JP3377053B2

JP3377053B2 - 露光装置

Info

Publication number: JP3377053B2
Application number: JP23460893A
Authority: JP
Inventors: 一明鈴木
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1993-09-21
Filing date: 1993-09-21
Publication date: 2003-02-17
Anticipated expiration: 2018-02-17
Also published as: JPH0794387A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば矩形又は円弧状
等の照明領域に対してマスク及び感光基板を同期して走
査することにより、マスク上のパターンを逐次感光基板
上に露光する所謂ステップ・アンド・スキャン方式の露
光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、半導体素子、液晶表示素子又
は薄膜磁気ヘッド等をフォトリソグラフィー技術を用い
て製造する際に、フォトマスク又はレチクル（以下、
「レチクル」と総称する）のパターンを投影光学系を介
して、フォトレジスト等が塗布されたウエハ又はガラス
プレート等の感光基板上に露光する投影露光装置が使用
されている。最近は、半導体素子の１個のチップパター
ン等が大型化する傾向にあり、投影露光装置において
は、レチクル上のより大きな面積のパターンを感光基板
上に露光する大面積化が求められている。

【０００３】斯かる大面積化に応えるために、感光基板
上の各ショット領域を初期位置にステッピングした後、
例えば矩形、円弧状又は６角形等の照明領域（これを
「スリット状の照明領域」という）に対してレチクル及
び感光基板を同期して走査することにより、レチクル上
のそのスリット状の照明領域より広い面積のパターンを
各ショット領域に逐次露光する所謂ステップ・アンド・
スキャン方式の投影露光装置が開発されている。従来
は、レチクル上にそのスリット状の照明領域を設定する
ために、レチクルと実質的に共役な位置又はレチクルの
近傍にそのスリット状の照明領域を決定する可動の遮光
手段が配置されていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の技術
に於いては、下記の様な２つの大きな不都合があった。
一般に、投影露光装置の照明光学系はレチクルを均一な
照度の照明光（露光光）で照明するように設計されてい
る。そのため、ステップ・アンド・スキャン方式の投影
露光装置においては、スリット状の照明領域に対してレ
チクル及び感光基板を同期して走査して露光が終了した
時点で、感光基板上にて良好な照度均一性を得るため
に、走査方向のスリット状の照明領域の幅が十分に一様
でなくてはならない。

【０００５】これについて図７〜図９を参照して説明す
る。先ず、そのスリット状の照明領域に対するレチクル
の走査方向をＸ方向、この走査方向に垂直な非走査方向
をＹ方向とすると、スリット状の照明領域の走査方向の
幅が一様でない場合には、図７（ａ）に示すように、ス
リット状の照明領域３０の走査方向の平行度が悪い場合
と、図８（ａ）に示すように、スリット状の照明領域３
１の走査方向のエッジ部に凹凸がある場合等がある。図
７（ａ）の場合に感光基板上で得られる非走査方向（Ｙ
方向）の露光量分布Ｅ（Ｙ）は、図７（ｂ）に示すよう
にＹ方向に次第に増加又は減少するようなものとなる。
一方、図８（ａ）の場合に感光基板上で得られる非走査
方向（Ｙ方向）の露光量分布Ｅ（Ｙ）は、図８（ｂ）に
示すようにＹ方向に不規則に変動するようなものとな
る。

【０００６】これに関して現在の投影露光装置は、デザ
インルールが０．５μｍ未満というサブ・ハーフミクロ
ン領域でも使用されている。このような領域で線幅コン
トロールに必要とされる露光量の均一性は±１％にも達
すると言われている。従って、ステップ・アンド・スキ
ャン方式の投影露光装置において十分な照度均一性を得
るためには、スリット状の照明領域を決定するための照
明領域設定手段に対して、走査方向のエッジ部の凹凸の
少なさが要求されると共に、走査方向の幅を変化させる
際に走査方向のエッジ部を十分平行に保ったまま可動制
御することが要求される。このため、スリット状の照明
領域を決定するための照明領域設定手段を、走査に同期
して可変制御するのでは、要求される精度を保ってその
照明領域設定手段の動作を制御することが困難である、
又は可変機構が非常に複雑になるという第１の不都合が
あった。

【０００７】また、図９に示す様に、レチクルＲ上に２
つの回路パターン領域３２Ａ及び３２Ｂが走査方向に幅
Ｌ１の遮光部を隔てて並べて形成されているものとし
て、このレチクルＲを走査方向の幅がＬ２のスリット状
の照明領域３３に対して走査する場合を考える。また、
スリット状の照明領域３３の幅Ｌ２は、回路パターン領
域３２Ａ，３２Ｂを隔てる遮光部の幅Ｌ１より大きいと
する。この場合、例えばレチクルＲの第１の回路パター
ン領域３２Ａのパターンのみをスキャン方式で感光基板
上に露光しようとすると、第２の回路パターン領域３２
Ｂのパターンの一部も感光基板上に転写されてしまうと
いう第２の不都合があった。これを回避するためには、
レチクルＲ上の遮光部の幅Ｌ１を十分大きくすれば良い
が、それでは転写用の回路パターン領域の面積が小さく
なってしまう。

【０００８】本発明は斯かる点に鑑み、スリット状の照
明領域に対してレチクル及び感光基板を同期して走査す
ることにより、レチクル上のパターンを逐次感光基板上
に露光可能なステップ・アンド・スキャン方式の露光装
置において、そのスリット状の照明領域の走査方向のエ
ッジ部を十分平行に保つことにより走査後十分な照度均
一性を保つと共に、レチクル上の複数のパターン領域中
の所望のパターン領域のパターンのみを感光基板上に転
写できるようにすることを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明による第１の露光
装置は、例えば図１及び図２に示す如く、転写用のパタ
ーンが形成されたマスク（Ｒ）上のスリット状の照明領
域（２１）を感光基板（Ｗ）側に照明する照明光学系
（１〜４，８）と、そのスリット状の照明領域に対して
マスク（Ｒ）と感光基板（Ｗ）とを同期して走査する相
対走査手段（１０，１２，１５）とを有し、この相対走
査手段によりそのスリット状の照明領域に対してマスク
（Ｒ）と感光基板（Ｗ）とを同期して走査することによ
り、マスク（Ｒ）上のパターンを逐次感光基板（Ｗ）上
に露光する露光装置において、マスク（Ｒ）のパターン
形成面の近傍の面、そのパターン形成面の共役面（Ｒ
Ｐ）及びこの共役面の近傍の面よりなる取り付け面群の
内の第１の取り付け面上に配置された、マスク（Ｒ）上
のスリット状の照明領域（２１）の走査方向の幅を設定
するための固定の視野絞り（５）を有する。

【００１０】更に本発明は、その取り付け面群の内のそ
の第１の取り付け面と異なる第２の取り付け面上に配置
された、マスク（Ｒ）上のスリット状の照明領域（２
１）内で感光基板（Ｗ）上に実際に露光すべき可変の露
光領域を設定するための可動の視野絞り（７）を備え、
この可動の視野絞りはその可変の露光領域の走査方向に
対してそれぞれ前側及び後側のエッジ部（７Ａｅ，７Ｂ
ｅ）を設定する第１の羽根（７Ａ）及び第２の羽根（７
Ｂ）を有し、マスク（Ｒ）のパターンの露光の開始時に
は可動の視野絞り（７）の第１の羽根（７Ａ）を駆動し
て、その可変の露光領域の走査方向に対して前側のエッ
ジ部（７Ａｅ）をスリット状の照明領域（２１）に対し
て走査方向に同期して移動させ、マスク（Ｒ）のパター
ンの露光の終了時には可動の視野絞り（７）の第２の羽
根（７Ｂ）を駆動して、その可変の露光領域の走査方向
に対して後側のエッジ部（７Ｂｅ）をスリット状の照明
領域（２１）に対して走査方向に同期して移動させるも
のである。

【００１１】また、本発明の第２の露光装置は、例えば
図１及び図２に示すように、照明光を発生する光源
（１）と、その照明光で転写用のパターンが形成された
マスク（Ｒ）上のスリット状の照明領域（２１）を照明
する照明光学系（２〜４，５）と、スリット状の照明領
域（２１）内のマスク（Ｒ）のパターン像を感光基板
（Ｗ）上に結像する投影光学系（１３）と、スリット状
の照明領域（２１）に対してマスク（Ｒ）と感光基板
（Ｗ）とを同期して走査する相対走査手段（１０，１
２，１５）とを有し、この相対走査手段によりスリット
状の照明領域（２１）に対してマスク（Ｒ）と感光基板
（Ｗ）とを同期して走査することにより、マスク（Ｒ）
上のパターン像を逐次感光基板（Ｗ）上に露光する露光
装置において、マスク（Ｒ）のパターン形成面の共役面
（ＲＰ）からその照明光学系の光軸方向にΔｚだけデフ
ォーカスされた第１の取り付け面上に配置された、マス
ク（Ｒ）上のスリット状の照明領域（２１）の走査方向
の幅を設定するための固定の視野絞り（５）を有する。

【００１２】更に本発明は、マスク（Ｒ）のパターン形
成面の共役面にほぼ一致した第２の取り付け面上に配置
された、マスク（Ｒ）上のスリット状の照明領域（２
１）内で感光基板（Ｗ）上に実際に露光すべき可変の露
光領域を設定するための可動の視野絞り（７）とを備
え、投影光学系（１３）の感光基板（Ｗ）側の開口数を
ＮＡ_W、その照明光学系からの照明光のコヒーレンス・
ファクターをσ、投影光学系（１３）のマスク（Ｒ）か
ら感光基板（Ｗ）側への投影倍率をＭ_RW、固定の視野絞
り（５）の配置面の近傍のマスク（Ｒ）のパターン形成
面と共役な面からそのパターン形成面に対する投影倍率
をＭ_BR、固定の視野絞り（５）の配置面上の１点から発
する光の感光基板（Ｗ）上でのぼけの半径の許容最小値
をΔＤ_minとしたとき、その第１の取り付け面のデフォ
ーカス量であるΔｚが、次の条件を満たすものである。

【００１３】

【数１】｜Δｚ｜≧ΔＤ_min/[Ｍ_BR・Ｍ_RW・tan[arcsin(Ｍ_BR・Ｍ_RW・ＮＡ_W・σ)]] この場合、その光源（１）はパルス光源であることが望
ましい。次に、本発明による第３の露光装置は、照明領
域に照明光を導くための照明光学系と、その照明領域に
対してマスクと基板とを同期して走査する走査手段とを
有し、該走査手段によりその照明光に対してそのマスク
とその基板とを同期して走査することにより、そのマス
クのパターンをその基板上に逐次露光する露光装置にお
いて、そのマスクのパターン形成面の近傍の面に配置さ
れ、その照明光の照明領域の走査方向の幅を規定する固
定の第１部材と、その第１部材と異なる面に配置され、
その基板上に所望のパターンのみを露光するためにその
マスクの走査と同期して移動可能な第２部材とを備え、
その固定の第１部材によって設定された照明領域のその
走査方向の照度分布のエッジ部にはスロープ部が形成さ
れるものである。また、本発明による第４の露光装置
は、スリット状の光束に対して、マスクと基板とを走査
することによってそのマスクのパターンをその基板上に
露光する露光装置において、そのスリット状の光束によ
る露光を制限するブラインド部材と、そのスリット状の
光束が照射される照明領域を規定するための固定の規定
部材と、そのブラインド部材をそのマスク及びその基板
の走査方向に合わせて走査移動させる駆動手段とを有
し、その駆動手段は、そのブラインド部材の走査移動を
開始するための加速を露光開始前に終了するものであ
る。また、本発明による第５の露光装置は、スリット状
の光束に対して、マスクと基板とを走査することによっ
てそのマスクのパターンをその基板上に露光する露光装
置において、そのスリット状の光束による露光を制限す
るブラインド部材と、そのスリット状の光束が照射され
る照明領域を規定するための固定の規定部材と、そのブ
ラインド部材をそのマスク及びその基板の走査方向に合
わせて走査移動させる駆動手段とを有し、その駆動手段
は、そのブラインド部材の走査移動を終了するための減
速を露光終了後に開始するものである。

【００１４】

【作用】斯かる本発明の第１の露光装置に於いては、ス
リット状の照明領域（２１）の走査方向の幅を決定する
視野絞り（５）を固定としたので、走査方向のエッジ部
が十分平行となるように精密に製造あるいは調整するこ
とが出来る。また、照明領域（２１）よりも形状精度が
粗くてよい可変の露光領域を決定するための第１の羽根
（７Ａ）及び第２の羽根（７Ｂ）を有する可動の視野絞
り（７）が設けられている。そこで、例えば図２に示す
ように、マスク（Ｒ）上の複数のパターン領域（２０
Ａ，２０Ｂ）中のパターン領域（２０Ａ）のパターンの
みを感光基板（Ｗ）上に転写する際には、露光の開始時
には第１の羽根（７Ａ）を駆動して、可変の露光領域の
走査方向に対して前側のエッジ部（７Ａｅ）を照明領域
（２１）に対して走査方向に移動させ、露光の終了時に
は第２の羽根（７Ｂ）を駆動して、可変の露光領域の後
側のエッジ部（７Ｂｅ）を照明領域（２１）に対して走
査方向に移動させる。

【００１５】これにより、その所望のパターン領域（２
０Ａ）のパターンのみが感光基板（Ｗ）上に露光され
る。この場合、第１の羽根（７Ａ）と第２の羽根（７
Ｂ）との間隔は最大でも照明領域（２１）と共役な領域
の幅を僅かに超える程度で良いと共に、羽根（７Ａ，７
Ｂ）の移動ストロークもその照明領域（２１）と共役な
領域の幅を僅かに超える程度でよいため、可動の視野絞
り（７）が小型である。更に、図２中のパターン領域
（２０Ａ，２０Ｂ）間の遮光部（２０Ｃ）の幅Ｌ１をス
リット状の照明領域（２１）の走査方向幅Ｌ２よりも小
さくすることが出来、転写用の回路パターン領域の面積
を広く取ることができる。また、固定の視野絞り（５）
はマスク（Ｒ）のパターン形成面の共役面からずらして
配置することができるため、実際の可変の露光領域を決
定するための可動の視野絞り（７）を例えばマスク
（Ｒ）のパターン形成面と実質的に共役な面に配置した
場合でもスペース的に両立できる。

【００１６】ところで、露光光源がエキシマレーザのよ
うにパルス発振型の場合には、本出願人が特願平５−２
１１２４６号で開示したように、また図６（ｂ）に示す
ように、スリット状の照明領域（２１）の走査方向の照
度分布Ｅ（Ｘ）のエッジ部に所定幅以上のスロープ部を
形成することが露光量制御上、及び照度均一性制御上必
要である。本発明による固定の視野絞り（５）はマスク
（Ｒ）のパターン形成面と共役な面（ＲＰ）から、（数
１）の条件を満たすΔｚだけずらして配置されるため、
投影像のぼけによりスリット状の照明領域（２１）の走
査方向の照度分布Ｅ（Ｘ）は台形状若しくは三角形状と
なり、自動的に走査方向の照度分布のエッジ部にスロー
プ部が形成される。

【００１７】

【実施例】以下、本発明による露光装置の一実施例につ
き図１〜図６を参照して説明する。本実施例はステップ
・アンド・スキャン方式の投影露光装置に本発明を適用
したものである。図１は、本実施例の投影露光装置を示
し、この図１において、レチクルＲはパルス光源１と、
ビーム整形光学系２〜リレーレンズ８よりなる照明光学
系とにより長方形のスリット状の照明領域２１で均一な
照度で照明され、スリット状の照明領域２１内のレチク
ルＲの回路パターン像が投影光学系１３を介してウエハ
Ｗ上に転写される。パルス光源１としては、ＡｒＦエキ
シマレーザ若しくはＫｒＦエキシマレーザ等のエキシマ
レーザ光源、金属蒸気レーザ光源、又はＹＡＧレーザの
高調波発生装置等が使用される。

【００１８】図１において、パルス光源１からのパルス
照明光は、シリンドリカルレンズやビームエクスパンダ
等よりなるビーム整形光学系２によりビーム径が拡大さ
れてフライアイレンズ３に達する。フライアイレンズ３
の射出面には多数の２次光源が形成され、これら２次光
源からのパルス照明光は、コンデンサーレンズ４によっ
て集光され、固定の視野絞り５を経て可動ブラインド７
に達する。図１では視野絞り５は可動ブラインド７より
もコンデンサーレンズ５側に配置されているが、その逆
のリレーレンズ系８側へ配置しても構わない。

【００１９】視野絞り５には、長方形のスリット状の開
口部が形成され、この視野絞り５を通過した光束は、長
方形のスリット状の断面を有する光束となり、リレーレ
ンズ系８に入射する。リレーレンズ系８は可動ブライン
ド７とレチクルＲのパターン形成面とを共役にするレン
ズ系であり、可動ブラインド７は後述の走査方向（Ｘ方
向）の幅を規定する２枚の羽根（遮光板）７Ａ，７Ｂ及
び走査方向に垂直な方向の幅を規定する２枚の羽根（不
図示）より構成されている。走査方向の幅を規定する羽
根７Ａ及び７Ｂはそれぞれ駆動部６Ａ及び６Ｂにより独
立に走査方向に移動できるように支持されている。本実
施例では、固定の視野絞り５により設定されるレチクル
Ｒ上のスリット状の照明領域２１内において、更に可動
ブラインド７により設定される所望の露光領域内にのみ
パルス照明光が照射される。リレーレンズ系８は両側テ
レセントリックな光学系であり、レチクルＲ上のスリッ
ト状の照明領域２１ではテレセントリック性が維持され
ている。

【００２０】本例のレチクルＲはレチクルステージ９上
に載置されており、そのレチクルＲ上のスリット状の照
明領域２１内で且つ可動ブラインド７により規定された
回路パターンの像が、投影光学系１３を介してウエハＷ
上に投影露光される。スリット状の照明領域２１と共役
なウエハＷ上の領域をスリット状の露光領域２２とす
る。また、投影光学系１３の光軸に垂直な２次元平面内
で、スリット状の照明領域２１に対するレチクルＲの走
査方向をＸ方向（又は−Ｘ方向）として、投影光学系１
３の光軸に平行な方向をＺ方向とする。

【００２１】この場合、レチクルステージ９はレチクル
ステージ駆動部１０に駆動されてレチクルＲを走査方向
（Ｘ方向又は−Ｘ方向）に走査し、可動ブラインド７の
駆動部６Ａ，６Ｂの動作は可動ブラインド制御部１１に
より制御される。レチクルステージ駆動部１０及び可動
ブラインド制御部１１の動作を制御するのが、装置全体
の動作を制御する主制御系１２である。一方、ウエハＷ
はウエハステージ１４に載置され、ウエハステージ１４
は、投影光学系１３の光軸に垂直な面内でウエハＷの位
置決めを行うと共にウエハＷを±Ｘ方向に走査するＸＹ
ステージ、及びＺ方向にウエハＷの位置決めを行うＺス
テージ等より構成されている。主制御系１２は、ウエハ
ステージ駆動部１５を介してウエハステージ１４の位置
決め動作及び走査動作を制御する。

【００２２】そして、レチクルＲ上のパターン像をスキ
ャン方式で投影光学系１３を介してウエハＷ上の各ショ
ット領域に露光する際には、視野絞り５により設定され
るスリット状の照明領域２１に対してＸ方向（又は−Ｘ
方向）に、レチクルステージ９を介してレチクルＲを走
査する。また、この走査と同期して、スリット状の照明
領域２１と共役なスリット状の露光領域２２に対して−
Ｘ方向（又はＸ方向）に、ウエハステージ１４を介して
ウエハＷを走査する。即ち、この−Ｘ方向（又はＸ方
向）がウエハＷの走査方向である。このようにレチクル
Ｒ及びウエハＷを同期して走査することにより、ウエハ
Ｗ上の各ショット領域にはレチクルＲの回路パターン像
が逐次転写される。

【００２３】さて、近年では、レチクル交換に要する時
間を短縮してスループットを向上させるために、レチク
ルＲ上に複数の回路パターン領域を設けることが行われ
ている。そして、そのレチクルＲ上の複数の回路パター
ン領域中から転写対象の回路パターン領域を選択するた
めに可動ブラインド７を使用する。そこで、本実施例の
投影露光装置には、レチクルＲ上の回路パターン領域に
関する情報を入力する入力部１６と、この入力部１６か
らの回路パターン情報を記憶するメモリー部１７とが設
けられ、主制御系１２は、そのメモリー部１７の回路パ
ターン情報に基づいて可動ブラインド制御部１１及び駆
動部６Ａ，６Ｂを介して、可動ブラインド７の羽根７
Ａ，７Ｂを所定のシーケンスで駆動する。

【００２４】さて、本実施例においてステップ・アンド
・スキャン方式で露光を行う際の動作の一例につき図１
及び図２を参照して説明する。この際に、レチクルＲ上
には図２（ａ）に示す如く、２つの回路パターン領域２
０Ａ及び２０Ｂが形成され、これら回路パターン領域２
０Ａ，２０Ｂの境界部には走査方向の幅がＬ１の遮光部
（遮光帯）２０Ｃが形成され、回路パターン領域２０
Ａ，２０Ｂの走査方向の外側にも同じく幅Ｌ１の遮光部
２０Ｄ，２０Ｅがそれぞれ形成されているとする。ま
た、本例のレチクルＲ上に形成されるスリット状の照明
領域２１は、図２（ａ）に示すように、走査方向の幅が
Ｌ２の細長い長方形であり、遮光部２０Ｃ，２０Ｄ，２
０Ｅの幅Ｌ１は照明領域２１の幅Ｌ２より狭く設定され
ている。

【００２５】このとき、先ず、オペレータは図１の入力
部１６を介してメモリー部１７に、レチクルＲ上の回路
パターン領域２０Ａ，２０Ｂに関する情報を入力する。
そして、第１の回路パターン領域２０Ａ内のパターン像
を投影光学系１３を介してウエハＷ上に転写する場合に
は、主制御系１２はメモリー部１７に記憶された回路パ
ターン情報中の第１の回路パターン領域２０Ａに関する
情報を読み出し、この情報に基づいて可動ブラインド制
御部１１を介して可動ブラインド７の羽根７Ａ，７Ｂの
走査方向の位置を制御する。これにより、図２（ｂ）〜
（ｆ）に示すように、レチクルＲ上の第２の回路パター
ン領域２０Ｂを常に他方の羽根７Ｂで覆い、第１の回路
パターン領域２０Ａのみにスリット状の照明領域２１の
照明光が照射されるようにする。但し、図２において、
レチクルＲ上には実際には可動ブラインド７の羽根７Ａ
及び７Ｂの像が投影されるが、それらの像をそれぞれ羽
根７Ａ及び７Ｂとみなしている。

【００２６】より詳しく説明すると、図１の主制御系１
２はレチクルステージ駆動部１０を介してレチクルステ
ージ９を駆動して、レチクルＲ上の回路パターン領域２
０Ａの左側にスリット状の照明領域２１を位置させた
後、図２（ｂ）に示すように、羽根７Ａ，７Ｂを閉じ
て、これらの羽根７Ａ，７Ｂの境界部を遮光部２０Ｄ上
に重なるように位置させる。次に、図１のレチクルステ
ージ９及び駆動部６Ａを駆動して、図２（ｃ）に示すよ
うにレチクルＲ及び羽根７Ａを同期して−Ｘ方向（走査
方向）に移動させる。なお、実際には図１より分かるよ
うに、羽根７ＡはＸ方向に移動しているが、図２では投
影像を扱っているため、羽根７Ａ，７Ｂの走査方向はレ
チクルＲの走査方向と同じである。また、照明領域２１
中で、左側の羽根７Ａの右エッジ部７Ａｅと右側の羽根
７Ｂの左エッジ部７Ｂｅとで挟まれた可変の露光領域内
のパターンがウエハＷに露光される。

【００２７】図２（ｄ）に示すように、羽根７Ａの右エ
ッジ部７Ａｅが照明領域２１の左端を超えた時点で、羽
根７Ａが減速を開始する。この動作と並行して、羽根７
Ｂの左エッジ部７Ｂｅに遮光部２０Ｃが重なった時点以
降、図２（ｅ）に示すように羽根７ＢはレチクルＲと同
期して−Ｘ方向に走査される。そして、図２（ｆ）に示
すようにパターン領域２０Ａが照明領域２１を通過して
露光が終了した時点で、レチクルＲ及び羽根７Ｂの減速
が開始され、最終的にレチクルＲが静止した時点では、
羽根７Ａ及び７Ｂは遮光部２０Ｃ上で閉じるような形で
静止する。

【００２８】一方、レチクルＲ及び可動ブラインド７の
動作に同期して、主制御系１２は、ウエハステージ駆動
部１５を介してウエハステージ１４を駆動してウエハＷ
を走査方向（Ｘ方向）に走査する。投影光学系１３のレ
チクルＲからウエハＷへの投影倍率をＭ_RWとすると、露
光中にはレチクルＲが−Ｘ方向（又はＸ方向）に速度Ｖ
_R0で走査されるのと同期して、ウエハＷはＸ方向（又は
−Ｘ方向）に速度Ｖ_W0（＝Ｍ_RW・Ｖ_R0）で走査される。
この場合、レチクルＲ上の第１の回路パターン領域２０
Ａのみにパルス照明光が照射されるので、ウエハＷ上に
は第１の回路パターン領域２０Ａのパターン像のみが転
写される。なお、レチクルＲを照明領域２１に対してＸ
方向に走査する場合には、可動ブラインド７の羽根７
Ａ，７Ｂは図２（ｆ）〜図２（ｂ）の順序で制御され
る。

【００２９】ここで、図３を参照して図２に示したレチ
クルＲ及び羽根７Ａ，７Ｂの動作速度の関係につき説明
する。レチクルＲの速度Ｖ_R、羽根７Ａの速度Ｖ_7A、及
び羽根７Ｂの速度Ｖ_7Bをそれぞれ図３（ａ）、（ｂ）及
び（ｃ）に示す。先ず、図２（ｂ）から（ｃ）の状態に
対応して、図３の期間Ｔ₁で示すようにレチクルＲ及び
羽根７Ａが同期して移動し、整定期間Ｔ_SEの後レチクル
Ｒの速度Ｖ_Rが安定している期間Ｔ₂に露光が行われ
る。その後、図２（ｅ）から（ｆ）の状態に対応して、
図３の期間Ｔ₃で示すようにレチクルＲ及び羽根７Ｂが
同期して停止するまで動作する。この期間Ｔ₃又はレチ
クルＲが停止している期間に図１のウエハＷがＹ方向に
ステッピングして、露光領域２２の直前に次に露光する
ショット領域が位置決めされる。

【００３０】その後、図２（ｆ）から（ｅ）の状態に対
応して、図３の期間Ｔ₄でレチクルＲ及び羽根７Ｂが同
期して移動し、整定期間Ｔ_SEの後レチクルＲの速度Ｖ_R
が安定している期間Ｔ₅に露光が行われる。その後、図
２（ｃ）から（ｂ）の状態に対応して、図３の期間Ｔ₆
で示すようにレチクルＲ及び羽根７Ａが同期して停止す
るまで動作する。以後はこの動作が繰り返される。ま
た、図３において、期間Ｔ₁及びＴ₆での羽根７Ｂの速
度Ｖ_7Bは、ほぼ図３（ｃ）の斜線部２４Ａ及び２４Ｂ内
に入る程度に粗く制御するだけでよく、期間Ｔ₃及びＴ
₄での羽根７Ａの速度Ｖ_7Aは、ほぼ図３（ｂ）の斜線部
２３Ａ及び２３Ｂ内に入る程度に粗く制御するだけでよ
い。従って、羽根７Ａ及び７Ｂの制御が容易である。

【００３１】また、ウエハＷ上に図２（ａ）のレチクル
Ｒ上の第２の回路パターン領域２０Ｂのパターンを転写
する場合には、主制御系１２はメモリー部１７に記憶さ
れた入力情報の内の第２の回路パターン領域２０Ｂに関
する情報を読み出し、この情報に基づいて可動ブライン
ド制御部１１を介して羽根７Ａ，７Ｂの走査方向の位置
を制御する。即ち、図２と同様の考え方で、露光開始時
に羽根７Ａを遮光部２０Ｃに、露光終了時に羽根７Ｂを
遮光部２０Ｅにそれぞれ追従させ、レチクルＲ上の第１
の回路パターン領域２０Ａを羽根７Ａで覆うようにし
て、第２の回路パターン領域２０Ｂのみにスリット状の
照明領域２１の照明光を照射する。これにより、回路パ
ターン領域２０Ｂのパターン像のみがウエハＷ上に転写
される。

【００３２】このように、本実施例によれば、可動ブラ
インド７を構成する羽根７Ａ，７Ｂによって露光すべき
回路パターン領域以外の領域を遮光しているので、レチ
クルＲに走査方向に狭い間隔で複数の回路パターン領域
を形成した場合でも、それらの内の所望の回路パターン
領域のパターンのみをウエハＷ上に露光できる利点があ
る。従って、レチクルＲ上に狭い間隔で高密度に複数の
回路パターン領域を形成することができる。更に、図２
から分かるように、羽根７Ａ及び７Ｂの間隔の最大値は
照明領域２１と共役な領域の幅を僅かに超える程度でよ
く、且つ羽根７Ａ及び７Ｂの移動ストロークもその照明
領域と共役な領域の幅を僅かに超える程度でよいため、
可動ブラインド７の形状が小型である。

【００３３】次に、図１及び図４を参照して、ステップ
・アンド・スキャン方式で露光を行う際の動作の他の例
につき説明する。この例でも、露光対象とするレチクル
Ｒは、図４（ａ）に示すように、図２（ａ）のレチクル
Ｒと同じく２つの回路パターン領域２０Ａ及び２０Ｂを
備えているが、可動ブラインド７の羽根７Ａ，７Ｂの制
御方法が図２の場合とは異なっている。この例では、露
光開始前に、図４（ｂ）〜（ｆ）に示すように、羽根７
Ａ及び７Ｂ（実際にはこれらの投影像）のエッジ部をそ
れぞれ遮光部２０Ｄ及び２０Ｃ内に設定し、次にレチク
ルステージ９を駆動してレチクルＲおよび羽根７Ａ，７
Ｂを走査方向である−Ｘ方向に同期して移動させる。ま
た、これに同期してウエハＷを走査方向（Ｘ方向）に移
動させる。

【００３４】この場合も、レチクルＲ上の第１の回路パ
ターン領域２０Ａのみにパルス照明光が照射されるの
で、ウエハＷ上には、第１の回路パターン領域２０Ａの
パターン像のみが転写される。なお、逆方向に走査する
場合は、可動ブラインド７の羽根７Ａ，７Ｂは図４
（ｆ）から（ｂ）の順序で走査される。図４に示した制
御方法は、羽根７Ａ，７Ｂの加減速制御が同一でよいと
いう利点があるが、羽根７Ａ及び７Ｂの間隔は回路パタ
ーン領域２０Ａの幅以上である必要があると共に、羽根
７Ａ及び７Ｂの移動ストローク長も長くなり、可動ブラ
インド７が大型化する。なお、図２及び図４に示した可
動ブラインド７の位置の制御精度は、遮光部２０Ｃ，２
０Ｄ，２０Ｅの幅Ｌ１以内であればよく、レチクルＲの
位置の制御精度に比べて粗くてよい。

【００３５】また、図２及び図４において、走査方向
（Ｘ方向）と直交する図２及び図４の紙面の上下方向で
あるＹ方向（非走査方向）の羽根（遮光板）は不図示で
あるが、この非走査方向の羽根によって形成される開口
部は走査露光中は固定でよいことは言うまでもない。ま
た、スリット状の照明領域２１の非走査方向の照度分布
の断面形状のエッジ部も走査方向と同じく、視野絞り５
がレチクルＲとの共役位置からずれていることによりス
ロープ部をもち、その断面形状は台形状となっている
（非走査方向の長さは十分あるので、三角形状になるま
ではぼけていないとする）。このため、レチクルＲ上の
非走査方向に遮光部で挟まれた露光領域は、スリット状
の照明領域２１内の非走査方向に照度分布がフラットな
部分に設定することが望ましい。なぜなら、走査方向の
エッジのスロープ部は走査露光により積分されてしまい
照度均一性に寄与しないが、非走査方向のエッジのスロ
ープ部はそのまま照度均一性に寄与してしまうからであ
る。

【００３６】この場合、レチクルＲ上での実質的なスリ
ット状の照明領域２１の形状は、走査方向は視野絞り５
により、非走査方向は可動ブラインド７によりそれぞれ
規定されることになる。なお、図１の可動ブラインド７
は、走査方向に２枚、非走査方向に２枚の合計４枚の羽
根を独立に駆動できるように構成されているが、可動ブ
ラインド７をＬ字型の２枚の羽根をＸ方向及びＹ方向に
独立に駆動できるように構成してもよい。更に、図２及
び図４においては、スリット状の照明領域２１の幅Ｌ２
が遮光部２０Ｃ，２０Ｄ，２０Ｅの幅Ｌ１より大きい場
合を想定したが、遮光部２０Ｃ，２０Ｄ，２０Ｅの幅Ｌ
１を幅Ｌ２にレチクルＲの加速または減速時の移動量を
加えたものより大きく取れる場合には、走査方向の可動
ブラインド７を省ける可能性がある。この場合は可動ブ
ラインド７は非走査方向用の羽根のみから構成される。

【００３７】次に、図５を参照して、可動ブラインド７
を走査方向に２枚の羽根７Ａ，７Ｂ、及び非走査方向に
２枚の羽根７Ｃ，７Ｄよりなる合計４枚の羽根から構成
した場合の動作の一例に説明する。この場合、レチクル
Ｒ上に非走査方向（Ｙ方向）に複数の回路パターン領域
が形成されていても、所望の回路パターン領域のみのパ
ターンをウエハＷ上に露光できる。即ち、レチクルＲ上
にＸ方向及びＹ方向に分離された形で例えば４個の回路
パターン領域２０Ｆ〜２０Ｉが形成されている場合、４
枚の羽根７Ａ〜７Ｄの位置を調整することにより、４個
の回路パターン領域２０Ｆ〜２０Ｉの内の任意の１つの
回路パターン領域にのみ照明光を照射することができ
る。そして、レチクルＲ及び羽根７Ａ〜７Ｄを図２又は
図４の方法により、スリット状の照明領域２１に対して
Ｘ方向に走査することにより、そのレチクルＲ上の選択
された回路パターン領域のパターンがウエハＷ上に露光
される。

【００３８】次に、本実施例では、図１において固定の
視野絞り５の配置面はレチクルＲのパターン形成面と共
役な面ＲＰから光軸方向（Ｚ方向）にずれている。この
ずれ量をΔｚとして、図６を参照してずれ量Δｚの条件
を求める。先ず図６（ａ）は視野絞り５からウエハＷま
での光学系を簡略化して示し、この図６（ａ）におい
て、可動ブラインド７からレチクルＲに対するリレーレ
ンズ８の投影倍率をＭ_BR、レチクルＲからウエハＷに対
する投影光学系１３の投影倍率をＭ_RWとする。また、投
影光学系１３のウエハＷ側の開口数をＮＡ_W、照明光学
系からの照明光の可干渉性の程度を示すコヒーレンス・
ファクターをσとする。

【００３９】このとき、レチクルＲ上及びウエハＷ上で
１点に集束する照明光の可動ブラインド７の配置面（共
役面ＲＰ）での光束角θは次のようになる。

【００４０】

【数２】θ＝arcsin（Ｍ_BR・Ｍ_RW・ＮＡ_W・σ）そして、その共役面ＲＰから光軸方向にΔｚだけ離れた
固定の視野絞り５の配置面での、照明光のぼけの半径ｒ
は次のようになる。

【００４１】

【数３】ｒ＝Δｚ・tanθ ＝Δｚ・tan{arcsin（Ｍ_BR・Ｍ_RW・ＮＡ_W・σ）} また、逆に固定の視野絞り５の配置面の１点から射出さ
れた照明光のウエハＷの露光面でのぼけの半径ΔＤは次
のように表される。

【００４２】

【数４】ΔＤ＝ｒ・Ｍ_BR・Ｍ_RW （数３）及び（数４）より、次式が成立する。

【００４３】

【数５】 Δｚ＝ΔＤ／[Ｍ_BR・Ｍ_RW・tan{arcsin(Ｍ_BR・Ｍ_RW・ＮＡ_W・σ)}] （数５）より、固定の視野絞り５の配置面上の１点から
発する照明光が形成するウエハＷの露光面でのぼけの半
径の許容最小値をΔＤ_minとするとき、固定の視野絞り
５の光軸方向へのずれ量（デフォーカス量）Δｚは次の
条件を満たすように設定すればよい。

【００４４】

【数６】｜Δｚ｜≧ΔＤ_min/[Ｍ_BR・Ｍ_RW・tan{arcsin(Ｍ_BR・Ｍ_RW・ＮＡ_W・σ)}] また、（数６）におけるぼけの半径の許容最小値ΔＤ
_minは、図１におけるパルス光源１のパルス発光毎の露
光エネルギーのばらつき等により決定される。このよう
に固定の視野絞り５の位置を、レチクルＲとの共役面Ｒ
Ｐから光軸方向にΔｚだけずらすことにより、レチクル
Ｒ上のスリット状の照明領域２１の走査方向（Ｘ方向）
の照度分布Ｅ（Ｘ）は、図６（ｂ）に示すように、走査
方向のエッジ部がそれぞれ幅ΔＬ₁及びΔＬ₂（図６
（ｂ）の例では、ΔＬ₂=ΔＬ₁)の台形状となる。この場
合、照度分布Ｅ（Ｘ）の値が最大値の１／２となる位置
の間隔、即ち半値幅Ｌ２がスリット状の照明領域２１の
走査方向の幅となる。

【００４５】なお、パルス光源１の代わりに水銀ランプ
のような連続光源を使用した場合には、ぼけの半径の許
容最小値ΔＤ_minは極めて小さな値となり、ずれ量Δｚ
はほぼ０でもよくなる。以上、本実施例ではスリット状
の照明領域２１の形状、即ち視野絞り５の開口の形状は
長方形を例に説明して来たが、本形状は長方形に限られ
るわけではなく、例えば特公昭４６−３４０５７号公報
に開示されているような六角形の照明領域、特公昭５３
−２５７９０号公報に開示されているような菱形の照明
領域、又は同じく本出願人が特願平４−２４２４８６
号、特願平４−３１６７１７号で開示しているような円
弧状の照明領域でも良いことは言うまでもない。

【００４６】また、図１では露光光源としてパルス光源
１が使用されているが、水銀ランプのような連続光源を
露光光源として使用した場合にも本発明はそのまま適用
される。更に、上述実施例における投影光学系１３は、
屈折系でも、反射系でも、反射屈折系でも良いことも言
うまでもない。更に、本発明は投影露光装置のみに限定
されず、コンタクト方式やプロキシミティ方式の露光装
置にも適用できることも言うまでもない。このように本
発明は上述実施例に限定されず、本発明の要旨を逸脱し
ない範囲で種々の構成を取り得る。以上のように上述の
露光装置によれば、スリット状の照明領域の走査方向の
幅を決定する視野絞りを固定としているので、その照明
領域の走査方向のエッジ部が十分平行になるよう精密に
製造あるいは調整することができ、走査露光後に十分な
照度均一性が保証される。また、可動の視野絞りの走査
方向の２枚の羽根が、独立に駆動できるため、可動の視
野絞りの移動ストロークを短くして且つ可動の視野絞り
を小型化した上で、マスク上の異なる回路パターン間の
遮光部の幅が狭い場合でも所望の回路パターンのみを露
光できる。従って、マスクのパターン形成面を有効に活
用できる。また、固定の視野絞りを使用しているので、
スリット状の照明領域の走査方向のエッジ部が十分平行
になるよう精密に製造あるいは調整することができると
共に、可動の視野絞りにより、マスク上の異なる回路パ
ターン間の遮光部の幅が狭い場合でも所望の回路パター
ンのみを露光できる。更に、可動の視野絞りマスクのパ
ターン形成面のほぼ共役面に配置し、固定の視野絞りを
その共役面からΔｚだけずれた面に配置しているため、
スリット状の照明領域の走査方向の照度分布のエッジ部
に所定のスロープを持たせることができる。従って、特
に露光光源がエキシマレーザ等のパルス光源の場合、照
度均一性を維持するために好都合である。

【００４７】

【発明の効果】本発明によれば、走査露光後に十分な照
度均一性が保証される。また、マスク上の異なる回路パ
ターン間の遮光部の幅が狭い場合でも所望の回路パター
ンのみを露光できる。従って、マスクのパターン形成面
を有効に活用できる。

【００４８】また、照明領域の走査方向の照度分布のエ
ッジ部に所定のスロープを持たせることによって、特に
露光光源がエキシマレーザ等のパルス光源の場合、照度
均一性を維持するために好都合となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の投影露光装置を示す構成図
である。

【図２】レチクルＲ上の回路パターン領域の一例、及び
実施例での走査露光動作の一例の説明に供する図であ
る。

【図３】図２の走査露光動作に対応するレチクルＲと可
動ブラインド７の羽根７Ａ，７Ｂとの間の移動速度の関
係を示す図である。

【図４】レチクルＲ上の回路パターン領域の一例、及び
実施例での走査露光動作の他の例の説明に供する図であ
る。

【図５】可動ブラインド７の羽根が４枚の場合を示す平
面図である。

【図６】（ａ）は固定の視野絞り５からウエハＷまでの
光学系の模式図、（ｂ）はレチクルＲ上のスリット状の
照明領域での走査方向の照度分布Ｅ（Ｘ）を示す図であ
る。

【図７】スリット状の照明領域の走査方向の形状精度が
走査後の照度均一性に影響を与える場合の一例を示す説
明図である。

【図８】スリット状の照明領域の走査方向の形状精度が
走査後の照度均一性に影響を与える場合の他の例を示す
説明図である。

【図９】レチクル上に配置された複数の回路パターン領
域とスリット状の照明領域との関係を示す図である。

【符号の説明】

１パルス光源３フライアイレンズ５固定の視野絞り７可動ブラインド７Ａ，７Ｂ羽根８リレーレンズＲレチクルＷウエハ９レチクルステージ１０レチクルステージ駆動部１１可動ブラインド制御部１２主制御系１３投影光学系１４ウエハステージ１５ウエハステージ駆動部１６入力部１７メモリー部２１スリット状の照明領域

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】転写用のパターンが形成されたマスク上
のスリット状の照明領域を感光基板側に照明する照明光
学系と、前記スリット状の照明領域に対して前記マスク
と前記感光基板とを同期して走査する相対走査手段とを
有し、該相対走査手段により前記スリット状の照明領域
に対して前記マスクと前記感光基板とを同期して走査す
ることにより、前記マスク上のパターンを逐次前記感光
基板上に露光する露光装置において、前記マスクのパターン形成面の近傍の面、前記パターン
形成面の共役面及び該共役面の近傍の面よりなる取り付
け面群の内の第１の取り付け面上に配置された、前記マ
スク上の前記スリット状の照明領域の走査方向の幅を設
定するための固定の視野絞りと、前記取り付け面群の内の前記第１の取り付け面と異なる
第２の取り付け面上に配置された、前記マスク上の前記
スリット状の照明領域内で前記感光基板上に実際に露光
すべき可変の露光領域を設定するための可動の視野絞り
と、を備え、該可動の視野絞りは前記可変の露光領域の走査方向に対
してそれぞれ前側及び後側のエッジ部を設定する第１の
羽根及び第２の羽根を有し、前記マスクのパターンの露光の開始時には前記可動の視
野絞りの前記第１の羽根を駆動して、前記可変の露光領
域の走査方向に対して前側のエッジ部を前記スリット状
の照明領域に対して走査方向に同期して移動させ、前記
マスクのパターンの露光の終了時には前記可動の視野絞
りの前記第２の羽根を駆動して、前記可変の露光領域の
走査方向に対して後側のエッジ部を前記スリット状の照
明領域に対して走査方向に同期して移動させることを特
徴とする露光装置。
【請求項２】前記第１の羽根と前記第２の羽根の加減
速制御は同一であることを特徴とする請求項１に記載の
装置。
【請求項３】前記第１の羽根の前記走査方向への移動
を開始するための加速は露光開始前に終了することを特
徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】前記第２の羽根の前記走査方向への移動
を終了するための減速を露光終了後に開始することを特
徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項５】照明光を発生する光源と、前記照明光で
転写用のパターンが形成されたマスク上のスリット状の
照明領域を照明する照明光学系と、前記スリット状の照
明領域内の前記マスクのパターン像を感光基板上に結像
する投影光学系と、前記スリット状の照明領域に対して
前記マスクと前記感光基板とを同期して走査する相対走
査手段とを有し、該相対走査手段により前記スリット状
の照明領域に対して前記マスクと前記感光基板とを同期
して走査することにより、前記マスク上のパターン像を
逐次前記感光基板上に露光する露光装置において、前記マスクのパターン形成面の共役面から前記照明光学
系の光軸方向にΔｚだけデフォーカスされた第１の取り
付け面上に配置された、前記マスク上の前記スリット状
の照明領域の走査方向の幅を設定するための固定の視野
絞りと、前記マスクのパターン形成面の共役面にほぼ一致した第
２の取り付け面上に配置された、前記マスク上の前記ス
リット状の照明領域内で前記感光基板上に実際に露光す
べき可変の露光領域を設定するための可動の視野絞り
と、を備え、前記投影光学系の前記感光基板側の開口数をＮＡ_W、前
記照明光学系からの照明光のコヒーレンス・ファクター
をσ、前記投影光学系の前記マスクから前記感光基板側
への投影倍率をＭ_RW、前記固定の視野絞りの配置面の近
傍の前記マスクのパターン形成面と共役な面から前記パ
ターン形成面に対する投影倍率をＭ_BR、前記固定の視野
絞りの配置面上の１点から発する光の前記感光基板上で
のぼけの半径の許容最小値をΔＤ_minとしたとき、前記
第１の取り付け面のデフォーカス量であるΔｚが、｜Δｚ｜≧ΔＤ_min/[Ｍ_BR・Ｍ_RW・tan[arcsin(Ｍ_BR・Ｍ_RW・ＮＡ_W・σ)]] の条件を満たすことを特徴とする露光装置。
【請求項６】前記光源はパルス光源であることを特徴
とする請求項５に記載の装置。
【請求項７】照明領域に照明光を導くための照明光学
系と、前記照明領域に対してマスクと基板とを同期して
走査する走査手段とを有し、該走査手段により前記照明
光に対して前記マスクと前記基板とを同期して走査する
ことにより、前記マスクのパターンを前記基板上に逐次
露光する露光装置において、前記マスクのパターン形成面の近傍の面に配置され、前
記照明光の照明領域の走査方向の幅を規定する固定の第
１部材と、前記第１部材と異なる面に配置され、前記基板上に所望
のパターンのみを露光するために前記マスクの走査と同
期して移動可能な第２部材とを備え、前記固定の第１部材によって設定された照明領域の前記
走査方向の照度分布のエッジ部にはスロープ部が形成さ
れることを特徴とする露光装置。
【請求項８】前記照明領域を照明する照明光を発生す
る光源はパルス光源であることを特徴とする請求項７に
記載の装置。
【請求項９】前記第２部材を前記マスクの走査に同期
して移動するための駆動手段をさらに有し、該駆動手段は、前記第２部材の移動を開始するための加
速を露光開始前に終了することを特徴とする請求項７又
は８に記載の装置。
【請求項１０】前記第２部材を前記マスクの走査に同
期して移動するための駆動手段をさらに有し、該駆動手段は、前記第２部材の移動を終了するための減
速を露光終了後に開始することを特徴とする請求項７又
は８に記載の装置。
【請求項１１】前記第２部材は前記マスクの走査に同
期して移動する方向に垂直な第１エッジと第２エッジと
を有し、前記露光中に前記第１エッジと前記第２エッジ
の間隔を変化させることを特徴とする請求項７〜１０の
何れか一項に記載の装置。
【請求項１２】前記第２部材は前記マスクの走査に同
期して移動する方向に垂直な第１エッジと第２エッジと
を有し、前記露光中に前記第１エッジと前記第２エッジ
の間隔を変えないことを特徴とする請求項７〜１０の何
れか一項に記載の装置。
【請求項１３】スリット状の光束に対して、マスクと
基板とを走査することによって前記マスクのパターンを
前記基板上に露光する露光装置において、前記スリット状の光束による露光を制限するブラインド
部材と、前記スリット状の光束が照射される照明領域を規定する
ための固定の規定部材と、前記ブラインド部材を前記マスク及び前記基板の走査方
向に合わせて走査移動させる駆動手段とを有し、前記駆動手段は、前記ブラインド部材の走査移動を開始
するための加速を露光開始前に終了することを特徴とす
る露光装置。
【請求項１４】スリット状の光束に対して、マスクと
基板とを走査することによって前記マスクのパターンを
前記基板上に露光する露光装置において、前記スリット状の光束による露光を制限するブラインド
部材と、前記スリット状の光束が照射される照明領域を規定する
ための固定の規定部材と、前記ブラインド部材を前記マスク及び前記基板の走査方
向に合わせて走査移動させる駆動手段とを有し、前記駆動手段は、前記ブラインド部材の走査移動を終了
するための減速を露光終了後に開始することを特徴とす
る露光装置。
【請求項１５】前記固定の規定部材は、前記マスクの
パターン形成面の近傍の面に配置されることを特徴とす
る請求項１３又は１４に記載の装置。
【請求項１６】前記固定の規定部材は、前記マスクの
パターン形成面の共役面近傍に配置されることを特徴と
する請求項１３又は１４に記載の装置。
【請求項１７】前記固定の規定部材によって規定され
た照明領域の前記走査方向の照度分布のエッジ部にはス
ロープ部が形成されることを特徴とする請求項１３〜１
６の何れか一項に記載の装置。
【請求項１８】前記ブラインド部材は、前記マスクの
パターン形成面の共役面に配置されることを特徴とする
請求項１３〜１７の何れか一項に記載の装置。
【請求項１９】前記ブラインド部材は前記駆動手段に
よる走査移動の方向に垂直な第１エッジと第２エッジと
を有し、前記駆動手段は前記ブラインド部材の移動中に
前記第１エッジと前記第２エッジの間隔を変化させるこ
とを特徴とする請求項１３〜１８の何れか一項に記載の
装置。
【請求項２０】前記ブラインド部材は前記駆動手段に
よる走査移動の方向に垂直な第１エッジと第２エッジと
を有し、前記駆動手段は前記ブラインド部材の移動中に
前記第１エッジと前記第２エッジの間隔を変えないこと
を特徴とする請求項１３〜１８の何れか一項に記載の装
置。