強磁性体部分
81aからこれに対応する下型85の強磁性体部分86
aに隣接する強磁性体部分86bに向かう方向(矢印Y
で示す)にも磁場が作用することとなる。そのため、異
方導電性エラストマー形成材料層90Aにおいて、導電
性磁性体粒子を、上型80の強磁性体部分81aとこれ
に対応する下型85の強磁性体部分86aとの間に位置
する部分に集合させることが困難となり、上型80の強
磁性体部分81aと下型85の強磁性体部分86bとの
間に位置する部分にも導電性磁性体粒子が集合してしま
い、その結果、所期の偏在型異方導電性エラストマーシ
ートが得られない。
Therefore, a very small pitch, for example, 100
When manufacturing an unevenly distributed anisotropic conductive elastomer sheet having a thickness of, for example, 300 μm corresponding to a circuit board to be inspected on which electrodes to be inspected are arranged at a pitch of μm or less, the ferromagnetic portions 81, It is necessary to use the upper die 80 and the lower die 85 in which the 86s are arranged at an extremely small pitch. However, such an upper die 80 and a lower die 8
In the case of manufacturing an unevenly distributed anisotropic conductive elastomer sheet having a thickness of, for example, 300 μm as described above, using each of the upper mold 80 and the lower mold 85 as shown in FIG. Since the distance between the magnetic portions 81a and 86a and the ferromagnetic portions 81b and 86b adjacent thereto is small and the distance between the upper die 80 and the lower die 85 is large, the ferromagnetic portion 81a of the upper die 80 is large. From the ferromagnetic material portion 86a of the lower die 85 to the corresponding ferromagnetic material portion 86a of the lower die 85 (indicated by an arrow X). 86
a toward the ferromagnetic portion 86b adjacent to the
(Shown by). Therefore, in the anisotropic conductive elastomer-forming material layer 90A, the conductive magnetic particles are transferred between the ferromagnetic portion 81a of the upper die 80 and the corresponding ferromagnetic portion 86a of the lower die 85. And the conductive magnetic particles also aggregate in a portion located between the ferromagnetic portion 81a of the upper die 80 and the ferromagnetic portion 86b of the lower die 85. As a result, The desired unevenly distributed anisotropic conductive elastomer sheet cannot be obtained.

【0009】また、従来の異方導電性エラストマーシー
トにおいては、下記のような問題がある。異方導電性エ
ラストマーシートを構成する弾性高分子物質としては、
一般に、シリコーンゴムが用いられているが、このシリ
コーンゴム中には、低分子量のもの(オイル状のもの)
が含有されている。そして、このような異方導電性エラ
ストマーシートを例えば回路基板の検査に長時間使用す
ると、異方導電性エラストマーシートの表面に低分子量
のシリコーンがブリードアウトし、これにより、検査対
象である回路基板およびその被検査電極の表面が汚染さ
れる。その結果、当該回路基板を実装する際に、ボンデ
ィングを行うことができなかったり、電気的接続を達成
することができなかったりする、という問題が生ずる。
Further, the conventional anisotropic conductive elastomer sheet has the following problems. As the elastic polymer material constituting the anisotropic conductive elastomer sheet,
Generally, silicone rubber is used, and among these silicone rubbers, those having a low molecular weight (oil-like) are used.
Is contained. When such an anisotropically conductive elastomer sheet is used for a long time, for example, for inspecting a circuit board, low-molecular-weight silicone bleeds out on the surface of the anisotropically conductive elastomer sheet. And the surface of the electrode to be inspected is contaminated. As a result, when mounting the circuit board, there arises a problem that bonding cannot be performed or electrical connection cannot be achieved.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に基づいてなされたものであり、その目的は、
続すべき電極の配置ピッチが極めて小さく、しかも、当
該シートの厚みが大きいものであるときにも、所要の電
気的接続を確実に達成することのできる異方導電性シー
を有利に製造することができる方法、並びにこの製造
方法による異方導電性シートを提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to arrange electrodes to be connected at a very small pitch and to increase the thickness of the sheet. And a method for advantageously producing an anisotropically conductive sheet capable of reliably achieving a required electrical connection even when such a sheet is provided.
An object of the present invention is to provide an anisotropic conductive sheet by the method.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の異方導電性シー
の製造方法は、絶縁性シート体の一面に絶縁性樹脂層
および金属薄層がこの順で積層されてなる積層体に対
し、絶縁性シート体および絶縁性樹脂層を貫通すると共
に金属薄層を貫通しない穴部を形成することにより、多
数の貫通孔が形成された絶縁性シート体と、この絶縁性
シート体の一面を覆うよう設けられた絶縁性樹脂層と、
この絶縁性樹脂層の表面に設けられた金属薄層とからな
る複合体を作製する第1工程と、 複合体における絶縁性
シート体の他面に、硬化されて弾性高分子物質となる高
分子物質形成材料中に導電性粒子が分散されてなる流動
性の導電路素子用材料を塗布することにより、複合体の
貫通孔の各々の内部に導電路素子用材料を充填し、これ
により、貫通孔の各々に導電路素子用材料層を形成する
第2工程と、 導電路素子用材料層の厚み方向に平行磁場
を作用させて導電性粒子を当該導電路素子用材料層の厚
み方向に配向させると共に、導電路素子用材料層を硬化
処理することにより、貫通孔内に導電路素子を形成する
第3工程とが行われることを特徴とする。
According to the method of manufacturing an anisotropic conductive sheet of the present invention , an insulating resin layer is provided on one surface of an insulating sheet body.
And a laminated body in which thin metal layers are laminated in this order.
When penetrating the insulating sheet and the insulating resin layer,
By forming holes that do not penetrate the thin metal layer
Insulating sheet body with a number of through holes
An insulating resin layer provided to cover one surface of the sheet body,
It consists of a thin metal layer provided on the surface of this insulating resin layer.
First step of producing a composite, and insulating properties of the composite
On the other side of the sheet, a high
Flow of conductive particles dispersed in molecular substance forming material
By applying a conductive path element material, the composite
Each of the through holes is filled with a conductive path element material,
To form a conductive path element material layer in each of the through holes.
The second step and a magnetic field parallel to the thickness direction of the conductive path element material layer
To make the conductive particles have a thickness of the conductive layer element material layer.
And harden the conductive layer material layer
Process to form conductive path elements in through holes
The third step is performed.

【0012】以上において、第2工程は、減圧された雰
囲気下において、絶縁性シート体の一面側における貫通
孔の各々の開口が金属薄層によって密閉された状態で、
当該絶縁性シート体の他面に導電路素子用材料を塗布
し、その後、雰囲気圧を上昇させることにより、当該絶
縁性シート体の貫通孔の各々に当該貫通孔内に充填され
た状態の導電路素子用材料層を形成することにより、行
われてもよい。
In the above, the second step is performed in a reduced pressure atmosphere.
Under air, through the insulating sheet on one side
With each opening of the hole sealed by a thin metal layer,
Apply conductive path element material to the other surface of the insulating sheet
Then, by raising the atmospheric pressure,
Each of the through holes of the edge sheet is filled in the through hole.
By forming the conductive layer element material layer in the
May be.

【0013】第3工程の後、金属薄層における導電路素
子が位置する個所以外の部分を除去することが行われて
もよい。
After the third step, the conductive path element in the thin metal layer
Removal of parts other than where the child is located is performed
Is also good.

【0014】本発明の異方導電性シートは、上記の製造
方法によって製造されたものであることを特徴とする。
[0014] The anisotropic conductive sheet of the present invention is manufactured by the method described above.
It is characterized by being manufactured by the method.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。図1は、本発明による異方導電性シ
ートの一例における要部の構成を示す説明用断面図であ
る。この異方導電性シート10においては、特定のパタ
ーンに従って厚み方向に貫通して伸びる多数の貫通孔2
1が形成された絶縁性シート体20が設けられている。
この絶縁性シート体20の貫通孔21における特定のパ
ターンは、接続すべき電極のパターンに対応するパター
ンである。この絶縁性シート体20の貫通孔21の各々
には、導電路素子30が当該貫通孔21内に充填された
状態で当該絶縁性シート体20と一体的に設けられてお
り、導電路素子30の各々は互いに実質的に独立した状
態とされている。図示の例における導電路素子30は、
その上面が絶縁性シート体20の上面から僅かに突出し
た状態に形成されている。
Embodiments of the present invention will be described below in detail. FIG. 1 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of a main part in an example of the anisotropic conductive sheet according to the present invention . In the anisotropic conductive sheet 10, a large number of through holes 2 penetrating and extending in the thickness direction according to a specific pattern.
An insulating sheet body 20 on which the sheet 1 is formed is provided.
The specific pattern in the through-hole 21 of the insulating sheet body 20 is a pattern corresponding to the pattern of the electrode to be connected. In each of the through holes 21 of the insulating sheet body 20, a conductive path element 30 is provided integrally with the insulating sheet body 20 in a state where the conductive path element 30 is filled in the through hole 21. Are substantially independent of each other. The conductive path element 30 in the illustrated example includes:
The upper surface is formed so as to slightly protrude from the upper surface of the insulating sheet body 20.

【0016】また、この例の異方導電性シート10にお
いては、絶縁性シート体20の上面を覆うよう、絶縁性
樹脂層25が設けられており、導電路素子30の上面を
覆うよう、金属層35が設けられている。絶縁性樹脂層
25の厚みは、導電路素子30における絶縁性シート体
20の上面からの突出高さと同等の大きさである。
Further, in the anisotropic conductive sheet 10 of this embodiment, an insulating resin layer 25 is provided so as to cover the upper surface of the insulating sheet body 20, and a metal is formed so as to cover the upper surface of the conductive path element 30. A layer 35 is provided. The thickness of the insulating resin layer 25 is equal to the height of the conductive path element 30 projecting from the upper surface of the insulating sheet body 20.

【0017】絶縁性シート体20は、絶縁性を有する弾
性高分子物質により構成されている。かかる弾性高分子
物質を得るために用いることのできる硬化性の高分子物
質形成材料としては、ポリブタジエンゴム、天然ゴム、
ポリイソプレンゴム、スチレン−ブタジエン共重合体ゴ
ム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ゴムなどの
共役ジエン系ゴムおよびこれらの水素添加物、スチレン
−ブタジエン−ジエンブロック共重合体ゴム、スチレン
−イソプレンブロック共重合体などのブロック共重合体
ゴムおよびこれらの水素添加物、クロロプレン、ウレタ
ンゴム、ポリエステル系ゴム、エピクロルヒドリンゴ
ム、シリコーンゴム、エチレン−プロピレン共重合体ゴ
ム、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体ゴムなどが
挙げられ、得られる異方導電性シートに耐候性が要求さ
れる場合には、共役ジエン系ゴム以外のものを用いるこ
とが好ましい。
The insulating sheet 20 is made of an elastic high-molecular substance having an insulating property. Curable polymer material forming materials that can be used to obtain such an elastic polymer material include polybutadiene rubber, natural rubber,
Conjugated diene rubbers such as polyisoprene rubber, styrene-butadiene copolymer rubber, acrylonitrile-butadiene copolymer rubber and hydrogenated products thereof, styrene-butadiene-diene block copolymer rubber, styrene-isoprene block copolymer Block copolymer rubbers and hydrogenated products thereof, chloroprene, urethane rubber, polyester rubber, epichlorohydrin rubber, silicone rubber, ethylene-propylene copolymer rubber, ethylene-propylene-diene copolymer rubber, and the like. When weather resistance is required for the resulting anisotropic conductive sheet, it is preferable to use a material other than the conjugated diene rubber.

【0018】図2に示すように、導電路素子30は、弾
性高分子物質E中に導電性粒子Pが含有されて構成さ
れ、好ましくは弾性高分子物質E中に導電性粒子Pが厚
み方向に並んだ状態に配向されており、この導電性粒子
Pにより、当該導電路素子30の厚み方向に導電路が形
成される。この導電路素子30は、厚み方向に加圧され
て圧縮されたときに抵抗値が減少して導電路が形成され
る、加圧導電路素子とすることもできる。また、導電路
素子30の導電路は、導電路素子30の厚み方向と垂直
な断面において、その全領域にわたって形成されてもよ
く、その一部の領域例えば中央領域のみに形成されても
よい。
As shown in FIG. 2, the conductive path element 30 is formed by containing conductive particles P in an elastic polymer material E, and preferably, the conductive particles P are contained in the elastic polymer material E in the thickness direction. The conductive particles P form a conductive path in the thickness direction of the conductive path element 30. The conductive path element 30 may be a pressurized conductive path element in which a conductive path is formed by reducing the resistance value when compressed and compressed in the thickness direction. Further, the conductive path of the conductive path element 30 may be formed over the entire area thereof in a cross section perpendicular to the thickness direction of the conductive path element 30, or may be formed only in a part of the area, for example, only the central area.

【0019】導電路素子30は、硬化されて弾性高分子
物質となる高分子物質形成材料中に導電性粒子が分散さ
れてなる流動性の導電路素子用材料が硬化処理されるこ
とにより形成される。導電路素子用材料に用いられる高
分子物質形成材料としては、種々のものを用いることが
でき、その具体例としては、ポリブタジエンゴム、天然
ゴム、ポリイソプレンゴム、スチレン−ブタジエン共重
合体ゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ゴム
などの共役ジエン系ゴムおよびこれらの水素添加物、ス
チレン−ブタジエン−ジエンブロック共重合体ゴム、ス
チレン−イソプレンブロック共重合体などのブロック共
重合体ゴムおよびこれらの水素添加物、クロロプレン、
ウレタンゴム、ポリエステル系ゴム、エピクロルヒドリ
ンゴム、シリコーンゴム、エチレン−プロピレン共重合
体ゴム、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体ゴムな
どが挙げられる。以上において、得られる異方導電性シ
ートに耐候性が要求される場合には、共役ジエン系ゴム
以外のものを用いることが好ましく、特に、成形加工性
および電気特性の観点から、シリコーンゴムを用いるこ
とが好ましい。
The conductive path element 30 is formed by subjecting a fluid conductive path element material obtained by dispersing conductive particles in a polymer material forming material to be cured into an elastic polymer substance to a hardening treatment. You. Various materials can be used as the polymer substance forming material used for the conductive path element material. Specific examples thereof include polybutadiene rubber, natural rubber, polyisoprene rubber, styrene-butadiene copolymer rubber, and acrylonitrile. -Conjugated diene rubbers such as butadiene copolymer rubber and hydrogenated products thereof, styrene-butadiene-diene block copolymer rubber, block copolymer rubbers such as styrene-isoprene block copolymer and hydrogenated products thereof , Chloroprene,
Examples include urethane rubber, polyester rubber, epichlorohydrin rubber, silicone rubber, ethylene-propylene copolymer rubber, and ethylene-propylene-diene copolymer rubber. In the above, when weather resistance is required for the obtained anisotropic conductive sheet, it is preferable to use a material other than the conjugated diene rubber, and particularly, from the viewpoint of moldability and electrical characteristics, use of silicone rubber Is preferred.

【0020】シリコーンゴムとしては、液状シリコーン
ゴムを架橋または縮合したものが好ましい。液状シリコ
ーンゴムは、その粘度が歪速度10-1secで105
アズ以下のものが好ましく、縮合型のもの、付加型のも
の、ビニル基やヒドロキシル基を含有するものなどのい
ずれであってもよい。具体的には、ジメチルシリコーン
生ゴム、メチルビニルシリコーン生ゴム、メチルフェニ
ルビニルシリコーン生ゴムなどを挙げることができる。
The silicone rubber is preferably one obtained by crosslinking or condensing a liquid silicone rubber. The liquid silicone rubber preferably has a viscosity of 10 5 poise or less at a strain rate of 10 −1 sec, and may be any of condensation type, addition type, and those containing a vinyl group or a hydroxyl group. Good. Specifically, dimethylsilicone raw rubber, methylvinylsilicone raw rubber, methylphenylvinylsilicone raw rubber and the like can be mentioned.

【0021】これらの中で、ビニル基を含有する液状シ
リコーンゴム(ビニル基含有ポリジメチルシロキサン)
は、通常、ジメチルジクロロシランまたはジメチルジア
ルコキシシランを、ジメチルビニルクロロシランまたは
ジメチルビニルアルコキシシランの存在下において、加
水分解および縮合反応させ、例えば引続き溶解−沈殿の
繰り返しによる分別を行うことにより得られる。また、
ビニル基を両末端に含有する液状シリコーンゴムは、オ
クタメチルシクロテトラシロキサンのような環状シロキ
サンを触媒の存在下においてアニオン重合し、重合停止
剤として例えばジメチルジビニルシロキサンを用い、そ
の他の反応条件(例えば、環状シロキサンの量および重
合停止剤の量)を適宜選択することにより得られる。こ
こで、アニオン重合の触媒としては、水酸化テトラメチ
ルアンモニウムおよび水酸化n−ブチルホスホニウムな
どのアルカリまたはこれらのシラノレート溶液などを用
いることができ、反応温度は、例えば80〜130℃で
ある。このようなビニル基含有ポリジメチルシロキサン
は、その分子量Mw(標準ポリスチレン換算重量平均分
子量をいう。以下同じ。)が10000〜40000の
ものであることが好ましい。また、得られる導電路素子
の耐熱性の観点から、分子量分布指数(標準ポリスチレ
ン換算重量平均分子量Mwと標準ポリスチレン換算数平
均分子量Mnとの比Mw/Mnの値をいう。以下同
じ。)が2.0以下のものが好ましい。
Among them, liquid group-containing silicone rubber (vinyl group-containing polydimethylsiloxane)
Is usually obtained by subjecting dimethyldichlorosilane or dimethyldialkoxysilane to hydrolysis and condensation reaction in the presence of dimethylvinylchlorosilane or dimethylvinylalkoxysilane, for example, followed by fractionation by repeated dissolution-precipitation. Also,
The liquid silicone rubber containing vinyl groups at both ends is anionically polymerized with a cyclic siloxane such as octamethylcyclotetrasiloxane in the presence of a catalyst, and uses, for example, dimethyldivinylsiloxane as a polymerization terminator and other reaction conditions (for example, , The amount of the cyclic siloxane and the amount of the polymerization terminator). Here, as a catalyst for anionic polymerization, alkali such as tetramethylammonium hydroxide and n-butylphosphonium hydroxide or a silanolate solution thereof can be used. The reaction temperature is, for example, 80 to 130 ° C. Such a vinyl group-containing polydimethylsiloxane preferably has a molecular weight Mw (weight average molecular weight in terms of standard polystyrene; the same applies hereinafter) of 10,000 to 40,000. In addition, from the viewpoint of heat resistance of the obtained conductive path element, the molecular weight distribution index (the value of the ratio Mw / Mn between the standard polystyrene-equivalent weight average molecular weight Mw and the standard polystyrene-equivalent number average molecular weight Mn; the same applies hereinafter) is 2. 0.0 or less is preferable.

【0022】一方、ヒドロキシル基を含有する液状シリ
コーンゴム(ヒドロキシル基含有ポリジメチルシロキサ
ン)は、通常、ジメチルジクロロシランまたはジメチル
ジアルコキシシランを、ジメチルヒドロクロロシランま
たはジメチルヒドロアルコキシシランの存在下におい
て、加水分解および縮合反応させ、例えば引続き溶解−
沈殿の繰り返しによる分別を行うことにより得られる。
また、環状シロキサンを触媒の存在下においてアニオン
重合し、重合停止剤として、例えばジメチルヒドロクロ
ロシラン、メチルジヒドロクロロシランまたはジメチル
ヒドロアルコキシシランなどを用い、その他の反応条件
(例えば、環状シロキサンの量および重合停止剤の量)
を適宜選択することによっても得られる。ここで、アニ
オン重合の触媒としては、水酸化テトラメチルアンモニ
ウムおよび水酸化n−ブチルホスホニウムなどのアルカ
リまたはこれらのシラノレート溶液などを用いることが
でき、反応温度は、例えば80〜130℃である。この
ようなヒドロキシル基含有ポリジメチルシロキサンは、
その分子量Mwが10000〜40000のものである
ことが好ましい。また、得られる導電路素子の耐熱性の
観点から、分子量分布指数が2.0以下のものが好まし
い。本発明においては、上記のビニル基含有ポリジメチ
ルシロキサンおよびヒドロキシル基含有ポリジメチルシ
ロキサンのいずれか一方を用いることもでき、両者を併
用することもできる。
On the other hand, a liquid silicone rubber containing hydroxyl groups (hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane) is usually prepared by hydrolyzing dimethyldichlorosilane or dimethyldialkoxysilane in the presence of dimethylhydrochlorosilane or dimethylhydroalkoxysilane. And condensation reaction, for example,
It is obtained by performing fractionation by repeating precipitation.
Further, cyclic siloxane is anionically polymerized in the presence of a catalyst, and dimethylhydrochlorosilane, methyldihydrochlorosilane or dimethylhydroalkoxysilane is used as a polymerization terminator, and other reaction conditions (for example, the amount of the cyclic siloxane and the polymerization termination) are used. Amount of agent)
Can also be obtained by appropriately selecting Here, as a catalyst for anionic polymerization, alkali such as tetramethylammonium hydroxide and n-butylphosphonium hydroxide or a silanolate solution thereof can be used. The reaction temperature is, for example, 80 to 130 ° C. Such hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane is,
It is preferable that the molecular weight Mw is 10,000 to 40,000. Further, from the viewpoint of heat resistance of the obtained conductive path element, those having a molecular weight distribution index of 2.0 or less are preferable. In the present invention, either one of the above-mentioned vinyl group-containing polydimethylsiloxane and hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane can be used, or both can be used in combination.

【0023】導電路素子用材料中には、上記のような高
分子物質形成材料を硬化させるための硬化触媒を含有さ
せることができる。このような硬化触媒としては、有機
過酸化物、脂肪酸アゾ化合物、ヒドロシリル化触媒など
を用いることができる。 硬化触媒として用いられる有
機過酸化物の具体例としては、過酸化ベンゾイル、過酸
化ビスジシクロベンゾイル、過酸化ジクミル、過酸化ジ
ターシャリーブチルなどが挙げられる。硬化触媒として
用いられる脂肪酸アゾ化合物の具体例としては、アゾビ
スイソブチロニトリルなどが挙げられる。ヒドロシリル
化反応の触媒として使用し得るものの具体例としては、
塩化白金酸およびその塩、白金−不飽和基含有シロキサ
ンコンプレックス、ビニルシロキサンと白金とのコンプ
レックス、白金と1,3−ジビニルテトラメチルジシロ
キサンとのコンプレックス、トリオルガノホスフィンあ
るいはホスファイトと白金とのコンプレックス、アセチ
ルアセテート白金キレート、環状ジエンと白金とのコン
プレックスなどの公知のものが挙げられる。硬化触媒の
使用量は、高分子物質形成材料の種類、硬化触媒の種
類、その他の硬化処理条件を考慮して適宜選択される
が、通常、高分子物質形成材料100重量部に対して3
〜15重量部である。
The material for the conductive path element may contain a curing catalyst for curing the above-mentioned polymer material forming material. As such a curing catalyst, an organic peroxide, a fatty acid azo compound, a hydrosilylation catalyst, or the like can be used. Specific examples of the organic peroxide used as the curing catalyst include benzoyl peroxide, bisdicyclobenzoyl peroxide, dicumyl peroxide, and ditertiary butyl peroxide. Specific examples of the fatty acid azo compound used as a curing catalyst include azobisisobutyronitrile. Specific examples of those that can be used as a catalyst for the hydrosilylation reaction include:
Chloroplatinic acid and its salts, siloxane complex containing platinum-unsaturated group, complex of vinylsiloxane and platinum, complex of platinum and 1,3-divinyltetramethyldisiloxane, complex of triorganophosphine or phosphite and platinum And acetylacetate platinum chelate, and a complex of a cyclic diene and platinum. The amount of the curing catalyst to be used is appropriately selected in consideration of the type of the polymer substance forming material, the type of the curing catalyst, and other curing treatment conditions.
1515 parts by weight.

【0024】導電路素子用材料に用いられる導電性粒子
としては、後述する方法により当該粒子を容易に配向さ
せることができる観点から、導電性磁性体粒子を用いる
ことが好ましい。この導電性磁性体粒子の具体例として
は、鉄、コバルトなどの磁性を示す金属の粒子若しくは
これらの合金の粒子またはこれらの金属を含有する粒
子、またはこれらの粒子を芯粒子とし、当該芯粒子の表
面に金、銀、パラジウム、ロジウムなどの導電性の良好
な金属のメッキを施したもの、あるいは非磁性金属粒子
若しくはガラスビーズなどの無機物質粒子またはポリマ
ー粒子を芯粒子とし、当該芯粒子の表面に、ニッケル、
コバルトなどの導電性磁性体のメッキを施したもの、あ
るいは芯粒子に、導電性磁性体および導電性の良好な金
属の両方を被覆したものなどが挙げられる。これらの中
では、ニッケル粒子を芯粒子とし、その表面に金や銀な
どの導電性の良好な金属のメッキを施したものを用いる
ことが好ましく、特に、金および銀の両方が被覆されて
いるものが好ましい。芯粒子の表面に導電性金属を被覆
する手段としては、特に限定されるものではないが、例
えば化学メッキまたは無電解メッキにより行うことがで
きる。
As the conductive particles used for the material for the conductive path element, it is preferable to use conductive magnetic particles from the viewpoint that the particles can be easily oriented by a method described later. Specific examples of the conductive magnetic particles include particles of a metal exhibiting magnetism such as iron and cobalt, particles of an alloy thereof, or particles containing these metals, or particles containing these metals as core particles. The surface of gold, silver, palladium, plated with a metal with good conductivity such as rhodium, or inorganic particles or polymer particles such as non-magnetic metal particles or glass beads as core particles, the core particles Nickel on the surface,
Examples thereof include those obtained by plating a conductive magnetic material such as cobalt, and those obtained by coating core particles with both a conductive magnetic material and a metal having good conductivity. Among them, it is preferable to use nickel particles as core particles, and to use a surface thereof plated with a metal having good conductivity such as gold or silver, and particularly, both gold and silver are coated. Are preferred. Means for coating the surface of the core particles with a conductive metal is not particularly limited, but may be, for example, chemical plating or electroless plating.

【0025】導電性粒子として、芯粒子の表面に導電性
金属が被覆されてなるものを用いる場合には、良好な導
電性が得られる観点から、粒子表面における導電性金属
の被覆率(芯粒子の表面積に対する導電性金属の被覆面
積の割合)が40%以上であることが好ましく、さらに
好ましくは45%以上、特に好ましくは47〜95%で
ある。また、導電性金属の被覆量は、芯粒子の2.5〜
50重量%であることが好ましく、より好ましくは3〜
30重量%、さらに好ましくは3.5〜25重量%、特
に好ましくは4〜20重量%である。被覆される導電性
金属が金である場合には、その被覆量は、芯粒子の3〜
30重量%であることが好ましく、より好ましくは3.
5〜15重量%、さらに好ましくは3〜20重量%、特
に好ましくは4.5〜10重量%である。また、被覆さ
れる導電性金属が銀である場合には、その被覆量は、芯
粒子の3〜30重量%であることが好ましく、より好ま
しくは4〜25重量%、さらに好ましくは5〜23重量
%、特に好ましくは6〜20重量%である。更に、被覆
される導電性金属として金と銀の両方を用いる場合に
は、金の被覆量は、芯粒子の0.1〜5重量%であるこ
とが好ましく、より好ましくは0.2〜4重量%、さら
に好ましくは0.5〜3重量%であり、銀の被覆量は、
芯粒子の3〜30重量%であることが好ましく、より好
ましくは4〜25重量%、さらに好ましくは5〜20重
量%である。
When the conductive particles are formed by coating the surface of a core particle with a conductive metal, from the viewpoint of obtaining good conductivity, the coverage of the conductive metal on the particle surface (core particle) Is preferably 40% or more, more preferably 45% or more, and particularly preferably 47 to 95%. Moreover, the coating amount of the conductive metal is 2.5 to
It is preferably 50% by weight, more preferably 3 to
It is 30% by weight, more preferably 3.5 to 25% by weight, particularly preferably 4 to 20% by weight. When the conductive metal to be coated is gold, the coating amount is 3 to
It is preferably 30% by weight, more preferably 3.
It is from 5 to 15% by weight, more preferably from 3 to 20% by weight, particularly preferably from 4.5 to 10% by weight. When the conductive metal to be coated is silver, the coating amount is preferably 3 to 30% by weight of the core particles, more preferably 4 to 25% by weight, and further preferably 5 to 23% by weight. %, Particularly preferably from 6 to 20% by weight. Furthermore, when both gold and silver are used as the conductive metal to be coated, the coating amount of gold is preferably 0.1 to 5% by weight of the core particles, more preferably 0.2 to 4% by weight. % By weight, more preferably 0.5 to 3% by weight.
It is preferably 3 to 30% by weight of the core particles, more preferably 4 to 25% by weight, and still more preferably 5 to 20% by weight.

【0026】また、導電性粒子の粒子径は、1〜100
0μmであることが好ましく、より好ましくは2〜50
0μm、さらに好ましくは5〜300μm、特に好まし
くは10〜200μmである。また、導電性粒子の粒子
径分布(Dw/Dn)は、1〜10であることが好まし
く、より好ましくは1.01〜7、さらに好ましくは
1.05〜5、特に好ましくは1.1〜4である。この
ような条件を満足する導電性粒子を用いることにより、
得られる導電路素子30は、加圧変形が容易なものとな
り、また、当該導電路素子30において導電性粒子間に
十分な電気的接触が得られる。また、導電性粒子の形状
は、特に限定されるものではないが、高分子物質用材料
中に容易に分散させることができる点で、球状のもの、
星形状のものあるいはこれらが凝集した2次粒子による
塊状のものであることが好ましい。
The conductive particles have a particle size of 1 to 100.
0 μm, more preferably 2 to 50 μm.
0 μm, more preferably 5 to 300 μm, particularly preferably 10 to 200 μm. Further, the particle size distribution (Dw / Dn) of the conductive particles is preferably 1 to 10, more preferably 1.01 to 7, further preferably 1.05 to 5, and particularly preferably 1.1 to 1. 4. By using conductive particles that satisfy such conditions,
The resulting conductive path element 30 can be easily deformed under pressure, and sufficient electrical contact between the conductive particles can be obtained in the conductive path element 30. In addition, the shape of the conductive particles is not particularly limited, but in terms of being easily dispersible in the polymer material, a spherical shape,
It is preferable that the particles have a star shape or a lump formed by agglomerated secondary particles.

【0027】また、導電性粒子の含水率は、5%以下で
あることが好ましく、より好ましくは3%以下、さらに
好ましくは2%以下、とくに好ましくは1%以下であ
る。このような条件を満足する導電性粒子を用いること
により、後述する製造方法において、導電路素子用材料
層を硬化処理する際に、当該導電路素子用材料層内に気
泡が生ずることが防止または抑制される。
The water content of the conductive particles is preferably at most 5%, more preferably at most 3%, further preferably at most 2%, particularly preferably at most 1%. By using the conductive particles satisfying such conditions, it is possible to prevent bubbles from being generated in the conductive path element material layer when the conductive path element material layer is cured in the manufacturing method described below or Is suppressed.

【0028】また、導電性粒子の表面がシランカップリ
ング剤などのカップリング剤で処理されたものを適宜用
いることができる。導電性粒子の表面がカップリング剤
で処理されることにより、当該導電性粒子と弾性高分子
物質との接着性が高くなり、その結果、得られる導電路
素子30は、繰り返しの使用における耐久性が高いもの
となる。カップリング剤の使用量は、導電性粒子の導電
性に影響を与えない範囲で適宜選択されるが、導電性粒
子表面におけるカップリング剤の被覆率(導電性芯粒子
の表面積に対するカップリング剤の被覆面積の割合)が
5%以上となる量であることが好ましく、より好ましく
は上記被覆率が7〜100%、さらに好ましくは10〜
100%、特に好ましくは20〜100%となる量であ
る。
Further, a conductive particle whose surface has been treated with a coupling agent such as a silane coupling agent can be used as appropriate. When the surface of the conductive particles is treated with the coupling agent, the adhesiveness between the conductive particles and the elastic polymer material is increased, and as a result, the obtained conductive path element 30 has durability in repeated use. Will be higher. The amount of the coupling agent used is appropriately selected within a range that does not affect the conductivity of the conductive particles. However, the coverage of the coupling agent on the surface of the conductive particles (the ratio of the coupling agent to the surface area of the conductive core particles). (The ratio of the coverage area) is preferably 5% or more, more preferably 7 to 100%, more preferably 10 to 10%.
The amount is 100%, particularly preferably 20 to 100%.

【0029】このような導電性粒子は、高分子物質用材
料に対して体積分率で30〜60%、好ましくは35〜
50%となる割合で用いられることが好ましい。この割
合が30%未満の場合には、十分に電気抵抗値の小さい
導電路素子が得られないことがある。一方、この割合が
60%を超える場合には、得られる導電路素子は脆弱な
ものとなりやすく、導電路素子として必要な弾性が得ら
れないことがある。
Such conductive particles are used in a volume fraction of 30 to 60%, preferably 35 to 60%, based on the polymer material.
It is preferable to use it at a ratio of 50%. When this ratio is less than 30%, a conductive path element having a sufficiently small electric resistance value may not be obtained. On the other hand, when this ratio exceeds 60%, the obtained conductive path element tends to be fragile, and the elasticity required for the conductive path element may not be obtained.

【0030】導電路素子用材料中には、必要に応じて、
通常のシリカ粉、コロイダルシリカ、エアロゲルシリ
カ、ナルミナなどの無機充填材を含有させることができ
る。このような無機充填材を含有させることにより、当
該導電路素子用材料のチクソトロピー性が確保され、そ
の粘度が高くなり、しかも、導電性粒子の分散安定性が
向上すると共に、硬化処理されて得られる導電路素子の
強度が高くなる。このような無機充填材の使用量は、特
に限定されるものではないが、あまり多量に使用する
と、後述する製造方法において、磁場による導電性粒子
の配向を十分に達成することができなくなるため、好ま
しくない。また、導電路素子用材料の粘度は、温度25
℃において100000〜1000000cpの範囲内
であることが好ましい。そして、以上のような導電路素
子用材料が硬化処理されることにより、導電路素子30
が形成される。
In the material for the conductive path element, if necessary,
Inorganic fillers such as ordinary silica powder, colloidal silica, airgel silica, and nalmina can be contained. By including such an inorganic filler, the thixotropic property of the conductive path element material is secured, the viscosity is increased, and the dispersion stability of the conductive particles is improved, and the conductive particles are cured. The strength of the conductive path element to be obtained is increased. The use amount of such an inorganic filler is not particularly limited, but when used in an excessively large amount, in the production method described later, it becomes impossible to sufficiently achieve the orientation of the conductive particles by a magnetic field, Not preferred. Further, the viscosity of the conductive path element material is 25 ° C.
It is preferable that the temperature is in the range of 100,000 to 1,000,000 cp at a temperature of ° C. Then, the above-described material for the conductive path element is subjected to a hardening treatment, whereby the conductive path element 30 is formed.
Is formed.

【0031】絶縁性樹脂層25を構成する樹脂材料とし
ては、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル
樹脂、PET(ポリエチレンテレフタレート)樹脂、P
TFE(ポリテトラフルオロエチレン)樹脂などを用い
ることができる。また、絶縁性樹脂層25の厚みの大き
さは、例えば0.01〜0.2mmであり、好ましくは
0.02〜0.15mmである。
As the resin material constituting the insulating resin layer 25, polyimide resin, polyamide resin, polyester resin, PET (polyethylene terephthalate) resin, P
TFE (polytetrafluoroethylene) resin or the like can be used. The thickness of the insulating resin layer 25 is, for example, 0.01 to 0.2 mm, and preferably 0.02 to 0.15 mm.

【0032】金属層35を構成する金属材料としては、
銅、金、ロジウム、白金、パラジウム、ニッケルまたは
それらのメッキあるいはそれらの合金などを用いること
ができる。また、金属層35の厚みの大きさは、例えば
0.001〜0.2mmであり、好ましくは0.01〜
0.15mmである。
As a metal material constituting the metal layer 35,
Copper, gold, rhodium, platinum, palladium, nickel, their plating, or alloys thereof can be used. The thickness of the metal layer 35 is, for example, 0.001 to 0.2 mm, preferably 0.01 to 0.2 mm.
0.15 mm.

【0033】このような異方導電性シート10は、例え
ば次のようにして回路基板の検査に使用される。回路基
板の検査においては、図3に示すように、被検査回路基
板1の被検査電極2と対掌なパターンに従って配置され
た接続用電極4を表面に有し、接続用電極4に電気的に
接続された、例えばピッチが2.54mm、1.80m
m若しくは1.27mmの格子点配列に従って配置され
た端子電極5を裏面に有する検査用回路基板3が用いら
れる。そして、この検査用回路基板3の表面上に、異方
導電性シート10が、その他面側における導電路素子の
他端が接続用電極4上に位置されるよう配置され、この
異方導電性シート10上に、被検査回路基板1が、その
被検査電極2が当該異方導電性シート10の金属層35
上に位置されるよう配置される。
Such an anisotropic conductive sheet 10 is used for inspection of a circuit board as follows, for example. In the inspection of the circuit board, as shown in FIG. 3, a connection electrode 4 arranged on the surface according to a pattern opposite to the electrode 2 to be inspected of the circuit board 1 to be inspected is provided on the surface. , For example, the pitch is 2.54 mm, 1.80 m
An inspection circuit board 3 having terminal electrodes 5 arranged on the back surface according to a lattice point arrangement of m or 1.27 mm is used. Then, an anisotropic conductive sheet 10 is arranged on the surface of the inspection circuit board 3 such that the other end of the conductive path element on the other surface side is located on the connection electrode 4. On the sheet 10, the circuit board 1 to be inspected and the electrodes 2 to be inspected are the metal layers 35 of the anisotropic conductive sheet 10.
It is arranged so as to be located on the top.

【0034】そして、例えば検査用回路基板3を被検査
回路基板1に接近する方向に移動させることにより、異
方導電性シート10が被検査回路基板1と検査用回路基
板3とにより加圧された状態となり、この加圧力によ
り、異方導電性シート10の導電路素子30にその厚み
方向に伸びる導電路が形成され、その結果、被検査回路
基板1の被検査電極2と検査用回路基板3の接続用電極
4との間の電気的接続が達成され、この状態で所要の検
査が行われる。
Then, for example, by moving the circuit board 3 for inspection in a direction approaching the circuit board 1 to be inspected, the anisotropic conductive sheet 10 is pressed by the circuit board 1 for inspection and the circuit board 3 for inspection. With this pressing force, a conductive path extending in the thickness direction of the conductive path element 30 of the anisotropic conductive sheet 10 is formed. As a result, the test target electrode 2 of the test target circuit board 1 and the test circuit board An electrical connection between the connection electrode 3 and the connection electrode 4 is achieved, and a required inspection is performed in this state.

【0035】上記の構成の異方導電性シート10によれ
ば、絶縁性シート体20に形成された多数の貫通孔21
に導電路素子30が一体的に設けられているので、当該
絶縁性シート体20の貫通孔21のパターンに応じて導
電路素子30の配置パターンが決定される。そして、絶
縁性シート体20の貫通孔21の形成は、そのピッチが
極めて小さくても容易に行うことができる。従って、被
検査基板1の被検査電極2の配置ピッチが極めて小さい
ときにも、絶縁性シート体20に被検査基板1の被検査
電極2の配置パターンに対応するパターンの貫通孔21
を形成することにより、当該被検査基板1の被検査電極
2の配置パターンに対応するパターンに従って導電路素
子30が配置され、しかも、導電路素子30の各々は、
絶縁性シート体20によって互いに絶縁された状態で設
けられているので、配置ピッチが極めて小さい被検査電
極2を有する被検査基板1に対しても、所要の電気的接
続を確実に達成することができる。
According to the anisotropic conductive sheet 10 having the above-described structure, a large number of through holes 21 formed in the insulating sheet body 20 are provided.
Since the conductive path element 30 is provided integrally with the conductive sheet element 30, the arrangement pattern of the conductive path element 30 is determined according to the pattern of the through holes 21 of the insulating sheet member 20. The formation of the through holes 21 in the insulating sheet body 20 can be easily performed even if the pitch is extremely small. Therefore, even when the arrangement pitch of the electrodes 2 to be inspected on the substrate 1 to be inspected is extremely small, the through holes 21 of the pattern corresponding to the arrangement pattern of the electrodes 2 to be inspected of the substrate 1 to be inspected are formed in the insulating sheet 20.
Is formed, the conductive path elements 30 are arranged according to the pattern corresponding to the arrangement pattern of the electrodes 2 to be inspected on the substrate 1 to be inspected, and each of the conductive path elements 30
Since they are provided in a state of being insulated from each other by the insulating sheet member 20, the required electrical connection can be reliably achieved even with respect to the test substrate 1 having the test electrodes 2 whose arrangement pitch is extremely small. it can.

【0036】また、絶縁性シート体20には、被検査基
板1に接触する一面を覆うよう絶縁性樹脂層25が設け
られており、しかも、導電路素子30には、被検査基板
1の被検査電極2に接触する一端面を覆うよう金属層3
5が設けられているので、被検査基板1および被検査電
極2の表面に絶縁性シート体20および導電路素子30
が接触することがなく、その結果、絶縁性シート体20
および導電路素子30を構成する弾性高分子物質中に含
有される低分子量成分により、被検査基板1および被検
査電極2の表面が汚染されることがない。
The insulating sheet body 20 is provided with an insulating resin layer 25 so as to cover one surface in contact with the substrate 1 to be inspected. Metal layer 3 covering one end face contacting test electrode 2
5, the insulating sheet 20 and the conductive path element 30 are provided on the surfaces of the substrate 1 and the electrode 2 to be inspected.
Are not in contact with each other.
In addition, the surface of the substrate 1 and the electrode 2 is not contaminated by the low molecular weight component contained in the elastic polymer material constituting the conductive path element 30.

【0037】次に、本発明の異方導電性シートの製造方
法について説明する。本発明の製造方法においては、
(1)それぞれ厚み方向に伸びる多数の貫通孔が形成さ
れた、弾性高分子物質よりなる絶縁性シート体を作製す
る第1工程と、(2)この絶縁性シート体の一面に、硬
化されて弾性高分子物質となる高分子物質形成材料中に
導電性粒子が分散されてなる流動性の導電路素子用材料
を塗布することにより、当該絶縁性シート体の貫通孔の
各々に当該貫通孔内に充填された状態の導電路素子用材
料層を形成する第2工程と、(3)導電路素子用材料層
の硬化処理を行うことにより、当該絶縁性シート体の貫
通孔内に充填された状態で一体的に設けられた、弾性高
分子物質中に導電性粒子が含有されてなる導電路素子を
形成する第3工程とにより、上記のような異方導電性シ
ートを製造することができる。以下、図1に示す構成の
異方導電性シート10を製造する場合について説明す
る。
Next, a method for producing the anisotropic conductive sheet of the present invention will be described. In the production method of the present invention,
(1) a first step of forming an insulating sheet body made of an elastic polymer material, in which a large number of through holes extending in the thickness direction are formed, and (2) one surface of the insulating sheet body which has been cured. By applying a fluid conductive path element material in which conductive particles are dispersed in a polymer substance forming material to be an elastic polymer substance, each of the through holes of the insulating sheet body has a through hole. A second step of forming a conductive path element material layer in a state of being filled in the insulating sheet body, and (3) performing a curing treatment of the conductive path element material layer to fill the through holes of the insulating sheet body. The anisotropic conductive sheet as described above can be manufactured by the third step of forming the conductive path element in which the conductive particles are contained in the elastic polymer material provided integrally in the state. . Hereinafter, a case where the anisotropic conductive sheet 10 having the configuration shown in FIG. 1 is manufactured will be described.

【0038】〔第1工程〕この第1工程は、図4〜図6
に示すように、それぞれ厚み方向に伸びる多数の貫通孔
21が形成された、弾性高分子物質よりなる絶縁性シー
ト体20と、この絶縁性シート体20の一面を覆うよう
設けられた絶縁性樹脂層25と、この絶縁性樹脂層25
の表面に設けられた、金属層形成材層である金属薄層3
5Aとからなる複合体40を作製する工程である。具体
的には、図4に示すように、一面に金属薄層35を有す
る絶縁性樹脂フィルム25Aを用意し、この絶縁性樹脂
フィルム25Aにおける金属薄層35が形成されていな
い他面に、図5に示すように、弾性高分子物質よりなる
絶縁性シート体20を一体的に設けることにより、絶縁
性シート体20の一面に絶縁性樹脂層25および金属薄
層35Aがこの順で積層されてなる積層体40Aが得ら
れる。
[First Step] This first step is described in FIGS.
As shown in FIG. 5, an insulating sheet body 20 made of an elastic polymer material and having a plurality of through holes 21 extending in the thickness direction, and an insulating resin provided to cover one surface of the insulating sheet body 20. Layer 25 and the insulating resin layer 25
Metal layer 3 which is a metal layer forming material layer provided on the surface of
This is a step of producing a composite 40 composed of 5A. Specifically, as shown in FIG. 4, an insulating resin film 25A having a thin metal layer 35 on one surface is prepared, and the other surface of the insulating resin film 25A on which the thin metal layer 35 is not formed is illustrated. As shown in FIG. 5, by integrally providing the insulating sheet body 20 made of an elastic polymer material, the insulating resin layer 25 and the thin metal layer 35A are laminated on one surface of the insulating sheet body 20 in this order. A laminated body 40A is obtained.

【0039】そして、この積層体40Aに対し、穴加工
を行うことにより、図6に示すように、絶縁性シート体
20および絶縁性樹脂層25を貫通すると共に金属薄層
35Aを貫通しない穴部41を形成し、これにより、多
数の貫通孔21が形成された絶縁性シート体20と、こ
の絶縁性シート体20の一面を覆うよう設けられた絶縁
性樹脂層25と、この絶縁性樹脂層25の表面に設けら
れた金属薄層35Aとからなる複合体40が得られる。
この複合体40においては、絶縁性シート体20の一面
側における貫通孔21の開口の各々が、絶縁性樹脂層2
5を介して金属薄層35Aにより密閉された状態であ
る。
Then, by forming a hole in the laminate 40A, as shown in FIG. 6, a hole penetrating the insulating sheet body 20 and the insulating resin layer 25 and not penetrating the thin metal layer 35A is formed. 41, thereby forming an insulating sheet body 20 having a large number of through holes 21, an insulating resin layer 25 provided to cover one surface of the insulating sheet body 20, and an insulating resin layer Thus, a composite 40 including the thin metal layer 35A provided on the surface of the substrate 25 is obtained.
In the composite 40, each of the openings of the through hole 21 on one surface side of the insulating sheet body 20 is formed by the insulating resin layer 2.
5 is closed by a thin metal layer 35A through the metal layer 5.

【0040】以上の第1工程において、絶縁性樹脂フィ
ルム25A上に絶縁性シート体20を一体的に設ける手
段としては、絶縁性樹脂フィルム25A上に、硬化され
て弾性高分子物質となる高分子物質形成材料を塗布して
硬化させる手段、絶縁性樹脂フィルム25Aと絶縁性シ
ート体20と加熱圧着させる手段などを利用することが
できる。また、積層体40Aの穴加工を行うための手段
としては、レーザー加工による手段、ドライエッチング
による手段などを利用することができる。
In the first step described above, the means for integrally providing the insulating sheet body 20 on the insulating resin film 25A includes a polymer which is cured and becomes an elastic polymer substance on the insulating resin film 25A. Means for applying and curing the material forming material, means for applying heat and pressure to the insulating resin film 25A and the insulating sheet body 20, and the like can be used. In addition, as a means for forming a hole in the laminated body 40A, a means by laser processing, a means by dry etching, or the like can be used.

【0041】〔第2工程〕この第2工程は、図7および
図8に示すように、絶縁性シート体20の貫通孔21を
含む複合体40の穴部41に当該穴部41内に充填され
た状態の導電路素子用材料層30Aを形成する工程であ
る。具体的には、図7に示すように、複合体40におけ
る絶縁性シート体20の他面に、前述の導電路素子用材
料を塗布することにより、複合体40の穴部41の各々
の内部に導電路素子用材料を充填し、これにより、図8
に示すように、穴部41の各々に導電路素子用材料層3
0Aを形成する。その後、必要に応じて、絶縁性シート
体20の他面に付着した導電路素子用材料をスキージな
どにより除去する。以上において、導電路素子用材料を
塗布する手段としては、スクリーン印刷などの印刷によ
る手段を用いることができる。
[Second Step] In this second step, as shown in FIGS. 7 and 8, the hole 41 of the composite 40 including the through hole 21 of the insulating sheet 20 is filled into the hole 41. This is a step of forming the conductive path element material layer 30A in the completed state. Specifically, as shown in FIG. 7, the above-described material for the conductive path element is applied to the other surface of the insulating sheet body 20 in the composite 40, so that the inside of each of the holes 41 of the composite 40 is Is filled with a material for a conductive path element.
As shown in FIG.
OA is formed. Thereafter, if necessary, the conductive path element material attached to the other surface of the insulating sheet body 20 is removed with a squeegee or the like. In the above description, as a means for applying the conductive path element material, a means by printing such as screen printing can be used.

【0042】また、この第2工程においては、例えば1
×10-3atm以下、好ましくは1×10-4〜1×10
-5atmに減圧された雰囲気下において、複合体40に
おける絶縁性シート体20の他面に導電路素子用材料を
塗布した後、雰囲気圧を上昇させて例えば常圧にするこ
とにより、導電路素子用材料層30Aを形成することが
好ましい。このような方法によれば、雰囲気圧を上昇さ
せることにより、複合体40における穴部41内の圧力
との差により、当該穴部41内に導電路素子用材料を高
密度に充填されるので、導電路素子用材料層30A中に
気泡が生ずることを防止することができる。
In the second step, for example, 1
× 10 −3 atm or less, preferably 1 × 10 −4 to 1 × 10
After applying a conductive path element material to the other surface of the insulating sheet body 20 in the composite 40 under an atmosphere reduced to -5 atm, the atmospheric pressure is increased to, for example, normal pressure, thereby obtaining a conductive path. It is preferable to form the element material layer 30A. According to such a method, the material for the conductive path element is densely filled in the hole 41 due to a difference from the pressure in the hole 41 in the composite 40 by increasing the atmospheric pressure. In addition, it is possible to prevent bubbles from being generated in the conductive path element material layer 30A.

【0043】〔第3工程〕この第3工程は、図9および
図10に示すように、複合体40の穴部41内に充填さ
れた状態の導電路素子用材料層30Aを硬化処理するこ
とにより、当該複合体40における絶縁性シート体20
の貫通孔内に充填された状態で一体的に設けられた導電
路素子30を形成する工程である。具体的には、図9に
示すように、穴部41内に導電路素子用材料層30Aが
形成された複合体40を、一対の電磁石45,46の間
に配置し、この電磁石45,46を作動させることによ
り、導電路素子用材料層30Aの厚み方向に平行磁場が
作用し、その結果、導電路素子用材料層30A中に分散
されていた導電性粒子が当該導電路素子用材料層30A
の厚み方向に配向する。そして、この状態において、導
電路素子用材料層30Aを硬化処理することにより、図
10に示すように、絶縁性シート体20の貫通孔21を
含む複合体40の穴部41内に導電路素子30が形成さ
れる。
[Third Step] In this third step, as shown in FIGS. 9 and 10, the conductive path element material layer 30A in a state of being filled in the hole 41 of the composite 40 is cured. As a result, the insulating sheet body 20 in the composite 40
This is a step of forming the conductive path element 30 integrally provided in a state filled in the through hole. Specifically, as shown in FIG. 9, a composite 40 in which a conductive path element material layer 30A is formed in a hole 41 is disposed between a pair of electromagnets 45 and 46. Is activated, a parallel magnetic field acts in the thickness direction of the conductive path element material layer 30A, and as a result, the conductive particles dispersed in the conductive path element material layer 30A are removed. 30A
Oriented in the thickness direction. In this state, by curing the conductive layer element material layer 30A, as shown in FIG. 10, the conductive path element is formed in the hole 41 of the composite 40 including the through hole 21 of the insulating sheet member 20. 30 are formed.

【0044】以上の第3工程において、導電路素子用材
料層30Aの硬化処理は、平行磁場を作用させたままの
状態で行うこともできるが、平行磁場の作用を停止させ
た後に行うこともできる。導電路素子用材料層30Aに
作用される平行磁場の強度は、平均で200〜1000
0ガウスとなる大きさが好ましい。
In the above third step, the hardening treatment of the conductive path element material layer 30A can be performed with the parallel magnetic field applied, but can also be performed after the parallel magnetic field is stopped. it can. The intensity of the parallel magnetic field applied to the conductive layer element material layer 30A is 200 to 1000 on average.
A size of 0 Gauss is preferable.

【0045】導電路素子用材料層30Aの硬化処理は、
使用される材料によって適宜選定されるが、通常、加熱
処理によって行われる。加熱により導電路素子用材料層
30Aの硬化処理を行う場合には、電磁石45,46に
ヒーターを設ければよい。具体的な加熱温度および加熱
時間は、導電路素子用材料層30Aを構成する高分子物
質形成材料などの種類、導電性粒子の移動に要する時間
などを考慮して適宜選定される。
The curing treatment of the conductive path element material layer 30A is as follows.
Although it is appropriately selected depending on the material used, it is usually performed by a heat treatment. In the case where the conductive path element material layer 30A is cured by heating, the electromagnets 45 and 46 may be provided with heaters. The specific heating temperature and heating time are appropriately selected in consideration of the type of the polymer substance forming material constituting the conductive path element material layer 30A, the time required for the movement of the conductive particles, and the like.

【0046】そして、以上の第3工程が終了した後、図
11に示すように、金属薄層35Aの表面における導電
路素子30が位置する個所に、レジスト層42を形成
し、金属薄層35Aにおけるレジスト層42が形成され
ていない部分を、エッチングにより除去した後、レジス
ト層42を剥離させることにより、図1に示す構成の異
方導電性シート10が製造される。
After the third step is completed, as shown in FIG. 11, a resist layer 42 is formed on the surface of the thin metal layer 35A where the conductive path element 30 is located. After removing the portion where the resist layer 42 is not formed by etching, the resist layer 42 is peeled off, whereby the anisotropic conductive sheet 10 having the configuration shown in FIG. 1 is manufactured.

【0047】以上の製造方法によれば、絶縁性シート体
20の貫通孔21内に充填された状態の導電路素子用材
料層30Aを硬化処理することにより、絶縁性シート体
20の貫通孔21内に充填された状態で一体的に設けら
れた導電路素子30が確実に形成されるので、図1に示
す構成の異方導電性シート10を有利に製造することが
できる。
According to the manufacturing method described above, the conductive path element material layer 30A filled in the through-holes 21 of the insulating sheet body 20 is cured so that the through-holes 21 of the insulating sheet body 20 are hardened. Since the conductive path element 30 integrally provided in a state in which the inside is filled is surely formed, FIG.
The anisotropic conductive sheet 10 having the following configuration can be advantageously produced.

【0048】以上、本発明の実施の形態を説明したが、
本発明においては、上記の実施の形態に限定されず、種
々の変更を加えることが可能である。
The embodiment of the present invention has been described above.
In the present invention, the present invention is not limited to the above embodiment, and various changes can be made .

【0049】また、図12に示すように、金属層35上
に金属よりなる突出部36を設けることができる。この
ような突出部36を設ける場合には、突出部36の厚み
は、10〜500μmであることが好ましく、さらに好
ましくは20〜300μmである。このような構成によ
れば、導電路素子30の一端面上に金属層35を介して
当該異方導電性シート10の表面から突出する突出部3
6が設けられているので、被検査回路基板1の被検査電
極2と導電路素子30との電気的接続を更に確実に達成
することができる。
Further, as shown in FIG. 12, a projection 36 made of metal can be provided on the metal layer 35. When such a protrusion 36 is provided, the thickness of the protrusion 36 is preferably 10 to 500 μm, and more preferably 20 to 300 μm. According to such a configuration, the protruding portion 3 protruding from the surface of the anisotropic conductive sheet 10 on one end surface of the conductive path element 30 via the metal layer 35.
6, the electrical connection between the electrode 2 to be inspected of the circuit board 1 to be inspected and the conductive path element 30 can be more reliably achieved.

【0050】また、図13に示すように、導電路素子3
0の他端面を覆うよう金属層37を設けることができ
る。このような構成によれば、導電路素子30の他端面
が検査用回路基板3の接続用電極4に接触することがな
いので、導電路素子30を構成する弾性高分子物質中に
含有される低分子量成分によって検査用回路基板3の接
続用電極4の表面が汚染されることを確実に防止するこ
とができる。
Further, as shown in FIG.
A metal layer 37 can be provided so as to cover the other end surface of the zero. According to such a configuration, the other end surface of the conductive path element 30 does not come into contact with the connection electrode 4 of the inspection circuit board 3, so that the conductive polymer is contained in the elastic polymer material constituting the conductive path element 30. It is possible to reliably prevent the surface of the connection electrode 4 of the test circuit board 3 from being contaminated by the low molecular weight component.

【0051】[0051]

【実施例】以下、本発明の具体的な実施例について説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will now be described by way of specific examples, which should not be construed as limiting the invention thereto.

【0052】〈実施例1〉図1に示す構成に従い、寸法
が最小で40μm、配置ピッチが最小で80μmの多数
の被検査電極が形成された回路基板を検査するための異
方導電性シート(10)を下記のようにして製造した。
Embodiment 1 According to the configuration shown in FIG. 1, an anisotropic conductive sheet (inspection of a circuit board on which a large number of electrodes to be inspected having a minimum size of 40 μm and an arrangement pitch of minimum 80 μm) are formed. 10) was produced as follows.

【0053】〔導電路素子用材料の調製〕付加型シリコ
ーンゴム「1206RTV(信越化学(株)製)」に、
下記の導電性粒子を体積分率で33%となる割合で添加
して混合することにより、導電路素子用材料を調製し
た。
[Preparation of material for conductive path element] Addition type silicone rubber "1206RTV (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)"
A conductive path element material was prepared by adding and mixing the following conductive particles at a volume fraction of 33%.

【0054】導電性粒子:平均粒子径10μmのニッケ
ル粒子を芯粒子として用い、この芯粒子に、その重量の
4重量%の金を化学メッキにより被覆したもの。
Conductive particles: Nickel particles having an average particle diameter of 10 μm are used as core particles, and the core particles are coated with 4% by weight of gold by chemical plating.

【0055】また、上記の導電路素子用材料の調製にお
いては、硬化触媒として「Cat−RQ(信越化学
(株)製」を、付加型シリコーンゴムの4重量%となる
割合で使用した。
In the preparation of the above-mentioned material for the conductive path element, "Cat-RQ" (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used as a curing catalyst at a ratio of 4% by weight of the addition type silicone rubber.

【0056】〔第1工程〕一面に厚みが15μmの銅よ
りなる金属薄層(35)を有する厚みが60μmのポリ
イミド製の絶縁性樹脂フィルム(25A)を用意し、こ
の絶縁性樹脂フィルム(25A)における金属薄層35
が形成されていない他面に、下記の高分子物質形成用組
成物を塗布することにより、厚みが0.275mmの絶
縁性シート体形成層を形成し、この絶縁性シート体形成
層に対して100℃で1時間の硬化処理を行うことによ
り、絶縁性シート体(20)の一面に絶縁性樹脂層(2
5)および金属薄層(35A)がこの順で積層されてな
る積層体(40A)を得た(図4および図5参照)。
[First Step] An insulating resin film (25A) made of polyimide having a thickness of 60 μm and having a thin metal layer (35) made of copper having a thickness of 15 μm on one surface is prepared. Thin metal layer 35)
On the other surface where is not formed, the following polymer material forming composition is applied to form an insulating sheet body forming layer having a thickness of 0.275 mm, with respect to this insulating sheet body forming layer. By performing a curing treatment at 100 ° C. for 1 hour, the insulating resin layer (2) is formed on one surface of the insulating sheet (20).
5) and a thin metal layer (35A) were laminated in this order to obtain a laminate (40A) (see FIGS. 4 and 5).

【0057】この積層体(40A)に対し、レーザ装置
を用いて穴加工を行うことにより、絶縁性シート体(2
0)および絶縁性樹脂層(25)を貫通すると共に金属
薄層(35A)を貫通しない穴部(41)を形成し、こ
れにより、検査対象である回路基板の被検査電極に対応
するパターンに従って多数の貫通孔(21)が形成され
た絶縁性シート体(20)と、この絶縁性シート体(2
0)の一面を覆うよう設けられた絶縁性樹脂層(25)
と、この絶縁性樹脂層(25)の表面に設けられた金属
薄層(35A)とからなる複合体(40)を得た(図6
参照)。
The laminated sheet (40A) is subjected to hole processing using a laser device to thereby form an insulating sheet (2A).
0) and a hole (41) penetrating the insulating resin layer (25) and not penetrating the thin metal layer (35A), thereby forming a hole corresponding to the electrode to be inspected of the circuit board to be inspected. An insulating sheet body (20) in which a large number of through holes (21) are formed;
0) Insulating resin layer (25) provided to cover one surface
And a composite (40) comprising a thin metal layer (35A) provided on the surface of the insulating resin layer (25) (FIG. 6).
reference).

【0058】〔第2工程〕1×10-4atmに減圧され
雰囲気下において、上記の複合体(40)における絶縁
性シート体(20)の他面に、調製した導電路素子用材
料をスクリーン印刷により塗布した後、雰囲気圧を上昇
させて常圧にすることにより、複合体(40)の穴部
(41)の各々の内部に導電路素子用材料を充填し、こ
れにより、穴部(41)の各々に導電路素子用材料層
(30A)を形成した(図7および図8参照)。その
後、絶縁性シート体(20)の他面に付着した導電路素
子用材料をスキージにより除去した。
[Second step] The prepared material for the conductive path element is screened on the other surface of the insulating sheet body (20) in the composite (40) under a reduced pressure of 1 × 10 −4 atm in an atmosphere. After application by printing, the atmosphere pressure is raised to normal pressure, thereby filling the inside of each of the holes (41) of the composite (40) with the material for the conductive path element. 41), a conductive layer element material layer (30A) was formed (see FIGS. 7 and 8). Thereafter, the conductive path element material attached to the other surface of the insulating sheet body (20) was removed with a squeegee.

【0059】〔第3工程〕穴部(41)内に導電路素子
用材料層(30A)が形成された複合体40を、ヒータ
ーを具えた一対の電磁石(45,46)の間に配置し、
この電磁石(45,46)を作動させることにより、導
電路素子用材料層(30A)の厚み方向に平均で500
0ガウスの平行磁場が作用ながら、100℃で1時間の
加熱処理を行うことにより、複合体(40)の穴部(4
1)内に導電路素子(30)を形成した。
[Third Step] The composite 40 having the conductive path element material layer (30A) formed in the hole (41) is disposed between a pair of electromagnets (45, 46) having a heater. ,
By operating the electromagnets (45, 46), an average of 500 in the thickness direction of the conductive path element material layer (30A) is obtained.
By performing a heat treatment at 100 ° C. for 1 hour while a parallel magnetic field of 0 Gauss acts, the hole (4) of the composite (40) is
A conductive path element (30) was formed in 1).

【0060】第3工程が終了した後、金属薄層(35
A)の表面における導電路素子(30)が位置する個所
に、レジスト層(42)を形成し、金属薄層(35A)
におけるレジスト層(42)が形成されていない部分
を、エッチングにより除去した後、レジスト層(42)
を剥離させることにより、図1に示す構成の異方導電性
シート(10)を製造した。
After the completion of the third step, the thin metal layer (35)
A resist layer (42) is formed at a position where the conductive path element (30) is located on the surface of A), and a thin metal layer (35A) is formed.
After the portion where the resist layer (42) is not formed is removed by etching, the resist layer (42) is removed.
Was peeled off to produce an anisotropic conductive sheet (10) having the configuration shown in FIG.

【0061】以上の異方導電性シート(10)を、被検
査回路基板(1)と検査用回路基板(3)との間に介在
させ(図3参照)、被検査回路基板(1)の被検査電極
(2)と検査用回路基板(3)の接続用電極(4)との
間の電気的接続状態を調べたところ、すべての被検査電
極(2)および接続用電極(4)の間の電気的な接続が
十分に達成されていることが確認された。また、被検査
回路基板(1)の検査を100回繰り返して行い、その
直後における被検査回路基板(1)を観察したところ、
当該被検査回路基板(1)およびその被検査電極(2)
の表面の汚染は認められなかった。
The anisotropic conductive sheet (10) described above is interposed between the circuit board (1) to be inspected and the circuit board for inspection (3) (see FIG. 3). When the electrical connection between the electrode under test (2) and the connection electrode (4) of the test circuit board (3) was examined, all the electrodes under test (2) and the connection electrodes (4) were checked. It was confirmed that the electrical connection between them was sufficiently achieved. Inspection of the circuit board (1) to be inspected was repeated 100 times, and immediately after that, the circuit board (1) to be inspected was observed.
The circuit board to be inspected (1) and the electrode to be inspected (2)
No contamination on the surface was observed.

【0062】〈比較例1〉寸法が最小で40μm、配置
ピッチが最小で80μmの多数の被検査電極が形成され
た回路基板を検査するための偏在型異方導電性エラスト
マーシートを図14および図15に従って製造した。な
お、異方導電性エラストマー材料としては、付加型シリ
コーンゴム「1206RTV(信越化学(株)製)」
に、実施例1で使用したものと同様の導電性粒子を体積
分率で15%となる割合で添加し、硬化触媒として「C
at−RQ(信越化学(株)製」を、付加型シリコーン
ゴムの4重量%となる割合で加えたものを使用した。ま
た、異方導電性エラストマー形成材料層の硬化処理は、
加熱温度が100℃、加熱時間が1時間,平行磁場が平
均で5000ガウスの条件で行った。
Comparative Example 1 An unevenly distributed anisotropic conductive elastomer sheet for inspecting a circuit board having a large number of electrodes to be inspected having a minimum dimension of 40 μm and a minimum arrangement pitch of 80 μm is shown in FIGS. Prepared according to No. 15. In addition, as the anisotropic conductive elastomer material, addition type silicone rubber “1206RTV (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)”
The same conductive particles as those used in Example 1 were added at a ratio of 15% by volume, and "C
at-RQ (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added at a ratio of 4% by weight of the addition-type silicone rubber.
The heating was performed at a heating temperature of 100 ° C., a heating time of one hour, and a parallel magnetic field of 5000 Gauss on average.

【0063】以上の偏在型異方導電性エラストマーシー
トを、被検査回路基板と検査用回路基板との間に介在さ
せ、被検査回路基板の被検査電極と検査用回路基板の接
続用電極との間の電気的接続状態を調べたところ、ピッ
チが100μm以下で配置された被検査電極と接続用電
極と間の電気的な接続は達成されていたが、隣接する接
続用電極の間の絶縁性が確保されていない個所があっ
た。また、被検査回路基板の検査を100回繰り返して
行い、その直後における被検査回路基板を観察したとこ
ろ、当該被検査回路基板およびその被検査電極(2)の
表面にオイル状の成分による汚染が認められた。
The unevenly distributed anisotropic conductive elastomer sheet described above is interposed between the circuit board to be inspected and the circuit board for inspection, so that the electrode to be inspected of the circuit board to be inspected and the connection electrode of the circuit board to be inspected are connected. When the electrical connection between the electrodes was examined, the electrical connection between the electrode to be inspected and the connection electrode arranged at a pitch of 100 μm or less was achieved, but the insulation between the adjacent connection electrodes was Was not secured. Inspection of the circuit board to be inspected was repeated 100 times, and the circuit board to be inspected immediately after was inspected. As a result, contamination of the surface of the circuit board to be inspected and the surface of the electrode to be inspected (2) with oil-like components was observed. Admitted.

【0064】[0064]

【発明の効果】本発明によって得られる異方導電性シー
トによれば、絶縁性シート体に形成された多数の貫通孔
に導電路素子が一体的に設けられているので、当該絶縁
性シート体の貫通孔のパターンに応じて導電路素子の配
置パターンが決定される。そして、絶縁性シート体の貫
通孔の形成は、そのピッチが極めて小さくても容易に行
うことができる。従って、接続すべき電極の配置ピッチ
が極めて小さいときにも、絶縁性シート体に、接続すべ
き電極の配置パターンに対応するパターンの貫通孔を形
成することにより、当該電極の配置パターンに対応する
パターンに従って導電路素子が配置され、しかも、導電
路素子の各々は、絶縁性シート体によって互いに絶縁さ
れた状態で設けられているので、配置ピッチが極めて小
さい電極に対しても、所要の電気的接続を確実に達成す
ることができる。
According to the anisotropic conductive sheet obtained by the present invention , since the conductive path elements are integrally provided in a large number of through holes formed in the insulating sheet, the insulating sheet is provided. The arrangement pattern of the conductive path elements is determined according to the pattern of the through holes. The formation of the through holes in the insulating sheet body can be easily performed even if the pitch is extremely small. Therefore, even when the arrangement pitch of the electrodes to be connected is extremely small, by forming the through holes of the pattern corresponding to the arrangement pattern of the electrodes to be connected on the insulating sheet body, it is possible to correspond to the arrangement pattern of the electrodes. The conductive path elements are arranged in accordance with the pattern, and each of the conductive path elements is provided in a state in which they are insulated from each other by the insulating sheet body. Connection can be reliably achieved.

【0065】また、絶縁性シート体に、その一面を覆う
よう絶縁性樹脂層を設けると共に、導電路素子に、前記
絶縁性シート体の一面側における一端面を覆うよう金属
層を設ける構成によれば、電子部品およびその電極に絶
縁性シート体および導電路素子が接触することがないた
め、絶縁性シート体および導電路素子を構成する弾性高
分子物質中に含有される低分子量成分によって電子部品
およびその電極の表面が汚染されることを確実に防止す
ることができる。
Further, the insulating sheet body is provided with an insulating resin layer so as to cover one surface thereof, and the conductive path element is provided with a metal layer so as to cover one end surface on one surface side of the insulating sheet body. For example, since the insulating sheet and the conductive path element do not come into contact with the electronic component and its electrode, the electronic component is formed by the low molecular weight component contained in the elastic polymer material constituting the insulating sheet and the conductive path element. In addition, it is possible to reliably prevent the surface of the electrode from being contaminated.

【0066】本発明の製造方法によれば、絶縁性シート
体の貫通孔内に充填された状態の導電路素子用材料層を
硬化処理することにより、絶縁性シート体の貫通孔内に
充填された状態で一体的に設けられた導電路素子が確実
に形成されるので、特定の構成の異方導電性シートを有
利に製造することができる。
According to the manufacturing method of the present invention, the material layer for the conductive path element filled in the through hole of the insulating sheet body is cured to thereby fill the through hole of the insulating sheet body. Since the conductive path element integrally provided in the folded state is reliably formed, an anisotropic conductive sheet having a specific configuration can be advantageously manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明によって得られる異方導電性シートの一
例における構成を示す説明用断面図である。
FIG. 1 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of an example of an anisotropic conductive sheet obtained by the present invention.

【図2】図1の異方導電性シートの一部を拡大して示す
説明用断面図である。
FIG. 2 is an explanatory sectional view showing a part of the anisotropic conductive sheet of FIG. 1 in an enlarged manner.

【図3】図1に示す異方導電性シートが検査対象回路基
板と検査用回路基板との間に介在された状態を示す説明
図である。
FIG. 3 is an explanatory view showing a state in which the anisotropic conductive sheet shown in FIG. 1 is interposed between a circuit board to be inspected and a circuit board for inspection.

【図4】図1に示す異方導電性シートを製造するために
用いられる、一面に金属薄層を有する絶縁性樹脂フィル
ムを示す説明用断面図である。
FIG. 4 is an explanatory sectional view showing an insulating resin film having a thin metal layer on one surface, which is used for manufacturing the anisotropic conductive sheet shown in FIG. 1;

【図5】図4に示す絶縁性樹脂フィルム上に絶縁性シー
ト体が一体的に形成されてなる積層体を示す説明用断面
図である。
FIG. 5 is an explanatory sectional view showing a laminate in which an insulating sheet body is integrally formed on the insulating resin film shown in FIG. 4;

【図6】図5に示す積層体に穴部が形成されてなる複合
体を示す説明用断面図である。
6 is an explanatory cross-sectional view showing a composite body in which a hole is formed in the laminate shown in FIG.

【図7】複合体の表面に導電路素子用材料を塗布する状
態を示す説明用断面図である。
FIG. 7 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a conductive path element material is applied to the surface of the composite.

【図8】複合体の穴部に導電路素子用材料層が形成され
た状態を示す説明用断面図である。
FIG. 8 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a conductive layer element material layer is formed in a hole of a composite.

【図9】複合体の穴部に形成された導電路素子用材料層
に平行磁場を作用させた状態を示す説明用断面図であ
る。
FIG. 9 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a parallel magnetic field is applied to a conductive path element material layer formed in a hole of a composite.

【図10】複合体の穴部に導電路素子が一体的に設けら
れた状態を示す説明用断面図である。
FIG. 10 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a conductive path element is integrally provided in a hole of a composite.

【図11】金属薄層上にレジスト層が設けられた状態を
示す説明用断面図である。
FIG. 11 is an explanatory sectional view showing a state in which a resist layer is provided on a thin metal layer.

【図12】本発明によって得られる異方導電性シートの
他の例における構成をその一部を拡大して示す説明用断
面図である。
FIG. 12 is an explanatory cross-sectional view showing a partially enlarged configuration of another example of the anisotropic conductive sheet obtained by the present invention.

【図13】本発明によって得られる異方導電性シートの
更に他の例における構成を示す説明用断面図である。
FIG. 13 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of still another example of the anisotropic conductive sheet obtained by the present invention.

【図14】従来の異方導電性エラストマーシートを製造
するために用いられる一方の型と他方の型との間に、異
方導電性エラストマー形成材料層が形成された状態を示
す説明用断面図である。
FIG. 14 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which an anisotropic conductive elastomer forming material layer is formed between one mold and the other mold used for manufacturing a conventional anisotropic conductive elastomer sheet. It is.

【図15】異方導電性エラストマー形成材料層に平行磁
場を作用させた状態を示す説明用断面図である。
FIG. 15 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a parallel magnetic field is applied to the anisotropic conductive elastomer forming material layer.

【図16】従来の異方導電性エラストマーシートの一例
における構成を示す説明用断面図である。
FIG. 16 is an explanatory sectional view showing a configuration of an example of a conventional anisotropic conductive elastomer sheet.

【図17】異方導電性エラストマー形成材料層に作用さ
れる磁場の方向を示す説明用断面図である。
FIG. 17 is an explanatory cross-sectional view showing a direction of a magnetic field applied to the anisotropic conductive elastomer forming material layer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 被検査回路基板 2 被検査電極 3 検査用回路基板 4 接続用電極 5 端子電極 10 異方導電性
シート 20 絶縁性シート体 21 貫通孔 25 絶縁性樹脂層 25A 絶縁性
樹脂フィルム 30 導電路素子 30A 導電路
素子用材料層 35 金属層 35A 金属薄
層 36 突出部 37 金属層 40 複合体 40A 積層体 41 穴部 42 レジスト
層 45,46 電磁石 80 一方の型
(上型) 85 他方の型(下型) 81,81a,
81b 強磁性部分 82 非磁性体部分 86,86a,
86b 強磁性部分 87 非磁性体部分 90 異方導電
性エラストマーシート 90A 異方導電性エラストマー形成材料 91 導電路形成部 82 絶縁部 E 弾性高分子物質 P 導電性粒子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Inspection circuit board 2 Inspection electrode 3 Inspection circuit board 4 Connection electrode 5 Terminal electrode 10 Anisotropic conductive sheet 20 Insulating sheet body 21 Through hole 25 Insulating resin layer 25A Insulating resin film 30 Conductive circuit element 30A Conductive path element material layer 35 Metal layer 35A Metal thin layer 36 Projection 37 Metal layer 40 Composite 40A Stack 41 Hole 42 Resist layer 45, 46 Electromagnet 80 One mold (upper mold) 85 The other mold (lower mold) ) 81, 81a,
81b Ferromagnetic part 82 Non-magnetic part 86, 86a,
86b Ferromagnetic portion 87 Nonmagnetic portion 90 Anisotropically conductive elastomer sheet 90A Anisotropically conductive elastomer forming material 91 Conductive path forming portion 82 Insulating portion E Elastic polymer substance P Conductive particles

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−60930(JP,A) 特開 平9−292411(JP,A) 特開 平7−105741(JP,A) 特開 平5−36755(JP,A) 特開 平6−265575(JP,A) 特開 平6−240217(JP,A) 特開 平6−249924(JP,A) 特開 平4−151889(JP,A) 実開 昭54−183686(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01R 43/00 H01R 11/01 501 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-6-60930 (JP, A) JP-A-9-292411 (JP, A) JP-A-7-105741 (JP, A) JP-A-5-205 JP-A-6-265575 (JP, A) JP-A-6-240217 (JP, A) JP-A-6-249924 (JP, A) JP-A-4-151889 (JP, A) 54-183686 (JP, U) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01R 43/00 H01R 11/01 501

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 絶縁性シート体の一面に絶縁性樹脂層お
よび金属薄層がこの順で積層されてなる積層体に対し、
絶縁性シート体および絶縁性樹脂層を貫通すると共に金
属薄層を貫通しない穴部を形成することにより、多数の
貫通孔が形成された絶縁性シート体と、この絶縁性シー
ト体の一面を覆うよう設けられた絶縁性樹脂層と、この
絶縁性樹脂層の表面に設けられた金属薄層とからなる複
合体を作製する第1工程と、 複合体における絶縁性シート体の他面に、硬化されて弾
性高分子物質となる高分子物質形成材料中に導電性粒子
が分散されてなる流動性の導電路素子用材料を塗布する
ことにより、複合体の貫通孔の各々の内部に導電路素子
用材料を充填し、これにより、貫通孔の各々に導電路素
子用材料層を形成する第2工程と、 導電路素子用材料層の厚み方向に平行磁場を作用させて
導電性粒子を当該導電路素子用材料層の厚み方向に配向
させると共に、導電路素子用材料層を硬化処理すること
により、貫通孔内に導電路素子を形成する第3工程とが
行われることを特徴とする異方導電性シートの製造方
法。
1. An insulating resin layer and an insulating resin layer on one surface of an insulating sheet body.
And a laminated body in which thin metal layers are laminated in this order,
While penetrating the insulating sheet body and the insulating resin layer, gold
By forming holes that do not penetrate the thin layer,
An insulating sheet body having a through hole formed therein, and the insulating sheet
An insulating resin layer provided to cover one surface of the
A composite consisting of a thin metal layer provided on the surface of an insulating resin layer
A first step of producing a united body, and a cured and elastic
Conductive particles in the polymer material forming material
Is applied to the material for the fluidic conductive path element in which is dispersed
A conductive path element is provided inside each of the through holes of the composite.
Material, which allows each of the through holes to have a conductive path element.
A second step of forming a child material layer, and applying a parallel magnetic field in the thickness direction of the conductive path element material layer.
Conductive particles are oriented in the thickness direction of the material layer for the conductive path element
And curing the conductive layer element material layer.
And the third step of forming the conductive path element in the through hole
A method of manufacturing an anisotropic conductive sheet characterized by being performed
Law.
【請求項2】 減圧された雰囲気下において、絶縁性シ
ート体の一面側における貫通孔の各々の開口が金属薄層
によって密閉された状態で、当該絶縁性シート体の他面
に導電路素子用材料を塗布し、その後、雰囲気圧を上昇
させることにより、当該絶縁性シート体の貫通孔の各々
に当該貫通孔内に充填された状態の導電路素子用材料層
を形成することにより、第2工程が行われることを特徴
とする請求項1に記載の異方導電性シートの製造方法。
2. An insulating system under a reduced pressure atmosphere.
Each opening of the through hole on one side of the sheet body is a thin metal layer
The other surface of the insulating sheet body is sealed by
Material for conductive path element, then increase atmospheric pressure
By doing so, each of the through holes of the insulating sheet body
Material layer for conductive path element filled in the through hole
Forming the second step is performed.
The method for producing an anisotropic conductive sheet according to claim 1.
【請求項3】 第3工程の後、金属薄層における導電路
素子が位置する個所以外の部分を除去することが行われ
ることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の異
方導電性シートの製造方法。
3. After the third step, conductive paths in the thin metal layer
Removal of parts other than where the element is located is performed.
The difference according to claim 1 or 2, wherein
A method for producing a conductive sheet.
【請求項4】 請求項1〜請求項3のいずれかに記載の
製造方法によって製造されたものであることを特徴とす
る異方導電性シート。
4. The method according to claim 1, wherein
Characterized by being manufactured by a manufacturing method.
Anisotropic conductive sheet.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001084841A (en) * 1999-09-14 2001-03-30 Jsr Corp Anisotropy conductive sheet and manufacture thereof
JP5081534B2 (en) * 2007-08-23 2012-11-28 ポリマテック株式会社 Anisotropic conductive connector
JP5639897B2 (en) * 2009-01-15 2014-12-10 ポリマテック・ジャパン株式会社 connector
TWI439698B (en) * 2011-09-30 2014-06-01 Hermes Testing Solutions Inc Probe card for circuit-testing and structure of probe substrate thereof
US9775235B2 (en) * 2013-03-15 2017-09-26 Flexcon Company, Inc. Systems and methods for providing surface connectivity of oriented conductive channels
KR101606284B1 (en) * 2014-10-29 2016-03-25 주식회사 아이에스시 Electrical connection device having porous insulating sheet with through hole and test socket
JP2020027723A (en) * 2018-08-10 2020-02-20 信越ポリマー株式会社 Manufacturing method of electrical connector
JP7449647B2 (en) 2019-01-30 2024-03-14 デクセリアルズ株式会社 Manufacturing method of particle-filled sheet
KR102281531B1 (en) * 2020-02-21 2021-07-23 신종천 Data signal transmission connector and electrical connecting module
US12011911B2 (en) 2020-03-25 2024-06-18 Flexcon Company, Inc. Isotropic non-aqueous electrode sensing material
JP7342270B2 (en) * 2020-07-10 2023-09-11 三井化学株式会社 Anisotropically conductive sheet, method for manufacturing anisotropically conductive sheet, electrical testing device, and electrical testing method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7157625B2 (en) 2018-10-24 2022-10-20 ダイキョーニシカワ株式会社 vehicle charger

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