JP3225163B2 - テープキャリアの製造方法 - Google Patents
テープキャリアの製造方法Info
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/50—Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto
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Description
たとえば液晶パネルに接続して電子機器内に搭載するテ
ープキャリアの製造方法に関する。特に、そのうち、テ
ープ状の絶縁フィルムに接着剤を用いて銅箔などの箔状
の導体をラミネートする3層のテープキャリアの製造方
法に関する。
えば次の各工程を経て製造していた。 図8に示すように、テープ状の絶縁フィルム1の全
面に接着剤2をコートする。 そして、パンチングで、デバイス孔1a、アウター
リード孔1b・1b、スプロケット孔1c・1cなどを
あける。 それから、接着剤2を用いて導体(銅箔)3をラミ
ネートする。 その後、キュアーしてからフォトレジスト4をコー
トし、露光・現像してからレジスト剥離し、導体パター
ンを形成する。 もし、ソルダーレジスト印刷の必要な場合は、印刷
を行う。 それから、仕上げめっき5をする。 最後に、図9に示すように、インナーリード3a・
3a間にIC6を実装して完成する。
機器のダウンサイジングやコストダウンの要請がますま
す加速化している。これらの要請に応えるためには、ま
ず、リードもファインピッチ化して多ピン化を図る必要
がある。ところが、ファインピッチ化を図るためには、
導体3の厚さを薄くしなければエッチング加工が不可能
である。たとえば60〜50ピッチでは、導体厚は18
μm程度にまで薄くしなければならない。このため、導
体厚が薄くなると、製造過程においてリード変形を生
じ、歩留まりが悪くなる問題があった。
要請に応えるためには、小さな収納空間内に納めるべく
折り曲げて使用する必要がある。ところが、絶縁フィル
ム1は、厚いからそのままでは小さな曲率半径で折り曲
げることができない。そこで、絶縁フィルム1をパンチ
で打ち抜いてそれにスリット孔を形成し、その位置で折
り曲げていた。そして、そのスリット孔を横切る導体3
には、樹脂部材等を塗布して補強し、導体3のクラック
や破断の発生を防止していた。ところが、このような従
来のやり方では、導体3の一部に樹脂部材等を塗布して
補強しなければならず、面倒な工程が1つ増える問題が
あった。
歩留まりがよく、ファインピッチ化して多ピン化を可能
とし、電子機器のダウンサイジングとともにコストダウ
ンを可能とするテープキャリアの製造方法を提供するこ
とにある。
載の発明は、次の各工程からなる、テープキャリアの製
造方法にある。 (イ)テープ状の絶縁フィルム10に接着剤11をコー
トして後、パンチングで孔あけする第一工程。 (ロ)他方、箔状の導体12に補強膜13を付着させる
第二工程。 (ハ)それから、その補強膜13側を前記接着剤11を
用いて貼り付けて前記絶縁フィルム10に前記導体12
をラミネートして後、その導体12をエッチングして導
体パターンを形成する第三工程。 (ニ)そして、その導体パターン上に仕上げめっき17
を施す第四工程。 (ホ)最後に、IC15を実装する第五工程。
工程からなる、テープキャリアの製造方法にある。 (イ)テープ状の絶縁フィルム10に接着剤11をコー
トして後、パンチングで孔あけする第一工程。 (ロ)他方、箔状の導体12に補強膜13を付着させる
第二工程。 (ハ)それから、その導体12をエッチングして導体パ
ターンを形成して後、その導体パターン側を前記接着剤
11を用いて貼り付けて前記絶縁フィルム10に前記導
体12をラミネートする第三工程。 (ニ)そして、前記導体パターン上に仕上げめっき17
を施す第四工程。 (ホ)最後に、IC15を実装する第五工程。
につき説明する。図1には、請求項1に記載の製造方法
により得られたテープキャリアの一例を示す。図中符号
10は、テープ状で、厚さが50〜125μmであるポ
リイミドやポリエステル製の絶縁フィルムである。この
耐熱性のフレキシブルな絶縁フィルム10の表面には、
10〜25μmのエポキシ系やポリイミド系などの耐熱
性の接着剤11を設ける。
13を有する導体12をその補強膜13側を接着して設
ける。導体12は、箔状で、銅、銅合金、アルミニウ
ム、アルミニウム合金、鉄、鉄合金などからなる。その
厚さは、1〜35μmである。また、補強膜13は、ポ
リイミドやポリエステルなどを用い、5〜40μmの厚
さとする。導体12に補強膜13を付着するには、導体
12に補強膜13をワニスコートして乾燥する方法、そ
れらを直接スパッタリングする方法、補強膜13に無電
解めっきで導体12を付着する方法などが考えられる。
・12aには、後述する図4の工程図に示すとおり、仕
上げめっき17を施して後、バンプ14を介してIC1
5を取り付けてなる。
は、それぞれパンチングで絶縁フィルム10にあけたス
プロケット孔・アウターリード孔・デバイス孔である。
図示しないが、この他にも折り曲げ位置に設けるスリッ
ト孔などをあける。
たとえば次の各工程からつくる。 (イ)まず、図2に示すように、テープ状の絶縁フィル
ム10の全面に、フィルム状の接着剤11を転写などに
より設けて後、パンチングで孔あけしてスプロケット孔
10a・アウターリード孔10b・デバイス孔10cな
どを形成する。 (ロ)他方、図3に示すように、箔状の導体12に補強
膜13を付着する。 (ハ)それから、図4に示すように、補強膜13側を接
着剤11を用いて貼り付けて絶縁フィルム10に導体1
2をラミネートする。その後、導体12を定法にてエッ
チングして補強膜13上に導体パターンを形成する。す
なわち、導体12にフォトレジスト16をコートし、露
光・現像してからレジスト剥離して導電パターンを形成
する。 (ニ)そして、接合しやすくするために、その導体パタ
ーン上に錫や金やハンダなどの仕上げめっき17を施
す。 (ホ)最後に、インナーリード12a・12a間にバン
プ14・14を介してIC15を取り付けて完成する。
たとえば次の各工程からつくることもできる。 (イ)まず、図5に示すように、テープ状の絶縁フィル
ム10の全面に、フィルム状の接着剤11を設けて後、
パンチングで孔あけしてスプロケット孔10a・アウタ
ーリード孔10b・デバイス孔10cなどを形成する。 (ロ)他方、図6に示すように、箔状の導体12に補強
膜13を付着する。 (ハ)それから、導体12を定法にてエッチングして補
強膜13上に導体パターンを形成する。その後、図7に
示すように、導体パターン側を接着剤11を用いて貼り
付けて絶縁フィルム10に導体12を位置合わせしてラ
ミネートする。 (ニ)そして、導体パターン上に、錫や金やハンダなど
の仕上げめっき17を施す。 (ホ)最後に、インナーリード12a・12a間にバン
プ14・14を介してIC15を取り付けて完成する。
リアを、アンダーリード孔10b位置で切断し、たとえ
ばアウターリードをプリント基板に接続する一方、導体
12に液晶パネルを接着剤やハンダなどを用いて接続す
る。そうして、図示しないスリット孔位置で折り曲げ、
たとえば電子機器内の小スペースに組付ける。
の絶縁フィルム10に接着剤11を用い、補強膜13を
コートした導体12を貼り付けてなる。ところが、わざ
わざ絶縁フィルム10に接着剤11を用いて貼り付けな
くても、補強膜13として50〜40μmの厚さの可撓
性の絶縁フィルムを用い、それと導体とだけからなるい
わゆる2層のフリップチップを使用することにより、こ
の発明のテープキャリアに代えることができるようにも
思える。しかしながら、そのようなものでは、それを折
り曲げて使用するとき、 スプロケット孔位置で折り曲がったりそこで破損し
たりするなどして位置合わせ不可能となり、また困難と
なる 折り曲げ位置と他の位置とで剛性に差を付けること
ができないから、所定位置で折り曲げることが難しい などの問題がある。
中において、箔状の導体全面に補強膜を付着するから、
従来のように導体の特定部分にのみ樹脂部材等を塗布す
る面倒な工程をなくすことができ、製造が容易となる。
後、導体パターンを形成するから、製造過程においてリ
ード変形を生じて歩留まりが悪くなるなどのおそれをな
くし、また作業効率を向上することができる。
されているので、ファインピッチ化して多ピン化を図
り、ウェハーあたりの取れ数を多くして実装面積を小さ
くし、電子機器のダウンサイジングとともにコストダウ
ンを可能とする。
を介して導体を絶縁フィルム上にラミネートするから、
接着剤を介する従来のものに比し、電気特性を高め、信
頼性を向上することができる。
リアの一例の断面図である。
ある。
程図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 次の各工程からなる、テープキャリアの
製造方法。 (イ)テープ状の絶縁フィルムに接着剤をコートして
後、パンチングで孔あけする第一工程。 (ロ)他方、箔状の導体に補強膜を付着させる第二工
程。 (ハ)それから、その補強膜側を前記接着剤を用いて貼
り付けて前記絶縁フィルムに前記導体をラミネートして
後、その導体をエッチングして導体パターンを形成する
第三工程。 (ニ)そして、その導体パターン上に仕上げめっきを施
す第四工程。 (ホ)最後に、ICを実装する第五工程。 - 【請求項2】 次の各工程からなる、テープキャリアの
製造方法。 (イ)テープ状の絶縁フィルムに接着剤をコートして
後、パンチングで孔あけする第一工程。 (ロ)他方、箔状の導体に補強膜を付着させる第二工
程。 (ハ)それから、その導体をエッチングして導体パター
ンを形成して後、その導体パターン側を前記接着剤を用
いて貼り付けて前記絶縁フィルムに前記導体をラミネー
トする第三工程。 (ニ)そして、前記導体パターン上に仕上げめっきを施
す第四工程。 (ホ)最後に、ICを実装する第五工程。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15930294A JP3225163B2 (ja) | 1994-06-17 | 1994-06-17 | テープキャリアの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15930294A JP3225163B2 (ja) | 1994-06-17 | 1994-06-17 | テープキャリアの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH088304A JPH088304A (ja) | 1996-01-12 |
JP3225163B2 true JP3225163B2 (ja) | 2001-11-05 |
Family
ID=15690837
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15930294A Expired - Lifetime JP3225163B2 (ja) | 1994-06-17 | 1994-06-17 | テープキャリアの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3225163B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9674955B2 (en) * | 2011-11-09 | 2017-06-06 | Lg Innotek Co., Ltd. | Tape carrier package, method of manufacturing the same and chip package |
-
1994
- 1994-06-17 JP JP15930294A patent/JP3225163B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH088304A (ja) | 1996-01-12 |
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