JP3211424B2 - 走査型露光装置と該装置を用いる回路製造方法 - Google Patents
走査型露光装置と該装置を用いる回路製造方法Info
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- JP3211424B2 JP3211424B2 JP30218692A JP30218692A JP3211424B2 JP 3211424 B2 JP3211424 B2 JP 3211424B2 JP 30218692 A JP30218692 A JP 30218692A JP 30218692 A JP30218692 A JP 30218692A JP 3211424 B2 JP3211424 B2 JP 3211424B2
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レチクル上のパターン
をウェハ等の基板に転写する投影露光装置に関する。
をウェハ等の基板に転写する投影露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、所定のパターンを有する投影原板
としてのマスクやレチクル（以下レチクルと称する）に
対して円弧状に照明する照明光学系を備えた投影露光装
置として、特開昭60-232552 号公報に開示されているも
のが知られている。この特開昭60-232552 号公報のもの
は、図５(A) に示す如く、超高圧水銀灯51からの光束を
楕円鏡52によってオプティカルインテグレーター53の入
射面上に集光している。そして、このオプティカルイン
テグレーター53は、図５(B) に示す如く、焦点距離ｆ1
のシリンドリカルレンズの集合体(53a,53d) と、焦点距
離ｆ2 のシリンドリカルレンズの集合体(53b,53c) とを
２枚ずつ組み合わせられて構成されており、これより直
交方向において異なる開口数の光束を形成している。こ
のオプティカルインテグレーター53を介した光束は、コ
ンデンサーレンズ54により集光されて、図５(C) に示す
如き円弧状の開口部55a を有するスリット板55を照明
し、この開口部55a を通過した光束により、集光光学系
56を介して被照明面であるレチクル57を円弧状で均一に
照明する。そして、レチクル57とウェハ59とは図示の如
く相対的に移動して、円弧状に照明されたレチクル57上
のパターンが投影光学系58によりウェハ59上に転写され
る。
としてのマスクやレチクル（以下レチクルと称する）に
対して円弧状に照明する照明光学系を備えた投影露光装
置として、特開昭60-232552 号公報に開示されているも
のが知られている。この特開昭60-232552 号公報のもの
は、図５(A) に示す如く、超高圧水銀灯51からの光束を
楕円鏡52によってオプティカルインテグレーター53の入
射面上に集光している。そして、このオプティカルイン
テグレーター53は、図５(B) に示す如く、焦点距離ｆ1
のシリンドリカルレンズの集合体(53a,53d) と、焦点距
離ｆ2 のシリンドリカルレンズの集合体(53b,53c) とを
２枚ずつ組み合わせられて構成されており、これより直
交方向において異なる開口数の光束を形成している。こ
のオプティカルインテグレーター53を介した光束は、コ
ンデンサーレンズ54により集光されて、図５(C) に示す
如き円弧状の開口部55a を有するスリット板55を照明
し、この開口部55a を通過した光束により、集光光学系
56を介して被照明面であるレチクル57を円弧状で均一に
照明する。そして、レチクル57とウェハ59とは図示の如
く相対的に移動して、円弧状に照明されたレチクル57上
のパターンが投影光学系58によりウェハ59上に転写され
る。
【０００３】また、例えば図６(a) に示すように、１枚
のレチクルに複数の回路パターンを設けて、レチクルを
交換することなく、ウェハ上に転写される回路パターン
を切り替えることも従来から行われている。
のレチクルに複数の回路パターンを設けて、レチクルを
交換することなく、ウェハ上に転写される回路パターン
を切り替えることも従来から行われている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の投影
露光装置において、図６(a) に示す如くレチクルR に２
つの回路パターンＡ，Ｂが設けられている場合、図６
(b) に示すように回路パターンＡ，Ｂ間の走査方向の間
隔Ｄが円弧状の照明領域の走査方向の長さＬよりも短い
ときには、回路パターンＡを露光する際に回路パターン
Ｂの一部をウェハ上に転写してしまうといった問題点が
ある。そこで、従来のものでは、図６(c) に示すように
回路パターン間の間隔Ｄを円弧上の照明領域の走査方
向の長さＬよりも長くなるように複数の回路パターンを
配置していたが、回路パターンの間隔を十分とる必要が
あるので、レチクル上の回路パターンの配置に制約が生
じるという問題点がある。
露光装置において、図６(a) に示す如くレチクルR に２
つの回路パターンＡ，Ｂが設けられている場合、図６
(b) に示すように回路パターンＡ，Ｂ間の走査方向の間
隔Ｄが円弧状の照明領域の走査方向の長さＬよりも短い
ときには、回路パターンＡを露光する際に回路パターン
Ｂの一部をウェハ上に転写してしまうといった問題点が
ある。そこで、従来のものでは、図６(c) に示すように
回路パターン間の間隔Ｄを円弧上の照明領域の走査方
向の長さＬよりも長くなるように複数の回路パターンを
配置していたが、回路パターンの間隔を十分とる必要が
あるので、レチクル上の回路パターンの配置に制約が生
じるという問題点がある。
【０００５】そこで、本発明は、レチクル上の回路パタ
ーン配置に制約がない投影露光装置を提供することを目
的とする。
ーン配置に制約がない投影露光装置を提供することを目
的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１による走査型露光装置は、以下の構成を有
している。例えば、図１に示す如く、露光光に対して第
１物体（Ｒ）を移動するとともに、該第１物体（Ｒ）の
移動に同期して第２物体（Ｗ）を移動することにより第
２物体（Ｗ）を走査露光する走査型露光装置において、
走査露光の方向に関して露光光の照射領域を規定する規
定部材（６）と、第１物体（Ｒ）と光学的にほぼ共役に
配置され、第１物体（Ｒ）と第２物体（Ｗ）の同期移動
に関連して移動するとともに、走査露光の方向に関して
露光光の照射を制限する制限部材（８）とを備えてい
る。
に、請求項１による走査型露光装置は、以下の構成を有
している。例えば、図１に示す如く、露光光に対して第
１物体（Ｒ）を移動するとともに、該第１物体（Ｒ）の
移動に同期して第２物体（Ｗ）を移動することにより第
２物体（Ｗ）を走査露光する走査型露光装置において、
走査露光の方向に関して露光光の照射領域を規定する規
定部材（６）と、第１物体（Ｒ）と光学的にほぼ共役に
配置され、第１物体（Ｒ）と第２物体（Ｗ）の同期移動
に関連して移動するとともに、走査露光の方向に関して
露光光の照射を制限する制限部材（８）とを備えてい
る。
【０００７】
【作用】上述の如く、請求項１の発明による走査型露光
装置は、走査露光の方向に関して露光光の照射領域を規
定する規定部材（６）と、第１物体（Ｒ）と光学的にほ
ぼ共役に配置され、第１物体（Ｒ）と第２物体（Ｗ）の
同期移動に関連して移動するとともに、走査露光の方向
に関して露光光の照射を制限する制限部材（８）とを備
えているので、第１物体（Ｒ）と第２物体（Ｗ）とを同
期移動させつつ、露光光の照射の制限を正確に行うこと
ができ、第１物体（Ｒ）上の回路パターンの配置の制約
も少なくなる。
装置は、走査露光の方向に関して露光光の照射領域を規
定する規定部材（６）と、第１物体（Ｒ）と光学的にほ
ぼ共役に配置され、第１物体（Ｒ）と第２物体（Ｗ）の
同期移動に関連して移動するとともに、走査露光の方向
に関して露光光の照射を制限する制限部材（８）とを備
えているので、第１物体（Ｒ）と第２物体（Ｗ）とを同
期移動させつつ、露光光の照射の制限を正確に行うこと
ができ、第１物体（Ｒ）上の回路パターンの配置の制約
も少なくなる。
【０００８】
【実施例】以下、図１を参照して本発明による実施例を
説明する。図１は、本発明による投影露光装置を模式的
に示す図である。図１において、本実施例による投影露
光装置は、所定の回路パターンを有するレチクルR に対
して均一な円弧照明を行う照明光学系1 〜7 と、円弧照
明されたレチクルR の回路パターンをウェハW 上に転写
する投影光学系10とで構成されている。
説明する。図１は、本発明による投影露光装置を模式的
に示す図である。図１において、本実施例による投影露
光装置は、所定の回路パターンを有するレチクルR に対
して均一な円弧照明を行う照明光学系1 〜7 と、円弧照
明されたレチクルR の回路パターンをウェハW 上に転写
する投影光学系10とで構成されている。
【０００９】そして、光源1 からの照明光は、楕円鏡2
により集光され、コリメータレンズ3 により平行光束と
なってフライアイレンズ4 に達する。このフライアイレ
ンズ4 の射出面には、多数の２次光源が形成され、この
射出面からの照明光は、コンデンサーレンズ５によって
集光され、視野絞り6 に達する。視野絞り6 は、円弧形
状の開口部を持ち、この視野絞り6 を通過した光束は、
円弧状の光束断面の光束となり、視野絞り6 とレチクル
R の回路パターン面とを共役にするリレーレンズ系7 の
瞳面（入射瞳）に光源像を形成する。そして、このリレ
ーレンズ系7 により、レチクルR 上に円弧状の照明領域
が形成される。なお、照明光学系の光源としては、エキ
シマ光(ArF:193nm,KrF:249nm等) を供給するレーザ光源
であっても良いことは言うまでもない。
により集光され、コリメータレンズ3 により平行光束と
なってフライアイレンズ4 に達する。このフライアイレ
ンズ4 の射出面には、多数の２次光源が形成され、この
射出面からの照明光は、コンデンサーレンズ５によって
集光され、視野絞り6 に達する。視野絞り6 は、円弧形
状の開口部を持ち、この視野絞り6 を通過した光束は、
円弧状の光束断面の光束となり、視野絞り6 とレチクル
R の回路パターン面とを共役にするリレーレンズ系7 の
瞳面（入射瞳）に光源像を形成する。そして、このリレ
ーレンズ系7 により、レチクルR 上に円弧状の照明領域
が形成される。なお、照明光学系の光源としては、エキ
シマ光(ArF:193nm,KrF:249nm等) を供給するレーザ光源
であっても良いことは言うまでもない。
【００１０】ここで、レチクルR はレチクルステージRS
に載置され、ウェハW はウェハステージWSに載置されて
おり、これらは、レチクルステージ駆動部RSD とウェハ
ステージ駆動部WSD とによって駆動される。そして、こ
れらのレチクルR とウェハWとの間には、投影光学系10
が設けられており、円弧状に照明されたレチクルR の回
路パターンは、ウェハW 上の円弧状の領域に像を形成す
る。
に載置され、ウェハW はウェハステージWSに載置されて
おり、これらは、レチクルステージ駆動部RSD とウェハ
ステージ駆動部WSD とによって駆動される。そして、こ
れらのレチクルR とウェハWとの間には、投影光学系10
が設けられており、円弧状に照明されたレチクルR の回
路パターンは、ウェハW 上の円弧状の領域に像を形成す
る。
【００１１】このとき、レチクルR とウェハW とは、夫
々レチクルステージ駆動部RSD 、及びウェハステージ駆
動部WSD によって駆動されることで、図中矢印方向（走
査方向）に移動する。これにより、ウェハW 上にはレチ
クルR の回路パターンが逐次転写される。さて、本実施
例による投影露光装置においては、レチクルR 上の複数
の回路パターンのうちの１つを照明するときに、他の回
路パターンを照明することがないように、レチクルR の
近傍にレチクルブラインド8 を設けている。
々レチクルステージ駆動部RSD 、及びウェハステージ駆
動部WSD によって駆動されることで、図中矢印方向（走
査方向）に移動する。これにより、ウェハW 上にはレチ
クルR の回路パターンが逐次転写される。さて、本実施
例による投影露光装置においては、レチクルR 上の複数
の回路パターンのうちの１つを照明するときに、他の回
路パターンを照明することがないように、レチクルR の
近傍にレチクルブラインド8 を設けている。
【００１２】このレチクルブラインド8 は、例えば図２
(a) に示すように、板状の４枚の遮光部材8A,8B,8C,8D
で構成され、この４枚の遮光部材8A,8B,8C,8D は、矩形
状の開口部を形成するように配置される。そして、レチ
クルブラインド8 は、ブラインド駆動部9 により駆動さ
れる。具体的には、図２(a) に示す如く、遮光部材8A,8
B,8C,8D は、内部にモータ等が内蔵されたブラインド駆
動部9A,9B,9C,9D によりそれぞれ図中矢印方向に移動す
る。
(a) に示すように、板状の４枚の遮光部材8A,8B,8C,8D
で構成され、この４枚の遮光部材8A,8B,8C,8D は、矩形
状の開口部を形成するように配置される。そして、レチ
クルブラインド8 は、ブラインド駆動部9 により駆動さ
れる。具体的には、図２(a) に示す如く、遮光部材8A,8
B,8C,8D は、内部にモータ等が内蔵されたブラインド駆
動部9A,9B,9C,9D によりそれぞれ図中矢印方向に移動す
る。
【００１３】なお、本実施例においては、レチクルブラ
インド8 は、４枚の遮光部材にて構成されているが、例
えば図２(b) に示すようにＬ字形状の遮光板8E,8F で構
成されても良く、この場合には、ブラインド駆動部9E,9
F によってレチクルブラインド8E,8F を駆動する。ま
た、原理的には、他の回路パターンに円弧状の照明領域
が照射されなければ良いので、例えばレチクルR 上に２
つの回路パターンが設けられている場合には、１枚の遮
光板でレチクルブラインドを構成することもできる。な
お、本実施例では、レチクルブラインド8 をレチクルR
の近傍に配置しているが、このレチクルブラインド8 を
レチクルR と実質的に共役な位置に配置することも可能
である。
インド8 は、４枚の遮光部材にて構成されているが、例
えば図２(b) に示すようにＬ字形状の遮光板8E,8F で構
成されても良く、この場合には、ブラインド駆動部9E,9
F によってレチクルブラインド8E,8F を駆動する。ま
た、原理的には、他の回路パターンに円弧状の照明領域
が照射されなければ良いので、例えばレチクルR 上に２
つの回路パターンが設けられている場合には、１枚の遮
光板でレチクルブラインドを構成することもできる。な
お、本実施例では、レチクルブラインド8 をレチクルR
の近傍に配置しているが、このレチクルブラインド8 を
レチクルR と実質的に共役な位置に配置することも可能
である。
【００１４】さて、図１に戻って、本実施例による投影
露光装置には、レチクルR 上の回路パターンの領域に関
する情報を入力する入力部30と、この入力部30の入力情
報を記憶するメモリー部21と、この入力情報に基づいて
ブラインド駆動部9 を駆動してレチクルブラインド8 が
形成する開口部を所定の形状にするための制御部20とが
設けられている。
露光装置には、レチクルR 上の回路パターンの領域に関
する情報を入力する入力部30と、この入力部30の入力情
報を記憶するメモリー部21と、この入力情報に基づいて
ブラインド駆動部9 を駆動してレチクルブラインド8 が
形成する開口部を所定の形状にするための制御部20とが
設けられている。
【００１５】以下、露光時における制御部20によるレチ
クルブラインド8 の制御について図１、図３、及び図４
(a) 〜(d) を参照して説明する。ここで、レチクルR 上
には、図３に示す如く２つの回路パターンＡ, Ｂが形成
されているとする。まず、図１に示される入力部30に回
路パターンＡ, Ｂの領域に関する情報を入力する。この
入力情報は、メモリー部21に記憶される。
クルブラインド8 の制御について図１、図３、及び図４
(a) 〜(d) を参照して説明する。ここで、レチクルR 上
には、図３に示す如く２つの回路パターンＡ, Ｂが形成
されているとする。まず、図１に示される入力部30に回
路パターンＡ, Ｂの領域に関する情報を入力する。この
入力情報は、メモリー部21に記憶される。
【００１６】そして、回路パターンＡを投影光学系10を
介してウェハW 上に転写する場合には、制御部20は、メ
モリー部21に記憶された入力情報のうち、回路パターン
Ａに関する情報を読み出し、この情報に基づいて、ブラ
インド駆動部9 を駆動する。このとき、レチクルブライ
ンド8 は、図４(a) に示すように回路パターンＡの部分
のみ照明光による照射領域40が形成されるように配置さ
れる。
介してウェハW 上に転写する場合には、制御部20は、メ
モリー部21に記憶された入力情報のうち、回路パターン
Ａに関する情報を読み出し、この情報に基づいて、ブラ
インド駆動部9 を駆動する。このとき、レチクルブライ
ンド8 は、図４(a) に示すように回路パターンＡの部分
のみ照明光による照射領域40が形成されるように配置さ
れる。
【００１７】次に、露光時においては、制御部20は、図
４(b) に示すように、レチクルステージ駆動部RSD を駆
動して回路パターンＡの領域外に照射領域40が位置する
ように、レチクルステージ駆動部RSD を駆動してレチク
ルR を移動させる。このとき、ウェハステージ駆動部WS
D を駆動してウェハW を移動させる。また、レチクルブ
ラインド8 の開口部の領域が常に回路パターンＡの領域
と重なるように、ブラインド駆動部9 を駆動してレチク
ルブラインド8 を移動させる。これにより、常に回路パ
ターンＡの領域のみに照明光が照射され、ウェハW 上に
は、回路パターンＡが転写される。
４(b) に示すように、レチクルステージ駆動部RSD を駆
動して回路パターンＡの領域外に照射領域40が位置する
ように、レチクルステージ駆動部RSD を駆動してレチク
ルR を移動させる。このとき、ウェハステージ駆動部WS
D を駆動してウェハW を移動させる。また、レチクルブ
ラインド8 の開口部の領域が常に回路パターンＡの領域
と重なるように、ブラインド駆動部9 を駆動してレチク
ルブラインド8 を移動させる。これにより、常に回路パ
ターンＡの領域のみに照明光が照射され、ウェハW 上に
は、回路パターンＡが転写される。
【００１８】さて、ウェハW 上に回路パターンＢを転写
する場合には、制御部20は、メモリー部21に記憶された
入力情報のうち回路パターンＢに関する情報を読み出
し、この情報に基づいて、図４(c) に示す如く矩形絞り
板4 の開口部と回路パターンＢとが重なるように、ブラ
インド駆動部9 を駆動してレチクルブラインド8 を移動
させる。これにより、回路パターンＢの領域にのみ照明
光が照射されることになる。
する場合には、制御部20は、メモリー部21に記憶された
入力情報のうち回路パターンＢに関する情報を読み出
し、この情報に基づいて、図４(c) に示す如く矩形絞り
板4 の開口部と回路パターンＢとが重なるように、ブラ
インド駆動部9 を駆動してレチクルブラインド8 を移動
させる。これにより、回路パターンＢの領域にのみ照明
光が照射されることになる。
【００１９】そして、露光時には、制御部20は、レチク
ルステージ駆動部RSD を駆動して図４(d) に示す如く回
路パターンＢの領域外に照射領域40が位置するようにレ
チクルR を移動させる。次に、制御部20は、レチクルス
テージ駆動部RSD とウェハステージ駆動部WSD とを駆動
させてレチクルR とウェハW とを相対的に移動させると
共に、ブラインド駆動部9 を駆動させレチクルブライン
ド8 の開口部の領域が常に回路パターンＢの領域と重な
るようにレチクルブラインド8 を移動させる。これによ
り、ウェハW 上には、回路パターンＢが走査露光され
る。
ルステージ駆動部RSD を駆動して図４(d) に示す如く回
路パターンＢの領域外に照射領域40が位置するようにレ
チクルR を移動させる。次に、制御部20は、レチクルス
テージ駆動部RSD とウェハステージ駆動部WSD とを駆動
させてレチクルR とウェハW とを相対的に移動させると
共に、ブラインド駆動部9 を駆動させレチクルブライン
ド8 の開口部の領域が常に回路パターンＢの領域と重な
るようにレチクルブラインド8 を移動させる。これによ
り、ウェハW 上には、回路パターンＢが走査露光され
る。
【００２０】このように、本発明による投影露光装置に
よれば、遮光手段としてのレチクルブラインド8 によっ
て露光すべき回路パターン以外の領域を遮光しているの
で、レチクルR に設けられる複数の回路パターン間の配
置に何ら制約がなくなるといった効果を有する。なお、
本実施例においては、レチクルR に設けられた回路パタ
ーンが２つである場合を示しているが、本実施例による
投影露光装置では、レチクルR に２つ以上の回路パター
ンが設けられている場合にも対応できる。
よれば、遮光手段としてのレチクルブラインド8 によっ
て露光すべき回路パターン以外の領域を遮光しているの
で、レチクルR に設けられる複数の回路パターン間の配
置に何ら制約がなくなるといった効果を有する。なお、
本実施例においては、レチクルR に設けられた回路パタ
ーンが２つである場合を示しているが、本実施例による
投影露光装置では、レチクルR に２つ以上の回路パター
ンが設けられている場合にも対応できる。
【００２１】また、本実施例においては、レチクルR の
移動に伴ってレチクルブラインド8が移動する構成とな
っているが、レチクルブラインド8 の開口部が常に露光
すべき回路パターンの領域と一致するように移動する構
成であれば良い。例えばレチクルR とウェハW とが固定
されており、レチクルR に対して円弧状の照射領域を移
動させつつ走査する場合においては、レチクルブライン
ド8 を移動させる必要がない。
移動に伴ってレチクルブラインド8が移動する構成とな
っているが、レチクルブラインド8 の開口部が常に露光
すべき回路パターンの領域と一致するように移動する構
成であれば良い。例えばレチクルR とウェハW とが固定
されており、レチクルR に対して円弧状の照射領域を移
動させつつ走査する場合においては、レチクルブライン
ド8 を移動させる必要がない。
【００２２】
【発明の効果】以上のように、第１物体（Ｒ）と第２物
体（Ｗ）とを同期移動させつつ、露光光の照射の制限を
正確に行うことができ、第１物体（Ｒ）上の回路パター
ンの配置の制約も少なくなる。
体（Ｗ）とを同期移動させつつ、露光光の照射の制限を
正確に行うことができ、第１物体（Ｒ）上の回路パター
ンの配置の制約も少なくなる。
【図１】本発明による実施例を模式的に示す図。
【図２】絞り手段としてのレチクルブラインドを示す平
面図。
面図。
【図３】レチクル上に配置された回路パターンの一例を
示す図。
示す図。
【図４】レチクルブラインドの動作の一例を示す図。
【図５】従来の投影露光装置を示す模式図。
【図６】従来の投影露光装置の問題点を説明する図。
6 … 視野絞り、 8 … レチクルブラインド、 9 … ブラインド駆動部、 20 … 制御部、 21 … メモリー部、 30 … 入力部、
Claims (20)
- 【請求項１】露光光に対して第１物体を移動するととも
に、該第１物体の移動に同期して第２物体を移動するこ
とにより、前記第２物体を走査露光する走査型露光装置
において、前記走査露光の方向に関して 前記露光光の照射領域を規
定する規定部材と、 前記第１物体と光学的にほぼ共役に配置され、前記第１
物体と前記第２物体の同期移動に関連して移動するとと
もに、前記走査露光の方向に関して前記露光光の照射を
制限する制限部材とを備えたことを特徴とする走査型露
光装置。 - 【請求項２】前記規定部材は、前記第１物体とオプティ
カルインテグレータとの間に配置されることを特徴とす
る請求項１に記載の装置。 - 【請求項３】前記規定部材は、前記露光光の照射領域を
スリット状に規定することを特徴とする請求項２に記載
の装置。 - 【請求項４】前記制限部材は、前記第１物体とオプティ
カルインテグレーターとの間に配置されることを特徴と
する請求項１から３のいずれか一項に記載の装置。 - 【請求項５】前記制限部材は、前記第１物体の同期移動
の方向に関して前記露光光の照射を制限する複数の可動
部材を有することを特徴とする請求項１から４のいずれ
か一項に記載の装置。 - 【請求項６】前記複数の可動部材は、前記第１物体の同
期移動の方向と交差する方向に関して前記露光光の照射
も制限することを特徴とする請求項５に記載の装置。 - 【請求項７】前記制限部材は、前記第１物体の同期移動
の方向に関して前記露光光の照射を制限する複数の可動
部材とは別に、前記第１物体の同期移動の方向と交差す
る方向に関して前記露光光の照射を制限する複数の可動
部材を有することを特徴とする請求項５に記載の装置。 - 【請求項８】前記複数の可動部材を各々独立に駆動する
駆動機構をさらに備えたことを特徴とする請求項５から
７のいずれか一項に記載の装置。 - 【請求項９】露光光に対して第１物体を所定の走査方向
に移動するのに同期して第２物体を所定の走査方向に移
動することにより、前記第２物体を走査露光する走査型
露光装置において、前記走査方向に関して前記露光光の照射領域を規定する
規定部材と、 前記走査方向に並設された複数のパターン領域のうち走
査露光に用いられないパターン領域に露光光が照射され
ないように、前記第１物体と前記第２物体の同期移動と
関連して移動するとともに、前記走査方向に関して前記
露光光の照射を制限する制限部材とを備えたことを特徴
とする走査型露光装置。 - 【請求項１０】前記制限部材は、前記第１物体の近傍に
配置されることを特徴とする請求項９に記載の装置。 - 【請求項１１】前記制限部材は、前記第１物体とほぼ共
役な位置に配置されることを特徴とする請求項９に記載
の装置。 - 【請求項１２】前記制限部材は、前記第１物体とオプテ
ィカルインテグレータとの間に配置されることを特徴と
する請求項９から１１のいずれか一項に記載の装置。 - 【請求項１３】前記規定部材は、前記第１物体とオプテ
ィカルインテグレータとの間に配置されることを特徴と
する請求項９から１２のいずれか一項に記載の装置。 - 【請求項１４】前記規定部材は、前記露光光の照射領域
をスリット状に規定することを特徴とする請求項９から
１３のいずれか一項に記載の装置。 - 【請求項１５】前記制限部材は、前記走査方向に関して
前記露光光の照射を制限する複数の可動部材を有するこ
とを特徴とする請求項９から１４のいずれか一項に記載
の装置。 - 【請求項１６】前記複数の可動部材は、前記走査方向と
交差する方向に関して前記露光光の照射も制限すること
を特徴とする請求項１５に記載の装置。 - 【請求項１７】前記制限部材は、前記走査方向に関して
前記露光光の照射を制限する複数の可動部材とは別に、
前記走査方向と交差する方向に関して前記露光光の照射
を制限する複数の可動部材を有することを特徴とする請
求項１５に記載の装置。 - 【請求項１８】前記複数の可動部材を各々独立に駆動す
る駆動機構をさらに備えたことを特徴とする請求項１５
から１７のいずれか一項に記載の装置。 - 【請求項１９】前記第１物体上のパターンに関する情報
を入力する入力手段をさらに備えたことを特徴とする請
求項９から１８のいずれか一項に記載の装置。 - 【請求項２０】請求項１から１９のいずれか一項に記載
の装置を用いる回路製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30218692A JP3211424B2 (ja) | 1992-11-12 | 1992-11-12 | 走査型露光装置と該装置を用いる回路製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30218692A JP3211424B2 (ja) | 1992-11-12 | 1992-11-12 | 走査型露光装置と該装置を用いる回路製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11224499A Division JP3259709B2 (ja) | 1999-04-20 | 1999-04-20 | 走査型露光装置と該装置を用いる回路製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06151273A JPH06151273A (ja) | 1994-05-31 |
| JP3211424B2 true JP3211424B2 (ja) | 2001-09-25 |
Family
ID=17905973
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30218692A Expired - Lifetime JP3211424B2 (ja) | 1992-11-12 | 1992-11-12 | 走査型露光装置と該装置を用いる回路製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3211424B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU2003242368A1 (en) * | 2002-05-23 | 2003-12-12 | Nikon Corporation | Scanning projection aligner and aligning method |
-
1992
- 1992-11-12 JP JP30218692A patent/JP3211424B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06151273A (ja) | 1994-05-31 |
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