JP3236402B2 - 吸収式冷凍機 - Google Patents
吸収式冷凍機Info
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- JP3236402B2 JP3236402B2 JP09477393A JP9477393A JP3236402B2 JP 3236402 B2 JP3236402 B2 JP 3236402B2 JP 09477393 A JP09477393 A JP 09477393A JP 9477393 A JP9477393 A JP 9477393A JP 3236402 B2 JP3236402 B2 JP 3236402B2
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- absorber
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- vapor
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/25—Process efficiency
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、冷媒を蒸発させる蒸発
器と、その蒸発器で蒸発した冷媒蒸気を界面活性剤が含
有された吸収液に吸収させる吸収器とが設けられた吸収
式冷凍機に関する。
器と、その蒸発器で蒸発した冷媒蒸気を界面活性剤が含
有された吸収液に吸収させる吸収器とが設けられた吸収
式冷凍機に関する。
【０００２】
【従来の技術】かかる吸収式冷凍機では、吸収液が冷媒
蒸気を吸収する能力（以下、吸収能力と称する場合もあ
る）を高めるために、吸収液に界面活性剤を含有させて
いる。ところで、再生器において、冷媒を蒸気として分
離するために吸収液を加熱するが、その加熱により、吸
収液に含有されている界面活性剤が分解して、吸収液中
の界面活性剤の濃度（以下、単に界面活性剤濃度と称す
る場合もある）が徐々に低下する。従って、従来は、界
面活性剤の分解による界面活性剤濃度の低下を考慮し
て、予め、界面活性剤濃度が適正濃度以上になる状態で
界面活性剤を吸収液に添加し、その後、適宜、界面活性
剤を追加していた。
蒸気を吸収する能力（以下、吸収能力と称する場合もあ
る）を高めるために、吸収液に界面活性剤を含有させて
いる。ところで、再生器において、冷媒を蒸気として分
離するために吸収液を加熱するが、その加熱により、吸
収液に含有されている界面活性剤が分解して、吸収液中
の界面活性剤の濃度（以下、単に界面活性剤濃度と称す
る場合もある）が徐々に低下する。従って、従来は、界
面活性剤の分解による界面活性剤濃度の低下を考慮し
て、予め、界面活性剤濃度が適正濃度以上になる状態で
界面活性剤を吸収液に添加し、その後、適宜、界面活性
剤を追加していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来の吸収式冷
凍機では、一度に多量の界面活性剤を添加するので、界
面活性剤濃度が適正濃度以上であるばかりか、吸収液の
循環経路の場所による界面活性剤濃度の差が大きい。
又、次に界面活性剤を追加するまでの間で界面活性剤濃
度が徐々に低下するので、界面活性剤濃度が適正濃度以
下になる場合がある。従って、界面活性剤濃度が適正濃
度以上である場合は、その濃度が高い程、加熱による界
面活性剤の分解量が多くなるので、界面活性剤の使用量
が多くなるという問題があった。又、界面活性剤濃度が
適正濃度以下の場合は、吸収液の吸収能力が低下するの
で、冷凍能力が低下するという問題があった。
凍機では、一度に多量の界面活性剤を添加するので、界
面活性剤濃度が適正濃度以上であるばかりか、吸収液の
循環経路の場所による界面活性剤濃度の差が大きい。
又、次に界面活性剤を追加するまでの間で界面活性剤濃
度が徐々に低下するので、界面活性剤濃度が適正濃度以
下になる場合がある。従って、界面活性剤濃度が適正濃
度以上である場合は、その濃度が高い程、加熱による界
面活性剤の分解量が多くなるので、界面活性剤の使用量
が多くなるという問題があった。又、界面活性剤濃度が
適正濃度以下の場合は、吸収液の吸収能力が低下するの
で、冷凍能力が低下するという問題があった。
【０００４】本発明は、かかる実情に鑑みて成されたも
のであり、その目的は、吸収液中の界面活性剤の濃度を
適正濃度に維持するようにして、上記従来の諸問題を解
消することにある。
のであり、その目的は、吸収液中の界面活性剤の濃度を
適正濃度に維持するようにして、上記従来の諸問題を解
消することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明による吸収式冷凍
機の第１の特徴構成は、前記吸収器内における界面活性
剤の蒸気圧が飽和蒸気圧になるように、前記蒸気圧の低
下に伴って、界面活性剤を蒸気状態で供給し、且つ、前
記蒸気圧が飽和蒸気圧に達するのに伴って、供給を停止
する供給手段が設けられ、 その供給手段が、吸収液の浸
入を阻止する状態で界面活性剤を貯留し且つ前記吸収器
内に設けられた容器と、その容器内と前記吸収器内とを
連通させる連通部とから構成されている点にある。
機の第１の特徴構成は、前記吸収器内における界面活性
剤の蒸気圧が飽和蒸気圧になるように、前記蒸気圧の低
下に伴って、界面活性剤を蒸気状態で供給し、且つ、前
記蒸気圧が飽和蒸気圧に達するのに伴って、供給を停止
する供給手段が設けられ、 その供給手段が、吸収液の浸
入を阻止する状態で界面活性剤を貯留し且つ前記吸収器
内に設けられた容器と、その容器内と前記吸収器内とを
連通させる連通部とから構成されている点にある。
【０００６】第２の特徴構成は、前記蒸発器に供給され
て蒸発しなかった冷媒液が、前記吸収器内下部の吸収液
貯留部に供給されるように構成され、 前記吸収器内にお
ける界面活性剤の蒸気圧が飽和蒸気圧になるように、前
記蒸気圧の低下に伴って、界面活性剤を蒸気状態で供給
し、且つ、前記蒸気圧が飽和蒸気圧に達するのに伴っ
て、供給を停止する供給手段が設けられ、その供給手段
が、吸収液の浸入を阻止する状態で界面活性剤を貯留し
且つ前記吸収液貯留部に貯留されている吸収液に浸漬す
る状態で設けられた容器と、その容器内と前記吸収器内
とを連通させる連通部とから構成されている点にある。
て蒸発しなかった冷媒液が、前記吸収器内下部の吸収液
貯留部に供給されるように構成され、 前記吸収器内にお
ける界面活性剤の蒸気圧が飽和蒸気圧になるように、前
記蒸気圧の低下に伴って、界面活性剤を蒸気状態で供給
し、且つ、前記蒸気圧が飽和蒸気圧に達するのに伴っ
て、供給を停止する供給手段が設けられ、その供給手段
が、吸収液の浸入を阻止する状態で界面活性剤を貯留し
且つ前記吸収液貯留部に貯留されている吸収液に浸漬す
る状態で設けられた容器と、その容器内と前記吸収器内
とを連通させる連通部とから構成されている点にある。
【０００７】
【作用】第１の特徴構成によれば、吸収器内に供給され
る吸収液中の界面活性剤の濃度が低くなって、吸収器内
における界面活性剤の蒸気圧が低下すると、その蒸気圧
が飽和蒸気圧に達するまで、供給手段により、界面活性
剤が蒸気状態で供給される。 つまり、吸収液中の界面活
性剤の適正濃度とは、吸収器内における界面活性剤の蒸
気圧を飽和蒸気圧に維持させるのに足りる量の界面活性
剤が吸収液に含有されている状態の濃度であり、その適
正濃度となるように界面活性剤が、供給手段により供給
されることになる。 そして、供給手段は、吸収液の浸入
を阻止する状態で界面活性剤を貯留し且つ吸収器内に設
けられた容器と、その容器内と吸収器内とを連通させる
連通部とから構成されているから、吸収器内に供給され
る吸収液中の界面活性剤の濃度が低くなって、吸収器内
における界面活性剤の蒸気圧が低下すると、容器内に貯
留されている界面活性剤が蒸発することにより生成され
た界面活性剤の蒸気を、連通部を通じて吸収器内に供給
することにより、界面活性剤の蒸気圧が飽和蒸気圧に達
するまで界面活性剤を供給することになる。
る吸収液中の界面活性剤の濃度が低くなって、吸収器内
における界面活性剤の蒸気圧が低下すると、その蒸気圧
が飽和蒸気圧に達するまで、供給手段により、界面活性
剤が蒸気状態で供給される。 つまり、吸収液中の界面活
性剤の適正濃度とは、吸収器内における界面活性剤の蒸
気圧を飽和蒸気圧に維持させるのに足りる量の界面活性
剤が吸収液に含有されている状態の濃度であり、その適
正濃度となるように界面活性剤が、供給手段により供給
されることになる。 そして、供給手段は、吸収液の浸入
を阻止する状態で界面活性剤を貯留し且つ吸収器内に設
けられた容器と、その容器内と吸収器内とを連通させる
連通部とから構成されているから、吸収器内に供給され
る吸収液中の界面活性剤の濃度が低くなって、吸収器内
における界面活性剤の蒸気圧が低下すると、容器内に貯
留されている界面活性剤が蒸発することにより生成され
た界面活性剤の蒸気を、連通部を通じて吸収器内に供給
することにより、界面活性剤の蒸気圧が飽和蒸気圧に達
するまで界面活性剤を供給することになる。
【０００８】第２の特徴構成によれば、上記の第１の特
徴構成によるのと同様に、供給手段は、吸収器内に供給
される吸収液中の界面活性剤の濃度が低くなって、吸収
器内における界面活性剤の蒸気圧が低下すると、容器内
に貯留されている界面活性剤が蒸発することにより生成
された界面活性剤の蒸気を、連通部を通じて吸収器内に
供給することにより、界面活性剤の蒸気圧が飽和蒸気圧
に達するまで界面活性剤を供給することになる。 しか
も、第２の特徴構成によれば、蒸発器に供給されて蒸発
しなかった冷媒液、いわゆる無効冷媒が吸収器内下部の
吸収液貯留部に供給されるように構成され、供給手段を
構成する容器が吸収液貯留部に貯留されている吸収液に
浸漬する状態で設けられていることから、吸収器内の界
面活性剤の蒸気圧を飽和蒸気圧に維持することを一層適
切に行うことが可能となる。 即ち、吸収器内に供給され
る吸収液中の界面活性剤の濃度が低下して、吸収器内に
おける吸収液の吸収能力が低下することに伴って、蒸発
器における冷媒蒸発量が少なくなって無効冷媒量が増加
すると、吸収液貯留部に供給される無効冷媒量が増加し
て、無効冷媒が吸収液に混合することによる発熱量が増
加することとなり、それによって吸収液貯留部の吸収液
の温度が上昇して、容器内の界面活性剤の加熱が促進さ
れるので、界面活性剤が蒸発し易くなり、吸収器内の界
面活性剤の蒸気圧を飽和蒸気圧に維持することを一層適
切に行うことが可能となるのである。
徴構成によるのと同様に、供給手段は、吸収器内に供給
される吸収液中の界面活性剤の濃度が低くなって、吸収
器内における界面活性剤の蒸気圧が低下すると、容器内
に貯留されている界面活性剤が蒸発することにより生成
された界面活性剤の蒸気を、連通部を通じて吸収器内に
供給することにより、界面活性剤の蒸気圧が飽和蒸気圧
に達するまで界面活性剤を供給することになる。 しか
も、第２の特徴構成によれば、蒸発器に供給されて蒸発
しなかった冷媒液、いわゆる無効冷媒が吸収器内下部の
吸収液貯留部に供給されるように構成され、供給手段を
構成する容器が吸収液貯留部に貯留されている吸収液に
浸漬する状態で設けられていることから、吸収器内の界
面活性剤の蒸気圧を飽和蒸気圧に維持することを一層適
切に行うことが可能となる。 即ち、吸収器内に供給され
る吸収液中の界面活性剤の濃度が低下して、吸収器内に
おける吸収液の吸収能力が低下することに伴って、蒸発
器における冷媒蒸発量が少なくなって無効冷媒量が増加
すると、吸収液貯留部に供給される無効冷媒量が増加し
て、無効冷媒が吸収液に混合することによる発熱量が増
加することとなり、それによって吸収液貯留部の吸収液
の温度が上昇して、容器内の界面活性剤の加熱が促進さ
れるので、界面活性剤が蒸発し易くなり、吸収器内の界
面活性剤の蒸気圧を飽和蒸気圧に維持することを一層適
切に行うことが可能となるのである。
【０００９】
【発明の効果】従って、本発明の第１の特徴構成によれ
ば、吸収液中の界面活性剤の濃度を適正濃度に維持する
ことができるので、界面活性剤の使用量が多い、吸収液
の吸収能力が低下するので冷凍能力が低下するといった
従来の諸問題を解消することができるのであり、しか
も、そのために設ける供給手段を、吸収液の浸入を阻止
する状態で界面活性剤を貯留し且つ吸収器内に設けられ
た容器と、その容器内と吸収器内とを連通させる連通部
とから構成するので、本来の構成を利用した簡素な構成
で所望の目的に達することができる。即ち、例えば吸収
液中の界面活性剤の濃度をセンサにて検出し、その検出
情報に基づいて界面活性剤を供給する供給手段を設ける
ことが考えられるが、本第１の特徴構成によれば、簡素
な構成で所望の目的に達することができる。
ば、吸収液中の界面活性剤の濃度を適正濃度に維持する
ことができるので、界面活性剤の使用量が多い、吸収液
の吸収能力が低下するので冷凍能力が低下するといった
従来の諸問題を解消することができるのであり、しか
も、そのために設ける供給手段を、吸収液の浸入を阻止
する状態で界面活性剤を貯留し且つ吸収器内に設けられ
た容器と、その容器内と吸収器内とを連通させる連通部
とから構成するので、本来の構成を利用した簡素な構成
で所望の目的に達することができる。即ち、例えば吸収
液中の界面活性剤の濃度をセンサにて検出し、その検出
情報に基づいて界面活性剤を供給する供給手段を設ける
ことが考えられるが、本第１の特徴構成によれば、簡素
な構成で所望の目的に達することができる。
【００１０】また、本発明の第２の特徴構成によれば、
上記の第１の特徴構成によるのと同様に、簡素な構成
で、上記の如き従来の諸問題を解消することができ、し
かも、無効冷媒が吸収液貯留部に供給されるように構成
し、供給手段を構成する容器を吸収液貯留部に貯留され
ている吸収液に浸漬する状態で設けるので、吸収器内の
界面活性剤の蒸気圧を飽和蒸気圧に維持することを一層
適切に行うことが可能となる。
上記の第１の特徴構成によるのと同様に、簡素な構成
で、上記の如き従来の諸問題を解消することができ、し
かも、無効冷媒が吸収液貯留部に供給されるように構成
し、供給手段を構成する容器を吸収液貯留部に貯留され
ている吸収液に浸漬する状態で設けるので、吸収器内の
界面活性剤の蒸気圧を飽和蒸気圧に維持することを一層
適切に行うことが可能となる。
【００１１】
【実施例】以下、図１に基づいて、本発明を二重効用吸
収式冷凍機に適用した実施例について説明する。先ず、
二重効用吸収式冷凍機の全体構成について説明する。
収式冷凍機に適用した実施例について説明する。先ず、
二重効用吸収式冷凍機の全体構成について説明する。
【００１２】バーナＢにより吸収液を加熱する高温再生
器１の上方に、縦型円筒形に形成した高温再生器気液分
離器２を配置し、その高温再生器気液分離器２の周部に
縦型の低温再生器３を配置し、その低温再生器３の上方
に低温再生器気液分離器４を配置し、低温再生器３の周
部に縦型の吸収器５を配置し、その吸収器５の周部で下
方に蒸発器６を、且つ、上方に凝縮器７を配置してあ
る。
器１の上方に、縦型円筒形に形成した高温再生器気液分
離器２を配置し、その高温再生器気液分離器２の周部に
縦型の低温再生器３を配置し、その低温再生器３の上方
に低温再生器気液分離器４を配置し、低温再生器３の周
部に縦型の吸収器５を配置し、その吸収器５の周部で下
方に蒸発器６を、且つ、上方に凝縮器７を配置してあ
る。
【００１３】冷媒蒸気と吸収液の上昇流路８で高温再生
器１に高温再生器気液分離器２を接続し、低温再生器３
の上部と低温再生器気液分離器４とを連通させてある。
吸収器５の下部の吸収液貯留部５ａと高温再生器１とを
溶液ポンプ９を介装した稀溶液供給路１０で接続し、高
温再生器気液分離器２と低温再生器３の下部とを中濃度
溶液供給路１１で接続し、低温再生器気液分離器４と吸
収器５の上部の吸収液散布具１２とを濃溶液供給路１３
で接続してある。
器１に高温再生器気液分離器２を接続し、低温再生器３
の上部と低温再生器気液分離器４とを連通させてある。
吸収器５の下部の吸収液貯留部５ａと高温再生器１とを
溶液ポンプ９を介装した稀溶液供給路１０で接続し、高
温再生器気液分離器２と低温再生器３の下部とを中濃度
溶液供給路１１で接続し、低温再生器気液分離器４と吸
収器５の上部の吸収液散布具１２とを濃溶液供給路１３
で接続してある。
【００１４】中濃度溶液供給路１１を通流する吸収液に
より稀溶液供給路１０を通流する吸収液を加熱する高温
熱交換器１４を設け、濃溶液供給路１３を通流する吸収
液により稀溶液供給路１０を通流する吸収液を加熱する
低温熱交換器１５を設けてある。
より稀溶液供給路１０を通流する吸収液を加熱する高温
熱交換器１４を設け、濃溶液供給路１３を通流する吸収
液により稀溶液供給路１０を通流する吸収液を加熱する
低温熱交換器１５を設けてある。
【００１５】高温再生器気液分離器２と低温再生器３と
を区画する隔壁１６を、高温再生器気液分離器２内の冷
媒蒸気で低温再生器３内の吸収液を加熱するための伝熱
壁に形成し、隔壁１６の内面での凝縮により発生した冷
媒液を隔壁１６と内筒１７との間の冷媒液貯留部２ａに
流下させるように構成してある。
を区画する隔壁１６を、高温再生器気液分離器２内の冷
媒蒸気で低温再生器３内の吸収液を加熱するための伝熱
壁に形成し、隔壁１６の内面での凝縮により発生した冷
媒液を隔壁１６と内筒１７との間の冷媒液貯留部２ａに
流下させるように構成してある。
【００１６】高温再生器気液分離器２の冷媒液貯留部２
ａと凝縮器７とを冷媒液供給路１８で接続し、低温再生
器気液分離器４と凝縮器７とを冷媒蒸気供給路１９で接
続し、凝縮器７の下部の冷媒液貯留部７ａと蒸発器６の
冷媒液散布具２０とを冷媒液供給路２１で接続してあ
る。又、蒸発器６と吸収器５とは、連通させてある。
又、蒸発器６に供給されて蒸発しなかった冷媒液が、吸
収器５内下部の吸収液貯留部５ａに供給されるように構
成してある。
ａと凝縮器７とを冷媒液供給路１８で接続し、低温再生
器気液分離器４と凝縮器７とを冷媒蒸気供給路１９で接
続し、凝縮器７の下部の冷媒液貯留部７ａと蒸発器６の
冷媒液散布具２０とを冷媒液供給路２１で接続してあ
る。又、蒸発器６と吸収器５とは、連通させてある。
又、蒸発器６に供給されて蒸発しなかった冷媒液が、吸
収器５内下部の吸収液貯留部５ａに供給されるように構
成してある。
【００１７】冷却水供給源２２からの冷却水を吸収器５
内の冷却コイル２３から凝縮器７内の冷却コイル２４へ
と供給するように、冷却コイル２３と冷却コイル２４と
を接続するとともに、それらに冷却水供給路２５を接続
してある。蒸発器６内の被冷却コイル２６からの冷水を
冷却対象２７に供給するように、被冷却コイル２６と冷
却対象２７とをポンプを介装した冷水供給路２８で接続
してある。
内の冷却コイル２３から凝縮器７内の冷却コイル２４へ
と供給するように、冷却コイル２３と冷却コイル２４と
を接続するとともに、それらに冷却水供給路２５を接続
してある。蒸発器６内の被冷却コイル２６からの冷水を
冷却対象２７に供給するように、被冷却コイル２６と冷
却対象２７とをポンプを介装した冷水供給路２８で接続
してある。
【００１８】つまり、高温再生器１で吸収液から発生し
た冷媒蒸気を高温再生器気液分離器２で凝縮させ、その
冷媒液を凝縮器７に供給し、低温再生器３で吸収液から
発生した冷媒蒸気を凝縮器７に供給して、その冷媒蒸気
を冷却コイル２４の作用で凝縮させるようにしてある。
そして、冷媒液貯留部７ａに貯留されている冷媒液を、
冷媒液散布具２０にて蒸発器６内に散布し、その散布冷
媒液を被冷却コイル２６の作用で蒸発させ、その気化熱
により、被冷却コイル２６を通流する水を冷却するよう
に構成してある。
た冷媒蒸気を高温再生器気液分離器２で凝縮させ、その
冷媒液を凝縮器７に供給し、低温再生器３で吸収液から
発生した冷媒蒸気を凝縮器７に供給して、その冷媒蒸気
を冷却コイル２４の作用で凝縮させるようにしてある。
そして、冷媒液貯留部７ａに貯留されている冷媒液を、
冷媒液散布具２０にて蒸発器６内に散布し、その散布冷
媒液を被冷却コイル２６の作用で蒸発させ、その気化熱
により、被冷却コイル２６を通流する水を冷却するよう
に構成してある。
【００１９】一方、低温再生器気液分離器４からの吸収
液を吸収液散布具１２にて吸収器５内に散布して、その
散布吸収液に蒸発器６で発生した冷媒蒸気を吸収させ、
その冷媒蒸気を吸収した吸収液を高温再生器１、高温再
生器気液分離器２、低温再生器３、低温再生器気液分離
器４に順次供給して冷媒を分離し、その冷媒を分離した
吸収液を吸収液散布具１２にて吸収器５内に散布するよ
うに構成してある。つまり、吸収液を高温再生器１、高
温再生器気液分離器２、低温再生器３、低温再生器気液
分離器４、吸収器５、高温再生器１の順に循環する循環
サイクルを循環させるように構成してある。吸収器５内
で吸収液が冷媒蒸気を吸収することにより生じた吸収熱
を、冷却コイル２３を通流する水に与えて外部に取り出
すようにしてある。
液を吸収液散布具１２にて吸収器５内に散布して、その
散布吸収液に蒸発器６で発生した冷媒蒸気を吸収させ、
その冷媒蒸気を吸収した吸収液を高温再生器１、高温再
生器気液分離器２、低温再生器３、低温再生器気液分離
器４に順次供給して冷媒を分離し、その冷媒を分離した
吸収液を吸収液散布具１２にて吸収器５内に散布するよ
うに構成してある。つまり、吸収液を高温再生器１、高
温再生器気液分離器２、低温再生器３、低温再生器気液
分離器４、吸収器５、高温再生器１の順に循環する循環
サイクルを循環させるように構成してある。吸収器５内
で吸収液が冷媒蒸気を吸収することにより生じた吸収熱
を、冷却コイル２３を通流する水に与えて外部に取り出
すようにしてある。
【００２０】次に、界面活性剤（例えば、２エチルヘキ
サノール）を吸収液に含有させるための構成について説
明する。吸収器５内における界面活性剤の蒸気圧が飽和
蒸気圧になるように、前記蒸気圧の低下に伴って、界面
活性剤を蒸気状態で供給し、且つ、前記蒸気圧が飽和蒸
気圧に達するのに伴って、供給を停止する供給手段Ｋを
設けてある。
サノール）を吸収液に含有させるための構成について説
明する。吸収器５内における界面活性剤の蒸気圧が飽和
蒸気圧になるように、前記蒸気圧の低下に伴って、界面
活性剤を蒸気状態で供給し、且つ、前記蒸気圧が飽和蒸
気圧に達するのに伴って、供給を停止する供給手段Ｋを
設けてある。
【００２１】具体的には、供給手段Ｋは、吸収器５内の
吸収液貯留部５ａに貯留されている吸収液に浸漬する状
態で設けた容器３１と、その容器３１に連通接続した筒
状体３２とから構成してある。容器３１は、吸収液貯留
部５ａに貯留されている吸収液、及び、吸収液散布具１
２から散布された吸収液が内部に浸入するのを阻止する
状態で界面活性剤を貯留する構造としてあり、具体的に
は、壺状の形状の容器３１の開口部に筒状体３２を連通
接続してある。又、筒状体３２の先端開口部からも吸収
液が容器３１内部に浸入しないように、筒状体３２の先
端開口部の位置が吸収液貯留部５ａに貯留される吸収液
の最大液面よりも上方に位置するように筒状体３２を設
けるとともに、筒状体３２の先端開口部が水平方向向き
あるいは水平方向よりも下向きになるように筒状体３２
を屈曲させてある。即ち、筒状体３２が、容器３１内と
吸収器５内とを連通させる連通部として機能する。
吸収液貯留部５ａに貯留されている吸収液に浸漬する状
態で設けた容器３１と、その容器３１に連通接続した筒
状体３２とから構成してある。容器３１は、吸収液貯留
部５ａに貯留されている吸収液、及び、吸収液散布具１
２から散布された吸収液が内部に浸入するのを阻止する
状態で界面活性剤を貯留する構造としてあり、具体的に
は、壺状の形状の容器３１の開口部に筒状体３２を連通
接続してある。又、筒状体３２の先端開口部からも吸収
液が容器３１内部に浸入しないように、筒状体３２の先
端開口部の位置が吸収液貯留部５ａに貯留される吸収液
の最大液面よりも上方に位置するように筒状体３２を設
けるとともに、筒状体３２の先端開口部が水平方向向き
あるいは水平方向よりも下向きになるように筒状体３２
を屈曲させてある。即ち、筒状体３２が、容器３１内と
吸収器５内とを連通させる連通部として機能する。
【００２２】又、吸収器５の外部から容器３１内に界面
活性剤を補給できるように、容器３１に界面活性剤供給
管３３を連通接続してある。又、界面活性剤供給管３３
には、開閉弁３４を介装してある。
活性剤を補給できるように、容器３１に界面活性剤供給
管３３を連通接続してある。又、界面活性剤供給管３３
には、開閉弁３４を介装してある。
【００２３】〔別実施例〕 次に別実施例を列記する。
【００２４】 容器３１内に貯留される界面活性剤の
液面レベルを検出するレベルセンサと、そのレベルセン
サの検出情報に基づいて、前記液面レベルを設定レベル
に維持させるように開閉弁３４を開閉制御する制御装置
を設けても良い。
液面レベルを検出するレベルセンサと、そのレベルセン
サの検出情報に基づいて、前記液面レベルを設定レベル
に維持させるように開閉弁３４を開閉制御する制御装置
を設けても良い。
【００２５】 吸収器５、蒸発器６及び凝縮器７を、
高温再生器気液分離器２、低温再生器３及び低温再生器
気液分離器４とは別体で別置にしても良い。
高温再生器気液分離器２、低温再生器３及び低温再生器
気液分離器４とは別体で別置にしても良い。
【００２６】 冷媒や吸収液は公知のものから適当に
選定することができる。
選定することができる。
【００２７】 上記実施例では、本発明を二重効用吸
収式冷凍機に適用する場合について例示したが、単効用
吸収式冷凍機に適用することも可能である。
収式冷凍機に適用する場合について例示したが、単効用
吸収式冷凍機に適用することも可能である。
【００２８】尚、特許請求の範囲の項に図面との対照を
便利にするために符号を記すが、該記入により本発明は
添付図面の構成に限定されるものではない。
便利にするために符号を記すが、該記入により本発明は
添付図面の構成に限定されるものではない。
【図１】二重効用吸収式冷凍機の構成図
５ 吸収器５ａ 吸収液貯留部 ６ 蒸発器 ３１ 容器 ３２ 連通部 Ｋ 供給手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 慎介 大阪府大阪市中央区平野町四丁目１番２ 号 大阪瓦斯株式会社内 (56)参考文献 特開 平１−266475（ＪＰ，Ａ) 特開 昭52−81646（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) F25B 15/00
Claims (2)
- 【請求項１】 冷媒を蒸発させる蒸発器（６）と、その
蒸発器（６）で蒸発した冷媒蒸気を界面活性剤が含有さ
れた吸収液に吸収させる吸収器（５）とが設けられた吸
収式冷凍機であって、 前記吸収器（５）内における界面活性剤の蒸気圧が飽和
蒸気圧になるように、前記蒸気圧の低下に伴って、界面
活性剤を蒸気状態で供給し、且つ、前記蒸気圧が飽和蒸
気圧に達するのに伴って、供給を停止する供給手段
（Ｋ）が設けられ、 その供給手段（Ｋ）が、吸収液の浸入を阻止する状態で
界面活性剤を貯留し且つ前記吸収器（５）内に設けられ
た容器（３１）と、その容器（３１）内と前記吸収器
（５）内とを連通させる連通部（３２）とから構成され
ている 吸収式冷凍機。 - 【請求項２】 冷媒を蒸発させる蒸発器（６）と、その
蒸発器（６）で蒸発した冷媒蒸気を界面活性剤が含有さ
れた吸収液に吸収させる吸収器（５）とが設けられた吸
収式冷凍機であって、 前記蒸発器（６）に供給されて蒸発しなかった冷媒液
が、前記吸収器（５）内下部の吸収液貯留部（５ａ）に
供給されるように構成され、 前記吸収器（５）内における界面活性剤の蒸気圧が飽和
蒸気圧になるように、前記蒸気圧の低下に伴って、界面
活性剤を蒸気状態で供給し、且つ、前記蒸気圧が飽和蒸
気圧に達するのに伴って、供給を停止する供給手段
（Ｋ）が設けられ、 その供給手段（Ｋ）が、吸収液の浸入を阻止する状態で
界面活性剤を貯留し且つ前記吸収液貯留部（５ａ）に貯
留されている吸収液に浸漬する状態で設けられた容器
（３１）と、その容器（３１）内と前記吸収器（５）内
とを連通させる連通部（３２）とから構成されている 吸
収式冷凍機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09477393A JP3236402B2 (ja) | 1993-04-22 | 1993-04-22 | 吸収式冷凍機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09477393A JP3236402B2 (ja) | 1993-04-22 | 1993-04-22 | 吸収式冷凍機 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06307730A JPH06307730A (ja) | 1994-11-01 |
| JP3236402B2 true JP3236402B2 (ja) | 2001-12-10 |
Family
ID=14119422
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09477393A Expired - Fee Related JP3236402B2 (ja) | 1993-04-22 | 1993-04-22 | 吸収式冷凍機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3236402B2 (ja) |
Families Citing this family (13)
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|---|---|---|---|---|
| EP2087930A1 (de) * | 2008-02-05 | 2009-08-12 | Evonik Degussa GmbH | Verfahren zur Absorption eines flüchtigen Stoffes in einem flüssigen Absorptionsmittel |
| DE102009047564A1 (de) | 2009-12-07 | 2011-06-09 | Evonik Degussa Gmbh | Arbeitsmedium für eine Absorptionskältemaschine |
| DE102011077377A1 (de) | 2010-11-12 | 2012-05-16 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Absorption von sauren Gasen aus Gasmischungen |
| BR112014008497A2 (pt) | 2011-11-14 | 2017-04-11 | Evonik Degussa Gmbh | método e dispositivo para a separação de gases acídicos a partir de uma mistura de gás |
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| DE102012207509A1 (de) | 2012-05-07 | 2013-11-07 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Absorption von CO2 aus einer Gasmischung |
| DE102015212749A1 (de) | 2015-07-08 | 2017-01-12 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Entfeuchtung von feuchten Gasgemischen |
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| DE102016210484A1 (de) | 2016-06-14 | 2017-12-14 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Entfeuchtung von feuchten Gasgemischen |
| DE102016210478A1 (de) | 2016-06-14 | 2017-12-14 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Entfeuchtung von feuchten Gasgemischen |
| EP3257843A1 (en) | 2016-06-14 | 2017-12-20 | Evonik Degussa GmbH | Method of preparing a high purity imidazolium salt |
| DE102016210483A1 (de) | 2016-06-14 | 2017-12-14 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren und Absorptionsmittel zur Entfeuchtung von feuchten Gasgemischen |
| DE102016210481B3 (de) | 2016-06-14 | 2017-06-08 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zum Reinigen einer ionischen Flüssigkeit |
-
1993
- 1993-04-22 JP JP09477393A patent/JP3236402B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06307730A (ja) | 1994-11-01 |
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