JP3243474U

JP3243474U - 次亜塩素酸水の製造装置

Info

Publication number: JP3243474U
Application number: JP2023002331U
Authority: JP
Inventors: 守冨田; 幸裕冨田; 吉隆田村
Original assignee: Dairy Techno Inc
Current assignee: Dairy Techno Inc
Priority date: 2023-06-30
Filing date: 2023-06-30
Publication date: 2023-08-29
Anticipated expiration: 2033-06-30

Abstract

【課題】次亜塩素酸水を、噴霧装置により長時間噴霧させた結果、噴霧装置の付近などへの、付着物の低減を図ることができる次亜塩素酸水の製造装置を提供する。【解決手段】次亜塩素酸水の製造装置は、塩素ガス発生部１と、水が貯留されている貯留タンク２と、該貯留タンク内に、塩素ガス発生部からの塩素ガスを混入させる手段とよりなり、貯留タンク内の水は、蒸発残留物、又は、蒸発時に残留する陽イオンが０．５ｐｐｍ以下、又は、０．１ｐｐｍ以下の水であることを特徴とする。【選択図】図１

Description

本考案は、蒸発残留物が非常に少ない次亜塩素酸水、又は、蒸発時に残留する陽イオンが非常に少ない（低陽イオン）の次亜塩素酸水を製造する装置に関するものである。

従来、水に、塩素ガス（Ｃｌ₂ガス）を混入していき、初期の時点では、次亜塩素酸水は低濃度であるが、塩素ガスを混入し続けることにより、濃度を高め、所望の濃度の次亜塩素酸水を作成する装置がある。

図２は、上記次亜塩素酸水の製造装置であり、該製造装置は、塩素ガス発生部１と、水が貯留されている貯留タンク２と、該貯留タンク２内から水を流入循環して該貯留タンク内に戻す循環管路３と、上記塩素ガス発生部１と上記循環管路３間を連結し、該塩素ガス発生部１からの塩素ガスを上記循環管路３中の水に混入して次亜塩素酸水を生成する混入管路４とからなる。

なお、上記塩素ガス発生部１は、例えば、電解槽５と、希塩酸タンク６と、上記電解槽５と上記希塩酸タンク６とを連結した送水管７と、該送水管７に介在した希塩酸ポンプ８とよりなり、該ポンプ８の駆動により、上記希塩酸タンク６内の希塩酸が上記電解槽５に供給されるようになる。

また、上記電解槽５は、例えば、槽５ａと、該槽５ａ内に設けられた、陰陽両極間に隔膜が存在しない陽極５ｂと陰極５ｃとよりなり、該陽極５ｂと陰極５ｃとにより、希塩酸が電気分解され、塩素ガスが発生するようになる。

なお、１２は、上記陽極５ｂと陰極５ｃの電源を示す。

また、上記循環管路３は、例えば、該循環管路３の流入管部３ａと流出管部３ｂを上記貯留タンク２に接続すると共に、該循環管路３の中間部に循環ポンプ９を介在し、該循環ポンプ９の駆動により、上記貯留タンク２内の水が上記流入管部３ａから流入して上記循環管路３内を流動し、上記流出管部３ｂより上記貯留タンク２内に流出し、上記循環管路３内を水又は次亜塩素酸水が循環するようになる。

なお、上記循環管路３を設けずに、上記塩素ガス発生部１からの塩素ガスを、上記貯留タンク２に混入するようにしてもよい。

また、上記混入管路４は、その一端部を上記電解槽５に接続すると共に、他端部を上記循環管路３の中間部の混入個所Ａに接続し、上記電解槽５内で生成した塩素ガスを、上記混入管路４を介して上記循環管路３内を流動する水に混入し、次亜塩素酸水を生成するようにする。

なお、１０は、上記貯留タンク２に設けられた、次亜塩素酸水の排出管、１１は、上記貯留タンク２に設けられた、上記電解槽５で発生した水素ガスを外部に排出する排出口を示す。

次に上記装置による次亜塩素酸水の製造方法とその効果について説明する。

上記希塩酸ポンプ８を駆動して上記希塩酸タンク６内の希塩酸を電解槽５内に供給し、該電解槽５において、希塩酸に浸漬されている陰陽両極５ｂ、５ｃに通電して希塩酸を連続的に電解処理し、塩素ガスを発生させる。

一方、上記循環ポンプ９を駆動して、上記貯留タンク２内の水を循環管路３内を循環流動させる。

そして、発生した上記塩素ガスを上記混入管路４内を流動させて混入個所Ａで上記循環管路３内を流動する水に混入し、次亜塩素酸水を生成しながら該次亜塩素酸水を貯留タンク２内に貯留させていく。

初期の時点では、次亜塩素酸水は低濃度であるが、該次亜塩素酸水が循環管路３内の循環を繰り返しながら塩素ガスが混入されて徐々に濃度の高い次亜塩素酸水になってくる。そして貯留タンク２内の次亜塩素酸水が所望の濃度になるまで運転を継続するようにする。

このように次亜塩素酸水を循環しながら塩素ガスを混入する方式であるので、小形の電解槽５で、陰陽電極５ｂ、５ｃの通電が低電流であっても所望の高濃度の次亜塩素酸水を得ることができる。

上記の方法によれば、生成した塩素ガスを循環する水又は次亜塩素酸水に混入することを繰り返しながら循環しているので、例えば、２ｐｐｍの低濃度から８０ｐｐｍ、更には、それ以上、例えば、１０００ｐｐｍ近くまでの高濃度の次亜塩素酸水を生成することができるようになる。

又、貯留タンク２の容量、循環管路３内の循環液量或いは循環時間、又は電解槽５での塩素ガスの発生量を種々に調整することにより、少量から大量の任意の濃度の次亜塩素酸水を生成することができる。

例えば、上記次亜塩素酸水の製造装置としては、例えば、特許文献１がある。

特開２０１５－１８６８０６号公報

しかしながら、上記従来の製造装置により製造した次亜塩素酸水を噴霧装置により長時間噴霧させた結果、噴霧装置の付近などに、付着物があるのを発見した。

そして、かかる付着物は、蒸発残留物の発生を忌避する場所においては好ましくない。

そこで、本願考案者は、種々実験、検討した結果、その付着物は、水道水内の蒸発残留物、又は、蒸発残留陽イオンが原因で、次亜塩素酸水を製造するための水として、水道水１３を用いていたからであることを見出した。

即ち、水道水は、蒸発残留物の水質基準値としては、５００ｍｇ／Ｌ（ｐｐｍ）であるが、蒸発残留物の濃度が極端に低いと味気がなく、まずくなるため、おいしい水の観点から、蒸発残留物が３０～２００ｍｇ／Ｌを目標値とされている（厚生労働省の水質基準の見直しにおける検討概要の整理番号２３００５参照）。

従って、水道水では、蒸発残留物がどうしても多くなってしまう事を見出した。

更に、次亜塩素酸水の製造のための水として、所望の値以下の蒸発残留物の水、又は、所望の値以下の蒸発時の残留陽イオンの水を使用することにより、製造された次亜塩素酸水を噴霧した時に、付着物の発生を防ぎ、蒸発残留物の発生を忌避する場所においても、使用できることが分かった。
本考案は、上記知見に基づくものである。

本考案の次亜塩素酸水の製造装置は、塩素ガス発生部と、水が貯留されている貯留タンクと、該貯留タンク内に、上記塩素ガス発生部からの塩素ガスを混入させる手段とよりなり、上記貯留タンク内の水は、蒸発残留物、又は、蒸発時に残留する陽イオンが０．５ｐｐｍ以下である水であることを特徴とする。

また、本考案の次亜塩素酸水の製造装置は、塩素ガス発生部と、水が貯留されている貯留タンクと、該貯留タンク内に、上記塩素ガス発生部からの塩素ガスを混入させる手段とよりなり、上記貯留タンク内の水は、蒸発残留物、又は、蒸発時に残留する陽イオンが０．１ｐｐｍ以下である水であることを特徴とする。

また、上記水は、蒸留水などであることを特徴とする。

また、上記塩素ガス発生部は、陰陽両極間に隔膜が存在しない陽極と陰極とよりなる電解槽と、希塩酸タンクと、上記電解槽と上記希塩酸タンクとを連結した送水管と、該送水管に介在した希塩酸ポンプとよりなることを特徴とする。

また、上記貯留タンク内に、上記塩素ガス発生部からの塩素ガスを混入させる手段は、上記貯留タンク内から水を流入循環して該貯留タンク内に戻す循環管路と、上記塩素ガス発生部と上記循環管路間を連結し、該塩素ガス発生部からの塩素ガスを上記循環管路中の水に混入させる混入管路とよりなることを特徴とする。

本考案によれば、蒸発残留物、又は、蒸発時に残留する陽イオンが、０．５ｐｐｍ、又は、０．１ｐｐｍ以下の水を使用して、次亜塩素酸水を製造することにより、該製造された次亜塩素酸水を使用しても、付着物が殆ど発生せず、また、蒸発残留物の発生を忌避する場所において使用ができるようになる。

本考案の次亜塩素酸水の製造装置の説明図である。従来の次亜塩素酸水の製造装置の説明図である。

以下図面によって本考案の実施例を説明する。

なお、従来例と同じ部分には同じ符号を付け、説明を省略する、

本考案においては、従来、使用していた水道水の代わりに、蒸発残留物、又は、蒸発時に残留する陽イオンが０．５ｐｐｍ（ｍｇ／Ｌ）以下、又は、０．１ｐｐｍ以下となる水１４を用い、図１に示すように、該水１４を、上記貯留タンク２に貯留し、次亜塩素酸水を製造するようにする。

該蒸発残留物、又は、蒸発時残留陽イオンが０．５ｐｐｍ以下、又は、０．１ｐｐｍ以下となる水は、例えば、蒸発残留物、又は、蒸発時残留陽イオンが０．５ｐｐｍ以下、又は、０．１ｐｐｍ以下の蒸留水などを用いる。

水道水は、蒸発残留物の水質基準値として、５００ｍｇ／Ｌ（ｐｐｍ）であるが、おいしい水の観点から、蒸発残留物が３０～２００ｍｇ／Ｌを目標値とされているため、この水道水を用いて、次亜塩素酸水を製造すると、塩素ガスは、ＨＣＩＯと、ＨＣｌが生成されるが、いずれも噴霧時は気散して、残らないため、水道水に存在する蒸発残留物がそのまま残留するか、ＨＣＬと反応して塩化物として残留して、その結果、次亜塩素酸水の蒸発残留物は、３０ｐｐｍ以上となってしまう。

しかしながら、本考案においては、蒸発残留物少ない水、又は、残留する陽イオンが少ない水を利用するので、付着物の低減を図ることができる。

そして、蒸発残留物の発生を忌避する場所において使用ができるようになる。

なお、上記製造した次亜塩素酸水は、噴霧以外に、殺菌料として使用することもできる。

また、上記製造装置は、連続式でも、バッチ式であってもよい。

１塩素ガス発生部
２貯留タンク
３循環管路
３ａ流入管部
３ｂ流出管部
４混入管路
５電解槽
５ａ槽
５ｂ陽極
５ｃ陰極
６希塩酸タンク
７送水管
８希塩酸ポンプ
９循環ポンプ
１０排出管
１１排出口
１２電源
１３水道水
１４低蒸発残留物の水、又は、低残留陽イオンの水

Claims

塩素ガス発生部と、水が貯留されている貯留タンクと、該貯留タンク内に、上記塩素ガス発生部からの塩素ガスを混入させる手段とよりなり、
上記貯留タンク内の水は、蒸発残留物が０．５ｐｐｍ以下である水であることを特徴とする次亜塩素酸水の製造装置。
塩素ガス発生部と、水が貯留されている貯留タンクと、該貯留タンク内に、上記塩素ガス発生部からの塩素ガスを混入させる手段とよりなり、
上記貯留タンク内の水は、蒸発残留物が０．１ｐｐｍ以下である水であることを特徴とする次亜塩素酸水の製造装置。
塩素ガス発生部と、水が貯留されている貯留タンクと、該貯留タンク内に、上記塩素ガス発生部からの塩素ガスを混入させる手段とよりなり、
上記貯留タンク内の水は、蒸発時に残留する陽イオンが０．５ｐｐｍ以下である水であることを特徴とする次亜塩素酸水の製造装置。
塩素ガス発生部と、水が貯留されている貯留タンクと、該貯留タンク内に、上記塩素ガス発生部からの塩素ガスを混入させる手段とよりなり、
上記貯留タンク内の水は、蒸発時に残留する陽イオンが０．１ｐｐｍ以下である水であることを特徴とする次亜塩素酸水の製造装置。
上記塩素ガス発生部は、陰陽両極間に隔膜が存在しない陽極と陰極とよりなる電解槽と、希塩酸タンクと、上記電解槽と上記希塩酸タンクとを連結した送水管と、該送水管に介在した希塩酸ポンプとよりなることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１に記載の次亜塩素酸水の製造装置。
上記貯留タンク内に、上記塩素ガス発生部からの塩素ガスを混入させる手段は、
上記貯留タンク内から水を流入循環して該貯留タンク内に戻す循環管路と、
上記塩素ガス発生部と上記循環管路間を連結し、該塩素ガス発生部からの塩素ガスを上記循環管路中の水に混入させる混入管路とよりなることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１記載の次亜塩素酸水の製造装置。