JP3255875B2 - 半導体集積回路装置及びそのテスト方法 - Google Patents
半導体集積回路装置及びそのテスト方法Info
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Description
ック回路とを内蔵する半導体集積回路装置及びそのテス
ト方法に関する。
Iと略称する。)には、データ処理を高速に行なうため
にデータ処理用バッファとしての複数の小容量メモリを
同一基板に内蔵する形態や、マイクロプロセッサのキャ
ッシュメモリのように大容量メモリを同一基板に内蔵す
る形態といった多種多様なメモリの内蔵形態を有するも
のが登場している。
合に、該LSIの規模の増大化と併せて、テストカバレ
ッジの確保及び増大するテスト時間の削減等が重要な課
題になってきている。
りなる内部組み合わせ回路の動作テスト(いわゆる、ロ
ジックテスト)は、LSIにその機能が確認できる所定
のテストベクタを与え、該テストベクタによる動作値を
該LSIから読み出してその期待値と比較することによ
り行なわれる。この方法は、動作テストのテストカバレ
ッジを少ないテストベクタで確保するには必ずしも良い
方法とはいえない。
ップフロップなどにスキャン機能を有する順序回路を設
け、該順序回路を用いて行なうスキャン方式のテスト方
法が数多く利用されるようになってきている。スキャン
方式のテスト(以下、スキャンテストと呼ぶ。)方法
は、例えば、樹下他著、「デイジタル回路の故障診断
(上)」(pp214−215、工学図書株式会社)に示される
通りである。また、LSIに内蔵される内蔵メモリのメ
モリテストは、マーチングアルゴリズムやチェッカアル
ゴリズム等の所定アルゴリズムを用いたデータの読み書
き動作テストを行なうことにより実現されている。
読み書き動作テストだけでは不十分であり、例えば、S
RAMベースのメモリセル構造を有するものであって
も、特定のメモリセルにおいて、メモリセルの漏れ電流
によるデータ消失等の、製造上の不具合が生ずる可能性
があるため、所定期間のデータ保持を保証するテスト、
すなわち、あらかじめメモリに所定のデータを書き込ん
でおき、所定時間、メモリにデータの読み書き動作を行
なわず、該所定時間経過後に書き込んだデータが保持さ
れているか否かをテストするデータ保持テストを行なう
必要がある。データ保持テストは数十ms〜数百msと
いう、メモリアクセスを行なわない保留期間を必要と
し、LSIの一般の動作時間の数ns〜数十nsに比べ
てかなり長い時間を必要とする。
方法を図面を参照しながら説明する。
路図である。図8に示すように、半導体基板100上に
は、MPEG規格に準拠したデータやCG(Computer G
raphics)データ等の画像処理を行なう画像処理部11
0と、画像処理データを記憶するメモリ回路部120
と、該メモリ回路部120の入出力動作を制御するメモ
リ制御部125とが形成されている。これらの画像処理
部110、メモリ回路部120及びメモリ制御部125
には、データの入出力の同期をとるためのクロック信号
130がそれぞれ入力されている。
0の動作テストの1つであるスキャンテストを行なうた
めのスキャンパスを有するスキャン機能付きフリップフ
ロップ111A,111Bが設けられている。
30に基づいて内部データバスDINの同期をとるスキ
ャン機能付きフリップフロップ121aと、クロック信
号130に基づいて内部アドレスバスAINの同期をと
るスキャン機能付きフリップフロップ121bと、クロ
ック信号130に基づいて内部メモリ制御信号WRの同
期をとるスキャン機能付きフリップフロップ121c
と、同期データ信号135、同期アドレス信号136及
び同期メモリ制御信号137の入力を受け、画像処理デ
ータの読み書き及び該画像処理データを記憶するメモリ
コア123とから構成されている。ここで、フリップフ
ロップ121a〜121cは第1のスキャンパス回路1
21を構成する。
モリを有する半導体集積回路装置において、メモリ回路
部120の入力側のデータ同期用のフリップフロップ1
21a〜121cをスキャン化しているのは、メモリ制
御部125から該第1のスキャンパス回路121に入力
されるテストデータに対して、テスト用セレクタを含む
データパスを用いてスキャンテストを行なえるようにす
るためである。これにより、テスト可能領域129のテ
ストカバレッジを向上させている。また、テストの一括
化に伴い、テストカバレッジの管理をテスト項目別に一
括管理することができるため、例えば、メモリ回路部1
20とメモリ制御部125との故障の区別を容易にする
といった利点がある。さらに、1チップ構成でない場
合、例えば、メモリ回路部120とメモリ制御部125
とが別々の基板に形成されている場合は、両者の接続は
プリント基板となるため、メモリコア123と分離して
テストを行なえる利点もある。
25からのチップセレクト信号132が入力されるCS
端子122が設けられている。ここで、チップセレクト
信号132は、所定期間中にデータの読み書きを禁止し
て動作電流の低減を図る目的や、複数の小容量メモリを
用いて大容量のメモリを構成するバンクメモリを採用す
る場合に、選択されたバンクメモリ以外のメモリを読み
書き禁止にして、選択されたバンクメモリのみをアクセ
ス可能にする目的等に用いられる。
125のスキャンテストを行なう第2のスキャンパス回
路126と、メモリ回路部120の入出力動作を制御す
るメモリ制御回路127とが設けられている。スキャン
機能付きフリップフロップ111A,111B及び第2
のスキャンパス回路126はスキャンパス131によっ
て直列に接続されている。
との間には、メモリ回路部120の読み書き動作テスト
を行なう際に活性化されるテストモード信号133によ
って切り替えられるセレクタ128等が接続されてい
る。
行なうには、スキャンイン信号131aがフリップフロ
ップ121aに入力され、フリップフロップ121bを
通ってフリップフロップ121cが出力するスキャンア
ウト信号131bとなってスキャンパス131を形成す
ることによって行なわれる。
述の樹下他による書籍に示される通りである。
モリの読み書き動作テストを行なう際には、テストモー
ド信号133が活性化される。この活性化によりチップ
セレクト信号132はメモリ回路部120のテスト期間
中は常に活性状態に保持される。なお、チップセレクト
信号132が活性化されている間はメモリ回路部120
に対して読み書き動作が許可される状態に遷移し、チッ
プセレクト信号132が非活性化されている間はメモリ
回路部120に対して読み書き動作が禁止される状態に
遷移する。
33が非活性の場合は、チップセレクト信号132はメ
モリ制御部125の制御出力に依存するため、実質的に
不定値となる。すなわち、通常動作時において、チップ
セレクト信号132がメモリ制御部125によって活性
化されるのは、メモリの読み書きアクセスを禁止して定
常電流以外の消費電流量を減らす場合や、複数のバンク
から構成されるメモリのうちバンク選択の対象外である
メモリのアクセスを禁止する場合である。
は、セレクタ128がテストデータバスTBを選択し、
テストデータ値がメモリ回路部120の内部データバス
DINを通って該メモリ回路部120に入力される。そ
の結果、メモリ回路部120をLSIの外部から直接又
は間接的にアクセスすることが可能になり、テストデー
タバスTB、テストアドレスバスTA及びテストメモリ
制御信号TCを用いてメモリ回路部120に対して所定
のメモリパターンの書き込みを行なって、テスト出力端
子から出力されるテストデータの読み出し値とその期待
値とを比較することにより、メモリ回路部120の読み
書き動作テストが完了する。
するテストは読み書き動作テストだけではなく、データ
保持テストを行なう必要がある。データ保持テストは、
メモリの製造原因などによって生じる異常な漏れ電流や
電源電圧依存性によって規定されるデータ保持期間より
も前に、記憶させたデータが消失してしまう不具合を防
止するための重要な手段となっている。
来の半導体集積回路装置のテスト方法によると、メモリ
回路部120のデータ保持テストの所用時間は数十ms
〜数百msであって、基本動作サイクルが(数ns〜数
十ns)×パターン数となる他のテストの所要時間より
も多いため、テスト対象の半導体集積回路装置のテスト
は、そのテスト時間のほとんどをデータ保持テストによ
って占有されてしまう。
110やメモリ制御部125をテストするためのスキャ
ンテストを実行している間は、メモリ回路部120のフ
リップフロップ121a〜121cの記憶内容を所定値
に固定するような制御を行なわず、メモリコア123が
保持する内容を保証できないため、データ保持テスト時
間をスキャンテストに割り当てることもできない。その
上、画像処理部110やメモリ制御部125の高集積化
によってスキャンテスト自体もそのテスト時間が増大す
る傾向にある。
モリ内容が更新されるような制御を行なわせることがで
きないため、半導体集積回路装置全体のテスト時間が増
大するという問題を有している。
有する半導体集積回路装置において、該半導体集積回路
装置全体のテスト時間を短縮できるようにすることを目
的とする。
め、本発明は、第1のスキャンパス回路を有し、チップ
セレクト端子が設けられたメモリ回路部と、前記第1の
スキャンパス回路と接続された第2のスキャンパス回路
とを有するロジック回路部とを備えた半導体集積回路装
置において、メモリテストを行なうテストモード時にチ
ップセレクト信号を制御することにより、メモリ回路部
のデータ保持テストとロジック回路部の機能テストとを
並列して行なうものである。
ータの読み書き動作及び保持動作を行なうメモリ回路部
と、データの処理を行なうロジック回路部とを備えた半
導体集積回路装置を対象とし、半導体集積回路装置のテ
スト状態を決定するテストモード信号に従って、ロジッ
ク回路部の動作テストを行なうスキャンパス回路と、テ
ストモード信号とチップセレクト制御信号とにより、メ
モリ回路部に対するデータの読み書き動作を許可又は禁
止するチップセレクト信号を生成して出力するチップセ
レクト信号生成部とを備えている。
テストモード信号に基づいて、チップセレクト制御信号
からチップセレクト信号を生成して出力するチップセレ
クト信号生成部を備えているため、テストモード信号が
活性化されて、メモリテストのうちデータを更新させな
いデータ保持テスト中であっても、チップセレクト制御
信号を非活性状態に遷移させることにより、チップセレ
クト信号を禁止状態にできる。従って、データ保持テス
ト中に、スキャンパス回路を用いてロジック回路部の動
作テストを行なったとしても、メモリ回路部に保持され
ているデータは更新されることがない。
ロジック回路部は、メモリ回路部に対するデータの読み
書き動作を制御するメモリ制御部を有しており、チップ
セレクト信号生成部は、外部から入力される第1のチッ
プセレクト制御信号とメモリ制御部から出力される第2
のチップセレクト制御信号とを受け、テストモード信号
に基づいて第1のチップセレクト制御信号を選択し、選
択した第1のチップセレクト制御信号をチップセレクト
信号としてメモリ回路部へ出力するセレクタよりなるこ
とが好ましい。
ロジック回路部は、メモリ回路部に対するデータの読み
書き動作を制御するメモリ制御部を有しており、チップ
セレクト信号生成部は、外部から入力される第1のチッ
プセレクト制御信号とメモリ制御部から出力される第2
のチップセレクト制御信号とを受け、第1のチップセレ
クト制御信号と第2のチップセレクト制御信号との論理
積を演算し、演算した論理積をチップセレクト信号とし
てメモリ回路部へ出力するAND回路よりなることが好
ましい。
チップセレクト制御信号がロジック回路部から出力され
ることが好ましい。
ロジック回路部が、メモリ回路部に対するデータの読み
書き動作を制御するメモリ制御手段と、メモリ回路部の
メモリテストを制御するテスト制御手段と、チップセレ
クト信号生成部とを有しており、チップセレクト信号生
成部が、テスト制御手段から出力される第1のチップセ
レクト制御信号とメモリ制御手段から出力される第2の
チップセレクト制御信号とを受け、テストモード信号に
基づいて第1のチップセレクト制御信号を選択し、選択
した第1のチップセレクト制御信号をチップセレクト信
号としてメモリ回路部へ出力するセレクタよりなること
が好ましい。
ト方法は、データの読み書き動作及び保持動作を行なう
メモリ回路部と、データの処理を行なうロジック回路部
と、半導体集積回路装置のテスト状態を決定するテスト
モード信号に従って、ロジック回路部の動作テストを行
なうスキャンパス回路と、テストモード信号とチップセ
レクト制御信号とにより、メモリ回路部に対するデータ
の読み書き動作を許可又は禁止するチップセレクト信号
を生成して出力するチップセレクト信号生成部とを備え
た半導体集積回路装置のテスト方法を対象とし、メモリ
回路部に対して所定のデータを書き込むデータ書き込み
工程と、メモリ回路部に対して所定時間読み書き動作を
禁止することにより、書き込まれたデータをメモリ回路
部に保持するデータ保持テスト工程と、該データ保持テ
スト工程と並列に実行され、スキャンパス回路を用いて
ロジック回路部の動作テストを行なうロジック回路部動
作テスト工程と、メモリ回路部から、書き込まれたデー
タを読み出して、読み出されたデータが所定のデータと
一致するか否かのテストを行なうデータ読み出しテスト
工程とを備えている。
法によると、メモリ回路部とロジック回路部との回路の
動作テストを行なう際に、データ保持テストに並列して
ロジック回路部の動作テストを行なうため、半導体集積
回路装置全体のテスト時間を短縮することができる。
法において、ロジック回路部動作テスト工程が、スキャ
ンパス回路よりなるスキャンパスを用いて、ロジック回
路部に対してスキャンテストを行なうスキャンテスト工
程であることが好ましい。このようにすると、ロジック
回路部の動作テストを確実に行なうことができる。
参照しながら説明する。
体集積回路装置を示す回路図である。図1に示すよう
に、半導体基板60上には、MPEG規格に準拠したデ
ータやCGデータ等の画像処理を行なうロジック回路部
10としての画像処理部11と、入力部がロジック回路
部10の一部を構成し、画像処理データを記憶するメモ
リ回路部20と、該メモリ回路部20の入出力動作を制
御するロジック回路部10としてのメモリ制御部13と
が形成されている。画像処理部11、メモリ制御部13
及びメモリ回路部20には、データの入出力の同期をと
るためのクロック信号30がそれぞれ入力されている。
動作テストの1つであるスキャンテストを行なうための
スキャンパスを有する、スキャン機能付きフリップフロ
ップ12A,12Bが設けられている。
3のスキャンテストを行ない、多数のスキャン機能付き
フリップフロップよりなる第2のスキャンパス回路14
と、メモリ回路部20の入出力動作を制御するメモリ制
御回路15とが設けられている。スキャン機能付きフリ
ップフロップ12A,12B及び第2のスキャンパス回
路14はスキャンパス31によって接続されている。
間には、メモリ回路部20の読み書き動作テストを行な
う際に活性化されるテストモード信号32によって切り
替えられ、テストモード信号32が活性時には外部から
直接的又は間接的にテストデータが入力されるテストデ
ータバスTBを選択し、テストモード信号32が非活性
時にはデータバス36を選択してメモリ回路部20の内
部データバスDINに出力する第1のセレクタ16と、
テストモード信号32が活性時には外部から直接的又は
間接的にテストアドレスが入力されるテストアドレスバ
スTAを選択し、テストモード信号32が非活性時には
アドレスバス37を選択してメモリ回路部20の内部ア
ドレスバスAINに出力する第2のセレクタ17と、テ
ストモード信号32が活性時には、外部から直接的又は
間接的に入力されるテストメモリ制御信号TCを選択
し、テストモード信号32が非活性時にはメモリ制御信
号38を選択してメモリ回路部20の読み書き制御信号
としての内部メモリ制御信号WRに出力する第3のセレ
クタ18とが接続されている。
20との間には、テストモード信号32に基づいて、該
テストモード信号32が活性時にはチップセレクト制御
端子CSCを介して外部から入力される第1のチップセ
レクト制御信号33Aを選択し、テストモード信号32
が非活性時にはメモリ制御回路15から出力される第2
のチップセレクト制御信号34Aを選択してメモリ回路
部20にチップセレクト信号35を出力するチップセレ
クト信号生成部としての第4のセレクタ19Aが接続さ
れている。
に基づいて内部データバスDINの同期をとって同期デ
ータ信号40として出力する第1のスキャン機能付きフ
リップフロップ21aと、クロック信号30に基づいて
内部アドレスバスAINの同期をとって同期アドレス信
号41を出力する第2のスキャン機能付きフリップフロ
ップ21bと、クロック信号30に基づいて内部メモリ
制御信号WRの同期をとって同期メモリ制御信号42を
出力する第3のスキャン機能付きフリップフロップ21
cとからなる第1のスキャンパス回路21が設けられて
おり、また、メモリ本体であって、同期データ信号4
0、同期アドレス信号41及び同期メモリ制御信号42
の入力を受け、データの読み書き及び記憶を行なうメモ
リコア22が設けられている。
レクト信号35が入力されるCS端子が設けられてお
り、該チップセレクト信号35は、前述したように、所
定期間中にデータの読み書きを禁止して動作電流の低減
を図る目的等に用いられる。また、メモリ回路部20の
後段において、通常動作時には内部出力信号39Aを出
力し、テストモード時にはテスト出力信号39Bを出力
する端子がそれぞれ設けられている。
なうには、スキャンイン信号31aが第1のスキャン機
能付きフリップフロップ21aに入力され、第2のスキ
ャン機能付きフリップフロップ21bを通って第3のス
キャン機能付きフリップフロップ21cが出力するスキ
ャンアウト信号31bとなって、直列に接続されたスキ
ャンパス31を形成することにより行なわれる。前述し
たように、各フリップフロップ21a,21b,21c
はスキャン機能を有しているため、第2のスキャンパス
回路14と該フリップフロップ21a,21b,21c
との間の回路、すなわち、メモリ制御部13におけるメ
モリ制御回路15、第1のセレクタ16、第2のセレク
タ17及び第3のセレクタ18を含むテスト可能領域5
0の動作テストを行なうことができる。
回路装置のテスト方法を図面を参照しながら説明する。
図2(a)は本実施形態に係る半導体集積回路装置のテ
ストタイミングを示すタイミングチャートである。
き込み工程ST1において、テストモード(=TM)信
号32及び第1のチップセレクト制御信号33Aを活性
化することにより、第1のセレクタ16にテストデータ
バスTBを選択させて内部データバスDINを通じてメ
モリ回路部20に書き込みデータを入力し、第2のセレ
クタ17にテストアドレスバスTAを選択させて内部ア
ドレスバスAINを通じてメモリ回路部20に書き込み
アドレスを入力し、第3のセレクタ18にテストメモリ
制御信号TCを選択させて内部メモリ制御信号WRとし
てメモリ回路部20に入力する。このとき、チップセレ
クト(=CS)信号35は、第4のセレクタ19Aにお
いて第1のチップセレクト制御信号33Aが選択されて
メモリ回路部20のCS端子に入力される。
性化させることにより、チップセレクト信号35を活性
化させておき、メモリ回路部20にテストデータバスT
Bを通じてデータを与え、テストアドレスバスTAを通
じてアドレスを与え、テストメモリ制御信号TCを通じ
てデータ書き込み制御信号を与え、これらをクロック信
号30に同期させることにより、メモリコア22の所定
領域に所定データを書き込む。
態にすることはLSIの動作モードがテストモードであ
ることを意味し、チップセレクト信号35を活性化状態
にすることはメモリ回路部20のデータの読み書きを許
可することを意味する。
おいて、LSIの外部から第1のチップセレクト制御信
号33Aを非活性化して、チップセレクト信号35を非
活性状態にし、メモリ回路部20に対して、例えば、数
十ms〜数百ms程度の時間、データの読み書きを禁止
することにより、データ保持テストのための期間を確保
すると共に、該データ保持テスト工程ST2Aと並列す
るロジック回路部動作テスト工程としてのスキャンテス
ト工程ST2Bにおいて、あらかじめ設定されたスキャ
ンパス31を用いて、ロジック回路部10のスキャンテ
ストを行なう。
信号33Aが非活性化されてチップセレクト信号35が
非活性状態にあるため、内部データバスDIN、内部ア
ドレスバスAIN、内部メモリ制御信号WRの各信号線
の状態に関係なく、メモリ回路部20のデータの読み書
きが禁止されている。
スキャンテスト工程ST2Bのいずれもが終了した後
に、データ読み出しテスト工程ST3において、第1の
チップセレクト制御信号33Aを再び活性化して、チッ
プセレクト信号35を活性状態にすることにより、テス
トデータバスTB、テストアドレスバスTA及びテスト
メモリ制御信号TCを通じてメモリ回路部20のテスト
出力信号39Bから、データ書き込み工程ST1におい
てメモリ回路部20に書き込んだデータを読み出し、読
み出されたデータがデータ保持テスト前に書き込まれた
値、すなわち、その期待値と一致するか否かを比較して
メモリ回路部20のメモリテストを完了する。
と、図2(b)の従来のタイミングチャートに示すデー
タ保持テスト工程ST52において、データ保持テスト
以外の一切の動作テストが禁止されているテスト期間
を、第1のチップセレクト制御信号33Aを用いてチッ
プセレクト信号35を非活性状態にして、メモリ回路部
20のデータの読み書きを禁止することによりスキャン
テストに割り当てることができる。その結果、独立して
行なわれていたデータ保持テスト工程ST52とスキャ
ンテスト工程ST54とを並列に行なうことができるの
で、半導体集積回路装置全体のテストに要する時間を短
縮することができる。
3には、データ保持テスト中に新たにスキャンテストを
行なわせるための回路を設ける必要がない。
るため又はバンクメモリ構成を実現するため等に用いる
チップセレクト信号35を用いて、且つ、簡易な回路構
成であって、ほとんど面積増加を招かない第4のセレク
タ19Aを用いて、テストモード時には、外部から制御
される第1のチップセレクト制御信号33Aを選択し、
該第1のチップセレクト制御信号33Aを用いることに
より、所望のタイミングで活性化又は非活性化の切り替
え制御を行なっている。その上、チップセレクト信号3
5の切り替えを行なった際の突発的な信号ノイズが生じ
にくいため、データ保持テスト中のメモリ回路部20に
対して不用意なデータアクセスが行なわれないので、メ
モリ回路部20へのデータ読み書きを確実に禁止するこ
とができる。
回路が基準クロック信号に同期する同期式メモリである
場合には、該メモリ回路におけるデータ線及び制御線の
同期をとるためのスキャン機能付きフリップフロップが
メモリコアに最も近いところに設けられるため或いは同
期式メモリとして一体に設けられるため、スキャン機能
付きフリップフロップとメモリコアとの間に制御回路を
設けることができないので、スキャンテストによって該
スキャン機能付きフリップフロップの内容が随時書き換
えられることになり、メモリコアの内容を保証すること
ができない。また、一般には、スキャンテストモード時
には、テストモードから通常モードに戻す必要があり、
該テストモードの切り替え時の各信号間の遅延差による
遅延スパイクノイズ等が重畳したメモリ制御信号によっ
てメモリコアの内容を変化させてしまうというおそれが
ある。
外部からチップセレクト信号35を非活性化することに
より、メモリコアに対してデータの読み書き動作を確実
に禁止することができるため、メモリコアのデータ内容
が保証されるので、スキャンテストを並列して行なった
としても、確実にデータ保持テストを行なうことができ
る。
行時間は、画像処理部11、メモリ制御部13及びメモ
リ回路部20の実効サイクルに対して十分に長い時間で
あればよい。
に対して単にデータのアクセスを禁止するのみではな
く、印加する電圧を所定範囲で変動させることによって
データ値が変化するか否かをテストする工程を含んでい
てもよい。
20のデータ保持テスト期間中に並列して行なうテスト
としてスキャンテストを選択したが、これに限らず、メ
モリ回路部20に記録されたデータ内容を用いないテス
トであれば、スキャンテスト以外のテスト方法であって
もよい。
例を図面を参照しながら説明する。
半導体集積回路装置のチップセレクト信号生成部を示す
回路図である。本変形例においては、第1の実施形態に
示したチップセレクト信号生成部としての第4のセレク
タ19Aに代えて、外部から入力される第1のチップセ
レクト信号33Aとメモリ制御部13から入力される第
2のチップセレクト制御信号34Aとの論理積を演算
し、演算した論理積をメモリ回路部20に対するチップ
セレクト信号35として出力するAND回路19Bが設
けられている。
号35の制御にテストモード信号32が直接関与しない
点である。すなわち、第1のチップセレクト信号33A
が活性化されている間は、メモリ制御回路13からの制
御信号である第2のチップセレクト信号34AがAND
回路19Bの出力信号として、すなわち、チップセレク
ト信号35としてメモリ回路部20に入力される。一
方、第1のチップセレクト制御信号33Aが非活性状態
とされている間は、AND回路19Bが出力するチップ
セレクト信号35は非活性となるため、メモリ回路部2
0のデータの読み書きが禁止される状態となる。ここで
は、チップセレクト信号35が論理値0の場合に非活性
状態を示し、論理値1の場合は活性状態を示す。
制御信号33Aを活性状態に遷移させ該活性状態を保持
することにより、AND回路19Bが出力するチップセ
レクト信号35をメモリ制御部13が出力する第2のチ
ップセレクト制御信号34Aの値に依存させることがで
きる。これに対して、テストモード時には、第2のチッ
プセレクト制御信号34Aを活性状態に遷移させ該活性
状態を保持することにより、該チップセレクト信号35
を外部から入力される第1のチップセレクト制御信号3
3Aの値に依存させることができる。
レクト信号35は、テストモード信号32に基づいて、
第1の実施形態と同様に外部から制御される第1のチッ
プセレクト制御信号33Aによって所望のタイミングで
活性化又は非活性化の切り替え制御を行なうことができ
る。これにより、第1のチップセレクト制御信号33A
を用いてチップセレクト信号35を非活性状態にして、
メモリ回路部20のデータの読み書きを禁止することに
より、並列してスキャンテストを実施することができ
る。その結果、図2(b)に示すように独立して行なわ
れていたデータ保持テスト工程ST52とスキャンテス
ト工程ST54とを並列に行なうことができるので、半
導体集積回路装置全体のテストに要する時間を短縮する
ことができる。
例を図面を参照しながら説明する。
半導体集積回路装置を示す回路図である。第1の実施形
態及びその第1の変形例におけるメモリ回路部20はい
ずれもバンクメモリ構成を有していないが、図4に示す
ように、本変形例におけるメモリ回路部は、第1のメモ
リ回路部20Aと第2のメモリ回路部20Bとからなる
バンクメモリ構成を有している。なお、図4において、
第1の実施形態と同一の構成要素には同一の符号を付す
ことにより説明を省略する。
aと第5のセレクタ19bとからなるチップセレクト信
号生成部を有している。
32に基づいて、該テストモード信号32が活性時には
第1のチップセレクト制御端子CSC1を介して外部か
ら入力される第1のチップセレクト制御信号33Aを選
択し、テストモード信号32が非活性時にはメモリ制御
回路15から出力される第2のチップセレクト制御信号
34Aを選択して第1のメモリ回路部20Aに第1のチ
ップセレクト信号35Aを出力する。
ド信号32に基づいて、該テストモード信号32が活性
時には第2のチップセレクト制御端子CSC2を介して
外部から入力される第1のチップセレクト制御信号33
Bを選択し、テストモード信号32が非活性時にはメモ
リ制御回路15から出力される第2のチップセレクト制
御信号34Bを選択して第2のメモリ回路部20Bに第
2のチップセレクト信号35Bを出力する。
半導体集積回路装置であっても、第1の実施形態と同様
に、第1のチップセレクト制御信号33Aを用いて第1
のチップセレクト信号35Aを非活性状態にして、第1
のメモリ回路部20Aに対してデータの読み書きを禁止
すると共に、第1のチップセレクト制御信号33Bを用
いて第2のチップセレクト信号35Bを非活性状態にし
て、第2のメモリ回路部20Bに対してデータの読み書
きを禁止することによって、データ保持テスト中にもス
キャンテストを行なうことができる。従って、これまで
独立して行なわれていたデータ保持テストとスキャンテ
ストとを並列して行なうことができるので、半導体集積
回路装置全体のテストに要する時間を短縮することがで
きる。
例を図面を参照しながら説明する。
半導体集積回路装置を示す回路図である。図5に示すよ
うに、本変形例に係る装置は、第1の半導体基板61に
形成された画像処理部11、メモリ制御部13及び各セ
レクタ16〜18,19A並びに第2の半導体基板62
に形成されたメモリ回路部20から構成されている。な
お、図5において、第1の実施形態と同一の構成要素に
は同一の符号を付すことにより説明を省略する。
された画像処理部11と該半導体基板61とは異なる半
導体基板62に形成されたメモリ回路部20とは、プリ
ント基板等を用いて接続される。これらの半導体基板同
士を接続する接続用配線は、半導体基板62におけるメ
モリ回路部20の第1のスキャンパス回路21を含むス
キャンパス31を形成することにより容易にテストされ
る。
ップセレクト制御信号33Aを用いてチップセレクト信
号35を非活性状態にして、半導体基板62におけるメ
モリ回路部20のデータの読み書きを禁止することによ
って、データ保持テスト中であってもスキャンテストを
行なうことができる。これにより、従来独立して行なわ
れていたデータ保持テストとスキャンテストとを並列し
て行なうことができるので、半導体集積回路装置全体の
テストに要する時間を短縮することができる。
いて、ロジック回路部に画像処理用の回路を用いたが、
これに限らず、他の論理回路群よりなる機能回路であれ
ばよい。
タを用いたが、これに限らず、セレクタと同等の出力信
号が得られる論理回路であってもよい。
照しながら説明する。
体集積回路装置を示す回路図である。図6に示すよう
に、半導体基板60上には、ロジック回路部10として
のMPEG規格に準拠したデータ等の画像処理を行なう
画像処理部11と、入力部がロジック回路部10の一部
を構成し、画像処理データを記憶するメモリ回路部20
と、該メモリ回路部20の入出力動作を制御するロジッ
ク回路部10としてのメモリ制御部13とが形成されて
いる。なお、図6において、第1の実施形態と同一の構
成要素には同一の符号を付すことにより説明を省略す
る。
3には、第1〜第3のセレクタ16〜18を介してメモ
リ回路部20の入出力動作を制御するメモリ制御手段と
してのメモリ制御回路15と、メモリBIST(Build
In Self Test)回路と呼ばれ、第1〜第3のセレクタ1
6〜18を介してメモリ回路部20のメモリコア22の
テストを行なうテスト制御手段としてのテスト制御回路
71と、チップセレクト信号生成部としての第4のセレ
クタ19Cとが設けられている。
号32が活性時にはテスト制御回路71から出力される
第1のチップセレクト制御信号33Cを選択し、テスト
モード信号32が非活性時にはメモリ制御回路15から
出力される第2のチップセレクト制御信号34Cを選択
してメモリ回路部20に第2のチップセレクト信号35
を出力する。
説明する。
て、テストモード信号32を活性化して、第1のセレク
タ16がテストデータバスTBを選択し、第2のセレク
タ17がテストアドレスバスTAを選択し、第3のセレ
クタ18がテストメモリ制御信号TCを選択することに
より、テスト制御回路71が出力するテストデータをメ
モリコア22に書き込む。このときには、第4のセレク
タ19Cはテスト制御回路71によって出力される活性
化状態の第1のチップセレクト制御信号33Cを選択し
て出力する。
移行すると、テスト制御回路71は第1のチップセレク
ト制御信号33Cを非活性状態にしてメモリコア22の
動作を、例えば、数十ms〜数百ms程度の期間凍結す
る。このデータ保持テスト工程ST2Aに並行するロジ
ック回路部動作テスト工程としてのスキャンテスト工程
ST2Bにおいて、スキャンパス31を用いたスキャン
テストを行なうことにより、画像処理部11、メモリ制
御部13及びセレクタ16〜18の動作テストを行な
う。
スキャンテスト工程ST2Bのいずれもが終了した後の
データ読み出しテスト工程ST3において、第1のチッ
プセレクト制御信号33Cを再び活性化してチップセレ
クト信号35を活性状態にすることにより、テストデー
タバスTB、テストアドレスバスTA及びテストメモリ
制御信号TCを通じてメモリ回路部20のテスト出力信
号39Bから、データ書き込み工程ST1においてメモ
リコア22に書き込んだデータを読み出し、読み出され
たデータが期待値と一致するか否かを比較してメモリ回
路部20のメモリテストを完了する。
チップセレクト制御信号33Cを用いてチップセレクト
信号35を非活性状態にして、メモリ回路部20のデー
タの読み書きを禁止することによって、データ保持テス
ト中であってもスキャンテストを行なうことができる。
従って、従来独立して行なわれていたデータ保持テスト
とスキャンテストとを並列に行なうことができるので、
半導体集積回路装置全体のテストに要する時間を短縮す
ることができる。
行時間は、画像処理部11、メモリ制御部13及びメモ
リ回路部20の実効サイクルに対して十分に長い時間で
あればよい。
を図面を参照しながら説明する。
導体集積回路装置を示す回路図である。第2の実施形態
におけるメモリ回路部20はバンクメモリ構成を有して
いないが、図7に示すように、本変形例におけるメモリ
回路部20は、第1のメモリ回路部20Aと第2のメモ
リ回路部20Bとからなるバンクメモリ構成を有してい
る。なお、図7において、第2の実施形態と同一の構成
要素には同一の符号を付すことにより説明を省略する。
ップセレクト信号生成部として第4のセレクタ19aと
第5のセレクタ19bとを有し、さらに、チップセレク
ト制御端子CSCを介して外部から入力される信号とテ
スト制御回路71が出力する信号との論理積を演算し、
演算した論理積を第4のセレクタ19aに出力する第1
のAND回路72と、チップセレクト制御端子CSCを
介して外部から入力される信号とテスト制御回路71が
出力する信号との論理積を演算し、演算した論理積を第
5のセレクタ19bに出力する第2のAND回路73と
を有している。
32に基づいて、該テストモード信号32が活性時には
第1のAND回路72から出力される第1のチップセレ
クト制御信号33Cを選択し、テストモード信号32が
非活性時にはメモリ制御回路15から出力される第2の
チップセレクト制御信号34Cを選択して第1のメモリ
回路部20Aに第1のチップセレクト信号35Aを出力
する。
ド信号32に基づいて、該テストモード信号32が活性
時には第2のAND回路73から出力される第1のチッ
プセレクト制御信号33Dを選択し、テストモード信号
32が非活性時にはメモリ制御回路15から出力される
第2のチップセレクト制御信号34Dを選択して第2の
メモリ回路部20Bに第2のチップセレクト信号35B
を出力する。
半導体集積回路装置であっても、第2の実施形態と同様
に、第1のチップセレクト制御信号33Cを用いて第1
のチップセレクト信号35Aを非活性状態にして、第1
のメモリ回路部20Aのデータの読み書きを禁止すると
共に、第1のチップセレクト制御信号33Dを用いて第
2のチップセレクト信号35Bを非活性状態にして、第
2のメモリ回路部20Bのデータの読み書きを禁止する
ことによって、データ保持テスト中にもスキャンテスト
を行なうことができる。従って、これまで独立して行な
われていたデータ保持テストとスキャンテストとを並列
に行なうことができるので、半導体集積回路装置全体の
テストに要する時間を短縮することができる。
いて、ロジック回路部に画像処理用の回路を用いたが、
これに限らず、他の論理回路群よりなる機能回路であれ
ばよい。
タを用いたが、これに限らず、セレクタと同等の出力信
号が得られる論理回路であってもよい。
ると、データ保持テスト中に、スキャンパス回路を用い
てロジック回路部の動作テストを行なったとしても、メ
モリ回路部に保持されているデータは更新されることが
ない。従って、データ保持テストに並列してロジック回
路部の動作テストを行なうことができるため、装置全体
のテスト時間の短縮を図ることができる。
ト方法によると、所定時間読み書き動作が禁止されるデ
ータ保持テストを行ないながら、同時にロジック回路部
の動作テストを行なうことができるため、従来、メモリ
回路部にスキャンパス回路を有しロジック回路部の動作
テストを行なう半導体集積回路装置の場合に、データ保
持テスト中に行なえなかったロジック回路部の動作テス
トを行なえるので、半導体集積回路装置体のテスト時間
を短縮することができる。
装置を示す回路図である。
る半導体集積回路装置のテストタイミングを示すタイミ
ングチャートである。(b)は従来の半導体集積回路装
置のテストタイミングを示すタイミングチャートであ
る。
半導体集積回路装置のチップセレクト信号生成部を示す
回路図である。
導体集積回路装置を示す回路図である。
導体集積回路装置を示す回路図である。
装置を示す回路図である。
体集積回路装置を示す回路図である。
る。
路) 15 メモリ制御回路 (メモリ制御手段) 16 第1のセレクタ 17 第2のセレクタ 18 第3のセレクタ 19A 第4のセレクタ(チップセレクト信号生成
部) 19B AND回路(チップセレクト信号生成部) 19C 第4のセレクタ(チップセレクト信号生成
部) 19a 第4のセレクタ(チップセレクト信号生成
部) 19b 第5のセレクタ(チップセレクト信号生成
部) 20 メモリ回路部 20A 第1のメモリ回路部 20B 第2のメモリ回路部 21 第1のスキャンパス回路 21a 第1のスキャン機能付きフリップフロップ 21b 第2のスキャン機能付きフリップフロップ 21c 第3のスキャン機能付きフリップフロップ 22 メモリコア 30 クロック信号 31 スキャンパス 31a スキャンイン信号 31b スキャンアウト信号 32 テストモード信号 33A 第1のチップセレクト制御信号 33B 第1のチップセレクト制御信号 33C 第1のチップセレクト制御信号 33D 第1のチップセレクト制御信号 34A 第2のチップセレクト制御信号 34B 第2のチップセレクト制御信号 34C 第2のチップセレクト制御信号 34D 第2のチップセレクト制御信号 35 チップセレクト信号 35A 第1のチップセレクト信号 35B 第2のチップセレクト信号 36 データバス 37 アドレスバス 38 メモリ制御信号 39A 内部出力信号 39B テスト出力信号 40 同期データ信号 41 同期アドレス信号 42 同期メモリ制御信号 50 テスト可能領域 60 半導体基板 61 半導体基板 62 半導体基板 71 テスト制御回路(テスト制御手段) 72 第1のAND回路 73 第2のAND回路 TB テストデータバス TA テストアドレスバス TC テストメモリ制御信号 DIN 内部データバス AIN 内部アドレスバス WR 内部メモリ制御信号 CS チップセレクト端子 CSC チップセレクト制御端子 CSC1 第1のチップセレクト制御端子 CSC2 第2のチップセレクト制御端子
Claims (7)
- 【請求項1】 データの読み書き動作及び保持動作を行
なうメモリ回路部と、データの処理を行なうロジック回
路部とを備えた半導体集積回路装置であって、 前記半導体集積回路装置のテスト状態を決定するテスト
モード信号に従って、前記ロジック回路部の動作テスト
を行なうスキャンパス回路と、 前記テストモード信号とチップセレクト制御信号とによ
り、前記メモリ回路部に対するデータの読み書き動作を
許可又は禁止するチップセレクト信号を生成して出力す
るチップセレクト信号生成部とを備えている ことを特徴
とする半導体集積回路装置。 - 【請求項2】 前記ロジック回路部は、前記メモリ回路
部に対するデータの読み書き動作を制御するメモリ制御
部を有しており、 前記チップセレクト信号生成部は、外部から入力される
第1のチップセレクト制御信号と前記メモリ制御部から
出力される第2のチップセレクト制御信号とを受け、前
記テストモード信号に基づいて前記第1のチップセレク
ト制御信号を選択し、選択した第1のチップセレクト制
御信号を前記チップセレクト信号として前記メモリ回路
部へ出力するセレクタよりなることを特徴とする請求項
1に記載の半導体集積回路装置。 - 【請求項3】 前記ロジック回路部は、前記メモリ回路
部に対するデータの読み書き動作を制御するメモリ制御
部を有しており、 前記チップセレクト信号生成部は、外部から入力される
第1のチップセレクト制御信号と前記メモリ制御部から
出力される第2のチップセレクト制御信号とを受け、前
記第1のチップセレクト制御信号と前記第2のチップセ
レクト制御信号との論理積を演算し、演算した論理積を
前記チップセレクト信号として前記メモリ回路部へ出力
するAND回路よりなる ことを特徴とする請求項1に記
載の半導体集積回路装置。 - 【請求項4】 前記チップセレクト制御信号は前記ロジ
ック回路部から出力されることを特徴とする請求項1に
記載の半導体集積回路装置。 - 【請求項5】 前記ロジック回路部は、前記メモリ回路
部に対するデータの 読み書き動作を制御するメモリ制御
手段と、前記メモリ回路部のメモリテストを制御するテ
スト制御手段と、前記チップセレクト信号生成部とを有
しており、 前記チップセレクト信号生成部は、前記テスト制御手段
から出力される第1のチップセレクト制御信号と前記メ
モリ制御手段から出力される第2のチップセレクト制御
信号とを受け、前記テストモード信号に基づいて前記第
1のチップセレクト制御信号を選択し、選択した第1の
チップセレクト制御信号を前記チップセレクト信号とし
て前記メモリ回路部へ出力するセレクタよりなることを
特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路装置。 - 【請求項6】 データの読み書き動作及び保持動作を行
なうメモリ回路部と、データの処理を行なうロジック回
路部と、前記半導体集積回路装置のテスト状態を決定す
るテストモード信号に従って、前記ロジック回路部の動
作テストを行なうスキャンパス回路と、前記テストモー
ド信号とチップセレクト制御信号とにより、前記メモリ
回路部に対するデータの読み書き動作を許可又は禁止す
るチップセレクト信号を生成して出力するチップセレク
ト信号生成部とを備えた半導体集積回路装置のテスト方
法であって、 前記メモリ回路部に対して所定のデータを書き込むデー
タ書き込み工程と、 前記メモリ回路部に対して所定時間読み書き動作を禁止
することにより、書き込まれたデータを前記メモリ回路
部に保持するデータ保持テスト工程と、 前記データ保持テスト工程と並列に実行され、前記スキ
ャンパス回路を用いて前記ロジック回路部の動作テスト
を行なうロジック回路部動作テスト工程と、 前記メモリ回路部から、書き込まれたデータを読み出し
て、読み出されたデータが前記所定のデータと一致する
か否かのテストを行なうデータ読み出しテスト工程とを
備えていることを特徴とする 半導体集積回路装置のテス
ト方法。 - 【請求項7】 前記ロジック回路部動作テスト工程は、
前記スキャンパス回路よりなるスキャンパスを用いて、
前記ロジック回路部に対してスキャンテストを行なうス
キャンテスト工程であることを特徴とする請求項6に記
載の半導体集積回路装置のテスト方法。
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---|---|---|---|
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP8-100927 | 1996-04-23 | ||
JP10092796 | 1996-04-23 | ||
JP10411397A JP3255875B2 (ja) | 1996-04-23 | 1997-04-22 | 半導体集積回路装置及びそのテスト方法 |
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Publication Number | Publication Date |
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JPH1062501A JPH1062501A (ja) | 1998-03-06 |
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ID=26441868
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JP10411397A Expired - Fee Related JP3255875B2 (ja) | 1996-04-23 | 1997-04-22 | 半導体集積回路装置及びそのテスト方法 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7099519B2 (ja) | 2018-03-30 | 2022-07-12 | 日本ゼオン株式会社 | 樹脂薄膜の剥離片の製造方法 |
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JP4707053B2 (ja) * | 2005-06-06 | 2011-06-22 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体集積回路装置 |
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-
1997
- 1997-04-22 JP JP10411397A patent/JP3255875B2/ja not_active Expired - Fee Related
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