JP2000243486A - Anisotropic conductive sheet - Google Patents

Anisotropic conductive sheet

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JP2000243486A
JP2000243486A JP11038408A JP3840899A JP2000243486A JP 2000243486 A JP2000243486 A JP 2000243486A JP 11038408 A JP11038408 A JP 11038408A JP 3840899 A JP3840899 A JP 3840899A JP 2000243486 A JP2000243486 A JP 2000243486A
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JP
Japan
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thermal expansion
sheet body
conductive path
insulating sheet
conductive
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JP11038408A
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Inventor
Kazuo Inoue
和夫 井上
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Original Assignee
JSR Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an anisotropic conductive sheet capable of surely achieving required electrical connection and having a long service life even in the event that it is repeatedly used in such an environment that it undergoes a heat history of changing temperatures. SOLUTION: This anisotropic conductive sheet is equipped with an insulating sheet body 10 having through holes 11 formed therein and extending in the thickness direction and conductive passage elements 20 made up by including conductive particles in an elastic polymeric material packed in the respective through holes 11 of the insulating sheet body 10, and the insulating sheet body 10 is made up of an elastic polymeric material having a small coefficient of thermal expansion. Preferably, a thermal-expansion suppressing sheet body 15 made of an insulating material having a small coefficient of thermal expansion is integrally provided with one surface of the insulating sheet body 10, and a tensile force is exerted on the insulating sheet body 10 in a surface direction thereof by the thermal-expansion suppressing sheet body 15.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば電子部品な
どの回路装置相互間の電気的接続や、プリント回路基
板、半導体集積回路などの回路装置の検査装置における
コネクターとして好ましく用いられる異方導電性シート
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an anisotropic conductive material which is preferably used as a connector in an electrical connection between circuit devices such as electronic parts and an inspection device for circuit devices such as printed circuit boards and semiconductor integrated circuits. It is about a sheet.

【0002】[0002]

【従来の技術】異方導電性エラストマーシートは、厚み
方向にのみ導電性を示すもの、または厚み方向に加圧さ
れたときに厚み方向にのみ導電性を示す加圧導電性導電
部を有するものであり、ハンダ付けあるいは機械的嵌合
などの手段を用いずにコンパクトな電気的接続を達成す
ることが可能であること、機械的な衝撃やひずみを吸収
してソフトな接続が可能であることなどの特長を有する
ため、このような特長を利用して、例えば電子計算機、
電子式デジタル時計、電子カメラ、コンピューターキー
ボードなどの分野において、回路装置、例えばプリント
回路基板とリードレスチップキャリアー、液晶パネルな
どとの相互間の電気的な接続を達成するためのコネクタ
ーとして広く用いられている。
2. Description of the Related Art An anisotropic conductive elastomer sheet has conductivity only in the thickness direction, or has a pressurized conductive portion which has conductivity only in the thickness direction when pressed in the thickness direction. And it is possible to achieve a compact electrical connection without using means such as soldering or mechanical fitting, and it is possible to absorb mechanical shocks and strains and make a soft connection Because of these features, using such features, for example, computers,
In the fields of electronic digital watches, electronic cameras, computer keyboards, etc., it is widely used as a connector for achieving an electrical connection between circuit devices, for example, a printed circuit board and a leadless chip carrier, a liquid crystal panel, etc. ing.

【0003】また、プリント回路基板や半導体集積回路
などの回路装置の電気的検査においては、検査対象であ
る回路装置の一面に形成された被検査電極と、検査用回
路基板の表面に形成された検査用電極との電気的な接続
を達成するために、回路装置の被検査電極領域と検査用
回路基板の検査用電極領域との間に異方導電性エラスト
マーシートを介在させることが行われている。
In electrical inspection of a circuit device such as a printed circuit board or a semiconductor integrated circuit, an electrode to be inspected formed on one surface of a circuit device to be inspected and an electrode formed on the surface of the inspection circuit substrate. In order to achieve electrical connection with the test electrode, an anisotropic conductive elastomer sheet is interposed between the test electrode region of the circuit device and the test electrode region of the test circuit board. I have.

【0004】従来、このような異方導電性エラストマー
シートとしては、種々の構造のものが知られており、例
えば特開昭51−93393号公報等には、金属粒子を
エラストマー中に均一に分散して得られる異方導電性エ
ラストマーシート(以下、これを「分散型異方導電性エ
ラストマーシート」という。)が開示され、また、特開
昭53−147772号公報等には、導電性磁性体粒子
をエラストマー中に不均一に分布させることにより、厚
み方向に伸びる多数の導電路形成部と、これらを相互に
絶縁する絶縁部とが形成されてなる異方導電性エラスト
マーシート(以下、これを「偏在型異方導電性エラスト
マーシート」という。)が開示され、更に、特開昭61
−250906号公報等には、導電路形成部の表面と絶
縁部との間に段差が形成された偏在型異方導電性エラス
トマーシートが開示されている。
Conventionally, as such an anisotropic conductive elastomer sheet, those having various structures are known. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 51-93393 discloses that metal particles are uniformly dispersed in an elastomer. Anisotropic conductive elastomer sheet (hereinafter referred to as “dispersion type anisotropic conductive elastomer sheet”) obtained by the method described in JP-A-53-147772 is disclosed. By distributing the particles non-uniformly in the elastomer, an anisotropic conductive elastomer sheet (hereinafter, referred to as an electrically conductive elastomer sheet) in which a number of conductive path forming portions extending in the thickness direction and insulating portions that insulate them from each other are formed. "Eccentrically distributed anisotropic conductive elastomer sheet") is disclosed.
Japanese Unexamined Patent Publication No. 250906/2005 discloses an unevenly distributed anisotropic conductive elastomer sheet in which a step is formed between the surface of a conductive path forming portion and an insulating portion.

【0005】そして、偏在型異方導電性エラストマーシ
ートは、回路基板等の電極パターンと対掌のパターンに
従って導電路形成部が形成されているため、分散型異方
導電性エラストマーシートに比較して、接続すべき電極
が小さいピッチで配置されている回路装置などに対して
も電極間の電気的接続を高い信頼性で達成することがで
きる点で、有利であり、特に、導電路形成部が絶縁部か
ら突出する状態に形成されてなるものは、被検査電極に
対する接触が確実に行われるため、より好ましい。
[0005] The unevenly distributed anisotropic conductive elastomer sheet has a conductive path forming portion formed in accordance with a pattern opposite to an electrode pattern of a circuit board or the like. This is advantageous in that electrical connection between the electrodes can be achieved with high reliability even for a circuit device or the like in which electrodes to be connected are arranged at a small pitch. The one formed so as to protrude from the insulating portion is more preferable because the contact with the electrode to be inspected is surely performed.

【0006】しかしながら、従来の偏在型異方導電性エ
ラストマーシートを例えば半導体集積回路などの回路装
置の電気的検査に用いる場合には、以下のような問題が
あることが判明した。回路装置の電気的検査において
は、異方導電性エラストマーシートにおける導電路形成
部の一面に、検査対象である回路装置の被検査電極を接
触させると共に、当該導電路形成部の他面に、検査用回
路基板の検査用電極を接触させ、更に当該異方導電性エ
ラストマーシートの厚み方向に押圧することにより、所
要の電気的接続が達成される。このとき、異方導電性エ
ラストマーシートにおいては、被検査回路装置の被検査
電極に押圧されることにより、導電路形成部には厚み方
向に大きい圧力が加わり、この状態で保持される。
However, when the conventional unevenly distributed anisotropic conductive elastomer sheet is used for electrical inspection of a circuit device such as a semiconductor integrated circuit, the following problems have been found. In the electrical inspection of the circuit device, an electrode to be inspected of the circuit device to be inspected is brought into contact with one surface of the conductive path forming portion of the anisotropic conductive elastomer sheet, and the other surface of the conductive path forming portion is inspected. The required electrical connection is achieved by bringing the test electrodes of the circuit board into contact with each other and further pressing the test electrodes in the thickness direction of the anisotropic conductive elastomer sheet. At this time, in the anisotropic conductive elastomer sheet, a large pressure is applied to the conductive path forming portion in the thickness direction by being pressed by the electrode to be inspected of the circuit device to be inspected, and is maintained in this state.

【0007】また、半導体集積回路の電気的検査は、当
該半導体集積回路の潜在的欠陥を発現させるため、一般
に、高温環境下において行われる。然るに、異方導電性
エラストマーシートを構成する材料、特にその絶縁部を
構成する弾性体の熱膨張係数は、半導体集積回路におけ
る異方導電性エラストマーシートが対接される被接続面
を形成する材料の熱膨張係数より相当に大きいため、異
方導電性エラストマーシートに半導体集積回路を押圧し
た状態で、当該異方導電性エラストマーシートが温度変
化による熱履歴を受けた場合には、半導体集積回路の被
接続面を構成する材料との熱膨張係数の差に起因して、
当該半導体集積回路の被接続面によって異方導電性エラ
ストマーシートの絶縁部の面方向における自由な熱膨張
が阻害され、その結果、当該絶縁部には大きな内部歪み
が生じる。そして、この絶縁部の内部歪みによって、導
電路形成部にはその面方向に相当に大きい圧力が加わ
る。
The electrical inspection of a semiconductor integrated circuit is generally performed in a high-temperature environment in order to develop a potential defect of the semiconductor integrated circuit. However, the material forming the anisotropically conductive elastomer sheet, particularly the coefficient of thermal expansion of the elastic body forming the insulating portion thereof, depends on the material forming the connected surface of the semiconductor integrated circuit with which the anisotropically conductive elastomer sheet is brought into contact. When the semiconductor integrated circuit is pressed against the anisotropic conductive elastomer sheet and the anisotropic conductive elastomer sheet has received a thermal history due to a temperature change, the temperature of the semiconductor integrated circuit is significantly larger than the thermal expansion coefficient of the semiconductor integrated circuit. Due to the difference in the coefficient of thermal expansion with the material constituting the connected surface,
Free thermal expansion in the surface direction of the insulating portion of the anisotropic conductive elastomer sheet is impeded by the surface to be connected of the semiconductor integrated circuit, and as a result, large internal distortion occurs in the insulating portion. Then, due to the internal strain of the insulating portion, a considerably large pressure is applied to the conductive path forming portion in the surface direction.

【0008】以上のように、温度変化による熱履歴を受
ける環境下において、異方導電性エラストマーシートを
回路装置の電気的検査に使用する場合には、当該異方導
電性エラストマーシートの導電路形成部には、その厚み
方向のみならずその面方向にも相当に大きい圧力が加わ
るため、繰り返して使用するときには、異方導電性エラ
ストマーシートにおける導電路形成部が早期に破損して
所要の電気的接続が得られない。
As described above, when an anisotropically conductive elastomer sheet is used for electrical inspection of a circuit device in an environment subjected to a thermal history due to a temperature change, the conductive path of the anisotropically conductive elastomer sheet is formed. Since a considerable pressure is applied not only to the thickness direction but also to the surface direction, the conductive path forming portion of the anisotropic conductive elastomer sheet is damaged at an early stage when the member is used repeatedly. No connection.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に基づいてなされたものであって、その目的は、
温度変化による熱履歴を受ける環境下において繰り返し
て使用した場合であっても、所要の電気的接続が確実に
達成され、長い使用寿命が得られる異方導電性シートを
提供することにある。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made based on the above circumstances, and its object is to provide:
It is an object of the present invention to provide an anisotropic conductive sheet capable of reliably achieving a required electrical connection even when repeatedly used in an environment which receives a heat history due to a temperature change and having a long service life.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の異方導電性シー
トは、それぞれ厚み方向に伸びる複数の貫通孔が形成さ
れた絶縁性シート体と、この絶縁性シート体の貫通孔の
各々に、当該貫通孔内に充填された状態で一体的に設け
られた弾性高分子物質中に導電性粒子が含有されてなる
導電路素子とを具えてなり、前記絶縁性シート体は、熱
膨張係数の小さい弾性高分子材料により構成されている
ことを特徴とする。
An anisotropic conductive sheet according to the present invention comprises: an insulating sheet body having a plurality of through holes extending in a thickness direction; and a through hole of the insulating sheet body. A conductive path element in which conductive particles are contained in an elastic polymer material integrally provided in a state of being filled in the through hole, wherein the insulating sheet body has a coefficient of thermal expansion. It is characterized by being made of a small elastic polymer material.

【0011】本発明の異方導電性シートにおいては、前
記絶縁性シート体を構成する弾性高分子材料の熱膨張係
数が4×10-5/℃以下であることが好ましい。また、
前記絶縁性シート体を構成する弾性高分子材料の熱膨張
係数をA、接続される回路装置における被接続面を形成
する材料の熱膨張係数をBとしたとき、|A−B|の値
が2×10-5/℃以下であることが好ましい。また、前
記絶縁性シート体が、弾性高分子物質100重量部中に
熱膨張抑制用充填材10〜60重量部が分散されてなる
弾性高分子材料により構成されていることが好ましい。
また、前記絶縁性シート体の少なくとも一面に、熱膨張
係数の小さい絶縁性材料よりなる熱膨張抑制用シート体
が一体的に設けられ、この熱膨張抑制用シート体によっ
て、前記絶縁性シート体にはその面方向に張力が作用さ
れていることが好ましい。
In the anisotropic conductive sheet of the present invention, the elastic polymer material constituting the insulating sheet preferably has a coefficient of thermal expansion of 4 × 10 −5 / ° C. or less. Also,
When the coefficient of thermal expansion of the elastic polymer material constituting the insulating sheet body is A, and the coefficient of thermal expansion of the material forming the surface to be connected in the circuit device to be connected is B, the value of | AB | It is preferably at most 2 × 10 −5 / ° C. Further, it is preferable that the insulating sheet is made of an elastic polymer material in which 10 to 60 parts by weight of a filler for suppressing thermal expansion is dispersed in 100 parts by weight of an elastic polymer material.
Further, on at least one surface of the insulating sheet body, a thermal expansion suppressing sheet body made of an insulating material having a small thermal expansion coefficient is provided integrally, and by using the thermal expansion suppressing sheet body, the insulating sheet body is provided. Is preferably tensioned in the plane direction.

【0012】[0012]

【作用】(1)熱膨張係数の小さい弾性高分子材料より
なる絶縁性シート体の貫通孔内に、導電路素子が設けら
れることにより、温度変化による熱履歴を受けた場合で
あっても、当該絶縁性シート体の熱膨張が少ないため、
導電路素子にその面方向に大きい圧力が加わることがな
い。特に、絶縁性シート体を構成する材料として、接続
される回路装置における被接続面を形成する材料に近似
した熱膨張係数を有する弾性高分子材料を用いることに
より、当該半導体集積回路の被接続面によって絶縁性シ
ート体の面方向における熱膨張が阻害されることがない
ため、導電路素子にその面方向に加わる応力が確実に抑
制される。 (2)絶縁性シート体の上面に、熱膨張係数の小さい絶
縁性材料よりなる熱膨張抑制用シート体が一体的に設け
られ、この熱膨張抑制用シート体によって、絶縁性シー
ト体にその面方向に張力が作用されることにより、温度
変化による熱履歴を受けた場合であっても、当該絶縁性
シート体に作用される張力が変化することにより、当該
絶縁性シート体の面方向における実質上の熱膨張が緩和
される結果、導電路素子にその面方向に加わる圧力が一
層抑制される。
(1) By providing the conductive path element in the through-hole of the insulating sheet made of an elastic polymer material having a small coefficient of thermal expansion, even if it receives a heat history due to a temperature change, Because the thermal expansion of the insulating sheet body is small,
A large pressure is not applied to the conductive path element in the surface direction. In particular, by using an elastic polymer material having a thermal expansion coefficient similar to the material forming the connection surface of the circuit device to be connected as the material forming the insulating sheet body, the connection surface of the semiconductor integrated circuit is used. Since the thermal expansion in the surface direction of the insulating sheet body is not hindered by this, the stress applied to the conductive path element in the surface direction is reliably suppressed. (2) A thermal expansion suppressing sheet made of an insulating material having a small thermal expansion coefficient is integrally provided on the upper surface of the insulating sheet, and the thermal expansion suppressing sheet is used to form a surface on the insulating sheet. Even if a thermal history due to a temperature change is received by applying a tension in the direction, a change in the tension applied to the insulating sheet body causes a substantial change in the surface direction of the insulating sheet body. As a result, the pressure applied to the conductive path element in the surface direction is further suppressed.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。 〈第1の実施の形態〉図1は、本発明の第1の実施の形
態に係る異方導電性シートの要部の構成を示す説明用断
面図である。この異方導電性シートにおいては、特定の
パターンに従って厚み方向に貫通して伸びる多数の貫通
孔11が形成された絶縁性シート体10が設けられてい
る。この絶縁性シート体10の貫通孔11における特定
のパターンは、接続すべき電極のパターンに対応するパ
ターンである。この絶縁性シート体10の貫通孔11の
各々には、導電路素子20が当該貫通孔11内に充填さ
れた状態で当該絶縁性シート体10と一体的に設けられ
ており、導電路素子20の各々は互いに実質的に独立し
た状態とされている。絶縁性シート体10の上面には、
熱膨張抑制用シート体15が一体的に設けられており、
この熱膨張抑制用シート体15によって、絶縁性シート
体15にはその面方向に張力が作用されている。また、
この例の異方導電性シートにおいては、導電路素子20
は、その上面が熱膨張抑制用シート体15の上面から僅
かに突出し、その下面が絶縁性シート体10の下面から
僅かに突出した状態に形成されている。
Embodiments of the present invention will be described below in detail. <First Embodiment> FIG. 1 is an explanatory sectional view showing the structure of a main part of an anisotropic conductive sheet according to a first embodiment of the present invention. This anisotropic conductive sheet is provided with an insulating sheet body 10 in which a large number of through holes 11 are formed extending in the thickness direction in accordance with a specific pattern. The specific pattern in the through hole 11 of the insulating sheet body 10 is a pattern corresponding to the pattern of the electrode to be connected. In each of the through holes 11 of the insulating sheet body 10, a conductive path element 20 is provided integrally with the insulating sheet body 10 in a state where the conductive path element 20 is filled in the through hole 11. Are substantially independent of each other. On the upper surface of the insulating sheet body 10,
Thermal expansion suppressing sheet body 15 is provided integrally,
With the thermal expansion suppressing sheet member 15, tension is applied to the insulating sheet member 15 in the surface direction. Also,
In the anisotropic conductive sheet of this example, the conductive path element 20
Is formed such that its upper surface slightly protrudes from the upper surface of the thermal expansion suppressing sheet member 15 and its lower surface protrudes slightly from the lower surface of the insulating sheet member 10.

【0014】絶縁性シート体10は、熱膨張係数の小さ
い弾性高分子材料により構成されている。具体的には、
弾性高分子材料として、その熱膨張係数が4×10-5
℃以下のものを用いることが好ましく、これにより、温
度変化による熱履歴を受けたときにも、導電路素子20
にその面方向に加わる応力を抑制することができる。ま
た、絶縁性シート体10を構成する弾性高分子材料とし
ては、当該弾性高分子材料の熱膨張係数をAとし、接続
される回路装置における異方導電性シートが対接される
被接続面を形成する材料の熱膨張係数をBとしたとき、
|A−B|の値が2×10-5/℃以下であることが好ま
しい。この値が過大である場合には、異方導電性シート
が回路装置に電気的に接続された状態で温度変化による
熱履歴を受けたときに、その導電路素子20にはその面
方向に相当に大きい圧力が加わるため、当該導電路素子
20が早期に破損しやすくなる。
The insulating sheet 10 is made of an elastic polymer material having a small coefficient of thermal expansion. In particular,
The elastic polymer material has a coefficient of thermal expansion of 4 × 10 -5 /
° C or less is preferably used, so that the conductive path element 20
The stress applied in the plane direction can be suppressed. Further, as the elastic polymer material constituting the insulating sheet body 10, the coefficient of thermal expansion of the elastic polymer material is A, and the connected surface of the connected circuit device to which the anisotropic conductive sheet is in contact is connected. When the coefficient of thermal expansion of the material to be formed is B,
The value of | AB | is preferably 2 × 10 −5 / ° C. or less. When this value is excessive, when the anisotropic conductive sheet receives a heat history due to a temperature change in a state of being electrically connected to the circuit device, the conductive path element 20 corresponds to the surface direction. Since a large pressure is applied to the conductive path element 20, the conductive path element 20 is easily damaged at an early stage.

【0015】絶縁性シート体10を構成する弾性高分子
材料の熱膨張係数の具体的な数値を挙げると、接続され
る回路装置における被接続面を形成する材料が熱硬化性
樹脂材料である場合には、熱膨張係数が1×10-5
2.5×10-5/℃の弾性高分子材料を用いることがで
き、被接続面を形成する材料がセラミックスなどの低熱
膨張性無機材料である場合には、熱膨張係数が3×10
-6〜1×10-5/℃の弾性高分子材料を用いることがで
きる。
The specific numerical values of the coefficient of thermal expansion of the elastic polymer material constituting the insulating sheet body 10 are as follows. When the material forming the surface to be connected in the circuit device to be connected is a thermosetting resin material. Has a coefficient of thermal expansion of 1 × 10 −5 to
An elastic polymer material of 2.5 × 10 −5 / ° C. can be used. When the material forming the connection surface is a low thermal expansion inorganic material such as ceramics, the thermal expansion coefficient is 3 × 10 5
An elastic polymer material of -6 to 1 x 10-5 / ° C can be used.

【0016】このような弾性高分子材料としては、弾性
高分子物質中に熱膨張抑制用充填材が含有されてなるも
のを用いることができる。かかる弾性高分子物質を得る
ために用いることのできる硬化性の高分子物質形成材料
としては、ポリブタジエンゴム、天然ゴム、ポリイソプ
レンゴム、スチレン−ブタジエン共重合体ゴム、アクリ
ロニトリル−ブタジエン共重合体ゴムなどの共役ジエン
系ゴムおよびこれらの水素添加物、スチレン−ブタジエ
ン−ジエンブロック共重合体ゴム、スチレン−イソプレ
ンブロック共重合体などのブロック共重合体ゴムおよび
これらの水素添加物、クロロプレン、ウレタンゴム、ポ
リエステル系ゴム、エピクロルヒドリンゴム、シリコー
ンゴム、エチレン−プロピレン共重合体ゴム、エチレン
−プロピレン−ジエン共重合体ゴムなどが挙げられ、得
られる異方導電性シートに耐候性が要求される場合に
は、共役ジエン系ゴム以外のものを用いることが好まし
い。
As such an elastic polymer material, an elastic polymer material containing a filler for suppressing thermal expansion can be used. Curable polymer material forming materials that can be used to obtain such an elastic polymer material include polybutadiene rubber, natural rubber, polyisoprene rubber, styrene-butadiene copolymer rubber, acrylonitrile-butadiene copolymer rubber, and the like. Conjugated diene rubbers and hydrogenated products thereof, styrene-butadiene-diene block copolymer rubbers, block copolymer rubbers such as styrene-isoprene block copolymers and hydrogenated products thereof, chloroprene, urethane rubber, polyester Base rubber, epichlorohydrin rubber, silicone rubber, ethylene-propylene copolymer rubber, ethylene-propylene-diene copolymer rubber, and the like.If the obtained anisotropic conductive sheet is required to have weather resistance, it may be conjugated. Use other than diene rubber Preferred.

【0017】また、熱膨張抑制用充填材としては、用い
られる弾性高分子物質の熱膨張を抑制することができる
ものであれば、特に限定されるものではない。また、そ
の形状は、球状のもの、繊維状のもの、鱗片状のものな
ど種々のものを用いることができるが、加熱、加圧時の
劣化を抑制する観点から、球状のものを用いることが好
ましい。熱膨張抑制用充填材の具体例としては、シリ
カ、アルミナ、タルク、ベンガラ、窒化ケイ素などが挙
げられる。
The filler for suppressing thermal expansion is not particularly limited as long as it can suppress the thermal expansion of the elastic polymer used. In addition, the shape may be various shapes such as a spherical shape, a fibrous shape, and a scaly shape, and from the viewpoint of suppressing deterioration during heating and pressurizing, a spherical shape may be used. preferable. Specific examples of the filler for suppressing thermal expansion include silica, alumina, talc, red iron oxide, and silicon nitride.

【0018】弾性高分子材料中における熱膨張抑制用充
填材の割合は、弾性高分子物質100重量部に対して1
0〜60重量部、特に、20〜40重量部であることが
好ましい。この割合が10重量部未満である場合には、
所期の熱膨張係数を有する弾性高分子材料を得ることが
困難となる。一方、この割合が60重量部を超える場合
には、得られる弾性高分子材料は、脆弱で弾性率の高い
ものとなりやすいため、必要な強度および弾性を有する
絶縁性シート体10を得ることが困難となる。
The ratio of the thermal expansion suppressing filler in the elastic polymer material is 1 to 100 parts by weight of the elastic polymer material.
It is preferably 0 to 60 parts by weight, particularly preferably 20 to 40 parts by weight. If this proportion is less than 10 parts by weight,
It becomes difficult to obtain an elastic polymer material having an intended coefficient of thermal expansion. On the other hand, if this proportion exceeds 60 parts by weight, the resulting elastic polymer material is fragile and tends to have a high elastic modulus, so that it is difficult to obtain the insulating sheet body 10 having the necessary strength and elasticity. Becomes

【0019】また、絶縁性シート体10の厚みは、例え
ば0.1〜2mm、好ましくは0.2〜1mmである。
The thickness of the insulating sheet 10 is, for example, 0.1 to 2 mm, preferably 0.2 to 1 mm.

【0020】導電路素子20は、弾性高分子物質中に導
電性粒子が含有されて構成され、好ましくは弾性高分子
物質中に導電性粒子が厚み方向に並んだ状態に配向され
ており、この導電性粒子により、当該導電路素子20の
厚み方向に導電路が形成される。この導電路素子20
は、厚み方向に加圧されて圧縮されたときに抵抗値が減
少して導電路が形成される、加圧導電路素子とすること
もできる。また、導電路素子20の導電路は、導電路素
子20の厚み方向と垂直な断面において、その全領域に
わたって形成されてもよく、その一部の領域例えば中央
領域のみに形成されてもよい。
The conductive path element 20 is composed of an elastic polymer material containing conductive particles, and preferably, the conductive particles are oriented in the elastic polymer material in a state of being arranged in the thickness direction. A conductive path is formed in the thickness direction of the conductive path element 20 by the conductive particles. This conductive path element 20
May be a pressurized conductive path element in which a conductive path is formed by reducing the resistance value when pressed and compressed in the thickness direction. Further, the conductive path of the conductive path element 20 may be formed over the entire area thereof in a cross section perpendicular to the thickness direction of the conductive path element 20, or may be formed only in a part of the area, for example, only the central area.

【0021】導電路素子20に用いられる絶縁性の弾性
高分子物質としては、架橋構造を有する高分子物質が好
ましい。このような弾性高分子物質を得るために用いる
ことのできる硬化性の高分子物質形成材料としては、種
々のものを用いることができ、その具体例としては、ポ
リブタジエンゴム、天然ゴム、ポリイソプレンゴム、ス
チレン−ブタジエン共重合体ゴム、アクリロニトリル−
ブタジエン共重合体ゴムなどの共役ジエン系ゴムおよび
これらの水素添加物、スチレン−ブタジエン−ジエンブ
ロック共重合体ゴム、スチレン−イソプレンブロック共
重合体などのブロック共重合体ゴムおよびこれらの水素
添加物、クロロプレン、ウレタンゴム、ポリエステル系
ゴム、エピクロルヒドリンゴム、シリコーンゴム、エチ
レン−プロピレン共重合体ゴム、エチレン−プロピレン
−ジエン共重合体ゴムなどが挙げられる。以上におい
て、得られる異方導電性シートに耐候性が要求される場
合には、共役ジエン系ゴム以外のものを用いることが好
ましく、特に、成形加工性および電気特性の観点から、
シリコーンゴムを用いることが好ましい。
As the insulating elastic high molecular substance used for the conductive path element 20, a high molecular substance having a crosslinked structure is preferable. Various materials can be used as the curable polymer material forming material that can be used to obtain such an elastic polymer material. Specific examples thereof include polybutadiene rubber, natural rubber, and polyisoprene rubber. Styrene-butadiene copolymer rubber, acrylonitrile-
Conjugated diene rubbers such as butadiene copolymer rubber and hydrogenated products thereof, styrene-butadiene-diene block copolymer rubber, block copolymer rubbers such as styrene-isoprene block copolymer and hydrogenated products thereof, Examples include chloroprene, urethane rubber, polyester rubber, epichlorohydrin rubber, silicone rubber, ethylene-propylene copolymer rubber, and ethylene-propylene-diene copolymer rubber. In the above, when weather resistance is required for the obtained anisotropic conductive sheet, it is preferable to use a material other than the conjugated diene rubber, particularly from the viewpoint of moldability and electrical properties.
It is preferable to use silicone rubber.

【0022】シリコーンゴムとしては、液状シリコーン
ゴムを架橋または縮合したものが好ましい。液状シリコ
ーンゴムは、その粘度が歪速度10-1secで105
アズ以下のものが好ましく、縮合型のもの、付加型のも
の、ビニル基やヒドロキシル基を含有するものなどのい
ずれであってもよい。具体的には、ジメチルシリコーン
生ゴム、メチルビニルシリコーン生ゴム、メチルフェニ
ルビニルシリコーン生ゴムなどを挙げることができる。
The silicone rubber is preferably one obtained by crosslinking or condensing a liquid silicone rubber. The liquid silicone rubber preferably has a viscosity of 10 5 poise or less at a strain rate of 10 −1 sec, and may be any of condensation type, addition type, and those containing a vinyl group or a hydroxyl group. Good. Specifically, dimethylsilicone raw rubber, methylvinylsilicone raw rubber, methylphenylvinylsilicone raw rubber and the like can be mentioned.

【0023】これらの中で、ビニル基を含有する液状シ
リコーンゴム(ビニル基含有ポリジメチルシロキサン)
は、通常、ジメチルジクロロシランまたはジメチルジア
ルコキシシランを、ジメチルビニルクロロシランまたは
ジメチルビニルアルコキシシランの存在下において、加
水分解および縮合反応させ、例えば引続き溶解−沈殿の
繰り返しによる分別を行うことにより得られる。また、
ビニル基を両末端に含有する液状シリコーンゴムは、オ
クタメチルシクロテトラシロキサンのような環状シロキ
サンを触媒の存在下においてアニオン重合し、重合停止
剤として例えばジメチルジビニルシロキサンを用い、そ
の他の反応条件(例えば、環状シロキサンの量および重
合停止剤の量)を適宜選択することにより得られる。こ
こで、アニオン重合の触媒としては、水酸化テトラメチ
ルアンモニウムおよび水酸化n−ブチルホスホニウムな
どのアルカリまたはこれらのシラノレート溶液などを用
いることができ、反応温度は、例えば80〜130℃で
ある。このようなビニル基含有ポリジメチルシロキサン
は、その分子量Mw(標準ポリスチレン換算重量平均分
子量をいう。以下同じ。)が10000〜40000の
ものであることが好ましい。また、得られる導電路素子
の耐熱性の観点から、分子量分布指数(標準ポリスチレ
ン換算重量平均分子量Mwと標準ポリスチレン換算数平
均分子量Mnとの比Mw/Mnの値をいう。以下同
じ。)が2.0以下のものが好ましい。
Among them, liquid group-containing silicone rubber (vinyl group-containing polydimethylsiloxane)
Is usually obtained by subjecting dimethyldichlorosilane or dimethyldialkoxysilane to hydrolysis and condensation reaction in the presence of dimethylvinylchlorosilane or dimethylvinylalkoxysilane, for example, followed by fractionation by repeated dissolution-precipitation. Also,
The liquid silicone rubber containing vinyl groups at both ends is anionically polymerized with a cyclic siloxane such as octamethylcyclotetrasiloxane in the presence of a catalyst, and uses, for example, dimethyldivinylsiloxane as a polymerization terminator and other reaction conditions (for example, , The amount of the cyclic siloxane and the amount of the polymerization terminator). Here, as a catalyst for anionic polymerization, alkali such as tetramethylammonium hydroxide and n-butylphosphonium hydroxide or a silanolate solution thereof can be used. The reaction temperature is, for example, 80 to 130 ° C. Such a vinyl group-containing polydimethylsiloxane preferably has a molecular weight Mw (weight average molecular weight in terms of standard polystyrene; the same applies hereinafter) of 10,000 to 40,000. In addition, from the viewpoint of heat resistance of the obtained conductive path element, the molecular weight distribution index (the value of the ratio Mw / Mn between the standard polystyrene-equivalent weight average molecular weight Mw and the standard polystyrene-equivalent number average molecular weight Mn; hereinafter the same) is 2. 0.0 or less is preferable.

【0024】一方、ヒドロキシル基を含有する液状シリ
コーンゴム(ヒドロキシル基含有ポリジメチルシロキサ
ン)は、通常、ジメチルジクロロシランまたはジメチル
ジアルコキシシランを、ジメチルヒドロクロロシランま
たはジメチルヒドロアルコキシシランの存在下におい
て、加水分解および縮合反応させ、例えば引続き溶解−
沈殿の繰り返しによる分別を行うことにより得られる。
また、環状シロキサンを触媒の存在下においてアニオン
重合し、重合停止剤として、例えばジメチルヒドロクロ
ロシラン、メチルジヒドロクロロシランまたはジメチル
ヒドロアルコキシシランなどを用い、その他の反応条件
(例えば、環状シロキサンの量および重合停止剤の量)
を適宜選択することによっても得られる。ここで、アニ
オン重合の触媒としては、水酸化テトラメチルアンモニ
ウムおよび水酸化n−ブチルホスホニウムなどのアルカ
リまたはこれらのシラノレート溶液などを用いることが
でき、反応温度は、例えば80〜130℃である。この
ようなヒドロキシル基含有ポリジメチルシロキサンは、
その分子量Mwが10000〜40000のものである
ことが好ましい。また、得られる導電路素子の耐熱性の
観点から、分子量分布指数が2.0以下のものが好まし
い。本発明においては、上記のビニル基含有ポリジメチ
ルシロキサンおよびヒドロキシル基含有ポリジメチルシ
ロキサンのいずれか一方を用いることもでき、両者を併
用することもできる。
On the other hand, a liquid silicone rubber containing hydroxyl groups (hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane) is usually prepared by hydrolyzing dimethyldichlorosilane or dimethyldialkoxysilane in the presence of dimethylhydrochlorosilane or dimethylhydroalkoxysilane. And condensation reaction, for example,
It is obtained by performing fractionation by repeating precipitation.
The cyclic siloxane is anionically polymerized in the presence of a catalyst, and a polymerization terminator such as dimethylhydrochlorosilane, methyldihydrochlorosilane or dimethylhydroalkoxysilane is used. Other reaction conditions (for example, the amount of the cyclic siloxane and the polymerization termination) Amount of agent)
Can also be obtained by appropriately selecting Here, as a catalyst for anionic polymerization, alkali such as tetramethylammonium hydroxide and n-butylphosphonium hydroxide or a silanolate solution thereof can be used. The reaction temperature is, for example, 80 to 130 ° C. Such hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane is,
It is preferable that the molecular weight Mw is 10,000 to 40,000. Further, from the viewpoint of heat resistance of the obtained conductive path element, those having a molecular weight distribution index of 2.0 or less are preferable. In the present invention, either one of the above-mentioned vinyl group-containing polydimethylsiloxane and hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane can be used, or both can be used in combination.

【0025】導電路素子用材料に用いられる導電性粒子
としては、後述する方法により当該粒子を容易に配向さ
せることができる観点から、導電性磁性体粒子を用いる
ことが好ましい。この導電性磁性体粒子の具体例として
は、鉄、コバルト、ニッケルなどの磁性を示す金属の粒
子若しくはこれらの合金の粒子またはこれらの金属を含
有する粒子、またはこれらの粒子を芯粒子とし、当該芯
粒子の表面に金、銀、パラジウム、ロジウムなどの導電
性の良好な金属のメッキを施したもの、あるいは非磁性
金属粒子若しくはガラスビーズなどの無機物質粒子また
はポリマー粒子を芯粒子とし、当該芯粒子の表面に、ニ
ッケル、コバルトなどの導電性磁性体のメッキを施した
もの、あるいは芯粒子に、導電性磁性体および導電性の
良好な金属の両方を被覆したものなどが挙げられる。こ
れらの中では、ニッケル粒子を芯粒子とし、その表面に
金や銀などの導電性の良好な金属のメッキを施したもの
を用いることが好ましく、特に、金および銀の両方が被
覆されているものが好ましい。芯粒子の表面に導電性金
属を被覆する手段としては、特に限定されるものではな
いが、例えば化学メッキまたは無電解メッキにより行う
ことができる。
As the conductive particles used in the material for the conductive path element, it is preferable to use conductive magnetic particles from the viewpoint that the particles can be easily oriented by a method described later. Specific examples of the conductive magnetic particles include iron, cobalt, particles of metals exhibiting magnetism such as nickel, particles of alloys thereof, particles containing these metals, or particles containing these metals as core particles. The core particles are obtained by plating the surface of a core particle with a metal having good conductivity such as gold, silver, palladium, and rhodium, or inorganic particles or polymer particles such as nonmagnetic metal particles or glass beads as core particles. Examples thereof include a particle obtained by plating the surface of a particle with a conductive magnetic material such as nickel and cobalt, and a particle obtained by coating a core particle with both a conductive magnetic material and a metal having good conductivity. Among them, it is preferable to use nickel particles as core particles, and to use those obtained by plating the surface with a metal having good conductivity such as gold or silver, and in particular, both gold and silver are coated. Are preferred. Means for coating the surface of the core particles with a conductive metal is not particularly limited, but may be, for example, chemical plating or electroless plating.

【0026】導電性粒子として、芯粒子の表面に導電性
金属が被覆されてなるものを用いる場合には、良好な導
電性が得られる観点から、粒子表面における導電性金属
の被覆率(芯粒子の表面積に対する導電性金属の被覆面
積の割合)が40%以上であることが好ましく、さらに
好ましくは45%以上、特に好ましくは47〜95%で
ある。また、導電性金属の被覆量は、芯粒子の2.5〜
50重量%であることが好ましく、より好ましくは3〜
30重量%、さらに好ましくは3.5〜25重量%、特
に好ましくは4〜20重量%である。被覆される導電性
金属が金である場合には、その被覆量は、芯粒子の3〜
30重量%であることが好ましく、より好ましくは3〜
20重量%、さらに好ましくは3.5〜15重量%、特
に好ましくは4.5〜10重量%である。また、被覆さ
れる導電性金属が銀である場合には、その被覆量は、芯
粒子の3〜30重量%であることが好ましく、より好ま
しくは4〜25重量%、さらに好ましくは5〜23重量
%、特に好ましくは6〜20重量%である。更に、被覆
される導電性金属として金と銀の両方を用いる場合に
は、金の被覆量は、芯粒子の0.1〜5重量%であるこ
とが好ましく、より好ましくは0.2〜4重量%、さら
に好ましくは0.5〜3重量%であり、銀の被覆量は、
芯粒子の3〜30重量%であることが好ましく、より好
ましくは4〜25重量%、さらに好ましくは5〜20重
量%である。
When the conductive particles are formed by coating the surface of a core particle with a conductive metal, from the viewpoint of obtaining good conductivity, the coverage of the conductive metal on the particle surface (core particle) Is preferably 40% or more, more preferably 45% or more, and particularly preferably 47 to 95%. Moreover, the coating amount of the conductive metal is 2.5 to
It is preferably 50% by weight, more preferably 3 to
It is 30% by weight, more preferably 3.5 to 25% by weight, particularly preferably 4 to 20% by weight. When the conductive metal to be coated is gold, the coating amount is 3 to
It is preferably 30% by weight, more preferably 3 to
It is 20% by weight, more preferably 3.5 to 15% by weight, particularly preferably 4.5 to 10% by weight. When the conductive metal to be coated is silver, the coating amount is preferably 3 to 30% by weight of the core particles, more preferably 4 to 25% by weight, and further preferably 5 to 23% by weight. %, Particularly preferably from 6 to 20% by weight. Furthermore, when both gold and silver are used as the conductive metal to be coated, the coating amount of gold is preferably 0.1 to 5% by weight of the core particles, more preferably 0.2 to 4% by weight. % By weight, more preferably 0.5 to 3% by weight.
It is preferably 3 to 30% by weight of the core particles, more preferably 4 to 25% by weight, and still more preferably 5 to 20% by weight.

【0027】また、導電性粒子の粒子径は、1〜100
0μmであることが好ましく、より好ましくは2〜50
0μm、さらに好ましくは5〜300μm、特に好まし
くは10〜200μmである。また、導電性粒子の粒子
径分布(Dw/Dn)は、1〜10であることが好まし
く、より好ましくは1.01〜7、さらに好ましくは
1.05〜5、特に好ましくは1.1〜4である。この
ような条件を満足する導電性粒子を用いることにより、
得られる導電路素子20は、加圧変形が容易なものとな
り、また、当該導電路素子20において導電性粒子間に
十分な電気的接触が得られる。また、導電性粒子の形状
は、特に限定されるものではないが、高分子物質形成材
料中に容易に分散させることができる点で、球状のも
の、星形状のものあるいはこれらが凝集した2次粒子に
よる塊状のものであることが好ましい。
The particle diameter of the conductive particles is 1 to 100.
0 μm, more preferably 2 to 50 μm.
0 μm, more preferably 5 to 300 μm, particularly preferably 10 to 200 μm. Further, the particle size distribution (Dw / Dn) of the conductive particles is preferably 1 to 10, more preferably 1.01 to 7, further preferably 1.05 to 5, and particularly preferably 1.1 to 1. 4. By using conductive particles that satisfy such conditions,
The obtained conductive path element 20 can be easily deformed under pressure, and sufficient electrical contact between the conductive particles in the conductive path element 20 can be obtained. In addition, the shape of the conductive particles is not particularly limited. However, since the conductive particles can be easily dispersed in the polymer substance-forming material, the conductive particles have a spherical shape, a star shape, or a secondary shape in which these are aggregated. It is preferably a lump formed by particles.

【0028】また、導電性粒子の含水率は、5%以下で
あることが好ましく、より好ましくは3%以下、さらに
好ましくは2%以下、とくに好ましくは1%以下であ
る。このような条件を満足する導電性粒子を用いること
により、後述する製造方法において、導電路素子用材料
層を硬化処理する際に、当該導電路素子用材料層内に気
泡が生ずることが防止または抑制される。
The water content of the conductive particles is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, further preferably 2% or less, and particularly preferably 1% or less. By using the conductive particles satisfying such conditions, it is possible to prevent bubbles from being generated in the conductive path element material layer when the conductive path element material layer is cured in the manufacturing method described below or Is suppressed.

【0029】また、導電性粒子の表面がシランカップリ
ング剤などのカップリング剤で処理されたものを適宜用
いることができる。導電性粒子の表面がカップリング剤
で処理されることにより、当該導電性粒子と弾性高分子
物質との接着性が高くなり、その結果、得られる導電路
素子20は、繰り返しの使用における耐久性が高いもの
となる。カップリング剤の使用量は、導電性粒子の導電
性に影響を与えない範囲で適宜選択されるが、導電性粒
子表面におけるカップリング剤の被覆率(導電性芯粒子
の表面積に対するカップリング剤の被覆面積の割合)が
5%以上となる量であることが好ましく、より好ましく
は上記被覆率が7〜100%、さらに好ましくは10〜
100%、特に好ましくは20〜100%となる量であ
る。
Further, a conductive particle whose surface has been treated with a coupling agent such as a silane coupling agent can be used as appropriate. When the surface of the conductive particles is treated with the coupling agent, the adhesiveness between the conductive particles and the elastic polymer material is increased, and as a result, the obtained conductive path element 20 has durability in repeated use. Will be higher. The amount of the coupling agent used is appropriately selected within a range that does not affect the conductivity of the conductive particles. However, the coverage of the coupling agent on the surface of the conductive particles (the ratio of the coupling agent to the surface area of the conductive core particles). (The ratio of the coverage area) is preferably 5% or more, more preferably 7 to 100%, more preferably 10 to 10%.
The amount is 100%, particularly preferably 20 to 100%.

【0030】このような導電性粒子は、高分子物質形成
材料に対して体積分率で30〜60%、好ましくは35
〜50%となる割合で用いられることが好ましい。この
割合が30%未満の場合には、十分に電気抵抗値の小さ
い導電路素子が得られないことがある。一方、この割合
が60%を超える場合には、得られる導電路素子は脆弱
なものとなりやすく、導電路素子として必要な弾性が得
られないことがある。
Such conductive particles are used in a volume fraction of 30 to 60%, preferably 35%, based on the polymer material forming material.
Preferably, it is used at a ratio of up to 50%. When this ratio is less than 30%, a conductive path element having a sufficiently small electric resistance value may not be obtained. On the other hand, when this ratio exceeds 60%, the obtained conductive path element tends to be fragile, and the elasticity required for the conductive path element may not be obtained.

【0031】熱膨張抑制用シート体15は、熱膨張係数
の小さい材料により構成されている。具体的には、その
熱膨張係数が2.5×10-5/℃以下のものを用いるこ
とが好ましい。熱膨張抑制用シート体15を構成する材
料としては、当該の熱膨張係数をCとし、接続される回
路装置における異方導電性シートが対接される被接続面
を形成する材料の熱膨張係数をBとしたとき、|C−B
|の値が1×10-5/℃以下であることが好ましい。熱
膨張抑制用シート体15を構成する材料の熱膨張係数の
具体的な数値を挙げると、接続される回路装置における
被接続面を形成する材料が熱硬化性樹脂材料である場合
には、熱膨張係数が1×10-5〜2.5×10-5/℃の
材料を用いることができ、被接続面を形成する材料がセ
ラミックスなどの低熱膨張性無機材料である場合には、
熱膨張係数が3×10-6〜1×10-5/℃の材料を用い
ることができる。このような熱膨張抑制用シート体15
を構成する材料の具体例としては、ポリイミド樹脂、ガ
ラス繊維含有エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ガラス繊
維含有フェノール樹脂などが挙げられる。また、熱膨張
抑制用シート体15の厚みの大きさは、例えば0.01
〜0.5mmであり、好ましくは0.05〜0.2mm
である。
The thermal expansion suppressing sheet member 15 is made of a material having a small thermal expansion coefficient. Specifically, it is preferable to use one having a thermal expansion coefficient of 2.5 × 10 −5 / ° C. or less. As a material constituting the thermal expansion suppressing sheet member 15, the thermal expansion coefficient is C, and the thermal expansion coefficient of the material forming the connected surface with which the anisotropic conductive sheet in the connected circuit device is in contact. Is | B, | CB
Is preferably 1 × 10 −5 / ° C. or less. To give specific numerical values of the thermal expansion coefficient of the material constituting the thermal expansion suppressing sheet member 15, when the material forming the connected surface in the connected circuit device is a thermosetting resin material, When a material having an expansion coefficient of 1 × 10 −5 to 2.5 × 10 −5 / ° C. can be used, and the material forming the connection surface is a low thermal expansion inorganic material such as ceramics,
A material having a coefficient of thermal expansion of 3 × 10 −6 to 1 × 10 −5 / ° C. can be used. Such a sheet member 15 for suppressing thermal expansion.
As a specific example of the material constituting, there are a polyimide resin, a glass fiber-containing epoxy resin, a phenol resin, a glass fiber-containing phenol resin, and the like. The thickness of the thermal expansion suppressing sheet body 15 is, for example, 0.01
~ 0.5mm, preferably 0.05 ~ 0.2mm
It is.

【0032】熱膨張抑制用シート体15によって絶縁性
シート体10に作用される面方向の張力の大きさは、絶
縁性シート体10を構成する弾性高分子材料の熱膨張係
数および異方導電性シートが使用される環境温度に応じ
て適宜設定され、特に、異方導電性シートが使用される
最高の温度環境下においても、絶縁性シート体10に張
力が作用される程度の大きさであることが好ましい。
The magnitude of the surface tension applied to the insulating sheet member 10 by the thermal expansion suppressing sheet member 15 depends on the coefficient of thermal expansion of the elastic polymer material constituting the insulating sheet member 10 and the anisotropic conductivity. It is appropriately set in accordance with the environmental temperature at which the sheet is used, and is particularly large enough to exert a tension on the insulating sheet body 10 even under the highest temperature environment in which the anisotropic conductive sheet is used. Is preferred.

【0033】上記の異方導電性シートは、例えば以下の
ようにして製造することができる。先ず、図2に示すよ
うに、絶縁性シート体10の上面に熱膨張抑制用シート
体15が積層され、更に、この熱膨張抑制用シート体1
5の上面および絶縁性シート体10の下面に、一方の保
護層16および他方の保護層が積層されてなり、熱膨張
抑制用シート体15によって、絶縁性シート体10の面
方向に張力が作用された中間積層体1を作製する。次い
で、図3に示すように、この中間積層体1に、形成すべ
き導電路素子の配置パターンに従って、当該中間積層体
1の厚み方向に貫通する孔1Aを形成する。そして、図
4に示すように、中間積層体1の孔1A内に、硬化され
て弾性高分子物質となる高分子物質形成材料中に導電性
磁性体粒子が分散されてなる導電路素子用材料を充填す
ることにより、当該中間積層体1の孔1A内に導電路素
子用材料層20Aを形成する。
The above anisotropic conductive sheet can be manufactured, for example, as follows. First, as shown in FIG. 2, a thermal expansion suppressing sheet body 15 is laminated on the upper surface of the insulating sheet body 10, and the thermal expansion suppressing sheet body 1 is further laminated.
5, one protective layer 16 and the other protective layer are laminated on the lower surface of the insulating sheet member 10, and the thermal expansion suppressing sheet member 15 exerts a tension in the surface direction of the insulating sheet member 10. The manufactured intermediate laminated body 1 is produced. Next, as shown in FIG. 3, holes 1 </ b> A penetrating in the thickness direction of the intermediate laminate 1 are formed in the intermediate laminate 1 in accordance with the arrangement pattern of the conductive path elements to be formed. Then, as shown in FIG. 4, a conductive path element material in which conductive magnetic particles are dispersed in a polymer material forming material which is cured to become an elastic polymer material in the hole 1A of the intermediate laminate 1 To form the conductive path element material layer 20 </ b> A in the hole 1 </ b> A of the intermediate laminate 1.

【0034】以上において、中間積層体1は、例えば以
下のようにして作製することができる。一方の保護層1
6が一体的に設けられた熱膨張抑制用シート体15上
に、硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子形成
材料を塗布することによって高分子形成材料層を形成
し、この高分子形成材料層上に他方の保護層17を積層
した後、熱プレスなどによって高分子形成材料層の硬化
処理を行うことにより、図2に示すような中間積層体1
が得られる。
In the above, the intermediate laminate 1 can be produced, for example, as follows. One protective layer 1
A polymer-forming material layer is formed by applying a liquid polymer-forming material that is cured to become an elastic polymer material on a thermal expansion suppressing sheet body 15 provided integrally with the polymer-forming material 6. After the other protective layer 17 is laminated on the forming material layer, a curing treatment of the polymer forming material layer is performed by hot pressing or the like, whereby the intermediate laminate 1 shown in FIG.
Is obtained.

【0035】中間積層体1に孔1Aを形成する方法とし
ては、レーザー加工による方法、プレス加工による方
法、ドリル加工による方法などを利用することができ
る。また、中間積層体1の孔1A内に導電路素子用材料
を充填する方法としては、スクリーン印刷などの印刷
法、ロール圧入法などを利用することができる。
As a method of forming the hole 1A in the intermediate laminate 1, a method by laser processing, a method by press processing, a method by drill processing, or the like can be used. Further, as a method for filling the hole 1A of the intermediate laminate 1 with the conductive path element material, a printing method such as screen printing, a roll press-fitting method, or the like can be used.

【0036】導電路素子用材料中には、高分子物質形成
材料を硬化させるための硬化触媒を含有させることがで
きる。このような硬化触媒としては、有機過酸化物、脂
肪酸アゾ化合物、ヒドロシリル化触媒などを用いること
ができる。 硬化触媒として用いられる有機過酸化物の
具体例としては、過酸化ベンゾイル、過酸化ビスジシク
ロベンゾイル、過酸化ジクミル、過酸化ジターシャリー
ブチルなどが挙げられる。 硬化触媒として用いられる
脂肪酸アゾ化合物の具体例としては、アゾビスイソブチ
ロニトリルなどが挙げられる。ヒドロシリル化反応の触
媒として使用し得るものの具体例としては、塩化白金酸
およびその塩、白金−不飽和基含有シロキサンコンプレ
ックス、ビニルシロキサンと白金とのコンプレックス、
白金と1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサンとの
コンプレックス、トリオルガノホスフィンあるいはホス
ファイトと白金とのコンプレックス、アセチルアセテー
ト白金キレート、環状ジエンと白金とのコンプレックス
などの公知のものが挙げられる。硬化触媒の使用量は、
高分子物質形成材料の種類、硬化触媒の種類、その他の
硬化処理条件を考慮して適宜選択されるが、通常、高分
子物質形成材料100重量部に対して3〜15重量部で
ある。
The material for the conductive path element may contain a curing catalyst for curing the polymer substance forming material. As such a curing catalyst, an organic peroxide, a fatty acid azo compound, a hydrosilylation catalyst, or the like can be used. Specific examples of the organic peroxide used as the curing catalyst include benzoyl peroxide, bisdicyclobenzoyl peroxide, dicumyl peroxide, and ditertiary butyl peroxide. Specific examples of the fatty acid azo compound used as a curing catalyst include azobisisobutyronitrile. Specific examples of those which can be used as a catalyst for the hydrosilylation reaction include chloroplatinic acid and salts thereof, a platinum-unsaturated group-containing siloxane complex, a complex of vinylsiloxane and platinum,
Known examples include a complex of platinum and 1,3-divinyltetramethyldisiloxane, a complex of triorganophosphine or phosphite and platinum, an acetylacetate platinum chelate, and a complex of cyclic diene and platinum. The amount of curing catalyst used is
It is appropriately selected in consideration of the type of the polymer-forming material, the type of the curing catalyst, and other curing treatment conditions, and is usually 3 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer-forming material.

【0037】導電路素子用材料中には、必要に応じて、
通常のシリカ粉、コロイダルシリカ、エアロゲルシリ
カ、ナルミナなどの無機充填材を含有させることができ
る。このような無機充填材を含有させることにより、当
該導電路素子用材料のチクソトロピー性が確保され、そ
の粘度が高くなり、しかも、導電性粒子の分散安定性が
向上すると共に、硬化処理されて得られる導電路素子の
強度が高くなる。このような無機充填材の使用量は、特
に限定されるものではないが、あまり多量に使用する
と、後述する製造方法において、磁場による導電性粒子
の配向を十分に達成することができなくなるため、好ま
しくない。また、導電路素子用材料の粘度は、温度25
℃において100000〜1000000cpの範囲内
であることが好ましい。
In the material for the conductive path element, if necessary,
Inorganic fillers such as ordinary silica powder, colloidal silica, airgel silica, and nalmina can be contained. By including such an inorganic filler, the thixotropic property of the conductive path element material is secured, the viscosity is increased, and the dispersion stability of the conductive particles is improved, and the conductive particles are cured. The strength of the conductive path element to be obtained is increased. The use amount of such an inorganic filler is not particularly limited, but when used in an excessively large amount, in the production method described later, it becomes impossible to sufficiently achieve the orientation of the conductive particles by a magnetic field, Not preferred. Further, the viscosity of the conductive path element material is 25 ° C.
It is preferable that the temperature is in the range of 100,000 to 1,000,000 cp at a temperature of ° C.

【0038】次いで、図5に示すように、中間積層体1
の上面に一方の磁極板50を配置すると共に、当該中間
積層体1の下面に他方の磁極板55を配置し、更に、一
方の磁極板50の上面および他方の磁極板55の下面に
一対の電磁石51,56を配置する。ここで、一方の磁
極板50は、形成すべき導電路素子20の配置パターン
に対掌なパターンに従って強磁性体部分Mが形成され、
この強磁性体部分M以外の部分には非磁性体部分Nが形
成されており、当該強磁性体部分Mの各々がこれに対応
する導電路素子用材料層20Aの上方に位置するよう配
置される。また、他方の磁極板55は、形成すべき導電
路素子20の配置パターンと同一のパターンに従って強
磁性体部分Mが形成され、この強磁性体部分M以外の部
分には非磁性体部分Nが形成されており、当該強磁性体
部分Mの各々がこれに対応する導電路素子用材料層20
Aの下方に位置するよう配置される。
Next, as shown in FIG.
, One pole plate 50 is arranged on the upper surface, the other pole plate 55 is arranged on the lower surface of the intermediate laminated body 1, and a pair of pole plates are arranged on the upper surface of the one pole plate 50 and the lower surface of the other pole plate 55. The electromagnets 51 and 56 are arranged. Here, one magnetic pole plate 50 has a ferromagnetic portion M formed according to a pattern opposite to the arrangement pattern of the conductive path elements 20 to be formed,
A non-magnetic portion N is formed in a portion other than the ferromagnetic portion M, and each of the ferromagnetic portions M is arranged so as to be located above the corresponding conductive path element material layer 20A. You. On the other pole plate 55, a ferromagnetic portion M is formed in accordance with the same pattern as the arrangement pattern of the conductive path elements 20 to be formed. Each of the ferromagnetic portions M is formed so as to correspond to the corresponding conductive path element material layer 20.
A is disposed below A.

【0039】一方の磁極板50および他方の磁極板55
の各々における強磁性体部分Mを構成する材料として
は、鉄、ニッケル、コバルトまたはこれらの合金などを
用いることができる。また、一方の磁極板50および他
方の磁極板55の各々における非磁性体部分Nを構成す
る材料としては、銅などの非磁性金属、ポリイミドなど
の耐熱性樹脂などを用いることができる。
One pole plate 50 and the other pole plate 55
As a material constituting the ferromagnetic portion M in each of the above, iron, nickel, cobalt, or an alloy thereof can be used. In addition, as a material forming the nonmagnetic portion N in each of the one magnetic pole plate 50 and the other magnetic pole plate 55, a nonmagnetic metal such as copper, a heat-resistant resin such as polyimide, or the like can be used.

【0040】そして、電磁石51,56を作動させるこ
とにより、一方の磁極板50の強磁性体部分Mからこれ
に対応する他方の磁極板55の強磁性体部分Mに向かう
方向に平行磁場が作用する。その結果、導電路素子用材
料層20Aにおいては、当該導電路素子用材料層20A
中に分散されていた導電性磁性体粒子が、一方の磁極板
50の強磁性体部分Mとこれに対応する他方の磁極板5
5の強磁性体部分Mとの間に位置する部分に集合し、更
に好ましくは当該導電路素子用材料層20Aの厚み方向
に配向する。そして、この状態において、導電路素子用
材料層10Aを硬化処理することにより、図6に示すよ
うに、中間積層体1の孔1A内に導電路素子20が一体
的に形成される。
By operating the electromagnets 51 and 56, a parallel magnetic field acts in a direction from the ferromagnetic portion M of the one pole plate 50 to the corresponding ferromagnetic portion M of the other pole plate 55. I do. As a result, in the conductive path element material layer 20A, the conductive path element material layer 20A is formed.
The conductive magnetic particles dispersed in the ferromagnetic portion M of one pole plate 50 and the corresponding magnetic pole plate 5
5 and is more preferably oriented in the thickness direction of the conductive path element material layer 20A. Then, in this state, by curing the conductive path element material layer 10A, the conductive path element 20 is integrally formed in the hole 1A of the intermediate laminate 1 as shown in FIG.

【0041】以上において、導電路素子用材料層20A
の硬化処理は、平行磁場を作用させたままの状態で行う
こともできるが、平行磁場の作用を停止させた後に行う
こともできる。導電路素子用材料層20Aに作用される
平行磁場の強度は、平均で200〜10000ガウスと
なる大きさが好ましい。また、平行磁場を作用させる手
段としては、電磁石の代わりに永久磁石を用いることも
できる。このような永久磁石としては、上記の範囲の平
行磁場の強度が得られる点で、アルニコ(Fe−Al−
Ni−Co系合金)、フェライトなどよりなるものが好
ましい。このようにして得られる導電路素子20は、導
電性粒子が当該導電路素子20の厚み方向に並ぶよう配
向しているため、導電性粒子の割合が小さくても良好な
導電性が得られる。
In the above, the conductive path element material layer 20A
Can be performed with the parallel magnetic field applied, but can also be performed after the parallel magnetic field is stopped. The strength of the parallel magnetic field applied to the conductive path element material layer 20A is preferably 200 to 10000 gauss on average. As a means for applying a parallel magnetic field, a permanent magnet can be used instead of an electromagnet. As such a permanent magnet, Alnico (Fe-Al-
Ni-Co based alloys), ferrites and the like are preferable. In the conductive path element 20 thus obtained, since the conductive particles are oriented so as to be arranged in the thickness direction of the conductive path element 20, good conductivity can be obtained even if the ratio of the conductive particles is small.

【0042】導電路素子用材料層20Aの硬化処理は、
使用される材料によって適宜選定されるが、通常、加熱
処理によって行われる。加熱により導電路素子用材料層
20Aの硬化処理を行う場合には、電磁石51,56に
ヒーターを設ければよい。具体的な加熱温度および加熱
時間は、導電路素子用材料層20Aを構成する高分子物
質形成材料などの種類、導電性磁性体粒子の移動に要す
る時間などを考慮して適宜選定される。
The curing treatment of the conductive path element material layer 20A is as follows.
Although it is appropriately selected depending on the material used, it is usually performed by a heat treatment. When the conductive path element material layer 20A is cured by heating, the electromagnets 51 and 56 may be provided with heaters. The specific heating temperature and heating time are appropriately selected in consideration of the type of the polymer material forming material constituting the conductive path element material layer 20A, the time required for the movement of the conductive magnetic particles, and the like.

【0043】このような方法によれば、絶縁性シート体
10の貫通孔を含む中間積層体1の孔1A内に充填され
た状態の導電路素子用材料層20Aを硬化処理すること
により、絶縁性シート体10の貫通孔内に充填された状
態で一体的に設けられた複数の導電路素子20が確実に
形成される。
According to such a method, the material layer 20A for the conductive path element filled in the hole 1A of the intermediate laminated body 1 including the through hole of the insulating sheet body 10 is cured, whereby the insulation is achieved. The plurality of conductive path elements 20 integrally provided in a state of being filled in the through holes of the conductive sheet body 10 are surely formed.

【0044】このようにして導電路素子20が形成され
た中間積層体1を、一方の磁極板50と他方の磁極板5
5との間から取り出し、更に、熱膨張抑制用シート体1
5の上面および絶縁性シート体10の下面から一方の保
護層16および他方の保護層17を剥離することによ
り、図1に示す構成の異方導電性シートが得られる。
The intermediate laminated body 1 on which the conductive path element 20 is formed in this manner is divided into one pole plate 50 and the other pole plate 5.
5 and further removed from the sheet 1 for suppressing thermal expansion.
By peeling one protective layer 16 and the other protective layer 17 from the upper surface of 5 and the lower surface of the insulating sheet body 10, an anisotropic conductive sheet having the configuration shown in FIG. 1 is obtained.

【0045】このような異方導電性シートにおいては、
導電路素子20の一面に、例えば被検査回路装置の被検
査電極を接触させると共に、当該導電路素子20の他面
に検査用回路基板の検査用電極を接触させ、更に当該異
方導電性シートの厚み方向に押圧することにより、被検
査回路装置の被検査電極と検査用回路基板の検査用電極
とが電気的に接続され、この状態で保持される。そし
て、環境温度を常温から検査実行温度にまで上昇させた
後、当該回路装置について所要の電気的検査が行われ
る。このとき、異方導電性シートの導電路素子20に
は、被検査回路装置の被検査電極によって押圧されるこ
とにより、当該導電路素子20の厚み方向に圧力が加わ
ると共に、絶縁性シート体10が熱膨張することによ
り、当該導電路素子20の面方向に圧力が加わる。
In such an anisotropic conductive sheet,
One surface of the conductive path element 20 is brought into contact with, for example, an electrode to be inspected of a circuit device to be inspected, and the other surface of the conductive path element 20 is brought into contact with an inspection electrode of a circuit board for inspection. By pressing in the thickness direction, the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected and the inspection electrodes of the inspection circuit board are electrically connected and held in this state. Then, after raising the environmental temperature from the normal temperature to the inspection execution temperature, a required electrical inspection is performed on the circuit device. At this time, the conductive path element 20 of the anisotropic conductive sheet is pressed by the electrode under test of the circuit device under test, so that pressure is applied in the thickness direction of the conductive path element 20 and the insulating sheet body 10 is pressed. Is thermally expanded, so that pressure is applied in the surface direction of the conductive path element 20.

【0046】而して、上記の異方導電性シートによれ
ば、絶縁性シート体10が熱膨張係数の小さい弾性高分
子材料により構成されているため、温度変化による熱履
歴を受けた場合であっても、当該絶縁性シート体10の
熱膨張が少なく、これにより、導電路素子20にその面
方向に大きい圧力が加わることが回避される。特に、絶
縁性シート体10を構成する材料として、被検査回路装
置における被接続面を形成する材料に近似した熱膨張係
数を有する弾性高分子材料を用いることにより、当該半
導体集積回路の被接続面によって絶縁性シート体10の
面方向における熱膨張が阻害されることがないため、導
電路素子20にその面方向に加わる応力を確実に抑制す
ることができる。従って、当該異方導電性シートを、温
度変化による熱履歴を受ける環境下において繰り返して
使用した場合でも、導電路素子20が早期に破損するこ
とがないため、所要の電気的を確実に達成することがで
き、長い使用寿命が得られる。
According to the above-described anisotropic conductive sheet, since the insulating sheet body 10 is made of an elastic polymer material having a small coefficient of thermal expansion, the insulating sheet body 10 may be subjected to a thermal history due to a temperature change. Even if there is, the thermal expansion of the insulating sheet body 10 is small, so that a large pressure is applied to the conductive path element 20 in the surface direction. In particular, by using an elastic polymer material having a thermal expansion coefficient close to the material forming the connection surface of the circuit device under test as a material forming the insulating sheet body 10, the connection surface of the semiconductor integrated circuit is used. Since the thermal expansion in the plane direction of the insulating sheet body 10 is not hindered by this, the stress applied to the conductive path element 20 in the plane direction can be reliably suppressed. Therefore, even if the anisotropic conductive sheet is repeatedly used in an environment that receives a thermal history due to a temperature change, the conductive path element 20 is not damaged at an early stage. And a long service life can be obtained.

【0047】また、絶縁性シート体10の上面に、熱膨
張係数の小さい絶縁性材料よりなる熱膨張抑制用シート
体15が一体的に設けられており、この熱膨張抑制用シ
ート体15によって、絶縁性シート体10にはその面方
向に張力が作用されているため、温度変化による熱履歴
を受けた場合であっても、絶縁性シート体10に作用さ
れる張力が変化することにより、当該絶縁性シート体1
0の面方向における実質上の熱膨張が緩和される結果、
導電路素子20にその面方向に加わる圧力を一層抑制す
ることができる。
A thermal expansion suppressing sheet 15 made of an insulating material having a small coefficient of thermal expansion is integrally provided on the upper surface of the insulating sheet 10, and this thermal expansion suppressing sheet 15 Since tension is applied to the insulating sheet body 10 in the surface direction, even when the insulating sheet body 10 receives a thermal history due to a temperature change, the tension applied to the insulating sheet body 10 changes, thereby Insulating sheet 1
As a result, the substantial thermal expansion in the zero plane direction is reduced,
The pressure applied to the conductive path element 20 in the surface direction can be further suppressed.

【0048】〈第2の実施の形態〉図7は、本発明の第
2の実施の形態に係る異方導電性シートの要部の構成を
示す説明用断面図である。この異方導電性シートにおい
ては、接続すべき電極のパターンに対応する特定のパタ
ーンに従って厚み方向に貫通して伸びる複数の貫通孔1
1が形成された絶縁性シート体10が設けられ、この絶
縁性シート体10の貫通孔11の各々には、導電路素子
20が当該貫通孔11内に充填された状態で当該絶縁性
シート体10と一体的に設けられており、導電路素子2
0の各々は互いに実質的に独立した状態とされている。
絶縁性シート体10の上面には、熱膨張抑制用シート体
15が一体的に設けられており、この熱膨張抑制用シー
ト体15によって、絶縁性シート体15にはその面方向
に張力が作用されている。また、この例の異方導電性シ
ートにおいては、導電路素子20は、その上面が熱膨張
抑制用シート体15の上面と同一平面上に位置され、そ
の下面が絶縁性シート体10の下面から僅かに突出した
状態に形成されている。そして、導電路素子20の上面
およびその周辺における熱膨張抑制用シート体15の上
面を覆うよう、接点用金属膜25が当該熱膨張抑制用シ
ート体15の上面から突出した状態に設けられている。
以上において、絶縁性シート体10、熱膨張抑制用シー
ト体15および導電路素子20の各々の具体的構成は、
前述の第1の実施の形態に係る異方導電性シートと同様
である。
<Second Embodiment> FIG. 7 is an explanatory sectional view showing the structure of a main part of an anisotropic conductive sheet according to a second embodiment of the present invention. In this anisotropic conductive sheet, a plurality of through holes 1 extending in the thickness direction according to a specific pattern corresponding to a pattern of an electrode to be connected.
1 is provided, and each of the through holes 11 of the insulating sheet body 10 is provided with a conductive path element 20 in the state where the through hole 11 is filled. 10 and the conductive path element 2
Each of the 0s is substantially independent of each other.
On the upper surface of the insulating sheet body 10, a sheet member 15 for suppressing thermal expansion is provided integrally. With the sheet member 15 for suppressing thermal expansion, tension acts on the insulating sheet body 15 in the surface direction. Have been. In the anisotropic conductive sheet of this example, the upper surface of the conductive path element 20 is located on the same plane as the upper surface of the thermal expansion suppressing sheet member 15, and the lower surface of the conductive path element 20 extends from the lower surface of the insulating sheet member 10. It is formed in a slightly protruding state. The contact metal film 25 is provided so as to protrude from the upper surface of the thermal expansion suppressing sheet member 15 so as to cover the upper surface of the conductive path element 20 and the upper surface of the thermal expansion suppressing sheet member 15 in the periphery thereof. .
In the above, the specific configuration of each of the insulating sheet body 10, the thermal expansion suppressing sheet body 15, and the conductive path element 20 is as follows.
This is the same as the anisotropic conductive sheet according to the first embodiment.

【0049】接点用金属膜25を構成する金属材料とし
ては、銅、金、ロジウム、白金、パラジウム、ニッケル
またはそれらのメッキあるいはそれらの合金などを用い
ることができる。また、接点用金属膜25の厚みは、例
えば0.005〜0.5mmであり、好ましくは0.0
2〜0.1mmである。
As a metal material constituting the contact metal film 25, copper, gold, rhodium, platinum, palladium, nickel, their plating, or alloys thereof can be used. The thickness of the contact metal film 25 is, for example, 0.005 to 0.5 mm, preferably 0.05 to 0.5 mm.
2 to 0.1 mm.

【0050】上記の異方導電性シートは、例えば以下の
ようにして製造することができる。先ず、図8に示すよ
うに、絶縁性シート体10の上面に熱膨張抑制用シート
体15および金属薄層25Aがこの順で積層され、当該
絶縁性シート体10の下面に保護層21が積層されてな
り、熱膨張抑制用シート体15によって、絶縁性シート
体10の面方向に張力が作用された中間積層体2を作製
する。次いで、図9に示すように、この中間積層体2
に、形成すべき導電路素子の配置パターンに従って、保
護層21、絶縁性シート体10および熱膨張抑制用シー
ト体15を貫通すると共に、金属薄層25Aを貫通しな
い穴部2Aを形成する。そして、図10に示すように、
中間積層体2の穴部2A内に、硬化されて弾性高分子物
質となる高分子物質形成材料中に導電性磁性体粒子が分
散されてなる導電路素子用材料を充填することにより、
当該中間積層体2の穴部2A内に導電路素子用材料層2
0Aを形成する。
The above-described anisotropic conductive sheet can be manufactured, for example, as follows. First, as shown in FIG. 8, a sheet member 15 for suppressing thermal expansion and a thin metal layer 25A are laminated in this order on the upper surface of the insulating sheet member 10, and a protective layer 21 is laminated on the lower surface of the insulating sheet member 10. The intermediate laminated body 2 is produced by applying a tension in the surface direction of the insulating sheet body 10 by the thermal expansion suppressing sheet body 15. Next, as shown in FIG.
Then, according to the arrangement pattern of the conductive path elements to be formed, a hole 2A that penetrates the protective layer 21, the insulating sheet body 10, and the thermal expansion suppressing sheet body 15 and does not penetrate the thin metal layer 25A is formed. Then, as shown in FIG.
Filling the hole 2A of the intermediate laminate 2 with a conductive path element material in which conductive magnetic particles are dispersed in a polymer material forming material that is cured to become an elastic polymer material,
The material layer 2 for the conductive path element is formed in the hole 2A of the intermediate laminate 2.
OA is formed.

【0051】以上において、中間積層体2は、例えば以
下のようにして作製することができる。金属薄層25A
が一体的に設けられた熱膨張抑制用シート体15上に、
硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子形成材料
を塗布することによって高分子形成材料層を形成し、こ
の高分子形成材料層上に保護層21を積層した後、熱プ
レスなどによって高分子形成材料層の硬化処理を行うこ
とにより、図8に示すような中間積層体2が得られる。
また、導電路素子用材料の具体的構成は、第1の実施の
形態における製造方法と同様である。
In the above, the intermediate laminate 2 can be produced, for example, as follows. Thin metal layer 25A
On the thermal expansion suppressing sheet body 15 integrally provided,
A polymer-forming material layer is formed by applying a liquid polymer-forming material that is cured to become an elastic polymer material, and a protective layer 21 is laminated on the polymer-forming material layer. By performing the curing treatment of the molecule forming material layer, an intermediate laminate 2 as shown in FIG. 8 is obtained.
The specific configuration of the conductive path element material is the same as the manufacturing method in the first embodiment.

【0052】このようにして形成された導電路素子用材
料層20Aに対し、第1の実施の形態と同様にして平行
磁場を作用させると共に、当該導電路素子用材料層20
Aの硬化処理を行うことにより、図11に示すように、
中間積層体2の穴部2A内に導電路素子20が一体的に
形成される。
In the same manner as in the first embodiment, a parallel magnetic field is applied to the conductive path element material layer 20A thus formed, and the conductive path element material layer 20A is formed.
By performing the curing treatment of A, as shown in FIG.
The conductive path element 20 is integrally formed in the hole 2A of the intermediate laminate 2.

【0053】そして、導電路素子20が形成された中間
積層体2を、一方の磁極板50と他方の磁極板55との
間から取り出し、図12に示すように、金属薄層25A
上に、導電路素子20が配置された個所に孔19を有す
るレジスト層18を形成し、その後、レジスト層18の
孔19を介して露出した金属薄層25A上にメッキ処理
を施すことにより、図13に示すように、所要の厚みの
接点用金属膜25が形成される。そして、金属薄層25
A上に形成されたレジスト層18を除去し、更に、フォ
トリソグラフィーおよびエッチング処理を施して、金属
薄層25Aにおける接点用金属膜25が形成された部分
以外の部分を除去すると共に、保護層21を剥離するこ
とにより、図7に示す構成の異方導電性シートが得られ
る。
Then, the intermediate laminated body 2 on which the conductive path element 20 is formed is taken out from between the one magnetic pole plate 50 and the other magnetic pole plate 55, and as shown in FIG.
By forming a resist layer 18 having a hole 19 at the position where the conductive path element 20 is disposed, and then performing a plating process on the thin metal layer 25A exposed through the hole 19 of the resist layer 18, As shown in FIG. 13, a contact metal film 25 having a required thickness is formed. And the metal thin layer 25
After removing the resist layer 18 formed on A, photolithography and etching are performed to remove a portion of the thin metal layer 25A other than the portion where the contact metal film 25 is formed, and a protective layer 21 is formed. By peeling, an anisotropic conductive sheet having the configuration shown in FIG. 7 is obtained.

【0054】この異方導電性シートにおいては、導電路
素子20の一面に設けられた接点用金属膜25に、例え
ば被検査回路装置の被検査電極を接触させると共に、当
該導電路素子20の他面に、検査用回路基板の検査用電
極を接触させ、更に当該異方導電性シートの厚み方向に
押圧することにより、被検査回路装置の被検査電極と検
査用回路基板の検査用電極との所要の電気的接続が達成
される。
In this anisotropic conductive sheet, for example, an electrode to be inspected of a circuit device to be inspected is brought into contact with the contact metal film 25 provided on one surface of the conductive path element 20, The test electrode of the test circuit board is brought into contact with the test electrode of the test circuit board by pressing the test electrode in the thickness direction of the anisotropic conductive sheet. The required electrical connections are achieved.

【0055】このような異方導電性シートによれば、前
述の第1の実施の形態に係る異方導電性シートと同様の
効果が得られると共に、更に、以下のような効果が得ら
れる。すなわち、導電路素子20の上面には、接点用金
属膜25が形成されているため、接続すべき電極がその
表面に酸化膜を有するものであっても、接点用金属膜2
5によって当該酸化膜を突き破ることができるため、所
要の電気的接続を確実に達成することができる。また、
接続すべき電極には、導電路素子20が直接接触するこ
とがないため、導電路素子20を構成する弾性高分子物
質中に含有される低分子量成分により、電極の表面が汚
染されることがない。
According to such an anisotropic conductive sheet, the same effects as those of the anisotropic conductive sheet according to the first embodiment can be obtained, and further, the following effects can be obtained. That is, since the contact metal film 25 is formed on the upper surface of the conductive path element 20, even if the electrode to be connected has an oxide film on its surface, the contact metal film 2
5, the oxide film can be broken through, so that the required electrical connection can be reliably achieved. Also,
Since the conductive path element 20 does not directly contact the electrode to be connected, the surface of the electrode may be contaminated by the low molecular weight component contained in the elastic polymer material constituting the conductive path element 20. Absent.

【0056】[0056]

【発明の効果】本発明の異方導電性シートによれば、熱
膨張係数の小さい弾性高分子材料よりなる絶縁性シート
体の貫通孔内に、導電路素子が設けられているため、温
度変化による熱履歴を受けた場合であっても、当該絶縁
性シート体の熱膨張が少なく、これにより、導電路素子
にその面方向に大きい圧力が加わることが回避される。
特に、絶縁性シート体を構成する材料として、被検査回
路装置における被接続面を形成する材料に近似した熱膨
張係数を有する弾性高分子材料を用いることにより、当
該半導体集積回路の被接続面によって絶縁性シート体の
面方向における熱膨張が阻害されることがないため、導
電路素子にその面方向に加わる応力を確実に抑制するこ
とができる。従って、当該異方導電性シートを、温度変
化による熱履歴を受ける環境下において繰り返して使用
した場合でも、導電路素子が早期に破損することがない
ため、所要の電気的を確実に達成することができ、長い
使用寿命が得られる。
According to the anisotropic conductive sheet of the present invention, since the conductive path element is provided in the through hole of the insulating sheet made of an elastic polymer material having a small coefficient of thermal expansion, the temperature change , The thermal expansion of the insulating sheet body is small, so that a large pressure is applied to the conductive path element in the surface direction.
In particular, by using an elastic polymer material having a thermal expansion coefficient similar to that of the material forming the connection surface in the circuit device under test as a material forming the insulating sheet body, the connection surface of the semiconductor integrated circuit can be improved. Since the thermal expansion in the plane direction of the insulating sheet body is not hindered, the stress applied to the conductive path element in the plane direction can be reliably suppressed. Therefore, even when the anisotropic conductive sheet is repeatedly used in an environment that receives a thermal history due to a temperature change, the conductive path element is not damaged at an early stage. And a long service life is obtained.

【0057】また、絶縁性シート体の上面に一体的に設
けられた熱膨張係数の小さい絶縁性材料よりなる熱膨張
抑制用シート体によって、絶縁性シート体の面方向に張
力を作用させることにより、温度変化による熱履歴を受
けた場合であっても、絶縁性シート体に作用される張力
が変化することにより、当該絶縁性シート体の面方向に
おける実質上の熱膨張が緩和される結果、導電路素子に
その面方向に加わる圧力を一層抑制することができる。
Further, by applying a tension in the surface direction of the insulating sheet body, a thermal expansion suppressing sheet body made of an insulating material having a small thermal expansion coefficient is provided integrally on the upper surface of the insulating sheet body. Even when receiving a thermal history due to a temperature change, by changing the tension applied to the insulating sheet body, the substantial thermal expansion in the plane direction of the insulating sheet body is reduced, The pressure applied to the conductive path element in the surface direction can be further suppressed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1の実施の形態に係る異方導電性シートの要
部の構成を示す説明用断面図である。
FIG. 1 is an explanatory cross-sectional view illustrating a configuration of a main part of an anisotropic conductive sheet according to a first embodiment.

【図2】図1に示す異方導電性シートを製造するために
用いられる中間積層体の構成を示す説明用断面図であ
る。
FIG. 2 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of an intermediate laminate used for manufacturing the anisotropic conductive sheet shown in FIG.

【図3】図2に示す中間積層体に孔が形成された状態を
示す説明用断面図である。
FIG. 3 is an explanatory sectional view showing a state in which holes are formed in the intermediate laminate shown in FIG. 2;

【図4】中間積層体の孔内に導電路素子用材料層が形成
された状態を示す説明用断面図である。
FIG. 4 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a conductive path element material layer is formed in a hole of an intermediate laminate.

【図5】中間積層体の孔内に形成された導電路素子用材
料層に平行磁場を作用させた状態をを示す説明用断面図
である。
FIG. 5 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a parallel magnetic field is applied to a conductive path element material layer formed in a hole of an intermediate laminate.

【図6】中間積層体の孔内に導電路素子が形成された状
態を示す説明用断面図である。
FIG. 6 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a conductive path element is formed in a hole of an intermediate laminate.

【図7】第2の実施の形態に係る異方導電性シートの要
部の構成を示す説明用断面図である。
FIG. 7 is an explanatory cross-sectional view illustrating a configuration of a main part of an anisotropic conductive sheet according to a second embodiment.

【図8】図7に示す異方導電性シートを製造するために
用いられる中間積層体の構成を示す説明用断面図であ
る。
8 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of an intermediate laminate used for manufacturing the anisotropic conductive sheet shown in FIG.

【図9】図8に示す中間積層体に穴部が形成された状態
を示す説明用断面図である。
FIG. 9 is an explanatory sectional view showing a state in which a hole is formed in the intermediate laminate shown in FIG. 8;

【図10】中間積層体の穴部内に導電路素子用材料層が
形成された状態を示す説明用断面図である。
FIG. 10 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a conductive path element material layer is formed in a hole of an intermediate laminate.

【図11】中間積層体の穴部内に導電路素子が形成され
た状態を示す説明用断面図である。
FIG. 11 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a conductive path element is formed in a hole of an intermediate laminate.

【図12】中間積層体における金属薄層上にレジスト層
が形成された状態を示す説明用断面図である。
FIG. 12 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a resist layer is formed on a thin metal layer in the intermediate laminate.

【図13】導電路素子上に接点用金属膜が形成された状
態を示す説明用断面図である。
FIG. 13 is an explanatory sectional view showing a state in which a contact metal film is formed on a conductive path element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 中間積層体 1A 孔 2 中間積層体 2A 穴部 10 絶縁性シート体 11 貫通孔 15 熱膨張抑制用シート体 16 一方の保護層 17 他方の保護層 18 レジスト層 19 孔 20 導電路素子 21 保護層 20A 導電路素子用材料層 25 接点用金属膜 25A 金属薄層 50 一方の磁極板 51 電磁石 55 他方の磁極板 56 電磁石 M 強磁性体部分 N 非磁性体部分 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Intermediate laminated body 1A hole 2 Intermediate laminated body 2A hole 10 Insulating sheet body 11 Through hole 15 Thermal expansion suppressing sheet 16 One protective layer 17 The other protective layer 18 Resist layer 19 Hole 20 Conductive path element 21 Protective layer Reference Signs List 20A Conductive path element material layer 25 Contact metal film 25A Thin metal layer 50 One magnetic pole plate 51 Electromagnet 55 The other magnetic pole plate 56 Electromagnet M Ferromagnetic part N Nonmagnetic part

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 それぞれ厚み方向に伸びる複数の貫通孔
が形成された絶縁性シート体と、 この絶縁性シート体の貫通孔の各々に、当該貫通孔内に
充填された状態で一体的に設けられた弾性高分子物質中
に導電性粒子が含有されてなる導電路素子とを具えてな
り、 前記絶縁性シート体は、熱膨張係数の小さい弾性高分子
材料により構成されていることを特徴とする異方導電性
シート。
An insulating sheet body having a plurality of through holes extending in a thickness direction thereof, and a plurality of through holes of the insulating sheet body provided integrally with the through holes so as to be filled therein. A conductive path element in which conductive particles are contained in the elastic polymer material provided, wherein the insulating sheet body is made of an elastic polymer material having a small coefficient of thermal expansion. Anisotropic conductive sheet.
【請求項2】 絶縁性シート体を構成する弾性高分子材
料の熱膨張係数が4×10-5/℃以下であることを特徴
とする請求項1に記載の異方導電性シート。
2. The anisotropic conductive sheet according to claim 1, wherein a coefficient of thermal expansion of the elastic polymer material constituting the insulating sheet body is 4 × 10 −5 / ° C. or less.
【請求項3】 絶縁性シート体を構成する弾性高分子材
料の熱膨張係数をA、接続される回路装置における被接
続面を形成する材料の熱膨張係数をBとしたとき、|A
−B|の値が2×10-5/℃以下であることを特徴とす
る請求項1または請求項2に記載の異方導電性シート。
3. Assuming that the thermal expansion coefficient of the elastic polymer material constituting the insulating sheet body is A and the thermal expansion coefficient of the material forming the connection surface in the connected circuit device is B, | A
The anisotropic conductive sheet according to claim 1, wherein the value of −B | is 2 × 10 −5 / ° C. or less.
【請求項4】 絶縁性シート体が、弾性高分子物質10
0重量部中に熱膨張抑制用充填材10〜60重量部が分
散されてなる弾性高分子材料により構成されていること
を特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の
異方導電性シート。
4. The insulating sheet body is made of an elastic polymer material 10
The anisotropic material according to any one of claims 1 to 3, wherein the material is made of an elastic polymer material in which 10 to 60 parts by weight of a filler for suppressing thermal expansion is dispersed in 0 parts by weight. Conductive sheet.
【請求項5】 絶縁性シート体の少なくとも一面に、熱
膨張係数の小さい絶縁性材料よりなる熱膨張抑制用シー
ト体が一体的に設けられ、 この熱膨張抑制用シート体によって、前記絶縁性シート
体にはその面方向に張力が作用されていることを特徴と
する請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の異方導電
性シート。
5. A thermal expansion suppressing sheet made of an insulating material having a small coefficient of thermal expansion is integrally provided on at least one surface of the insulating sheet, and the insulating sheet is provided by the thermal expansion suppressing sheet. The anisotropic conductive sheet according to any one of claims 1 to 4, wherein a tension is applied to the body in the surface direction.
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