JP3229480B2 - インク噴射装置の駆動電極形成方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、インク噴射装置の駆動
電極形成方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】プリンタヘッドに圧電式インクジェット
を利用したものが近年提案されている。これは、圧電ア
クチュエータの寸法変位によってインク室の容積を変化
させることにより、その容積減少時にインク室内のイン
クを噴射し、容積増大時にインク室内にインクを導入す
るようにしたものである。そして、このようなインク室
を多数互いに近接して配設し、所定の位置のインク室か
らインクを噴射させることにより、所望する文字や画像
を形成するのである。

【０００３】このようなインク噴射装置としては、例え
ば図１８に示すようなものがある。以下、インク噴射装
置４１の一部の断面図を示す図１８によって具体的に説
明すると、複数の隔壁３を有し、かつ矢印２１の方向に
分極処理を施した圧電セラミックス板１とアルミナ等の
セラミックスで形成されたフタ１８とを接合すること
で、横方向に互いに間隔を有する多数の平行なインク室
１６が形成される。そのインク室１６は長方形断面の長
くて狭いものであり、隔壁３はインク室１６の全長にわ
たって伸びている。隔壁３の表面の下半分（あるいは上
半分）の領域には、駆動電圧印加用の駆動電極４が形成
されている。インクが導電性材料であるか、あるいは、
信頼性、耐久性を向上させる場合については駆動電極４
の上より保護膜（図示しない）が作製される。

【０００４】インク噴射装置４１には、図１９に示され
ている電気回路が設けられている。この電気回路におい
て、駆動電極４ａ〜４ｈがそれぞれ別々にＬＳＩチップ
３１に接続され、クロックライン３２、データライン３
３、電圧ライン３４およびアースライン３５もＬＳＩチ
ップ３１に接続されている。インク室１６ａ〜１６ｃは
隣合わない第１、第２のグループに分けられており、ク
ロックライン３２から供給された連続するクロックパル
スによりＬＳＩチップ３１が、この第１、第２グループ
を続けて駆動する。データライン３３上に現れる多ビッ
ト・ワード形式のデータのよりＬＳＩチップ３１が、各
グループのどのインク室１６ａ〜１６ｃを作動すべきか
を決定し、選ばれたグループのインク室１６の駆動電極
４に電圧ライン３４の電圧Ｖを印加する。この選ばれた
インク室１６の両隔壁３が圧電効果による変形をする。
このとき作動されていない同一グループのインク室１６
の駆動電極４と、他のグループに属する全てのインク室
１６の駆動電極４はアースライン３５に接続される。

【０００５】図１９は所定の印字データに従って、イン
ク室１６ｂが選択された場合を示しており、インク室１
６ｂ内の駆動電極４ｄ，４ｅに電圧ライン３４の電圧Ｖ
が印加され、他の駆動電極４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｆ，４
ｇ，４ｈはアースライン３５に接続される。すると、隔
壁３ｂ，３ｃの駆動電極４を形成した部分には分極方向
と直交する駆動電界２５、２６が各々発生するので圧電
厚みすべり効果の変形により隔壁３ｂ，３ｃが、くの字
形にインク室１６ｂの外に向かって変形する。このため
インク室１６ｂの容積増加に伴って図示しない前記イン
ク供給部からインクが補充される。また、電圧の印加が
遮断され隔壁３ｂ，３ｃが元の位置まで戻ると、インク
室１６ｂの容積が減少しインク室１６ｂ内のインクが噴
射口（図示しない）を通って噴射される。尚、例えば他
のインク室１６ｃが選択された場合には、隔壁３ｃ，３
ｄが変形させられてインク室１６ｃ内のインクが噴射さ
れる。

【０００６】従来、駆動電極４は、例えば特開平２−１
５０３５５号公報に開示されている方法により形成され
ている。この公報に記載された方法によれば、まず強誘
電性を有するチタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）系のセラ
ミックス材料にて分極方向に分極処理を施し、ダイヤモ
ンドカッティング円盤の回転またはレーザー等により互
いに平行で等しい幅の複数の溝２（図２０）を切ること
によりインク室１６を形成するための圧電セラミックス
板１を製造する。次に、隔壁３に駆動電極４を真空蒸着
法により形成する。この時、図２０に示すように前記圧
電セラミックス板１を、蒸発源１９に対して角度ψだけ
傾斜させることで、隔壁３のシャドー効果より隔壁３に
おける開口部側の必要な領域だけに駆動電極４となる導
電性薄膜を形成し、その後、隔壁３の頭頂部１５の導電
性薄膜を除去して、駆動電極４が形成される。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た公報に記載されているような従来のこの種のインク噴
射装置４１の隔壁３への駆動電極形成方法においては、
隔壁３が一方向に分極された圧電セラミックスで形成さ
れているので、隔壁３の図１中下半分の領域に駆動電極
４を形成するために隔壁３のシャドー効果を利用した真
空蒸着を行う。そこで、その蒸発源１９から蒸発する金
属粒子は、放射状に飛ぶため、蒸発源１９と駆動電極４
を形成する隔壁３との距離を大きくとる必要があり、蒸
着金属の直進性を利用して、蒸発源１９から蒸発した金
属粒子の一部だけを利用して隔壁３に蒸着するので、駆
動電極４の形成速度が遅く生産効率の非常に悪いという
問題があった。またさらに、大容量の真空系が必要であ
り、設備が高価なものとなり、作製コストが高くなると
いう問題があった。

【０００８】本発明の目的は、上述した問題点を解決す
るためになされたものであり、短時間にて容易に、さら
に低コストで形成できる、インク噴射装置の駆動電極形
成方法を提示することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の請求項１では、圧電材料で形成された隔壁に
よって隔てられた複数の溝を有するアクチュエータプレ
ートと、前記アクチュエータプレートの前記溝の開口部
を塞ぐカバー部材と、前記隔壁の一部分に形成され、電
界を発生させるための駆動電極とを有するインク噴射装
置の駆動電極形成方法において、前記アクチュエータプ
レートの前記隔壁の側面全面に、フォトレジスト膜を形
成する第一工程と、前記隔壁の、前記駆動電極を形成す
るための一部分の前記レジスト膜とその他の部分の前記
レジスト膜との一方に選択的に光線を照射する第二工程
と、前記両部分のいずれか一方の前記レジスト膜を残し
て他の前記レジスト膜を除去する第三工程と、その第三
工程で除去されずに前記隔壁に残った前記レジスト膜上
を含む前記隔壁の側面全面に導電性膜を形成する第四工
程と、前記第三工程で除去されずに前記隔壁に残った前
記レジスト膜と共に、そのレジスト膜上の導電性膜を除
去して、前記一部分のみに前記駆動電極を得る第五工程
とからなることを特徴とする。

【００１０】請求項２では、前記第二工程の前記光線
は、前記隔壁のシャドー効果によって、所望する部分に
照射されることを特徴とする。

【００１１】請求項３では、前記第三工程は、現像によ
り前記レジスト膜が除去されることを特徴とする。

【００１２】請求項４では、前記第五工程のレジスト膜
の除去は、溶剤によって行われることを特徴とする。

【００１３】請求項５では、圧電材料で形成された隔壁
によって隔てられた複数の溝を有するアクチュエータプ
レートと、前記アクチュエータプレートの前記溝の開口
部を塞ぐカバー部材と、前記隔壁の一部分に形成され、
電界を発生させるための駆動電極とを有するインク噴射
装置の駆動電極形成方法において、前記アクチュエータ
プレートの前記隔壁の側面全面に、導電性膜を形成する
第一工程と、前記導電性膜上にフォトレジスト膜を形成
する第二工程と、前記隔壁の、前記駆動電極を形成する
ための前記一部分の前記レジスト膜とその他の部分の前
記レジスト膜との一方に選択的に光線を照射する第三工
程と、前記両部分のいずれか一方の前記レジスト膜を残
して他の前記レジスト膜を除去する第四工程と、前記第
四工程で除去された前記レジスト膜に対応した位置の前
記導電性膜を除去する第五工程と、前記第四工程で除去
されなかった前記レジスト膜を除去して、前記一部分の
みに前記駆動電極を得る第六工程とからなることを特徴
とする。

【００１４】請求項６では、前記第三工程の前記光線
は、前記隔壁のシャドー効果によって、所望する部分に
照射されることを特徴とする。

【００１５】請求項７では、前記第四工程は、現像によ
り前記レジスト膜が除去されることを特徴とする。

【００１６】請求項８では、前記第五工程の導電性膜の
除去は、エッチングによって行われることを特徴とす
る。

【００１７】請求項９では、前記第六工程のレジスト膜
の除去は、溶剤によって行われることを特徴とする。

【作用】上記の構成を有する本発明の請求項１のインク
噴射装置の駆動電極形成方法では、前記アクチュエータ
プレートの前記隔壁の側面全面に形成されたレジスト膜
の所望の部分に光線が照射される。そして、前記光線が
照射された部分もしくは、前記光線が照射されなかった
部分のレジスト膜が除去され、前記隔壁の側面全面に導
電性膜が形成された後、除去されずに前記隔壁に残った
レジスト膜と共に、そのレジスト膜上の導電性膜が除去
されて、隔壁の一部分のみに前記駆動電極が得られる。

【００１８】請求項５のインク噴射装置の駆動電極形成
方法では、アクチュエータプレートの隔壁の側面全面に
形成された導電性膜上にフォトレジスト膜が形成され、
次に、前記レジスト膜の所望の部分に光線が照射され
る。そして、前記光線が照射された部分もしくは、前記
光線が照射されなかった部分のレジスト膜が除去され、
除去された前記レジスト膜に対応した位置の導電性膜が
除去された後、除去されなたかった前記レジスト膜が除
去されて、隔壁の一部分のみに前記駆動電極が得られ
る。

【００１９】

【実施例】以下、本発明を具体化した第一実施例を、図
面を参照して詳細に説明する。尚、 上述した従来例と
同一部位、及び均等部位には同一符号をつけて説明す
る。

【００２０】図１に示すように、アクチュエータープレ
ートとしての圧電セラミックス板１は、強誘電性を有す
るチタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）系のセラミックス材
料で形成され、矢印２１の方向に分極処理を施した厚さ
約１ｍｍの板であり、ダイヤモンドカッティング円盤の
回転またはレーザー等により平行な複数の溝２が形成さ
れている。その溝２は例えば幅９０μｍ、高さ４００μ
ｍの長方形断面で紙面に対して垂直方向に約１０ｍｍの
長さで延びている。また、溝２のピッチは所望の印字解
像度、例えば１７０μｍである。次に、図６に示すよう
に後記の方法により隔壁３の上半分の領域にＮｉ等の導
電性薄膜からなる駆動電極４を形成する。そして、必要
に応じて駆動電極４の上から保護膜（図示しない）を作
製した後、圧電セラミックス板１の溝２の開口部側にフ
タ１８（図１８）が接着されて、横方向に互いに間隔を
有する多数の平行なインク室１６（図１８）が形成され
る。このように構成されたインク噴射装置は、従来と同
様にＬＳＩチップ３１（図１９）によって駆動されて各
インク室１６からインクが噴射される。

【００２１】以下、駆動電極４としてのＮｉ膜を、隔壁
３の開口部から半分の領域にコーティングする例につい
て説明する。

【００２２】まず、圧電セラミックス板１の溝２加工側
の面及び溝２の内面に全体に、図２に示すようにフォト
レジスト剤を塗布して、フォトレジスト膜５を形成す
る。（第一工程）。このフォトレジスト剤は、可視光だ
けでなく紫外線やＸ線等も含めた、ある特定波長の光線
に反応して選択的に硬化させることが可能な物性を持つ
もので、例えば特定波長の光線を照射した後現像すると
現像液に対し不溶となるもの（ネガタイプ）や、特定波
長の光線を照射した後現像すると現像液に溶けて除去さ
れるもの（ポジタイプ）がある。第一実施例の説明にお
いては後者の物性を持つポジフォトレジスト剤を用いて
説明する。このフォトレジスト剤の塗布方法としては、
たとえばスピンコート法等を用い、フォトレジスト膜５
を薄く均一に形成することが望ましい。

【００２３】次に、図３に示すように、紫外線光源（図
示せず）から照射される紫外線６を、前記圧電セラミッ
クス板１の隔壁３の長手方向に対して直角であり、且つ
圧電セラミックス板１の溝２加工側の面に対して角度ψ
傾けた方向より、隔壁３の一方の面に照射した後、更に
紫外線光源に対する圧電セラミックス板１の位置を変え
て同様にして紫外線６を隔壁３の他方の面に照射する
（第二工程）。この角度ψについては、例えば隔壁３の
高さの寸法をＨ、溝２の溝幅の寸法をＷとした場合、ｔ
ａｎψ＝（２・Ｗ）／Ｈをみたす角度ψをもってすれ
ば、隔壁３の開口部より半分の領域にのみ紫外線６が照
射される。その後に、専用の現像液により現像を行っ
て、紫外線６が照射された部分のフォトレジスト膜５を
現像液に溶解させて除去し、照射されなかった部分を残
す（第三工程）。すなわち図４に示すように隔壁３に
は、隔壁３のシャドー効果より紫外線６が照射されなか
った部分にのみレジスト層７が形成される。

【００２４】次に、駆動電極４となる導電性薄膜１００
を、例えばＮｉの無電解メッキ法を用いて約０．５μｍ
の厚みで図５に示すように圧電セラミックスプレート１
の溝２加工側の面及び溝２の内面の全体に形成する（第
四工程）。Ｎｉの無電解メッキ法については周知の技術
なので詳細な説明は省くが、無電解メッキの前に、塩化
パラジウムにより活性化処理を施し、その後、錯化剤、
還元剤を入れた硫酸ニッケル浴中で、カソードに圧電セ
ラミックス板１を取り付け、アノードに白金の電極を取
り付け、カソードとアノードの間に２ｄＡ／ｃｍ^２の電
流密度で電流を流すことにより、圧電セラミックスプレ
ート１の溝２加工側の面及び溝２の内面の全体にＮｉ膜
を形成することができる。ただし溝２に対しては、前処
理により触媒を均一に形成し、かつ、メッキ浴の流れを
十分もたせることでＮｉ膜を比較的均一な厚みに形成す
る。次に、アセトン等の有機溶剤によってレジスト層７
及びそのレジスト層７に付着した導電性薄膜１００を除
去し、後に隔壁３の頭頂部１５の導電性薄膜１００を除
去する事によって、図６に示すように隔壁３の開口部側
の必要な領域だけに駆動電極４を形成する（第五工
程）。

【００２５】このようにして駆動電極４を形成すれば、
従来の真空蒸着の手法によらずにメッキ処理により駆動
電極４を短時間にて容易に、かつ、低コストに形成する
ことができる。

【００２６】また、上述の第一実施例においては、隔壁
３の開口部側の半分の領域に駆動電極４を形成する手法
について述べたが、隔壁３の溝２の底部側の半分の領域
に駆動電極４を形成しても隔壁３の変形は変わらない。

【００２７】そこで、次に本発明による第二実施例を図
７〜図１１を参照して詳細に説明する。なお、上述した
従来例、及び第一実施例と同一部位、及び均等部位には
同一符号をつけて説明する。

【００２８】まず、前記第一実施例と同様の方法によっ
て、図７に示すように圧電セラミックス板１の溝２加工
側の面及び溝２の内面の全体にフォトレジスト剤を塗布
して、フォトレジスト膜５ａを形成する（第一工程）。
第二実施例では、フォトレジスト剤としてネガタイプの
フォトレジスト剤を用いる。

【００２９】次に、図８に示すように、紫外線光源（図
示せず）から照射される紫外線６を前記圧電セラミック
ス板１の隔壁３に対して角度ψより照射して、隔壁３の
開口部より半分の領域にのみ紫外線６を照射する（第二
工程）。この紫外線６の照射の後に現像処理を行うこと
により、フォトレジスト膜５ａはシャドー効果より紫外
線６が照射された領域のみが現像液に対して不溶となっ
てパターンとして残り、紫外線６が照射されなかった領
域のフォトレジスト膜５ａが溶けて除去される（第三工
程）。すなわち図９に示されたように紫外線６が照射さ
れた隔壁３の上半分及び頭頂部１５にレジスト層７が形
成される。

【００３０】次に、第一実施例と同様に導電性薄膜１０
０を無電解メッキ法により図１０に示すように圧電セラ
ミックスプレート１の溝２加工側の面及び溝２の内面の
全体に形成する（第四工程）。その後、図示しないアセ
トン等の有機溶剤によって隔壁３の側面と頭頂部１５の
レジスト層７及びそのレジスト層７に付着した導電性薄
膜１００を一緒に除去して、図１１に示すように、溝２
の底部から側壁３の中央までの必要な領域だけの駆動電
極４を形成する（第五工程）。

【００３１】このようにして駆動電極４を形成すれば、
真空蒸着の手法によらずにメッキ処理により駆動電極４
を短時間にて容易に、かつ、低コストに形成することが
できる。また、本実施例においては、このように駆動電
極４を形成すれば、隔壁３の頭頂部１５に導電性材料が
付着することが無く、頭頂部１５の導電性薄膜の除去工
程を必要としない。

【００３２】続いて第三実施例を図１２〜図１７を参照
して詳細に説明する。なお、上述した従来例、及び前記
実施例と同一部位、及び均等部位には同一符号をつけて
説明する。前述の第一、第二の実施例では、隔壁３のシ
ャドー効果によって予めレジスト層７を形成し、その後
に導電性薄膜１００を形成した上でレジスト層７を除去
するという工程であるが、レジスト層７を除去するため
には導電性薄膜１００に亀裂が生じて、溶剤がレジスト
層７に浸透する必要がある。しかし導電性薄膜１００が
強固に形成されていると、溶剤がレジスト層７まで浸透
することが困難となり、一部残膜するおそれがある。そ
こで工程順番を変更し、さきに導電性薄膜を形成し、続
いてレジスト膜を形成し、斜め露光、及び現像処理によ
り隔壁上部のみにレジスト層を残し、露出した導電性薄
膜部分をエッチングにより除去し、最後にレジスト層を
除去することで所望する部分にのみ駆動電極を形成する
ことができる。さらに詳細な作製方法を以下に述べる。

【００３３】まず圧電セラミックス板１の溝２形成側の
面及び溝２の内面の全体に、図１２のように、第一実施
例、第二実施例と同様に無電解メッキ法を用いて駆動電
極４となる導電性薄膜１００を形成する（第一工程）。

【００３４】続いて、図１３に示すように導電性薄膜１
００の表面にレジスト膜５ｃを形成する。このレジスト
膜５ｃは例えば電着レジスト（東亜合成社製、ネガタイ
プ）を用いて、電着によりコーティングする（第二工
程）。これは、帯電した電着レジストを用いてメッキと
同じ原理により導電体上に析出させる方法によって形成
されるものである。これにより、形成した導電性薄膜１
００膜上にレジスト膜５ｃをコンフォーマルに形成でき
る。その後、紫外線光源（図示しない）から、図１４に
示すように溝２の上方より特定波長の平行光である紫外
線６を、隔壁３の長手方向に対して直角であり、且つ圧
電セラミックス板１の溝２形成側の面に対して角度ψ傾
けた方向より、隔壁３の一方の面に一定時間照射した後
に、更に紫外線光源に対する圧電セラミックス板１の位
置を変えて、同様にして紫外線６隔壁３の他方の面に同
じ時間照射する（第三工程）。

【００３５】次に、専用の現像液により現像すると、紫
外線６が照射された隔壁３の上半分及び頭頂部にレジス
ト膜５ｃが残り、紫外線６の照射されなかった部分のレ
ジスト膜５ｃが溶解し除去される。すなわち、図１５に
示すように、隔壁３の上半分及び頭頂部１５にレジスト
層７が形成される（第四工程）。次に、隔壁３のレジス
ト膜５ｃが除去された位置には導電性薄膜１００が露出
しており、これを塩化第２鉄溶液によりエッチング除去
する（第五工程）。最後にレジスト層７をアセトン等の
有機溶剤により溶解除去する（第六工程）。このように
して、図１６に示すように導電性薄膜１００が隔壁３の
上半分及び頭頂部１５にのみ形成された状態となる。こ
の後、隔壁３の頭頂部１５に残っている導電性薄膜１０
０をラッピング等で除去することによって、図１７に示
すように隔壁３に駆動電極４が形成される。

【００３６】以上ネガタイプのレジストを用いた場合に
ついて説明したが、ポジのレジストを用いても同様の工
程を経ることにより、隔壁３の下半分に駆動電極４が形
成することができる。この時は隔壁３の頭頂部１５の導
電性薄膜１００を除去する工程が省かれる。

【００３７】以上説明した工程により、電極Ｎｉ膜の形
成が真空プロセスを使うことなく、メッキ及び露光、現
像、エッチング等の廉価な工程のみで形成できる。従っ
て短時間にて容易に、且つ低コストでインク噴射装置が
作製できる。なお、上述の各実施例では駆動電極４とし
てＮｉを例にしたが、クロム（Ｃｒ）、アルミ（Ａ
ｌ）、金（Ａｕ）等、それらの積層、その他導電性の膜
ならばなんでもよく、その形成法も電解、無電解のメッ
キどちらでもよい。またレジストもその種類を限定しな
い。

【００３８】

【発明の効果】以上説明したことから明かなように、請
求項１のインク噴射装置の駆動電極形成方法によれば、
前記アクチュエータプレートの前記隔壁の側面全面に形
成されたレジスト膜の所望の部分に光線を照射し、レジ
スト膜を選択的に除去して、次に前記隔壁の側面全面に
導電性膜を形成した後、除去されずに前記隔壁に残った
レジスト膜と共に、そのレジスト膜上の導電性膜を除去
することによって、隔壁の一部分のみに前記駆動電極を
形成しているので、従来のような真空系を用いることな
く、短時間にて容易に、低コストで駆動電極を形成する
ことができる。

【００３９】請求項５のインク噴射装置の駆動電極形成
方法によれば、アクチュエータプレートの隔壁の側面全
面に形成された導電性膜上にフォトレジスト膜を形成
し、前記レジスト膜の所望の部分に光線を照射し、レジ
スト膜を選択的に除去し、次に除去された前記レジスト
膜に対応した位置の導電性膜を除去した後、除去されな
かった前記レジスト膜を除去することによって、隔壁の
一部分のみに前記駆動電極を形成しているので、従来の
ような真空系を用いることなく、短時間にて容易に、低
コストで駆動電極を形成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第一実施例のインク噴射装置の圧電セ
ラミックス板を示す説明図である。

【図２】本発明の第一実施例のインク噴射装置に形成さ
れたレジスト膜を示す説明図である。

【図３】本発明の第一実施例のインク噴射装置に形成さ
れたレジスト膜への紫外線照射を示す説明図である。

【図４】本発明の第一実施例のインク噴射装置に形成さ
れたレジスト層を示す説明図である。

【図５】本発明の第一実施例のインク噴射装置に形成さ
れた導電性薄膜を示す説明図である。

【図６】本発明の第一実施例のインク噴射装置の圧電セ
ラミックスプレートに形成された駆動電極を示す説明図
である。

【図７】本発明の第二実施例のインク噴射装置に形成さ
れたレジスト膜を示す説明図である。

【図８】本発明の第二実施例のインク噴射装置に形成さ
れたレジスト膜への紫外線照射を示す説明図である。

【図９】本発明の第二実施例のインク噴射装置に形成さ
れたレジスト層を示す説明図である。

【図１０】本発明の第二実施例のインク噴射装置に形成
された導電性薄膜を示す説明図である。

【図１１】本発明の第二実施例のインク噴射装置の圧電
セラミックスプレートに形成された駆動電極を示す説明
図である。

【図１２】本発明の第三実施例のインク噴射装置に形成
された導電性薄膜を示す説明図である。

【図１３】本発明の第三実施例のインク噴射装置に形成
されたレジスト膜を示す説明図である。

【図１４】本発明の第三実施例のインク噴射装置に形成
されたレジスト膜への紫外線照射を示す説明図である。

【図１５】本発明の第三実施例のインク噴射装置に形成
されたレジスト層を示す説明図である。

【図１６】本発明の第三実施例のインク噴射装置におけ
る、レジスト層及び所定の部分の導電性薄膜が除去され
た圧電セラミックスプレートを示す説明図である。

【図１７】本発明の第三実施例のインク噴射装置の圧電
セラミックスプレートに形成された駆動電極を示す説明
図である。

【図１８】本発明のインク噴射装置を示す断面図であ
る。

【図１９】従来例のインク噴射装置の動作の説明図であ
る。

【図２０】従来例のインク噴射装置用駆動電極の形成方
法を示す説明図である。

【符号の説明】

１ 圧電セラミックス板 ２ 溝 ３ 隔壁 ４ 駆動電極 ５ フォトレジスト膜 ５ａ フォトレジスト膜 ５ｃ フォトレジスト膜 ６ 紫外線 ７ レジスト層 １５ 頭頂部 １６ インク室 １８ フタ １００ 導電性薄膜

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B41J 2/045 B41J 2/055 B41J 2/16 B41J 2/175

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 圧電材料で形成された隔壁によって隔て
   られた複数の溝を有するアクチュエータプレートと、前
   記アクチュエータプレートの前記溝の開口部を塞ぐカバ
   ー部材と、前記隔壁の一部分に形成され、電界を発生さ
   せるための駆動電極とを有するインク噴射装置の駆動電
   極形成方法において、 前記アクチュエータプレートの前記隔壁の側面全面に、
   フォトレジスト膜を形成する第一工程と、前記隔壁の、前記駆動電極を形成するための前記一部分
   の前記レジスト膜とその他の部分の前記レジスト膜との
   一方に選択的に 光線を照射する第二工程と、前記両部分のいずれか一方の前記レジスト膜を残して他
   の 前記レジスト膜を除去する第三工程と、その第三工程で除去されずに前記隔壁に残った前記レジ
   スト膜上を含む 前記隔壁の側面全面に導電性膜を形成す
   る第四工程と、 前記第三工程で除去されずに前記隔壁に残った前記レジ
   スト膜と共に、そのレジスト膜上の導電性膜を除去し
   て、前記一部分のみに前記駆動電極を得る第五工程とか
   らなることを特徴とするインク噴射装置の駆動電極形成
   方法。
2. 【請求項２】 前記第二工程の前記光線は、前記隔壁の
   シャドー効果によって、所望する部分に照射されること
   を特徴とする請求項１記載のインク噴射装置の駆動電極
   形成方法。
3. 【請求項３】 前記第三工程は、現像により前記レジス
   ト膜が除去されることを特徴とする請求項１記載のイン
   ク噴射装置の駆動電極形成方法。
4. 【請求項４】 前記第五工程のレジスト膜の除去は、溶
   剤によって行われることを特徴とする請求項１記載のイ
   ンク噴射装置の駆動電極形成方法。
5. 【請求項５】 圧電材料で形成された隔壁によって隔て
   られた複数の溝を有するアクチュエータプレートと、前
   記アクチュエータプレートの前記溝の開口部を塞ぐカバ
   ー部材と、前記隔壁の一部分に形成され、電界を発生さ
   せるための駆動電極とを有するインク噴射装置の駆動電
   極形成方法において、 前記アクチュエータプレートの前記隔壁の側面全面に、
   導電性膜を形成する第一工程と、 前記導電性膜上にフォトレジスト膜を形成する第二工程
   と、前記隔壁の、前記駆動電極を形成するための前記一部分
   の前記レジスト膜とその他の部分の前記レジスト膜との
   一方に選択的に 光線を照射する第三工程と、前記両部分のいずれか一方の前記レジスト膜を残して他
   の前記 レジスト膜を除去する第四工程と、 前記第四工程で除去された前記レジスト膜に対応した位
   置の前記導電性膜を除去する第五工程と、 前記第四工程で除去されなかった前記レジスト膜を除去
   して、前記一部分のみに前記駆動電極を得る第六工程と
   からなることを特徴とするインク噴射装置の駆動電極形
   成方法。
6. 【請求項６】 前記第三工程の前記光線は、前記隔壁の
   シャドー効果によって、所望する部分に照射されること
   を特徴とする請求項５記載のインク噴射装置の駆動電極
   形成方法。
7. 【請求項７】 前記第四工程は、現像により前記レジス
   ト膜が除去されることを特徴とする請求項５記載のイン
   ク噴射装置の駆動電極形成方法。
8. 【請求項８】 前記第五工程の導電性膜の除去は、エッ
   チングによって行われることを特徴とする請求項５記載
   のインク噴射装置の駆動電極形成方法。
9. 【請求項９】 前記第六工程のレジスト膜の除去は、溶
   剤によって行われることを特徴とする請求項５記載のイ
   ンク噴射装置の駆動電極形成方法。