JP3232583B2 - 電子線描画装置 - Google Patents
電子線描画装置Info
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Description
する電子線描画装置に関する。
ップ&リピート方式の描画装置では、フィールド単位に
分割された描画パターン(1)をプレート(2)上に描
画する場合、まず、フィールド3の中心がビーム原点に
来る様にステージをYの−方向に移動させる。次にフィ
ールド3全面を露光し、その後、フィールド4の中心が
ビーム原点に来る様にステージをYの−方向に移動させ
る。同様に次のフィールドを描画し、プレート全面の描
画を終える。ここで、プレート全面を描画するのに約1
hr程度要する為、描画途中に、ビームドリフト補正が
実行される。ビームドリフト補正は、次の様に行われ
る。描画開始寸前にステージ上に固定された基準マーク
7の位置(x1,y1)をビームにより検出しておく。描
画開始して、途中、所定の時間(通常1分程度)毎に、
その時のフィールド描画終了時点で再度基準マーク位置
にステージを移動(Yの−方向)させ、マーク検出を実
行し、その時得られた(x2,y2)と初期値(x1,
y1)との差、Δx1=x2−x1,Δy1=y2−y1をビ
ームドリフト値として、次のフィールドを描画する時に
ステージの移動目標値に加算することによって、ビーム
ドリフト補正を行う。その為、約1hrの描画中に60
回程度、ビームドリフト補正が実行される。
えば、フィールド3,4,5を描画後、ビームドリフト
補正が実行され、その後、フィールド6が描画されたと
すると、フィールド3からフィールド4,フィールド5
へのステージ移動は、Yの−方向の一定方向である。そ
の為、ステージの機械的特性(yawingなど)が一定に現
れ、フィールドにまたがったパターンの接続誤差は一定
となる。ところが、ビームドリフト補正後にフィールド
6を描画する為には、ステージを基準マーク位置より、
フィールド6に向かって、Yの+方向に移動する。その
ため、フィールド6描画時のステージの機械的特性はフ
ィールド5と異なり、フィールド5とフィールド6にま
たがるパターンの接続誤差は大きくなる。つまり、フィ
ールド4とフィールド5の間のパターンの接続誤差とフ
ィールド5とフィールド6の間のパターンの接続誤差が
異なる為に、フィールド接続誤差の補正が、不可能であ
り、描画精度を向上させる事が難しかった。
基準マークをステージX−Y座標の1つのコーナに配置
し、基準マークに最も近いフィールドより順次描画す
る。
方向に常にステージは移動される。
ーク位置にステージが移動し、再び、次のフィールドの
描画位置にステージが移動するので、ビームドリフト補
正後のステージの移動方向は、基準マークから遠ざかる
方向、つまり描画時と同一方向になり、ステージの移動
後のステージの機械的特性が常に一定に維持されるの
で、フィールド接続誤差が一定となる。
のレチクル,マスク描画が可能となる。
ら放出される電子線2は電子レンズ4,7と絞り3,6
によって所望の形状と電流密度に制御されてマスク11
上に照射される。一方描画データは通常磁気ディスク等
の外部メモリに格納されているが、コンピュータ20に
よって順次偏向制御系21に送出される。偏向制御系2
1は、偏向位置信号を偏向器8,電子線2のオン,オフ
信号をブランカー制御系22へ送出し、マスク11上に
所望のパタンの描画を実行する。
歪を考慮すると、電子ビーム2をマスク11の全面に亘
って偏向することは不可能であり、数mmの範囲を電子ビ
ームの偏向でカバーし、それ以上の領域はステージ12
を移動し、精度良く偏向位置決めを実行することによ
り、プレート11全面へ描画を行う。
る。ステージ12の位置はレーザ干渉測長計によって精
度良く計測される。レーザ発振器16から発したレーザ
ビームはハーフミラー17によって基準光と計測光に分
けられ、基準光は基準ミラー19に入射する。計測光は
計測ミラー10に入射し、基準光とハーフミラー18で
干渉を行う。受光器15で干渉波の明暗をパルス化し、
レーザ干渉測長計23に位置データとして認識され、さ
らにコンピュータ20に読み込まれる。現在の技術レベ
ルにおける位置計測精度は約0.005μmである。
て述べる。レーザ干渉測長計23からステージ駆動系1
3に目標位置が与えられ、モータ14に起動をかける。
ステージ12が目標位置に到達するとレーザ干渉測長計
23はステージ駆動系13を停止させる。この時コンピ
ュータ20は停止誤差をレーザ干渉測長計23から読み
取り、偏向制御系24に偏向位置補正データを送出す
る。この様にしてビーム偏向とステージ移動をステープ
アンドリピートで実行することにより、プレート11上
全面に精度良くパタン描画が実施される。
のステージ12,マスク11は図3のステージ12とマ
スク11と同一であり、基準マーク17をステージ12
のX−Y座標系のコーナに配置したものである。
ーク17に移動させ、当基準マーク位置を検出する。そ
の位置を(x1,y1)とする。つぎにステージをYの−
方向に移動させ、フィールド13の中心に停止する。そ
して、フィールド13より描画が開始され、次にステー
ジを同じくYの−方向に移動させ、フィールド14の位
置に停止し、描画する。同様に、フィールド15を描画
終了した後、ビームドリフト補正の為、ステージをYの
+方向,Xの+方向に移動させ、基準マーク17の位置
の位置に停止する。基準マーク位置検出を実行し、その
位置を(x2,y2)とすると、ビームドリフト量(x2−
x1,y2−y1)が求められる。その後、ステージをY
の−方向,Xの−方向に移動させ、ビームドリフト量を
減算したフィールド16の位置に停止し、ビームドリフ
トが補正され、フィールド16を描画する。フィールド
14からフィールド15に移動する時は、Yの−方向に
ステージは動き、又、基準マーク17からフィールド1
6に移動する時も、Yの−方向にステージは動く為、フ
ィールド15,フィールド16に停止した時のステージ
の静特性は同一となる。それ故、全てのフィールド間に
渡っているパターン、例えば、フィールド16と15及
びフィールド15と14の間のパターン接続誤差が同一
となる為、フィールド描画時に一定のフィールド補正を
加えれば、パターン接続誤差が容易に補正できる。故
に、フィールドにまたがるパターンの接続精度が向上
し、高精度のレチクル,マスクの描画が可能となる。
ート方式におけるパターンの接続精度が向上し、高精度
のレチクル,マスクの描画が可能である。
…基準マーク、23…レーザ干渉測長計。
Claims (1)
- 【請求項1】電子線を発生する手段、前記電子線を収束
する手段、収束された電子線で以って、プレート上を走
査する手段、および、前記プレートを搭載するステージ
を設けた電子線描画装置において、基準マークをステー
ジ上のX−Y座標系の1つのコーナーに配置し、前記基
準マークに最も近いフィールドよりY座標方向に描画を
開始し、描画中のフィールド間のステージ移動方向とビ
ームドリフト補正後のステージの移動方向を前記基準マ
ークから遠ざかる同一方向としたことを特徴とする電子
線描画装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11740891A JP3232583B2 (ja) | 1991-05-22 | 1991-05-22 | 電子線描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11740891A JP3232583B2 (ja) | 1991-05-22 | 1991-05-22 | 電子線描画装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04345013A JPH04345013A (ja) | 1992-12-01 |
JP3232583B2 true JP3232583B2 (ja) | 2001-11-26 |
Family
ID=14710911
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11740891A Expired - Fee Related JP3232583B2 (ja) | 1991-05-22 | 1991-05-22 | 電子線描画装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3232583B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100598091B1 (ko) * | 1999-10-29 | 2006-07-07 | 삼성전자주식회사 | 웨이퍼 척을 갖는 웨이퍼 수리 시스템 |
-
1991
- 1991-05-22 JP JP11740891A patent/JP3232583B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04345013A (ja) | 1992-12-01 |
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