JP3224271B2 - 鏡像異性的に純粋な置換された(キノリン−2−イル−メトキシ)−フエニル酢酸の合成方法 - Google Patents

鏡像異性的に純粋な置換された(キノリン−2−イル−メトキシ)−フエニル酢酸の合成方法

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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
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    • C07D215/02Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D215/12Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
    • C07D215/14Radicals substituted by oxygen atoms

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  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は、それらの化合物のいくつかはア
ラキドン酸の新陳代謝における、とりわけリポキシジェ
ナーゼによる、酵素反応の禁止剤として用い得ることが
公知であるところの鏡像異性的に純粋(enantiomerical
ly pure)な(キノリン−2−イル−メトキシ)−フェ
ニル酢酸化合物の合成方法に関する。
【0002】不斎炭素をもつ4−置換フェニル酢酸エス
テルは、立体選択的なアセトキシル化反応に適してお
り、ドナー/アクセプター相互作用を介して芳香族化合
物の立体選択的に制御された酸化反応に利用できる と
いうことが、文献より公知である(J.Chem.Soc.,
Chem.Commun.,1986,741-742;THL Vol.30,
No.3,327-330,1989 参照)。
【0003】鏡像異性的に純粋な4−(キノリン−2−
イル−メトキシ)−フェニル酢酸は、例えばクロマトグ
ラフィーや分別結晶法などの、常法によってダイアステ
レオマー(対掌体でない光学異性体)を用いた分別法に
よってそれぞれの立体異性体(対掌体)に分別できるこ
とも公知である(ドイツ特許公告 3,916,663号参照)。
【0004】この方法はいくつかの欠点をもっている:
アステレオマーのクロマトグラフィーによる分離法も
分別結晶法も両者とも技術的な熟練を必要とする。その
上、一般にこの方法では50%の役に立たないアステ
レオマーが得られ、この異性体は前の合成プロセスにも
はや循環させることができない。
【0005】収率が50%に低下することは、50%の
副生物を廃棄しなければならないという現実から、(大
規模な)工業的なプロセスとしての経済性を著しく損な
う。その上、通常用いられる不斎炭素をもつ補助試薬
は、少量でもきわめて高価で、複雑な合成方法を経てよ
うやく合成することができる。
【0006】今回、次の一般式(I)
【0007】
【化5】
【0008】式中、A,B,D,E,GおよびLは、同
一またはお互いに異なっていて、水素、水酸基、ハロゲ
ン、カルボキシル、ニトロ、トリフルオロメチル、トリ
フルオロメトキシ、8個以下の炭素原子を含む直鎖状ま
たは分枝状のアルキルあるいはアルコキシ基、もしくは
場合によってはハロゲン、水酸基、ニトロまたはシアノ
によって置換されていてもよい6−10個の炭素原子を含
むアリール基を表し、R1は、4−12個の炭素原子を含
むシクロアルキル基を表す、によって表される、鏡像異
性的に純粋な(キノリン−2−イル−メトキシ)−フェ
ニル酢酸が、つぎのプロセス、すなわち 次の一般式
(II)
【0009】
【化6】
【0010】式中、A,B,D,E,GおよびLは、前
述の意味を表し、R2は、不斉炭素をもつアルコール残
基を表す、によって表される化合物を、次の一般式(I
II)
【0011】
【化7】R1−Y (III) 式中、R1は前述の意味を表し、Yは、例えば、臭素、
塩素、ヨウ素、メシル、トシル、あるいはトリフルオロ
メチルスルフォニル、好ましくはヨウ素または臭素、な
どの典型的な脱離基を表す、によって表される化合物と
不活性な溶媒中塩基の存在下でジアステレオ選択的な
(diastereoselective)アルキル化反応に付すことによ
って、まず第一に次の一般式(IV)
【0012】
【化8】
【0013】式中、A,B,D,E,G,L,R1およ
びR2は、前述の意味を表す、によって表される化合物
に変えた後、第二段階で残基R2をラセミ化させること
なく酸によって選択的に除去することによって合成でき
ることが見いだされた。
【0014】本発明による方法は、実例について次式に
よって表すことができる:
【0015】
【化9】
【0016】驚くべきことに、本発明による方法は、所
望の鏡像異性的に純粋な4−(キノリン−2−イル−メ
トキシ)−フェニル酢酸をあまり技術的な熟練がなくて
も高収率・高純度で生成する。
【0017】残基R2の立体配置と使用するハロゲン化
アルキル(III)の立体効果に依存して、第一段階の
化合物(II)のアルキル化反応は、簡単な方法で高収
率でジアステレオ選択的に進行する。化合物(IV)
は、高いジアステレオマー過剰率で生成し、反応混合物
から直接晶出し、その後粗生成物の簡単な再結晶によっ
ジアステレオマー的に純粋な化合物(IV)を生成す
る。
【0018】本発明による方法のもう一つの利点は、適
当な溶媒と塩基の選択によって好ましくないアステレ
オマーを好ましいアステレオマーにエピマー化させう
ることであり、後者を直接晶出させることもできる。こ
うして、(所望の)ジアステレオマー的に純粋な生成物
を母液からエピマー化と結晶析出とを繰り返すことによ
って直接得ることができる。全体のプロセスは、その母
液をアルキル化段階直接混合することによって循環プ
ロセス方式で最適化させることができる。本発明による
方法の最大の利点は、出発物質が極めて容易に入手でき
る点にある。それらは、技術的な熟練をあまり要しない
で、比較的単純な合成プロセスで高い収率で合成するこ
とができる。その上、本発明による方法は、一般式
(I)の化合物の既知量のラセミ体を対応する鏡像異性
体に変換することができる。本発明による方法は、公知
の方法よりもより少ない合成段階ではるかに高い収率
で、本発明の一般式(I)の化合物を合成することがで
きる。
【0019】式(I)は、本発明の方法によって合成さ
れる(キノリン−2−イル−メトキシ)フェニル酢酸の
一般式を与える。塩基を用いる通常の方法では、対応す
る塩として得られる。
【0020】前述の一般式においてR2は、例えば、
(+)−または(−)−メンチル,(+)−または
(−)−ボルニル,(+)−または(−)−イソボルニ
ル,あるいは(−)−8−フェニルメンチル などの、
キラルなアルコール基を表す。R2は、(+)−または
(−)−メンチルを表す場合が好ましい。
【0021】本発明の方法によって合成される好ましい
鏡像異性的に純粋な(キノリン−2−イル−メトキシ)
−フェニル酢酸は、一般式(I)において、式中、A,
B,D,E,GおよびLは、同一またはお互いに異なっ
ていて、水素、フッ素、塩素、臭素、トリフルオロメチ
ル、6個以下の炭素原子を含む直鎖状または分枝状のア
ルキル基を表し、R1は、シクロペンチル、シクロヘキ
シル、シクロヘプチル、またはシクロオクチルを表す、
によって表される化合物である。本発明の方法によって
合成されるとくに好ましい(キノリン−2−イル−メト
キシ)−フェニル酢酸は、一般式(I)において、式
中、A,B,D,E,GおよびLが、水素を表し、R1
は、シクロペンチル、シクロヘキシル、またはシクロヘ
プチルを表す、によって表される化合物である。
【0022】本発明の方法によって合成されるきわめて
とくに好ましい(キノリン−2−イル−メトキシ)−フ
ェニル酢酸は、一般式(I)において、式中、A,B,
D,E,GおよびLが、水素を表し、★CH−R1−C
2H基が、キノリルメトキシ基の4−位置に存在する
場合の化合物である。
【0023】アルキル化に適した溶媒は、反応条件を変
化させない通常の有機溶媒である。好ましい溶媒には、
ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラ
ン、グリコールジメチルエーテルなどのエーテル類、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサ
ン、鉱油の各留分などの炭化水素類、ジクロロメタン、
トリクロロメタン、テトラクロロメタン、ジクロロエチ
レン、トリクロロエチレン、クロロベンゼンなどのハロ
ゲン化炭化水素類、酢酸エチル、トリエチルアミン、ピ
リジン、ジメチルスルフォキシド、ジメチルホルムアミ
ド、ヘキサメチルりん酸トリアミド、アセトニトリル、
アセトン、あるいはニトロメタンなどがある。これらの
溶媒の混合物を用いることも可能である。ジメチルホル
ムアミドが好ましい。
【0024】アルキル化反応は、常圧下で、上述の溶媒
中で、場合によっては不活性ガス雰囲気中で、−20−
+100℃,好ましくは−10−+30℃,の温度で実
施される。
【0025】ジアステレオ選択的なアルキル化反応に適
した塩基は、通常の塩基性化合物である。それらの化合
物には、水酸化ナトリウムなどの水酸化アルカリ金属、
ナトリウムアマイドなどのアルカリ金属アマイド、ナト
リウムメトキシド・ナトリウムエトキシド・カリウムメ
トキシド・カリウムエトキシドまたはカリウム tert-ブ
トキシドなどのアルカリ金属アルコキシド、トリエチル
アミンなどのトリアルキルアミンを含む有機アミン類、
もしくはブチルリチウムやフェニルリチウムなどの有機
リチウム化合物などがある。カリウム tert-ブトキシド
が好ましい。
【0026】ジアステレオ選択的なアルキル化反応にお
いて、これらの塩基は、一般式(II)の化合物1モル
に対して、1−10モル、好ましくは1.2−3モル、
の割合で用いられる。
【0027】例えば、酢酸やギ酸などの通常の有機カル
ボン酸、例えば、シュウ化水素酸・塩化水素酸・硫酸ま
たは前述の酸の混合物など無機酸が、キラルな残基 R2
の除去に適している。酢酸、ギ酸、シュウ化水素酸お
よび/または硫酸が好ましい。酢酸/硫酸、ギ酸/シュ
ウ化水素酸、およびギ酸/硫酸などの混合物がとくに好
ましい。
【0028】前述の酸またはそれらの混合物は、溶媒と
同時に、そして大過剰に用いられる。
【0029】脱離反応は、0−150℃、好ましくは4
0−100℃、の温度範囲で実施される。
【0030】この反応は、通常大気圧下で実施される
が、場合によっては加圧下もしくは減圧下(例えば0.
5−3バール)で実施することもできる。
【0031】水または前述の溶媒の一つ、とりわけ水/
トルエン混合液、に溶かした塩基で中和した後、その酸
を常法によって処理する。
【0032】中和に適した塩基は、水酸化ナトリウムや
水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属である。水酸
化ナトリウムが好ましい。
【0033】一般式(I)によって表される立体構造の
均一な粗生成物は、前述の一つの溶媒、例えばイソプロ
パノール、中で洗浄するとかシリカゲルを用いたクロマ
トグラフィーなどの、常法によって精製される。
【0034】一般式(I)によって表される立体鏡像的
に純粋な化合物は、基本的にDOS(ドイツ特許公告)
3,916,663号によって公知であり、医薬、とりわけリポ
キシジェナーゼ禁止剤、の製造用の有用な活性化合物で
ある。
【0035】式(II)の出発物質は、新規であり、一
般式(V)
【0036】
【化10】
【0037】式中R2キラルなアルコール残基を表
す、によって表されるハイドロキシフェニル酢酸誘導体
を、次の一般式VI
【0038】
【化11】
【0039】式中A,B,D,E,G及びLは前述の意
味を有し、Xはハロゲン、好ましくは塩素、を表す、に
よって表されるハロゲノメチルキノリンと、不活性な溶
媒中、場合によっては塩基および/または助剤、あるい
は相間転移触媒の存在下で、エーテル化することによっ
て合成される。
【0040】その合成は、実例について次式によって表
すことができる:
【0041】
【化12】
【0042】そのエーテル化反応は、不活性な有機溶媒
中で、場合によっては塩基の存在下で、実施することが
できる。このエーテル化反応に用いられる溶媒は、反応
条件を変化させない不活性な有機溶媒である。好ましい
溶媒には、エタノール、プロパノールまたはイソプロパ
ノールなどのアルコール類、ジオキサン、テトラヒドロ
フランまたはジエチルエーテルなどのエーテル類、ジク
ロロメタン、トリクロロメタン、テトラクロロメタン、
1,2−ジクロロエタンまたはトリクロロエチレンなど
のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、ヘキサン、シクロヘキサンまたは鉱油の各留分など
の炭化水素類、ニトロメタン、ジメチルホルムアミド、
アセトニトリル、アセトン、あるいはヘキサメチルりん
酸トリアミドなどがある。これらの溶媒の混合物を用い
ることも可能である。塩化メチレンおよびイソプロパノ
ールが好ましい。
【0043】このエーテル化反応に用いられる塩基は、
無機または有機の塩基である。好ましい塩基には、炭酸
ナトリウムや炭酸カリウムなどのアルカリ金属の炭酸
塩、炭酸カルシウムなどのアルカリ土類金属の炭酸塩、
トリエチルアミンなどの有機アミン〔トリアルキル(C
1−C6)アミン〕類、あるいはピリジン、メチルピペリ
ジン、ピペリジンまたはモルホリンなどの複素環化合物
などがある。その他に用い得る塩基は、ナトリウムハイ
ドライドなどの水素化物である。用いるハロゲン化物
(III)を活性化するために、その反応溶液にアルカ
リ金属のヨウ化物、好ましくはヨウ化カリウムを添加す
ることもできる。
【0044】エーテル化反応は、通常0℃−150℃、
好ましくは10℃−100℃、の温度範囲で実施され
る。
【0045】エーテル化反応は、通常大気圧下で実施さ
れる。しかし減圧下あるいは加圧下(例えば、0.5−
5バールの範囲で)その反応を実施することもできる。
【0046】通常、反応性成分1モルに対して、ハロゲ
ン化物(III)0.5−5モル、好ましくは1−2モ
ル、が使用される。塩基は、ハロゲン化物に対して、通
常0.5−5モル、好ましくは1−3モル、の割合で使
用される。
【0047】相間転移触媒は、通常一つの前述の溶媒中
において、好ましくはジメチルホルムアミド、塩化メチ
レンまたはトルエン中で、クラウンエーテルまたは第四
級アンモニウム塩、好ましくはテトラブチルアンモニウ
ムアイオダイドを用いて、実施される。
【0048】一般式(VI)の化合物はそれ自身は公知
であり、常法によって合成することができる〔Chem.
Ber.,120,649(1987)参照〕。
【0049】一般式(III)の化合物は公知であり
〔Beilstein 5,19/5,24/5,29参照〕、対応す
るアルコールまたはシクロアルケンから常法によって合
成することができる。
【0050】遊離の−OH官能基をもつ一般式(VI)
の化合物は、大部分は新規であり、例えば、〔−O−C
H(CH3)2〕の形で保護されている公知の誘導体から常
法によりその保護基を外すことによって合成することが
できる(THL,Vol.30,No.3,pp.327−330 およ
びJ.Chem.Soc.,Chem.Commun.,1986,pp.741
−742参照)。
【0051】本発明による方法の明細書中において、一
般式(V)によって表される化合物は、トルエン中でp
−トルエンスルフォン酸の存在下で、アルコールを過剰
に用いることによって副反応をほぼ完全に抑制しつつ、
適当なキラルなアルコールと反応せることができる。
【0052】そのキラルなアルコールは、遊離のp−ハ
イドロキシフェニル酢酸に対して0.5−10モル、好
ましくは1−3モル、の割合で用いられる。
【0053】そのキラルなアルコール、とりわけ(+)
−および(−)−メンチル、はほどほどの価格で、大量
に市販されている。
【0054】次の実施例は、本発明を限定することな
く、それを説明するのに役立つ。
【0055】
【実施例】実施例1 (+)−メンチル 4−ハイドロキシフェニルアセテート
【0056】
【化13】
【0057】p−ハイドロキシフェニル酢酸2.9kg
と(+)−メントール1.95kgとをトルエン25リッ
トル中、p−トルエンスルフォン酸40gとともに16時間
加熱沸騰させる;この間に約300mlの水が分離され
る。このトルエン溶液をNaHCO3の飽和溶液10リッ
トルと水10リットルで洗い、真空中で蒸発乾固する。
表記の化合物が、油状の残留物5.4kg(理論値の98
−100%)として得られ、その純度は91.8%であ
る(HPLCの面積パーセントによる)。
【0058】分析の目的で、この(+)−メンチル 4−
ハイドロキシフェニルアセテートをn−ヘキサンから2
回再結晶した。
【0059】M.p.:50−51℃ 旋光度:αD 20=63.3(c=1,CHCl3)。
【0060】実施例2 (+)−メンチル 4−(キノリン−2−イル−メトキ
シ)−フェニルアセテート
【0061】
【化14】
【0062】実施例1で得られた化合物5.4kg,キナ
ルジンクロリド28.7kg,炭酸カリウム3.87kg,
およびヨウ化カリウム400gとを、沸騰しているイソ
プロパノール18リットル中で20時間反応させる。水
19リットルを加えて表記の化合物を沈殿させる。結晶
を遠心分離し、イソプロパノール/水(1:1)10リ
ットルと水8リットルで洗う。
【0063】収量:5.44kg(理論値の78%) HPLCによる純度:99.5% M.p.:86℃ 旋光度:αD 20=45.0(c=1,CHCl3)。
【0064】実施例3 (+)−メンチル (2R)−2−〔4−(キノリン−2−
イル−メトキシ)−フェニル〕−2−シクロペンチルア
セテート
【0065】
【化15】
【0066】ジメチルホルムアミド8.5リットルに溶
かした実施例2の化合物5.44kgとブロモシクロペン
タン2.06kgの溶液に不活性ガス雰囲気中−5℃〜+
5℃の温度で、DMF5リットルに溶かしたカリウムte
rt−ブトキシド1.87kgの溶液を加える。その混合物
を−5℃でひき続き4時間撹拌し、その後水18.5リ
ットルを加える。粗生成物を遠心分離し、60℃で24
時間真空乾燥し、そしてリグロイン7.5リットルから
2回再結晶する;最初の再結晶の時、リグロインの熱い
溶液を濾過する。
【0067】収量:4.8kg(理論値の76%) HPLCによる純度:99.7%ジアステレオマー 過剰:99.5% M.p.:124℃ 旋光度:αD 20=26.6(c=1,CHCl3)。
【0068】実施例4 (2R)−2−〔4−(キノリン−2−イル−メトキシ)
−フェニル〕−2−シクロペンチル酢酸
【0069】
【化16】
【0070】実施例3の化合物2.4kgを、濃硫酸1リ
ットルと氷酢酸5.6リットルの混合物中で4時間沸騰
させて、加水分解する。この混合物を冷却し、トルエン
2リットルを加え、それから水15リットルとトルエン
6リットルの混合液中にゆっくりと加え、濃度45%の
水酸化ナトリウム溶液約1.7リットルを同時に加えて
中和する。このとき沈殿している表記の化合物を遠心分
離し、イソプロパノール8リットルから再結晶する。
【0071】収量:13.1kg(理論値の75%) HPLCによる純度:99.9%エナンチオマー 過剰:99.4% M.p.:170−171℃ 旋光度:αD 20=−41.2(c=1,CHCl3)。
【0072】実施例5 (−)−メンチル ハイドロキシフェニルアセテート
【0073】
【化17】
【0074】ハイドロキシフェニル酢酸2.1kgを、沸
騰しているトルエン15リットル中、トルエンスルフォ
ン酸40gの存在下で、(−)−メントール2.5kgで
エステル化する;水分離器中を循環させることによっ
て、反応で生成した水が除去される。水がもはや分離し
て来なくなったとき、その混合物を冷却し、NaHCO3
の飽和溶液4リットルで1回と水4リットルで2回洗浄
し、真空中で蒸発乾固する。表記の化合物が油状の残留
物として得られる。
【0075】収量:40.2kg(理論量の100%) HPLCによる純度:95% M.p.:50−51℃ 旋光度:α20 D=−62.5(c=1,CHCl3)。
【0076】実施例6 (−)−メンチル 4−(キノリン−2−イル−メトキ
シ)−フェニルアセテート
【0077】
【化18】
【0078】実施例5で得られた化合物4.14kgを、
DMF15リットル中、キナルジンクロリド2.48k
g、炭酸カリウム2.94kg、ヨウ化カリウム150
g、およびテトラブチルアンモニウムアイオダイド15
0gとともに、50℃で4時間撹拌する。つぎに塩を濾
別し、イソプロパノール6リットルで洗う。濾液に水
2.5リットルを加えると、表記の化合物が晶出する。
それを遠心分離し、イソプロパノール/水 (1:1)
8リットルと水6リットルで洗い、50℃で真空乾燥す
る。
【0079】収量:5.42kg(理論量の88%) HPLCによる純度:99% M.p.:86℃ 旋光度:α20 D=−44.0(c=1,CHCl3)。
【0080】実施例7 (−)−メンチル (2R)−2−〔4−(キノリン−2
−イル−メトキシ)−フェニル〕−2−シクロヘプチル
アセテート
【0081】
【化19】
【0082】実施例6で得られた化合物1.3kgを、D
MF2.4リットル中でブロモシクロヘプタン580g
とともに、水蒸気を遮蔽しつつ−5℃〜+5℃で撹拌す
る。約2時間の間に、DMF1.6リットルに溶かした
カリウム tert−ブトキシドの溶液400gを加える。
その混合物を−20℃と−10℃の間でさらに4時間撹
拌し、その後水7.5リットルを加えると、表記の化合
物が粗生成物として沈殿する。その粗生成物を遠心分離
し、50℃で真空乾燥し、そしてリグロイン6リットル
を用いて2回再結晶する;第1回目の再結晶のとき、そ
の溶液を熱濾過する。
【0083】収量:1.02kg(理論量の64%) HPLCによる純度:>99%ジアステレオマー 過剰:>99% M.p.:127℃ 旋光度:α20 D=−44.3(c=1,CH2Cl2)。
【0084】実施例8 (2R)−2−〔4−(キノリン−2−イル−メトキシ)
−フェニル〕−2−シクロヘプチル酢酸
【0085】
【化20】
【0086】実施例7で得られた化合物1kgを、濃度
98%のギ酸9リットルと濃度48%の臭化水素酸0.
8リットルとの沸騰している混合物中で3〜4時間撹拌
する。この間に留出して分離している軽い層を取り除
く。その反応溶液を冷却してから、濃度45%の水酸化
ナトリウム溶液750ml、水7.5リットルおよびイソ
プロパノール2リットルよりなる混合物中へ添加する。
この間に沈殿する粗生成物を遠心分離し、イソプロパノ
ール3.6リットルと水1.2リットルとの混合液で再結
晶する。
【0087】収量:624g(理論量の85%) HPLCによる純度:>99%エナンチオマー 過剰:>99.5% M.p.:170−172℃ 旋光度:α20 D=−27.5(c=1,CH2Cl2)。
【0088】本発明の主なる特徴および態様は以下のと
おりである。
【0089】1.次の一般式(II)
【0090】
【化21】
【0091】式中、A,B,D,E,GおよびLは、後
述の意味を表し、R2は、不斎炭素をもつアルコール残
基を表す、によって表される化合物を、次の一般式(I
II)
【0092】
【化22】R1−Y (III) 式中、R1述の意味を表し、Yは、例えば、臭素、
塩素、ヨウ素、メシル、トシル、あるいはトリフルオロ
メチルスルフォニル、好ましくはヨウ素または臭素、な
どの典型的な脱離基を表す、によって表される化合物と
不活性な溶媒中塩基の存在下でジアステレオ選択的なア
ルキル化反応に付すことによって、まず第一に次の一般
式(IV)
【0093】
【化23】
【0094】式中、A,B,D,E,G,Lおよび1
は後述の意味を表し、そしておよびR2は、前述の意味
を表す、によって表される化合物に変えた後、第二段階
で残基R2をラセミ化させることなく、酸によって選択
的に除去することを特徴とする、次の一般式(I)
【0095】
【化24】
【0096】式中、A,B,D,E,GおよびLは、同
一またはお互いに異なっていて、水素、水酸基、ハロゲ
ン、カルボキシル、ニトロ、トリフルオロメチル、トリ
フルオロメトキシ、8個以下の炭素原子を含む直鎖状ま
たは分枝状のアルキルあるいはアルコキシ基、もしくは
場合によってはハロゲン、水酸基、ニトロまたはシアノ
によって置換されていてもよい6−10個の炭素原子を含
むアリール基を表し、R1は、4−12個の炭素原子を含
むシクロアルキル基を表す、によって表される 立体構
造の均一な(キノリン−2−イル−メトキシ)−フェニ
ル酢酸を合成する方法。
【0097】2.一般式(I)において、 式中、A,B,D,E,GおよびLは、同一またはお互
いに異なっていて、水素、フッ素、塩素、臭素、トリフ
ルオロメチル、6個以下の炭素原子を含む直鎖状または
分枝状のアルキル基を表し、R1は、シクロペンチル、
シクロヘキシル、シクロヘプチル、またはシクロオクチ
ルを表す、によって表される、上記1に記載の鏡像異性
的に純粋な(キノリン−2−イル−メトキシ)−フェニ
ル酢酸を合成する方法。
【0098】3.一般式(I)において、 式中、A,B,D,E,GおよびLが、水素を表し、R
1は、シクロペンチル、シクロヘキシル、またはシクロ
ヘプチルを表す、によって表される、上記1に記載の
像異性的に純粋な(キノリン−2−イル−メトキシ)−
フェニル酢酸を合成する方法。
【0099】4.キラルなアルコール残基R2が、(+)
−または(−)−メンチル,(+)−または(−)−ボル
ニル,(+)−または(−)−イソボルニル,あるいは
(−)−8−フェニルメチル を表すことを特徴とす
る、上記1−3に記載の方法。
【0100】5.キラルなアルコール残基R2が、(+)
−または(−)−メンチル を表すことを特徴とする、上
記1−3に記載の方法。
【0101】6.そのアルキル化反応において、塩基と
してアルカリ金属の水素化物、アルカリ金属のアミド、
アルカリ金属のアルコキシド、有機アミン、あるいは有
機リチウム化合物を用いることを特徴とする、上記1−
3に記載の方法。
【0102】7.キラルな残基R2を除去するための酸
として、酢酸、ギ酸、臭化水素酸および/または硫酸
を用いることを特徴とする、上記1−3に記載の方法。
【0103】8.次の一般式(II)
【0104】
【化25】
【0105】式中、A,B,D,E,GおよびLは、同
一またはお互いに異なっていて、水素、水酸基、ハロゲ
ン、カルボキシル、ニトロ、トリフルオロメチル、トリ
フルオロメトキシ、8個以下の炭素原子を含む直鎖状ま
たは分枝状のアルキルあるいはアルコキシ基、もしくは
場合によってはハロゲン、水酸基、ニトロまたはシアノ
によって置換されているところの6−10個の炭素原子
を含むアリール基を表し、R2キラルなアルコール残
基を表す、によって表される化合物。
【0106】9.R2は、(+)−または(−)−メンチ
ルを表すことを特徴とする、上記8に記載の化合物。
【0107】10.次式(V)
【0108】
【化26】
【0109】式中、R2キラルなアルコール残基を表
す、によって表されるハイドロキシフェニル酢酸誘導体
を、次の一般式(VI)
【0110】
【化27】
【0111】式中、A,B,D,E,G,およびLは、
前述の意味を表し、Xはハロゲン、好ましくは塩素を表
す、によって表されるハロゲノメチルキノリンによっ
て、不活性溶媒中、場合によっては塩基および/または
助剤の存在下で、あるいは相間転移触媒の存在下で、エ
ーテル化することを特徴とする、上記8に記載の化合物
の合成方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジークフリート・ラダツツ ドイツ連邦共和国デー5000ケルン80・ヤ コブ−ベーメ−シユトラーセ21 (56)参考文献 特開 平3−5459(JP,A) 特開 平2−19359(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 215/14 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 次の一般式(I) 【化4】 式中、A,B,D,E,GおよびLは、同一またはお互
    いに異なっていて、水素、水酸基、ハロゲン、カルボキ
    シル、ニトロ、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
    キシ、8個以下の炭素原子を含む直鎖状または分枝状の
    アルキルあるいはアルコキシ基、もしくは場合によって
    はハロゲン、水酸基、ニトロまたはシアノによって置換
    されていてもよい6−10個の炭素原子を含むアリール基
    を表し、 R1は、4−12個の炭素原子を含むシクロアルキル基を
    表す、 によって表される、鏡像異性的に純粋な(キノリン−2
    −イル−メトキシ)−フェニル酢酸を合成する方法であ
    って、次の一般式(II) 【化1】 式中、A,B,D,E,GおよびLは、述の意味を表
    し、 R2は、(+)−または(−)−メンチル、(+)−ま
    たは(−)−ボルニル 、(+)−または(−)−イソボ
    ルニル、或いは(−)−8−フェニルメンチ を表す、 によって表される化合物を、次の一般式(III) 【化2】R1−Y (III) 式中、R1は前述の意味を表し、 Yは、臭素、塩素、ヨウ素、メシル、トシル、いはト
    リフルオロメチルスルフォニルを表す、 によって表される化合物と不活性な溶媒中塩基の存在下
    でジアステレオ選択的なアルキル化反応に付すことによ
    って、まず第一に次の一般式(IV) 【化3】 式中、A,B,D,E,G,L,R1およびR2は、前述
    の意味を表す、 によって表される化合物に変えた後、 第二段階で残基R2をラセミ化させることなく、酸によ
    って選択的に除去することを特徴とする方法。
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