JP3218664B2 - Inkjet print head - Google Patents

Inkjet print head

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JP3218664B2
JP3218664B2 JP3222192A JP3222192A JP3218664B2 JP 3218664 B2 JP3218664 B2 JP 3218664B2 JP 3222192 A JP3222192 A JP 3222192A JP 3222192 A JP3222192 A JP 3222192A JP 3218664 B2 JP3218664 B2 JP 3218664B2
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  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、圧力発生室のインクを
ノズル開口からインク滴として飛翔させ、記録媒体に画
像を形成させるオンデマンド型のインクジェット印字ヘ
ッドに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an on-demand type ink jet print head which forms an image on a recording medium by causing ink in a pressure generating chamber to fly from nozzle openings as ink droplets.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、インクジェット印字ヘッドにおい
てインク流路を形成する基板材料にシリコンウェーハー
を用いた例としては、例えば特開平2−265754に
開示されているサーマルインクジェットヘッドがある。
このヘッドは、異方性エッチングされた貫通凹部のイン
ク供給口と複数の平行な細い溝から成るインクチャンネ
ルを有した第1基板と、発熱素子とアドレッシング電極
を有した第2基板とを接着した後、所定の位置でカッテ
ィングすることによって基板端面にノズルを形成し、発
熱素子で圧力を発生させてノズルよりインク滴を吐出さ
せるように構成されている。またシリコンウェーハーの
異方性エッチングによってノズル開口部を形成する方法
は、例えば特開昭58ー112755号等に開示される
ように、ノズル形成技術としては広く用いられている方
法の1つである。
2. Description of the Related Art Conventionally, as an example in which a silicon wafer is used as a substrate material for forming an ink flow path in an ink jet print head, there is a thermal ink jet head disclosed in, for example, JP-A-2-265754.
This head bonded an anisotropically etched ink supply port of a through recess and a first substrate having an ink channel formed of a plurality of parallel narrow grooves, and a second substrate having a heating element and an addressing electrode. Thereafter, a nozzle is formed on the end face of the substrate by cutting at a predetermined position, and a pressure is generated by the heating element to discharge an ink droplet from the nozzle. A method of forming a nozzle opening by anisotropic etching of a silicon wafer is one of widely used nozzle forming techniques as disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-112755. .

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし前述の従来技術
では、インクジェット印字ヘッドの構成部として必要な
形状を、複数の部材を接着によって貼合わせた後、カッ
ティングによってノズルを形成するか、もしくはノズル
開口を形成した基板とインク流路を形成した基板と天板
とをそれぞれ接着して、インクジェット印字ヘッドを構
成することが通例とされている。したがって、従来技術
では複数の部品精度、組立精度を確保するために製造プ
ロセスが複雑になり、特にノズルをカッティングによっ
て形成する場合には、チッピング等のカケが発生しやす
く、製造歩留まりの確保に対しても限度がある。さらに
接着剤を用いていることによって、接着剤のインク流路
への流出、接着強度不足、インクの対蝕性といった信頼
性の確保が難しいといった問題を有していた。
However, in the above-mentioned prior art, a plurality of members are adhered to each other by bonding, and a nozzle is formed by cutting, or a nozzle opening is formed. In general, an ink jet print head is formed by bonding a substrate on which is formed, a substrate on which an ink flow path is formed, and a top plate to each other. Therefore, in the conventional technology, the manufacturing process is complicated to secure the accuracy of a plurality of parts and the accuracy of assembly. In particular, when the nozzle is formed by cutting, chips such as chipping are likely to be generated. There is a limit. Further, the use of the adhesive has a problem that it is difficult to ensure reliability such as an outflow of the adhesive into the ink flow path, insufficient adhesive strength, and anticorrosiveness of the ink.

【0004】本発明は、このような問題に鑑みてなされ
たものであって、その目的とするところは、製造工程の
簡略化と形状精度の確保を容易にし、耐久性に優れた高
信頼性のインクジェット印字ヘッドを提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to simplify the manufacturing process and to easily ensure the shape accuracy, and to provide a highly reliable and highly durable product. The present invention provides an ink jet print head.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明のインクジェット
印字ヘッドは、ノズル開口と、該ノズル開口に連通する
圧力発生室と、該圧力発生室に連通するインク供給路
と、前記圧力発生室の一壁面を構成する振動板と、該振
動板の前記圧力発生室に対向する位置に形成された圧力
発生素子とを備えたインクジェット印字ヘッドにおい
て、インク流路を構成する前記圧力発生室と前記インク
供給路と前記ノズル開口とが一体形成されたシリコン単
結晶基板からなる流路基板と、前記シリコン単結晶基板
と実質的に熱膨張係数が等しい金属材料の表面にシリコ
ン化合物が形成された振動板とを備え、前記流路基板
と、前記振動板のシリコン化合物形成面とが接着層を介
さずに接合されていることを特徴とする。
According to the present invention, there is provided an ink jet print head comprising a nozzle opening, a pressure generating chamber communicating with the nozzle opening, an ink supply path communicating with the pressure generating chamber, and one of the pressure generating chambers. In an ink jet print head including a vibration plate forming a wall surface and a pressure generation element formed at a position of the vibration plate facing the pressure generation chamber, the pressure generation chamber and the ink supply forming an ink flow path are provided. A flow path substrate formed of a silicon single crystal substrate in which a passage and the nozzle opening are integrally formed, and a diaphragm in which a silicon compound is formed on a surface of a metal material having substantially the same thermal expansion coefficient as the silicon single crystal substrate. Wherein the flow path substrate and the surface on which the silicon compound is formed of the vibration plate are joined without interposing an adhesive layer.

【0006】[0006]

【作用】本発明の上記の構成によれば、インクジェット
印字ヘッドのインク流路構成部として必要な形状を、単
一部材に同一の製造プロセスによって行うことによっ
て、製造工程の短縮とインク流路構成部の形状精度の向
上を達成することができる。
According to the above construction of the present invention, the shape required for the ink flow path constituting portion of the ink jet print head is formed in a single member by the same manufacturing process, thereby shortening the manufacturing process and reducing the ink flow path structure. It is possible to improve the shape accuracy of the portion.

【0007】[0007]

【実施例】以下に本発明の詳細を図示した実施例に基づ
いて説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The details of the present invention will be described below with reference to the illustrated embodiments.

【0008】図1は本発明の実施例におけるインクジェ
ット印字ヘッドの構成を示す分解斜視図、図2は流路基
板の斜視図である。インク流路を形成した流路基板1、
流路基板1と熱膨張率を同一にする振動板2、圧力発生
素子を構成する短冊状または櫛歯状の圧電素子3、印字
信号を圧電素子3に伝達するリード電極4、インクを印
字ヘッドに供給するインク供給管5を備えている。イン
ク供給管5より供給されたインク(図示せず)は、リザ
ーバー9からインク供給口8を通じて平行に複数個配置
された圧力発生室7に充填される。リード電極4に印字
信号が印加されると、圧電素子3に歪が生じて振動板2
を変形させ、圧力発生室7に圧力が加わることによって
ノズル開口6よりインク滴を吐出することができる。
FIG. 1 is an exploded perspective view showing the structure of an ink jet print head according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a perspective view of a flow path substrate. A flow path substrate 1 having an ink flow path formed therein,
A diaphragm 2 having the same coefficient of thermal expansion as the flow path substrate 1, a strip-shaped or comb-shaped piezoelectric element 3 constituting a pressure generating element, a lead electrode 4 for transmitting a print signal to the piezoelectric element 3, and a print head for printing ink And an ink supply pipe 5 for supplying the ink to the ink supply pipe. The ink (not shown) supplied from the ink supply pipe 5 is filled into a plurality of pressure generating chambers 7 arranged in parallel from a reservoir 9 through an ink supply port 8. When a print signal is applied to the lead electrode 4, distortion occurs in the piezoelectric element 3 and the diaphragm 2
When the pressure is applied to the pressure generating chamber 7, the ink droplets can be ejected from the nozzle openings 6.

【0009】インク流路は、ノズル開口6、圧力発生室
7、インク供給口8、リザーバー9より構成されてい
る。ここで流路基板1の材料としては、厚さ200〜5
00μmのシリコン単結晶基板を用いたものであり、
{100}結晶面を基板表面にもち前記のインク流路は
全て{111}結晶面に沿って異方性エッチングによっ
て形成されている。このためノズル開口6は、内壁が4
角錐形状を成す貫通孔として形成され、圧力発生室7と
リザーバー9は深さを同じくしてその断面が台形状の凹
部を成し、インク供給口8はリザーバー9から各圧力発
生室7に連通する位置に、断面がV字溝として形成され
ている。ここでインク供給口8の形状は、V字溝に限定
されるわけではなく、圧力発生室7と同様な台形溝でも
かまわない。だだしインク流路の設計上、インク供給口
8の流体抵抗はノズル開口6とほぼ同等で、圧力発生室
7の流体抵抗に対しては充分大きくすることが要求され
るために、インク供給口8の流路断面積は圧力発生室8
のそれより充分小さくなるように設定する必要がある。
またインク流路は{111}結晶面に沿って異方性エッ
チングされるため、それぞれのインク流路断面における
テーパ角度は、基板表面の{100}結晶面に対してシ
リコン単結晶特有の54.7゜という角度をなしてい
る。
The ink flow path includes a nozzle opening 6, a pressure generating chamber 7, an ink supply port 8, and a reservoir 9. Here, the material of the flow path substrate 1 has a thickness of 200 to 5
Using a silicon single crystal substrate of 00 μm,
The {100} crystal plane is provided on the substrate surface, and all the ink flow paths are formed by anisotropic etching along the {111} crystal plane. Therefore, the nozzle opening 6 has an inner wall of 4
The pressure generating chamber 7 and the reservoir 9 are formed as a through hole having a pyramid shape, the depth thereof is the same as that of the pressure generating chamber 7, and the cross section forms a trapezoidal concave portion. The ink supply port 8 communicates with each pressure generating chamber 7 from the reservoir 9. The cross section is formed as a V-shaped groove at the position where it is. Here, the shape of the ink supply port 8 is not limited to the V-shaped groove, and may be a trapezoidal groove similar to the pressure generating chamber 7. However, due to the design of the ink flow path, the fluid resistance of the ink supply port 8 is substantially equal to that of the nozzle opening 6, and it is required that the fluid resistance of the pressure generating chamber 7 be sufficiently large. The cross-sectional area of the channel 8 is the pressure generating chamber 8
It must be set to be sufficiently smaller than that of.
In addition, since the ink flow path is anisotropically etched along the {111} crystal plane, the taper angle in each ink flow path cross section is 54.5 which is peculiar to silicon single crystal with respect to the {100} crystal plane on the substrate surface. It makes an angle of 7 °.

【0010】図3は図2で説明したインク流路の形成プ
ロセスを示している。まずシリコン単結晶基板の{10
0}結晶面上下両面に、1000〜1200℃の酸素雰
囲気中で熱酸化処理によって0.5〜2μmの厚さのS
i酸化膜13を形成した後、フォトレジストをコーティ
ングし、ノズル開口パターンを露光、現像する。次にフ
ッ酸水溶液によってSi酸化膜を除去すると、図3
(a)のようにシリコン単結晶基板の{100}結晶面
がノズル開口パターンとして露出する。そこで、KOH
水溶液等の異方性エッチング液を使用して、シリコン単
結晶基板総厚に対して残厚が圧力発生室7の深さに相当
する厚みになるまで、第1の異方性エッチングをすると
図3(b)ような凹部1aが形成される。続いて、前述
と同様の方法で、フォトレジストに圧力発生室7、イン
ク供給口8パターンを形成した後、Si酸化膜を除去す
る(図3(c))。さらに、第2の異方性エッチングを
行うことによって、ノズル開口6が貫通すると同時に、
ノズル開口6以外のインク流路が凹部として形成され、
図3(d)に示すようなインク流路形状を得ることがで
きる。ここでインク供給口8のパターン幅を、エッチン
グ深さに対して充分小さく設定すれば、異方性エッチン
グは{111}結晶面に沿ってエッチングされるため
に、{111}結晶面が交差した時点でエッチングは停
止し、インク供給口はV字溝として形成される。したが
って、圧力発生室7とインク供給口8はエッチング深さ
が異なるにも関わらず、1回のエッチング工程によって
同時に形成することが可能である。
FIG. 3 shows a process of forming the ink flow path described with reference to FIG. First, a silicon single crystal substrate of $ 10
0.5 mm on the upper and lower surfaces of the crystal plane by thermal oxidation treatment in an oxygen atmosphere at 1000-1200 ° C.
After the i-oxide film 13 is formed, a photoresist is coated, and the nozzle opening pattern is exposed and developed. Next, when the Si oxide film is removed with a hydrofluoric acid aqueous solution, FIG.
(A), the {100} crystal plane of the silicon single crystal substrate is exposed as a nozzle opening pattern. So, KOH
First anisotropic etching is performed using an anisotropic etching solution such as an aqueous solution until the remaining thickness of the silicon single crystal substrate becomes a thickness corresponding to the depth of the pressure generating chamber 7 with respect to the total thickness of the silicon single crystal substrate. The recess 1a as shown in FIG. 3 (b) is formed. Subsequently, after the pressure generating chamber 7 and the ink supply port 8 pattern are formed in the photoresist by the same method as described above, the Si oxide film is removed (FIG. 3C). Further, by performing the second anisotropic etching, the nozzle opening 6 penetrates at the same time,
Ink flow paths other than the nozzle openings 6 are formed as recesses,
An ink flow path shape as shown in FIG. 3D can be obtained. Here, if the pattern width of the ink supply port 8 is set sufficiently small with respect to the etching depth, the {111} crystal planes intersect because the anisotropic etching is etched along the {111} crystal plane. At this point, the etching stops, and the ink supply port is formed as a V-shaped groove. Therefore, the pressure generating chamber 7 and the ink supply port 8 can be formed simultaneously by one etching process, even though the etching depth is different.

【0011】そこで図2に示すように、圧力発生室7の
幅をノズル入口部11の開口長と同一にして、インク供
給口8を圧力発生室壁10の同一壁面延長上に2カ所ず
つ配置し、V字溝となるように形成することによって、
リザーバー9を除いた複数のインク流路は平行に規則正
しく配列され、各インク流路壁に段差等の不連続面がな
いインク流路を構成することができる。したがって、リ
ザーバー9より各インク供給口8に供給されたインク
は、滞留や淀みの発生がなくスムーズな流れによってノ
ズルまで到達することとなる。
Therefore, as shown in FIG. 2, the width of the pressure generating chamber 7 is made equal to the opening length of the nozzle inlet 11, and the ink supply ports 8 are arranged at two locations on the same wall extension of the pressure generating chamber wall 10. Then, by forming so as to form a V-shaped groove,
The plurality of ink flow paths excluding the reservoir 9 are regularly arranged in parallel and can form an ink flow path having no discontinuity such as a step on each ink flow path wall. Therefore, the ink supplied from the reservoir 9 to each of the ink supply ports 8 reaches the nozzles by a smooth flow without generation of stagnation or stagnation.

【0012】なお、ノズル開口6と圧力発生室7は2回
の異方性エッチングによって連通形成されるため、第1
の異方性エッチングによって形成されたノズル開口壁面
と、第2の異方性エッチングで形成される圧力発生室壁
面の相互に重なり合う部分では、新な結晶面が露出し切
り欠き状壁面12が生じるが、インクジェット印字ヘッ
ドの機能上、何ら支障はない。
Since the nozzle opening 6 and the pressure generating chamber 7 are formed to communicate with each other by two anisotropic etchings, the first
In a portion where the wall surface of the nozzle opening formed by the anisotropic etching described above overlaps with the wall surface of the pressure generating chamber formed by the second anisotropic etching, a new crystal plane is exposed and a notched wall surface 12 is formed. There is no problem on the function of the ink jet print head.

【0013】図4は本実施例のインクジェット印字ヘッ
ドの断面を示している。インク流路が形成された流路基
板1に、流路基板1と熱膨張率を同一にする振動板2が
接合されインク流路が完成する。ここでは振動板2の材
料として、厚さ20〜100μmのパイレックスガラス
を使用している。流路基板1と振動板2を重ね合わせて
固定し、200〜500℃の雰囲気温度で両基板を加熱
する。そこで両基板間に200〜1000Vの直流電圧
を印加すると、静電引力によって接合界面が密着すると
同時に電流が流れ、両基板は強固に接合される。このよ
うに、流路基板1と振動板2の接合面には接着剤等の有
機化合物が介在せずに接合が可能なために、複雑な微細
形状であっても極めて高い寸法精度が得られる。
FIG. 4 shows a cross section of the ink jet print head of this embodiment. The vibration plate 2 having the same thermal expansion coefficient as the flow path substrate 1 is joined to the flow path substrate 1 in which the ink flow path is formed, and the ink flow path is completed. Here, Pyrex glass having a thickness of 20 to 100 μm is used as a material of the diaphragm 2. The flow path substrate 1 and the vibration plate 2 are overlapped and fixed, and both substrates are heated at an ambient temperature of 200 to 500 ° C. Then, when a DC voltage of 200 to 1000 V is applied between the two substrates, a current flows at the same time as the bonding interface comes into close contact due to electrostatic attraction, and the two substrates are strongly bonded. As described above, since the bonding surface between the flow path substrate 1 and the vibration plate 2 can be bonded without the interposition of an organic compound such as an adhesive, extremely high dimensional accuracy can be obtained even in a complicated fine shape. .

【0014】振動板2の圧電素子3との接着面には、S
n酸化物またはITO(In25−SnO2) がリード
電極として薄膜形成されており、外部に設定された印字
信号ソースと電気的に接続される。
The bonding surface of the vibration plate 2 to the piezoelectric element 3 has S
An n-oxide or ITO (In 2 O 5 —SnO 2 ) is formed as a thin film as a lead electrode, and is electrically connected to a print signal source set outside.

【0015】振動板2の材料としては、シリコン単結
晶、Si化合物、Si化合物を表面に形成した金属材料
を用いることができる。金属材料としてシリコン単結晶
と熱膨張係数を等しくする、42アロイ(Fe−Ni合
金)を用いることも可能であるが、この場合には予め表
面にSi酸化物をスパッタ等により薄膜形成しておく必
要がある。42アロイのSi酸化物形成面を流路基板1
に合わせて固定し、以下は前述と同様の方法によって両
基板を接合することができ、強固な接合力を得ることが
できる。また42アロイは導電性材料であるため、共通
電極として用いることができ、リード電極は圧電素子3
の上面に接続されることになる。
As the material of the diaphragm 2, a silicon single crystal, a Si compound, or a metal material having a Si compound formed on the surface can be used. It is also possible to use a 42 alloy (Fe-Ni alloy) having a thermal expansion coefficient equal to that of a silicon single crystal as a metal material. In this case, a thin film of Si oxide is formed in advance on the surface by sputtering or the like. There is a need. The 42 alloy Si oxide forming surface was placed on the flow path substrate 1
Then, both substrates can be joined by the same method as described above, and a strong joining force can be obtained. The 42 alloy is a conductive material and can be used as a common electrode.
Will be connected to the upper surface.

【0016】[0016]

【発明の効果】本発明のインクジェット印字ヘッドによ
れば、ノズル開口と、該ノズル開口に連通する圧力発生
室と、該圧力発生室に連通するインク供給路と、前記圧
力発生室の一壁面を構成する振動板と、該振動板の前記
圧力発生室に対向する位置に形成された圧力発生素子と
を備えたインクジェット印字ヘッドにおいて、インク流
路を構成する前記圧力発生室と前記インク供給路と前記
ノズル開口とが一体形成されたシリコン単結晶基板から
なる流路基板と、前記シリコン単結晶基板と実質的に熱
膨張係数が等しい金属材料の表面にシリコン化合物が形
成された振動板とを備え、前記流路基板と、前記振動板
のシリコン化合物形成面とが接着層を介さずに接合され
ていることにより、単にシリコン単結晶基板から形成さ
れた振動板を用いた場合に比べて、金属材料を用いてい
るので、振動板が破壊される様な問題が防止されると共
に、振動板の金属材料が流路基板を形成するシリコン単
結晶基板と実質的に同等の熱膨張係数を有しているの
で、流路基板と振動板の接合時に加熱工程を用いる場合
に発生する接合不良を防止することができる。
According to the ink jet print head of the present invention, the nozzle opening, the pressure generating chamber communicating with the nozzle opening, the ink supply path communicating with the pressure generating chamber, and one wall surface of the pressure generating chamber are formed. In the ink jet print head comprising a vibrating plate to be configured and a pressure generating element formed at a position of the vibrating plate facing the pressure generating chamber, the pressure generating chamber and the ink supply path forming an ink flow path A flow path substrate formed of a silicon single crystal substrate integrally formed with the nozzle opening, and a diaphragm in which a silicon compound is formed on a surface of a metal material having substantially the same thermal expansion coefficient as the silicon single crystal substrate. Since the flow path substrate and the silicon compound forming surface of the vibration plate are joined without using an adhesive layer, a vibration plate simply formed from a silicon single crystal substrate is used. Compared to the case, the use of a metal material prevents problems such as breaking of the diaphragm, and the metal material of the diaphragm is substantially equivalent to the silicon single crystal substrate forming the flow path substrate. Since it has a thermal expansion coefficient, it is possible to prevent poor joining that occurs when a heating step is used when joining the flow path substrate and the diaphragm.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のインクジェット印字ヘッドの構成を示
した分解斜視図である。
FIG. 1 is an exploded perspective view showing a configuration of an ink jet print head of the present invention.

【図2】流路基板の外観を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view illustrating an appearance of a flow path substrate.

【図3】(a)〜(d)は流路基板のインク流路の形成
プロセスを示した図である。
FIGS. 3A to 3D are diagrams illustrating a process of forming an ink flow path of a flow path substrate.

【図4】インクジェット印字ヘッドの一部断面図であ
る。
FIG. 4 is a partial cross-sectional view of the inkjet print head.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 流路基板 2 振動板 3 圧電素子 4 リード電極 5 インク供給管 6 ノズル開口 7 圧力発生室 8 インク供給口 9 リザーバー DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Flow path board 2 Vibration plate 3 Piezoelectric element 4 Lead electrode 5 Ink supply pipe 6 Nozzle opening 7 Pressure generating chamber 8 Ink supply port 9 Reservoir

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ノズル開口と、該ノズル開口に連通する
圧力発生室と、該圧力発生室に連通するインク供給路
と、前記圧力発生室の一壁面を構成する振動板と、該振
動板の前記圧力発生室に対向する位置に形成された圧力
発生素子とを備えたインクジェット印字ヘッドにおい
て、 インク流路を構成する前記圧力発生室と前記インク供給
路と前記ノズル開口とが一体形成されたシリコン単結晶
基板からなる流路基板と、 前記シリコン単結晶基板と実質的に熱膨張係数が等しい
金属材料の表面にシリコン化合物が形成された振動板と
を備え、 前記流路基板と、前記振動板のシリコン化合物形成面と
が接着層を介さずに接合されていることを特徴とするイ
ンクジェット印字ヘッド。
1. A nozzle opening, a pressure generating chamber communicating with the nozzle opening, an ink supply path communicating with the pressure generating chamber, a diaphragm constituting one wall surface of the pressure generating chamber, An ink jet print head comprising a pressure generating element formed at a position facing the pressure generating chamber, wherein the pressure generating chamber forming an ink flow path, the ink supply path, and the nozzle opening are integrally formed with silicon. A flow path substrate composed of a single crystal substrate; and a diaphragm in which a silicon compound is formed on a surface of a metal material having substantially the same thermal expansion coefficient as the silicon single crystal substrate. An ink jet print head, wherein the surface of the substrate is bonded to the surface on which the silicon compound is formed without interposing an adhesive layer.
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