JP3245936U - 排ガス処理炉 - Google Patents
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Abstract
【課題】炉室内容積を有効に活用し、省スペース化を図り、省スペース化により、更に省エネ効果が発揮される排ガス処理炉を提供すること。【解決手段】排ガスを処理する炉室と、該炉室に繋がる排ガス導入口と、該炉室で処理された排ガスを導出する排ガス導出口を有する炉本体を備える排ガス処理炉であって、該炉室内において、該排ガス導入口から導入された排ガスを直接加熱しつつ、同時に排ガスを複数の流れに分流し速度を抑制する、スリットが形成されたヒーターを設置する。【選択図】図1
Description
本考案は、セラミック製品等の焼成炉で発生する排ガスの脱臭処理を行う排ガス処理炉に関するものである。
セラミック製品となる成形体には各種の有機物バインダーが含まれている。このため、セラミック製品を焼成すると有機物バインダーに起因する臭気成分を含む有害な排ガスが発生する。何らの対策を講じない場合、有害な排ガスが、大気に放出され、問題である。このため、焼成炉とは別に排ガスを浄化するための排ガス処理炉の併設が行われている。
従来、このような有害ガスを処理する排ガス処理炉としては、特開2003-294377号公報(先行文献1)記載の排ガス処理炉が挙げられる。この排ガス処理炉は、排ガスを加熱する棒状ヒーター、排ガスを複数の流れに分流する排ガス分流体及び排ガスを加熱しつつ、その流れを整流する加熱整流体を炉室内に配置している。これにより、投入排ガスが炉室内の全体に分散して各部同じような流速で流れるようにしてショートパスを抑え、ショートパスによる処理不足をなくし分解効果を高めると共に、炉内部材の早期劣化や目詰まりを防止するというものである。
特開2003-294377号公報に記載があるように、ショートパスとは、棒状ヒーターで加熱させられた炉内において、一端の炉壁にある単一の排ガス導入口から排ガスを導入して、他端にある単一の排ガス導出口から排出している構造の排ガス処理炉において、排ガスが炉室内で十分に広く拡散せず、多くの部分が炉室の中央部分を比較的早い速度で通過することである。
そして、このようなショートパスが起きると、多くの投入した排ガスにおいて、その炉内滞留時間が確保されず、熱分解反応が不十分となるため排ガスに臭気成分が残るおそれがあった。
ショートパスを防ぐため、特開2003-294377号公報においては、炉室内において、棒状ヒーターの他に、排ガス分流体と加熱整流体を設けており、炉内構造が複雑になるという問題がある。特に排ガス分流体と加熱整流体を複数個設置する場合、その分だけ炉内の排ガス処理に必要な有効体積が減るため、炉内容積を大きくせざるを得ない。
また、排ガス処理のために必要な熱量(電気)が、排ガスを加熱する以外に、排ガス分流体及び加熱整流体を加熱するのに使用されるためエネルギーの無駄を生じるという問題もある。
従って、本考案の目的は、炉室内容積を有効に活用し、省スペース化を図り、省スペース化により、更に省エネ効果が発揮される排ガス処理炉を提供することにある。
上記課題は、以下の本考案により解決される。すなわち、本考案(1)は、排ガスを処理する炉室と、該炉室に繋がる排ガス導入口と、該炉室に繋がると共に、該炉室で処理された排ガスを導出する排ガス導出口を有する炉本体を備える排ガス処理炉であって、該炉室内において、該排ガス導入口から導入された排ガスを直接加熱しつつ、同時に排ガスを複数の流れに分流し速度を抑制する、スリットが形成されたヒーターが設けられていることを特徴とする排ガス処理炉を提供するものである。
本考案(2)は、該ヒーターが、板状ヒーターであることを特徴とする(1)の排ガス処理炉を提供するものである。
また、本考案(3)は、該ヒーターが、炭化ケイ素ヒーターであることを特徴とする(1)の排ガス処理炉を提供するものである。
また、本考案(4)は、該ヒーターの発熱する部分のスリット幅が、2~6mmであることを特徴とする(1)の排ガス処理炉を提供するものである。
また、本考案(5)は、該ヒーターが、該ガス導入口側から該ガス導出口側に向けて、複数段、設けられていることを特徴とする(1)の排ガス処理炉を提供するものである。
また、本考案(6)は、該ヒーターが、1段当たり複数個、設けられていることを特徴とする(5)の排ガス処理炉を提供するものである。
また、本考案(7)は、該ヒーターが、該ガス導入口側から該ガス導出口側に至る中央線に対して直交する角度で配置されていることを特徴とする(2)の排ガス処理炉を提供するものである。
また、本考案(8)は、該ヒーターが、該ガス導入口側から該ガス導出口側に至る中央線に対して傾斜する角度で配置されていることを特徴とする(2)の排ガス処理炉を提供するものである。
また、本考案(9)は、該ヒーターは、複数個有し、一部が、該ガス導入口側から該ガス導出口側に至る中央線に対して直交する角度で配置され、他の一部が、該ガス導入口側から該ガス導出口側に至る中央線に対して傾斜する角度で配置されていることを特徴とする(2)の排ガス処理炉を提供するものである。
また、本考案(10)は、該炉本体が、横置き又は縦置きであることを特徴とする(1)の排ガス処理炉を提供するものである。
本考案によれば、炉室内容積を有効に活用し、省スペース化を図り、省スペース化により、更に省エネ効果が発揮される排ガス処理炉を提供することができる。
本考案の排ガス処理炉は、排ガスを処理する炉室と、該炉室に繋がる排ガス導入口と、該炉室に繋がると共に、該炉室で処理された排ガスを導出する排ガス導出口を有する炉本体を備える。
排ガスは、セラミック製品が焼成された焼成炉から排出されるガスであって、有機物バインダーに起因する臭気成分を含む。本考案の排ガス処理炉は、該臭気成分を含む排ガスを高温下、分解処理して、脱臭し、臭気成分を除去した処理ガスを排ガス導出口から排出するものである。
本考案の排ガス処理炉において、炉本体が、横置き又は縦置きであってもよく、また、炉本体は、円形や角形のものが挙げられる。横置きは、排ガス導入口から排ガス導出口に至る排ガスの大きな流れが横方向のものである。従って、排ガス導入口及び排ガス導出口は、右端部及び左端部、又は左端部及び右端部にそれぞれ形成される。縦置きは、排ガス導入口から排ガス導出口に至る排ガスの大きな流れが上下方向のものである。従って、排ガス導入口及び排ガス導出口は、下端部及び上端部、又は上端部及び下端部にそれぞれ形成される。排ガス導入口は1個又は複数個、配置できる。また、排ガス導出口も1個又は複数個、配置できる。
本考案の排ガス処理炉の炉室内に配置されるヒーターは、排ガス導入口から導入された排ガスを直接加熱しつつ、同時に排ガスを複数の流れに分流し速度を抑制する、スリットが形成されたものである。これにより、投入した排ガスは直接ヒーターと接触し、高温となると共に、流れが抑制され、ヒーターに形成されたスリットにより、整流されて、炉内全体に分散する。これにより、炉室内で、ショートパスが抑えられ、炉室内容積を有効に活用して排ガスを脱臭することができる。また、排ガスのショートパスを防ぐための、排ガス分流体や加熱整流体を必要としないため、それらを加熱するための余分な熱量(電力)も必要なく、それらの体積分も有効に活用できるため、炉本体がコンパクトになり、炉本体がコンパクトになることで、更に省エネ効果が発揮される。
本考案の排ガス処理炉において、ヒーターは、端子部と発熱部を有するものであり、特に、板状ヒーターであることが、スリット加工がし易く、炉本体のコンパク化が可能である点で好ましい。また、ヒーターは、炭化ケイ素ヒーター(SiC発熱体)であることが、単位面積当りの発熱量が大きくでき、短時間の昇温が可能である点で好ましい。
本考案の排ガス処理炉において、ヒーターの発熱部に形成されるスリットの形状としては、特に制限されず、例えば、直線状、曲線状、不定形状のものが挙げられる。また、スリットは、所定幅と所定長さを有する貫通孔であり、1本の連続物や、複数本の不連続物、又はそれらを組み合わせた物が挙げられる。なお、貫通孔であるスリットは、両端が閉じられた孔以外に、図2や図4のような、一端が閉じられ他端が解放された孔も含まれる。ヒーターに形成されるスリット幅としては、2~6mmであることが好ましい。ヒーターのスリット幅が、2mm未満では放電がおきる可能性がある。これは、炭化ケイ素ヒーターは電気抵抗が大きく、高い電圧で発熱させるためである。また、スリット幅が6mmを超えると、隙間が大きすぎて排ガスの流れを邪魔することなく、そのまま流れてしまい、整流効果が低減する。
本考案の排ガス処理炉において、ヒーターは、ガス導入口側からガス導出口側に向けて、複数段、設けられていることが、炉室内を素早く昇温でき、且つ排ガスの流れを、炉室内において均一に分散可能となる点で、好ましい。また、ヒーターが、1段当たり複数個、横並びに設けてもよい。この場合、1段において隣接するヒーターとの間に隙間を形成して配置してもよい。この隙間も、スリット同様、排ガスの流れを抑制しつつ遅い速度で、流すことが可能となる。
本考案の排ガス処理炉において、ヒーターは、ガス導入口側からガス導出口側に至る中央線に対して直交する角度で配置されていてもよく、また、ガス導入口側からガス導出口側に至る中央線に対して傾斜する角度で配置されていてもよい。また、複数個のヒーターの場合、一部が、ガス導入口側からガス導出口側に至る中央線に対して直交する角度で配置され、他の一部が、ガス導入口側からガス導出口側に至る中央線に対して傾斜する角度で配置されていてもよい。特に、複数のヒーターが複数段で配置されている場合、中央線に対して傾斜する角度で、且つ対峙するヒーターが互いに逆向きの配置となっていると、排ガスをジグザグ方向で流すことができより有効である。
本考案の排ガス処理炉において、ヒーターの形状は、炉室内の形状に合わせて、その外観を調節することが好ましい。炉室が箱型の場合は角形に、円筒型の場合は円形にした方が、炉壁との隙間が無くなり、炉壁近傍の排ガスの流れを邪魔でき、ガス流速を遅くすることが可能となる点で好ましい。
次に、本考案の第1の実施の形態における排ガス処理炉について、図1及び図2を参照して、更に具体的に説明する。
排ガス処理炉10は、排ガスXを処理する炉室2と、炉室2に繋がる排ガス導入口3と、炉室2に繋がると共に、炉室2で処理された排ガスXを導出する排ガス導出口4aを有する炉本体1を備える排ガス処理炉10であって、炉室2において、排ガス導入口3から導入された排ガスXを直接加熱しつつ、同時に排ガスを複数の流れに分流し速度を抑制する、スリット53が形成されたヒーター5が設けられている。
排ガス処理炉10は、横置きで、炉室2は直方体空間の箱型である。また、炉室2の周囲は、断熱壁1aで囲まれている。排ガス導入口3は、一方の側壁の中央部に1か所であり、排ガス導出口4aは、他方の側壁の中央部に一か所である。なお、排ガス処理炉10は、炉室2の出口で、排ガス導出口4aの上流側に、複数の排ガス導出口4bを有している。これにより、炉室2での排ガスの分散効果をより高めることができる。
ヒーター5は、排ガス導入口3側から排ガス導出口4a側に向けて、5段ヒーター5a~5eであり、1段当たり2個のヒーターを配置している。ヒーター5は、図2に示す通り、発熱部52及び端子51を有する、板状の炭化ケイ素ヒーター(SiC発熱体)である。発熱部52は、正面視で長方形状であり、直線部がジグザグに繋がることで、直線状のスリット53を形成している。スリット幅は4mm程度である。
炉室2において、第1段ヒーター5aは、2つのヒーターが少し間隔を置いて、横並びであり、上部ヒーター(図1中、上方)の上端面が、炉室壁面に近接又は当接し、下部ヒーター(図1中、下方)の下端と炉室壁面とには少しの隙間を形成している。なお、第1段ヒーター5aと左右壁面とには、隙間なく、横からの排ガスの流れを遮断している。
第2段ヒーター5bは、2つのヒーターが少し間隔を置いて、横並びであり、下部ヒーターの下端面が、炉室壁面に近接又は当接し、上部ヒーターの上端と炉室壁面とには少しの隙間を形成している。なお、第2段ヒーター5bと左右壁面とには、隙間なく、横からの排ガスの流れを遮断している。
第3段ヒーター5c及び第5段ヒーター5eは、第1段ヒーター5aと同じ配置形態であり、説明を省略する。また、第4段ヒーター5dは、第2段ヒーター5bと同じ配置形態であり、説明を省略する。なお、第1段ヒーター5a~第5段ヒーター5eのそれぞれ隣接する間隔は、等間隔ではない不揃い間隔で、配置されている。全てのヒーターは、排ガス導入口3側から排ガス導出口4a側に至る炉本体の中央線に対して、直交に配置されている。
また、第1段ヒーター5a~第5段ヒーター5eは、排ガス導入口3から排ガス導出口4aに向けて、順次、上下方向にジグザグ状に配置されている。これにより、対峙する2つのヒーターのスリット53の上下位置がズレるため、排ガスの流れを邪魔する効果が大となる。
次に、排ガス処理炉10を使用して、排ガスの脱臭処理方法について、説明する。排ガス処理炉10において、ヒーター5はONであり、発熱部52は排ガスを酸化・無害化するのに十分な高温度である約800℃以上であり、且つ炉室2内も高温雰囲気下にある。排ガス導入口3に導入される排ガスは、セラミック製品の焼成炉において、発生する有機物バインダーに起因する臭気成分を含んだ有害ガスである。排ガス導入口3から導入された排ガスXは、炉室2の第1段ヒーター5aで直接加熱され、同時にスリット53や隙間を通って、複数の流れに分流される。更に、第2段ヒーター5b~第5段ヒーター5eと順次、直接加熱され、同時にスリット53や隙間を通って、更に、複数の流れに分流される。これにより、ガス流速が抑制され、均一に分散し、高温による分解反応が進み、有害成分は分解され、排ガス導出口4aから浄化された排ガスYが、排出される。
排ガス処理炉10及びこれを使用した排ガス処理方法によれば、炉室内で、ショートパスが抑えられ、炉室内容積を有効に活用して排ガスを脱臭することができる。また、排ガスのショートパスを防ぐための、排ガス分流体や加熱整流体を必要としないため、それらを加熱するための余分な熱量(電力)も必要なく、それらの体積分も有効に活用できるため、炉本体がコンパクトになり、炉本体がコンパクトになることで、更に省エネ効果が発揮される。
排ガス処理炉10において、ヒーター5は、5段に限定されず、3段又は4段、あるいは6段以上であってもよい。また、1段当たり2個に限定されず、1個又は3個以上であってもよい。また、ヒーター5は、排ガス導入口3側から排ガス導出口4a側に至る炉本体の中央線に対して、直交配置に限定されず、傾斜配置であってもよく、また、第1段ヒーター5a~第5段ヒーター5eにおいて、互いに、傾斜方向が異なる交互の配置であってもよく、1段当たり2個のヒーター5の向きが互いに異なる傾斜の配置であってよい。
次に、本考案の第2の実施の形態における排ガス処理炉について、図3及び図4を参照して、更に具体的に説明する。
排ガス処理炉10aは、縦置きで、炉室2は円柱空間の丸型である。また、炉室2の周囲は、断熱材壁11aで囲まれている。下方に位置する排ガス導入口31は、炉本体11の端部の中央部に1か所であり、排ガス導出口41は、炉本体11の端部の中央部に一か所である。
ヒーター51は、排ガス導入口3側から排ガス導出口4a側に向けて、5段ヒーター51a~51eであり、1段当たり1個のヒーターを配置している。ヒーター5は、図4に示す通り、発熱部62及び端子61を有する、板状の炭化ケイ素ヒーター(SiC発熱体)である。発熱部62は、直線部がジグザグに繋がり、ジグザグの折り返し部が丸み状となることで、外観形状が円形となり、スリット63が直線状となっている。スリット幅は4mm程度である。なお、図4のヒーターは、図3のヒーターに比して、発熱部の大きさが小であり、スリットの数も少ないものであるが、同じ円形タイプのものである。
炉室21において、第1段ヒーター51a~第5段ヒーター51eの5段のヒーターは、全て同じ配置向の等間隔で、端部は炉室壁に密着して配置されている。全てのヒーターは、排ガス導入口3側から排ガス導出口4a側に至る炉本体の中央線に対して、直交に配置されている。
次に、排ガス処理炉10aを使用して、排ガスの脱臭処理方法について、説明する。排ガス処理炉10aにおいて、ヒーター51はONであり、発熱部62は排ガスを酸化・無害化するのに十分な高温度である約800℃以上であり、且つ炉室21内も高温雰囲気下にある。排ガス導入口31に導入される排ガスは、セラミック製品の焼成炉において、発生する有機物バインダーに起因する臭気成分を含んだ有害ガスである。排ガス導入口31から導入された排ガスXは、炉室21の第1段ヒーター51aで直接加熱され、同時にスリット63を通って、複数の流れに分流される。更に、第2段ヒーター51b~第5段ヒーター51eと順次、直接加熱され、同時にスリット63を通って、更に、複数の流れに分流される。これにより、ガス流速が抑制され、均一に分散し、高温による分解反応が進み、有害成分は分解され、排ガス導出口41から浄化された排ガスYが、排出される。
図3の排ガス処理炉10a及びこれを使用した排ガス処理方法によれば、図1の排ガス処理炉10と同様の作用効果が得られる。
図3の排ガス処理炉10aにおいて、ヒーター51は、5段に限定されず、3段又は4段、あるいは6段以上であってもよい。また、ヒーター51は、排ガス導入口31側から排ガス導出口41側に至る炉本体の中央線に対して、直交配置に限定されず、傾斜配置であってもよく、また、第1段ヒーター51a~第5段ヒーター51eにおいて、互いに、傾斜方向が異なる交互の配置であってもよい。
本考案によれば、炉室内容積を有効に活用でき、省スペース化が図れる。また、省スペース化により、更に省エネ効果が得られる。
1 炉本体
2 炉室
3 排ガス導入口
4 排ガス導出口
5、6 ヒーター
10、10a 排ガス処理炉
2 炉室
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4 排ガス導出口
5、6 ヒーター
10、10a 排ガス処理炉
Claims (10)
- 排ガスを処理する炉室と、該炉室に繋がる排ガス導入口と、該炉室に繋がると共に、該炉室で処理された排ガスを導出する排ガス導出口を有する炉本体を備える排ガス処理炉であって、該炉室内において、該排ガス導入口から導入された排ガスを直接加熱しつつ、同時に排ガスを複数の流れに分流し速度を抑制する、スリットが形成されたヒーターが設けられていることを特徴とする排ガス処理炉。
- 該ヒーターが、板状ヒーターであることを特徴とする請求項1記載の排ガス処理炉。
- 該ヒーターが、炭化ケイ素ヒーターであることを特徴とする請求項1記載の排ガス処理炉。
- 該ヒーターの発熱する部分のスリット幅が、2~6mmであることを特徴とする請求項1記載の排ガス処理炉。
- 該ヒーターが、該ガス導入口側から該ガス導出口側に向けて、複数段、設けられていることを特徴とする請求項1記載の排ガス処理炉。
- 該ヒーターが、1段当たり複数個、設けられていることを特徴とする請求項5記載の排ガス処理炉。
- 該ヒーターが、該ガス導入口側から該ガス導出口側に至る中央線に対して直交する角度で配置されていることを特徴とする請求項2記載の排ガス処理炉。
- 該ヒーターが、該ガス導入口側から該ガス導出口側に至る中央線に対して傾斜する角度で配置されていることを特徴とする請求項2記載の排ガス処理炉。
- 該ヒーターは、複数個有し、一部が、該ガス導入口側から該ガス導出口側に至る中央線に対して直交する角度で配置され、他の一部が、該ガス導入口側から該ガス導出口側に至る中央線に対して傾斜する角度で配置されていることを特徴とする請求項2記載の排ガス処理炉。
- 該炉本体が、横置き又は縦置きであることを特徴とする請求項1記載の排ガス処理炉。
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