JP3211033B2 - アルキルチオメチルフェノールのスルホキシド - Google Patents

アルキルチオメチルフェノールのスルホキシド

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JP3211033B2
JP3211033B2 JP27176591A JP27176591A JP3211033B2 JP 3211033 B2 JP3211033 B2 JP 3211033B2 JP 27176591 A JP27176591 A JP 27176591A JP 27176591 A JP27176591 A JP 27176591A JP 3211033 B2 JP3211033 B2 JP 3211033B2
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    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/36—Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C317/00—Sulfones; Sulfoxides
    • C07C317/16—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
    • C07C317/18—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton with sulfone or sulfoxide groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • C09K15/04—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds
    • C09K15/12—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds containing sulfur and oxygen
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、アルキルチオメチルフ
ェノールのスルホキシド、これらスルホキシドと非酸化
化合物との混合物、及びこれら化合物又は混合物を含む
有機材料の組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】アルキルチオメチル化フェノール及びそ
の酸化生成物は有機材料中に安定剤として用いられてい
る。例えば米国特許明細書第４，７５９，８６２号及び
米国特許明細書第４、８５７，５７２号参照。（３，５
−ジ置換−４−ヒドロキシベンジル）スルホキシドは、
特公昭４３−１６７４１号公報にポリオレフィン中の安
定剤として開示されている。このタイプの化合物は、特
開昭７４−２７０９２号公報でポリオレフィン組成物中
にも使用されている。特公昭４３−３７７３号公報には
硫黄原子上で二酸化された同族化合物が記述されてい
る。西独特許出願公開第９１７，３７０号明細書には有
機材料のための抗酸化剤としてビス（３，５−ジ置換−
４−ヒドロキシベンジル）スルホキシドが開示されてい
る。更に西独特許出願公開第１，３９６，４６９号明細
書には硫黄原子上で二酸化された他のアルキルチオアル
キレンフェノールが開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】有機ポリマーのための
抗酸化剤の分野において、活性化合物への要求がまだ存
在する。特にエラストマー及び潤滑剤の分野で、新たな
適用技術及び新たな組成物は基材の安定化に関して調整
を必要としている。今になって或る種のアルキルチオメ
チルフェノールのスルホキシドが、酸化、熱及び光−誘
導劣化に感受性である有機材料を安定化させるのに高度
に適していることが見出された。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は次式Ｉ
【化４】 〔式中、Ｒ1 は水素原子、炭素原子数１ないし２０のア
ルキル基、炭素原子数２ないし１８のアルケニル基、炭
素原子数５ないし７のシクロアルキル基、炭素原子数５
ないし７のシクロアルケニル基、フェニル基又は炭素原
子数７ないし９のフェニルアルキル基を表わし、Ｒ2 は
水素原子、炭素原子数１ないし２０のアルキル基、炭素
原子数２ないし１８のアルケニル基、炭素原子数５ない
し７のシクロアルキル基、炭素原子数５ないし７のシク
ロアルケニル基、フェニル基、炭素原子数７ないし９の
フェニルアルキル基又は基−ＣＨ2 −ＳＯ−Ｒ5 を表わ
し、Ｒ5 は−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＳＯ−基で中断されて
いてもよい炭素原子数８ないし２０のアルキル基、モノ
−又はジヒドロキシ置換炭素原子数２ないし１２のアル
キル基、フェニル基、ベンジル基、−（ＣＨ2 ）n ＣＯ
ＯＲ6 又は−ＣＨ（ＣＨ3 ）ＣＯＯＲ6 を表わし、Ｒ6
は炭素原子数１ないし２０のアルキル基を表わし、ｎは
１又は２を表わし、Ｒ3 は水素原子又は基−ＣＨ2 −Ｓ
Ｏ−Ｒ5 （Ｒ5 は上記の意味を表わす）を表わし、Ｒ4
はＲ2 と同じ意味を表わすが但し、基Ｒ2 、Ｒ3 又はＲ
4 の一つが基−ＣＨ2 −ＳＯ−Ｒ5 を表わし、もしＲ4
が基−ＣＨ2 −ＳＯ−Ｒ5 で且つＲ1 及びＲ2 が同時に
第三ブチル基又は第三アミル基を表わす場合にはＲ5 は
炭素原子数８ないし１４のアルキル基を表わさない〕で
表わされる化合物に関する。
【０００５】炭素原子数１ないし２０のアルキル基とし
てのＲ1 、Ｒ2 、Ｒ4 及びＲ6 は線状又は枝別れ状の、
例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロ
ピル基、ｎ−ブチル基、第三ブチル基、ｎ−ペンチル
基、イソペンチル基、ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキ
シル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｉ−オクチ
ル基、第三オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラ
デシル基、オクタデシル基又はエイコシル基であり得
る。アルキル基としてのＲ1 及びＲ2 は炭素原子数１な
いし１８のアルキル基であるのが好ましく、特には炭素
原子数１ないし１２のアルキル基、とりわけ炭素原子数
１ないし９のアルキルであるのが好ましい。アルキル基
としてのＲ4 は炭素原子数１ないし１４のアルキル基で
あるのが好ましい。アルキル基としてのＲ6 は炭素原子
数８ないし１８のアルキル基、特には炭素原子数１３の
アルキル基であるのが好ましい。
【０００６】炭素原子数８ないし２０のアルキル基とし
てのＲ5 は線状又は枝別れ状であってよく、相当する数
の炭素原子を持つという前提でＲ1 、Ｒ2 、Ｒ4 及びＲ
6 について述べたのと同じ意味を有することができる。
好ましいアルキル基Ｒ5 は炭素原子数８ないし１２のア
ルキル基である。炭素原子数２ないし１８のアルケニル
基としてのＲ1 、Ｒ2 及びＲ4 は例えばビニル基、アリ
ル基、メタリル基、１，１−ジメチルアリル基、ブテニ
ル基、ヘキセニル基、オクテニル基、ウンデセニル基、
ドデセニル基又はオクタデセニル基であってよい。モノ
−又はジヒドロキシ置換炭素原子数２ないし１２のアル
キル基としてのＲ5 は、線状又は枝別れ状の置換アルキ
ル基であってよく、例えば２−ヒドロキシエチル基、
１，２−ジヒドロキシエチル基、ヒドロキシ−又はジヒ
ドロキシプロピル基、−ブチル基、−ペンチル基、−ヘ
キシル基、−ヘプチル基、−オクチル基、−ノニル基、
−デシル基、−ウンデシル基、−ドデシル基、特には２
−ヒドロキシエチル基又は２，３−ジヒドロキシプロピ
ル基であってよい。
【０００７】炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基
としてのＲ1 、Ｒ2 及びＲ4 は、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基、及びシクロヘプチル基、特にはシクロ
ペンチル基又はシクロヘキシル基であってよい。炭素原
子数５ないし７のシクロアルケニル基としてのＲ1 、Ｒ
2 及びＲ4 の例は、シクロペンテニル基、シクロヘキセ
ニル基及びシクロヘプテニル基、特にはシクロペンテニ
ル基又はシクロへキセニル基である。炭素原子数７ない
し９のフェニルアルキル基としてのＲ1 、Ｒ2 及びＲ4
の例は、ベンジル基、フェニルエチル基、α−メチルベ
ンジル基、３−フェニルプロピル基、２−メチルフェニ
ルエチル基、１−メチルフェニルエチル基又はα，α−
ジメチルベンジル基、特にはベンジル基である。
【０００８】Ｒ1 が水素原子、炭素原子数１ないし１８
のアルキル基、炭素原子数５もしくは６のシクロアルキ
ル基又は炭素原子数５ないし７のシクロアルケニル基を
表わし、Ｒ2 がＲ1 と同じ意味を有するか又は−ＣＨ2
−ＳＯ−Ｒ5 を表わし、Ｒ3 が水素原子を表わし、Ｒ4
が水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基又は
−ＣＨ2 −ＳＯ−Ｒ5 を表わし、Ｒ5 が炭素原子数８な
いし２０のアルキル基、フェニル基、ベンジル基又は−
ＣＨ2 ＣＯＯＲ6 を表わし、そしてＲ6 が炭素原子数１
ないし２０のアルキル基を表わす式Ｉの化合物は特に興
味深い。
【０００９】更に好ましいのは、Ｒ1 が水素原子、炭素
原子数１ないし１８のアルキル基、特に炭素原子数１な
いし１２のアルキル基、シクロペンテニル基又はシクロ
ヘキセニル基を表わし、Ｒ2 が水素原子、炭素原子数１
ないし１８のアルキル基、特に炭素原子数１ないし１２
のアルキル基、とりわけ炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基又は−
ＣＨ2 −ＳＯ−Ｒ5 を表わし、Ｒ3 が水素原子を表わ
し、Ｒ4 が水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキ
ル基、特に炭素原子数１ないし１２のアルキル基又は−
ＣＨ2 −ＳＯ−Ｒ5 を表わし、Ｒ5 が炭素原子数８ない
し２０のアルキル基、フェニル基、ベンジル基又は−Ｃ
Ｈ2 ＣＯＯＲ6 を表わし、そしてＲ6 が炭素原子数６な
いし２０のアルキル基を表わす式Ｉの化合物である。
【００１０】式Ｉで表わされる他の好ましい化合物は、
Ｒ1 が炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表わし、
Ｒ2 が炭素原子数１ないし１２のアルキル基、シクロペ
ンテニル基又は−ＣＨ2 −ＳＯ−Ｒ5 を表わし、Ｒ3 が
水素原子を表わし、Ｒ4 が炭素原子数１ないし１２のア
ルキル基又は−ＣＨ2 −ＳＯ−Ｒ5 を表わし、Ｒ5 が炭
素原子数８ないし２０のアルキル基、フェニル基、ベン
ジル基、−ＣＨ（ＣＨ3 ）ＣＯＯＲ6 、−ＣＨ2 ＣＨ2
ＯＨ又は−ＣＨ2 ＣＯＯＲ6 を表わし、そしてＲ6 が炭
素原子数６ないし２０のアルキル基を表わす化合物であ
る。
【００１１】好ましいのは、Ｒ1 が水素原子、炭素原子
数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数５もしくは６
のシクロアルキル基又は炭素原子数５もしくは６のシク
ロアルケニル基を表わし、Ｒ2 が−ＣＨ2 −ＳＯ−Ｒ5
を表わし、Ｒ3 が水素原子を表わし、Ｒ4 が炭素原子数
１ないし１８のアルキル基、炭素原子数５もしくは６の
シクロアルキル基又は炭素原子数５もしくは６のシクロ
アルケニル基を表わし、そしてＲ5 が炭素原子数８ない
し２０のアルキル基、フェニル基、ベンジル基又は−Ｃ
Ｈ2 ＣＯＯＲ6 を表わす式Ｉの化合物である。
【００１２】更に好ましいのは、Ｒ1 が水素原子、炭素
原子数１ないし１２のアルキル基又は炭素原子数５もし
くは６のシクロアルキル基を表わし、そしてＲ5 が炭素
原子数８ないし１８のアルキル基、フェニル基、ベンジ
ル基又は−ＣＨ2 ＣＯＯＲ6 を表わす式Ｉの化合物であ
る。Ｒ1 が炭素原子数１ないし９のアルキル基を表わ
し、Ｒ5が炭素原子数８ないし１２のアルキル基、フェ
ニル基又はベンジル基を表わす式Ｉの化合物、特にＲ5
が炭素原子数８ないし１２のアルキル基を表わす化合物
もまた特に興味深い。
【００１３】更に、Ｒ1 及びＲ2 が互いに独立して炭素
原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数５もしく
は６のシクロアルキル基又は炭素原子数５もしくは６の
シクロアルケニル基を表わし、Ｒ3 が水素原子を表わ
し、Ｒ4 が基−ＣＨ2 −ＳＯ−Ｒ5 を表わし、Ｒ5 が炭
素原子数８ないし１８のアルキル基、フェニル基、ベン
ジル基、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＨ又は−（ＣＨ2）n ＣＯＯ
Ｒ6 を表わす式Ｉの化合物が好ましい。
【００１４】Ｒ4 が基−ＣＨ2 −ＳＯ−Ｒ5 を表わし、
Ｒ5 が−（ＣＨ2 ）n ＣＯＯＲ6を表わす式Ｉの化合物
もまた特に興味深い。Ｒ1 及びＲ2 が互いに独立して炭
素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数５もし
くは６のシクロアルキル基又は炭素原子数５もしくは６
のシクロアルケニル基を表わし、Ｒ5 が炭素原子数８な
いし１８のアルキル基、フェニル基、ベンジル基又は−
（ＣＨ2 ）n ＣＯＯＲ6 を表わす式Ｉの化合物もまた好
ましい。
【００１５】特に好ましいのは、Ｒ1 が炭素原子数１な
いし９のアルキル基を表わし、Ｒ5 が炭素原子数８ない
し１２のアルキル基、フェニル基又はベンジル基を表わ
し、特にＲ5 が炭素原子数８ないし１２のアルキル基を
表わす化合物である。Ｒ2 が−ＣＨ2 −ＳＯ−Ｒ5 を表
わす式Ｉの化合物は特に有利である。更には、Ｒ4 が−
ＣＨ2 −ＳＯ−Ｒ5 を表わし且つＲ1 及びＲ2 が同時に
第三ブチル基、第三アミル基又はイソプロピル基を表わ
す場合、Ｒ5 が炭素原子数８ないし１４のアルキル基
を、好ましくは炭素原子数８ないし１４のアルキル基又
はフェニル基を表わさない式Ｉの化合物を特に挙げるこ
とができる。
【００１６】本発明はまた次式II
【化５】 〔式中、Ｒ1 ''及びＲ2 ''は第三ブチル基又は第三アミ
ル基を表わし、Ｒ7 は枝別れ状の炭素原子数８ないし１
４のアルキル基又は異性混合体の炭素原子数８ないし１
４のアルキル基を表わす〕で表わされる化合物にも関す
る。Ｒ7 が第三ノニル基、第三ドデシル基又は第二オク
チル基を表わす式IIの化合物が好ましい。
【００１７】本発明はまた、式Ｉ又はIIで表わされる化
合物と次式III
【化６】 〔式中、Ｒ1 ' は水素原子、炭素原子数１ないし２０の
アルキル基、炭素原子数２ないし１８のアルケニル基、
炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、炭素原子数
５ないし７のシクロアルケニル基、フェニル基又は炭素
原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表わし、
Ｒ2 ' は水素原子、炭素原子数１ないし２０のアルキル
基、炭素原子数２ないし１８のアルケニル基、炭素原子
数５ないし７のシクロアルキル基、炭素原子数５ないし
７のシクロアルケニル基、フェニル基、炭素原子数７な
いし９のフェニルアルキル基又は基−ＣＨ2 −ＳＯ−Ｒ
5 を表わし、Ｒ5 は−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＳＯ−基で中
断されていてもよい炭素原子数８ないし２０のアルキル
基、モノ−又はジヒドロキシ置換炭素原子数２ないし１
２のアルキル基、フェニル基、ベンジル基、−（Ｃ
Ｈ2 ）n ＣＯＯＲ6 又は−ＣＨ（ＣＨ3 ）ＣＯＯＲ6 を
表わし、Ｒ6 は炭素原子数１ないし２０のアルキル基を
表わし、ｎは１又は２を表わし、Ｒ3 ' は水素原子又は
基−ＣＨ2 −Ｓ−Ｒ5 （Ｒ5 は上記の意味を表わす）を
表わし、Ｒ4 ' はＲ2 ' と同じ意味を表わすが但し、基
Ｒ2 ' 、Ｒ3 ' 又はＲ4 ' の一つのみが基−ＣＨ2 −Ｓ
−Ｒ5 を表わす〕で表わされる少なくとも１種の化合物
との混合物にも関する。
【００１８】好ましい混合物は、式Ｉ又はIIで表わされ
る成分と式III で表わされる成分とでは、後者が−ＳＯ
−基の代わりに−Ｓ−基を含有することによってのみ異
なるがその他の点で前者と同じ構造を有する混合物であ
る。式III で表わされる少なくとも１種の化合物を部分
的に酸化することによって得られる混合物が興味深い。
式III で表わされる化合物と式Ｉ又はIIで表わされる化
合物の比が１：９ないし９：１、特には１：９ないし
１：１である混合物が特に興味深い。
【００１９】本発明はまた、酸化、熱及び／又は光−誘
導劣化に感受性である有機材料と、式Ｉ又はIIで表わさ
れる少なくとも１種の化合物か、或は式Ｉ又はIIで表わ
される少なくとも１種の化合物と式III で表わされる化
合物の混合物とからなる組成物に関する。好ましいの
は、式Ｉ又はIIで表わされる少なくとも１種の化合物と
酸化、熱及び／又は光−誘導劣化に感受性である有機材
料を含む組成物である。
【００２０】本発明の組成物中に存在しそして本発明に
より安定化され得るこのタイプの有機材料の例を挙げる
と次の通りである：
【００２１】１．モノオレフィン及びジオレフィンのポ
リマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポ
リブテ−１−エン、ポリメチルペンテ−１−エン、ポリ
イソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィ
ン例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、
（所望により架橋結合できる）ポリエチレン、例えば高
密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、低密度ポリエチレン
（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）
及び枝分れ状低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）。
【００２２】２．１．に記載したポリマーの混合物、例
えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポ
リプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／
ＨＤＰＥ，ＰＰ／ＬＤＰＥ）及びポリエチレンの異なる
タイプの混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００２３】３．モノオレフィンとジオレフィン相互又
は他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン
／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（Ｌ
ＬＤＰＥ）及びその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）と
の混合物、プロピレン／ブテ−１−エンコポリマー、プ
ロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ−
１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、
エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプ
テンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロ
ピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプ
レンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポ
リマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマ
ー、エチレン／ビニルアセテートコポリマー及びそれら
と一酸化炭素とのコポリマー、又はエチレン／アクリル
酸コポリマー及びそれらの塩類（アイオノマー）、及び
エチレンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、ジ
シクロペンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンのよ
うなものとのターポリマー；並びに前記コポリマー及び
それらの混合物と１．に記載したポリマーとの混合物、
例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレン−コポリ
マー、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニルアセテートコポリマ
ー、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー、改変
又はランダム構造のポリアルキレン／一酸化炭素コポリ
マー、及びそれらと他のポリマー例えばポリアミドとの
コポリマー。
【００２４】３ａ. その水素化変性物（例えば粘着付与
剤）をも含めた炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ない
し９）、及びポリアルキレンと澱粉の混合物。 ４．ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）、ポ
リ−（α−メチルスチレン）。 ５．スチレン又はα−メチルスチレンとジエン又はアク
リル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタジエ
ン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アルキル
メタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアク
リレート及びメタクリレート、スチレン／無水マレイン
酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレー
ト；スチレンコポリマーと別のポリマー、例えばポリア
クリレート、ジエンポリマー又はエチレン／プロピレン
／ジエンターポリマーからの高耐衝撃性混合物；及びス
チレンのブロックコポリマー例えばスチレン／ブタジエ
ン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチ
レン／エチレン−ブチレン／スチレン又はスチレン／エ
チレン−プロピレン／スチレン。
【００２５】６．スチレン又はα−メチルスチレンのグ
ラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレン、
ポリブタジエン−スチレン又はポリブタジエン−アクリ
ロニトリルのコポリマーにスチレン；ポリブタジエンに
スチレン及びアクリロニトリル（又はメタアクリロニト
リル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル
及びメチルメタクリレート；ポリブタジエンにスチレン
及び無水マレイン酸；ポリブタジエンにスチレン、アク
リロニトリル及び無水マレイン酸又はマレイミド；ポリ
ブタジエンにスチレン及びマレイミド；ポリブタジエン
にスチレン及びアルキルアクリレート又はメタアクリレ
ート、エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーにス
チレン及びアクリロニトリル、ポリアクリレート又はポ
リアクリルメタクリレートにスチレン及びアクリロニト
リル、アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレン
及びアクリロニトリル、並びにこれらと５．に列挙した
コポリマー例えば所謂ＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡ又はＡＥ
Ｓポリマーとして知られているものとの混合物。
【００２６】７．ハロゲン化ポリマー、例えばポリクロ
ロプレン、塩素化ゴム、塩素化又はクロロスルホンポリ
エチレン、エチレンと塩素化エチレンとのコポリマー、
エピクロロヒドリンホモ−及びコポリマー、特にはハロ
ゲン含有ビニル化合物からのポリマー例えばポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフ
ッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩化
ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニル又は
塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。
【００２７】８．α，β−不飽和酸及びその誘導体から
誘導されたポリマー、例えばポリアクリレート及びポリ
メタアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリア
クリルアミド及びブチルアクリレートでの変性により耐
衝撃性に作られたポリアクリロニトリル。
【００２８】９．前項８．に挙げたモノマー相互の又は
他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニ
トリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／ア
ルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／ア
ルコキシアルキルアクリレートコポリマー、アクリロニ
トリル／ハロゲン化ビニルコポリマー又はアクリロニト
リル／アルキルメタアクリレート／ブタジエンターポリ
マー。
【００２９】１０．不飽和アルコール及びアミン又はそ
れらのアシル誘導体又はそれらのアセタールから誘導さ
れたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸
ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエ
ート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、
ポリアリルフタレート又はポリアリルメラミン；並びに
それらと上記１．に記載したオレフィンとのコポリマ
ー。
【００３０】１１. 環状エーテルのホモポリマー及びコ
ポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチ
レンオキシド、ポリプロピレンオキシド又はこれらとビ
ス−グリシジルエーテルとのコポリマー。 １２. ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン及び
エチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシメ
チレン；熱可塑性ポリウレタンで変性させたポリアセタ
ール、アクリレート又はＭＢＳ。 １３. ポリフェニレンオキシド及びスルフィド並びにポ
リフェニレンオキシドとポリスチレン又はポリアミドと
の混合物。１４.一方の成分としてヒドロキシ末端基を
含むポリエーテル、ポリエステル又はポリブタジエンと
他方の成分として脂肪族又は芳香族ポリイソシアネート
とから誘導されたポリウレタン並びにそれらの前駆体。
【００３１】１５. ジアミン及びジカルボン酸及び／又
はアミノカルボン酸又は相当するラクタムから誘導され
たポリアミド及びコポリアミド。例えばナイロン４、ナ
イロン６、６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／
６及び１２／１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ｍ−
キシレンとジアミンとアジピン酸の縮合によって得られ
る芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミン及びイソ
フタル酸及び／又はＡテレフタル酸及び所望により変性
剤としてのエラストマーから製造されるポリアミド、例
えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレ
フタルアミド又はポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミ
ド；前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポ
リマー、アイオノマー又は化学的に結合又はグラフトし
たエラストマーとのブロックコポリマー；又は前記ポリ
アミドとポリエーテル、例えばポリエチレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール又はポリテトラメチレン
グリコールとのブロックコポリマー；ならびにＥＰＤＭ
又はＡＢＳで変性させたポリアミド又はコポリアミド、
及び加工の間に縮合されたポリアミド（ＲＩＭ−ポリア
ミド系）。
【００３２】１６. ポリ尿素、ポリイミド及びポリアミ
ド−イミドならびにポリベンズイミダゾール。 １７. ジカルボン酸及びジオール及び/ 又はヒドロキシ
カルボン酸又は相当するラクトンから誘導されたポリエ
ステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチ
レンテレフタレート、ポリ−１, ４−ジメチロールシク
ロヘキサンテレフタレート、ポリヒドロキシベンゾエー
ト並びにヒドロキシ末端基を含有するポリエーテルから
誘導されたブロックコポリエーテルエステル；及びポリ
カーボネート又はＭＢＳで変性されたポリエステル。
【００３３】１８. ポリカーボネート及びポリエステル
−カーボネート。 １９. ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエ
ーテルケトン。 ２０. 一方の成分としてアルデヒド及び他方の成分とし
てフェノール、尿素及びメラミンから誘導された架橋ポ
リマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿
素/ ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン／ホルムアルデ
ヒド樹脂。
【００３４】２１. 乾性及び不乾性アルキド樹脂。 ２２. 飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコールと
のコポリエステル及び架橋剤としてのビニル化合物から
誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の低い
それらのハロゲン含有変性物。 ２３. 置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリ
レート、ウレタンアクリレート又はポリエステルアクリ
レートから誘導された架橋性アクリル樹脂。
【００３５】２４. メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソ
シアネート又はエポキシ樹脂で架橋結合されたアルキド
樹脂、ポリエステル樹脂又はアクリレート樹脂。 ２５. ポリエポキシド、例えばビス（グリシジル）エー
テルから又は脂環式ジエポキシドから誘導された架橋エ
ポキシ樹脂。
【００３６】２６. 天然ポリマー、例えばセルロース、
ゴム、ゼラチン及びこれらの化学的に変性させた同族誘
導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース
及び酪酸セルロース、又はセルロースエーテル、例えば
メチルセルロース；ならびにロジン及びそれらの誘導
体。
【００３７】２７. 前記したポリマーの混合物（ポリブ
レンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤ
Ｍ又はＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶ
Ｃ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／
ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アク
リレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性Ｐ
ＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＥ
／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ナイロン及びコポリマー、ＰＡ／
ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ。
【００３８】２８. 純単量体化合物又は該化合物の混合
物である天然及び合成有機材料、例えば鉱油、動物及び
植物脂肪、オイル及びワックス又は合成エステル( 例え
ばフタレート、アジペート、ホスフェート又はトリメリ
テート）をベースとした上記オイル、脂肪及びワック
ス、及び紡糸用組成物として使用され得る、合成エステ
ルと鉱油とのあらゆる重量比の混合物、ならびに上記材
料の水性エマルジョン。 ２９. 天然又は合成ゴムの水性エマルジョン、例えば天
然ラテックス又はカルボキシル化スチレン／ブタジエン
コポリマーのラテックス。
【００３９】組成物は本発明の化合物又は混合物を有機
材料に対して０．０１〜１０重量％、特には０．０５〜
５．０重量％、好ましくは０．０５〜３重量％、例えば
０．１〜２重量％含むのが有利である。
【００４０】酸化、熱及び／又は光誘導劣化に感受性で
ある有機材料は、例えば有機ポリマー、潤滑剤又は圧媒
液であり得る。有機ポリマーは合成ポリマー、特にエラ
ストマーであるのが好ましい。特に好ましいのは、エラ
ストマー又は潤滑剤と“式Ｉ又はIIで表わされる少なく
とも１種の化合物”又は“式Ｉ又はIIで表わされる少な
くとも１種の化合物と式III で表わされる少なくとも１
種の化合物の混合物”とからなる組成物である。
【００４１】酸化、熱及び／又は光−誘導劣化に感受性
である有機材料に式Ｉ又はIIで表わされる化合物を又は
式Ｉ又はIIで表わされる少なくとも１種の化合物と式II
I で表わされる少なくとも１種の化合物の混合物を混入
するか、或はそれを上記材料に適用することにより、上
記材料を安定化することができる。
【００４２】適当な潤滑剤は、例えば鉱油又は合成油又
はそれらの混合物に基づく。潤滑剤はその分野の当業者
にとっては良く知られており、関連した専門家用文献、
例えばディーテル クラーマン(Dieter Klamann)著「シ
ュミールストッフェ ウントフェルヴァンテ プロデュ
クテ／ Schmierstoffe und verwandte Produkte （潤滑
剤及び関連製品）」〔ヒェミー出版(Verlag Chemie),ヴ
ァインハイム(Weinheim) ,1982年〕；シェーベ−コベッ
ク(Schewe-Kobek)著「ダス シュミールミッテル−タッ
シェンブッフ／Das Schmiermittel-Taschenbuch （潤滑
剤ハンドブック）」〔ドクトル アルフレッド ヒュー
ティッヒ出版(Dr.Alfred Huthig-Verlag),ハイデルベル
グ(Heidelberg), 1974年〕及び「ウルマンス エンツィ
クロペディー デル テクニッシェン ヒェミー／Ullm
anns Enzyklopadie der technischen Chemie（ウルマン
の工業化学百科事典）」第１３巻，第８５〜９４頁〔ヒ
ェミー出版(Verlag Chemie),ヴァインハイム(Weinheim)
,1977年〕に記載されている。潤滑剤は特に、油及び脂
肪、例えば鉱油に基づいている。油が好ましい。
【００４３】使用されうる他の群の潤滑剤は、植物性又
は動物性油、脂肪、獣脂及びワックス、又はそれらと相
互の混合物、又は上記の鉱油又は合成油の混合物であ
る。植物性又は動物性油、脂肪、獣脂及びワックスは例
えば、ヤシの実油、ヤシ油、オリーブ油、ナタネ油又は
セイヨウアブラナ油、亜麻仁油、落花生油、大豆油、綿
油、紅花油、カボチャの種油、ココナッツ油、トウモロ
コシ油、ヒマシ油、クルミ油、及びそれらの混合物、魚
油、屠殺された動物の獣脂、例えばウシ由来の獣脂、牛
脚油及び骨油、及びそれらの変性された、エポキシ化さ
れた及びスルホキシド化された形態、例えばエポキシ化
大豆油である。鉱油は特に炭化水素化合物に基づいてい
る。
【００４４】合成潤滑剤の例は、脂肪族又は芳香族カル
ボン酸エステル、ポリマー性エステル、ポリアルキレン
オキサイド、燐酸エステル、ポリ−α−オレフィン又は
シリコンを、二塩基酸と一価アルコールとのジエステ
ル、例えばジオクチルセバケート又はジノニルアジペー
トを、トリメチロールプロパンと一塩基酸又はそれらの
酸の混合物とのトリエステル、例えばトリメチロールプ
ロパン トリペラルゴネート、トリメチロールプロパン
トリカプリレート又はそれらの混合物を、ペンタエリ
スリトールと一塩基酸又はそれらの酸の混合物とのテト
ラエステル、例えばペンタエリスリトール テトラカプ
リレートを、又は一塩基及び二塩基酸と多価アルコール
との複合エステル、例えばトリエチロールプロパンとカ
プリル酸及びセバシン酸又はそれらの混合物との錯体エ
ステルをベースとする潤滑剤を含む。鉱油に添加して特
に適当なのは例えば、ポリ−α−オレフィン；エステ
ル、ホスフェート、グリコール、ポリグリコール及びポ
リアルキレングリコールをベースとする潤滑剤、及びそ
れらと水との混合物である。
【００４５】本発明の組成物は例えば以下の化合物をエ
ラストマーとして含有することができる。
【００４６】１．ポリジエン、例えばポリブタジエン、
ポリイソプレン又はポリクロロプレン；ブロックポリマ
ー、例えばスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン
／イソプレン／スチレン又はアクリロニトリル／ブタジ
エンコポリマー。 ２．モノオレフィン及びジオレフィンの相互のもしくは
他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／
アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキル
メタクリレートコポリマー、エチレン／ビニルアセテー
トコポリマー、及びエチレンとプロピレンとジエン例え
ばヘキサジエン、ジシクロペンタジエン又はエチリデン
ノルボルネンとのターポリマー。
【００４７】３．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリク
ロロプレン、塩素化ゴム、塩素化もしくはクロロスルホ
ン化ポリエチレン、エピクロロヒドリンホモ−及びコポ
リマー、クロロトリフルオロエチレンコポリマー、ハロ
ゲン含有ビニル化合物からなるポリマー、例えばポリ塩
化ビニリデン、ポリ弗化ビニリデン；及びそれらのコポ
リマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニ
ル／酢酸ビニル又は塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリ
マー。
【００４８】４．一方で末端水酸基を有するポリエーテ
ル、ポリエステル及びポリブタジエンから、他方で脂肪
族もしくは芳香族ポリイソシアネートから誘導されるポ
リウレタン及びその前駆体。 ５．天然ゴム。 ６．前述のポリマーの混合物（ポリブレンド）。 ７．天然又は合成ゴムの水性エマルジョン、例えば天然
ゴムラテックス、又はカルボキシル化スチレン−ブタジ
エンコポリマーのラテックス。
【００４９】所望により、これらエラストマーはラテッ
クスとして存在させ、それとして安定化することができ
る。ポリジエン例えばポリブタジエンゴム、ハロゲン含
有ポリマー例えばポリ沸化ビニリデン、又はエラストマ
ーとしてのポリウレタンを含有する組成物が好ましい。
【００５０】有機材料への混入は、例えば業界公知の方
法により、本発明の化合物又は混合物及び所望により他
の添加剤を混合することにより行われる。それらがポリ
マー、特に合成ポリマーのとき、混入は、成形の前又は
合い間に行なうか或はポリマーに溶解又は分散された化
合物を適用し、適当ならば溶媒を引き続き蒸発すること
により行なうことができる。エラストマーの場合、これ
らはラッテクスとして安定化され得る。ポリマーへの本
発明の化合物又は混合物の混入の可能性は、相当するモ
ノマーの重合前又は重合中、又は架橋前にそれらを添加
することからなる。また重合前又は重合中に添加する場
合、式Ｉ又はIIの化合物、或は本発明の式Ｉ又はIIの化
合物と式III の化合物との混合物は、ポリマーの鎖長の
ための調節剤（連鎖停止剤）として作用することができ
る。
【００５１】本発明の化合物又は混合物は、例えば２．
５ないし２５重量％の濃度でこれら化合物を含むマスタ
ーバッチの形態で安定化させるためにプラスチックスに
添加することができる。本発明のポリマー組成物は種々
の形態で使用されるか、又は種々の製品を得るために、
例えば箔、繊維、テープ、成形材料、異形材として（を
得るために）又は塗料、接着剤又はセメントのための結
合剤として加工される。
【００５２】本発明の潤滑剤組成物は、例えばモーター
自動車における、例えば内燃エンジンに使用される。本
発明の化合物又は混合物に加えて、本発明の組成物は、
特にそれらが有機好ましくは合成ポリマーを含む場合、
なお他の慣用の添加剤を含むことができる。そのような
添加剤を以下に示す。
【００５３】１．酸化防止剤 １．１．アルキル化モノフェノール 、例えば２，６−ジ
第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−
４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−
４−エチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−ｎ
−ブチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−イソ
ブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メ
チルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘキシル）−
４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル
−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリシクロヘキ
シルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシ
メチルフェノール、２，６−ジノニル−４−メチルフェ
ノール、２，４−ジメチル−６−（1'−メチルウンデシ
−1'−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（1'
−メチルヘプタデシ−1'−イル）フェノール、２，４−
ジメチル−６−（1'−メチルトリデシ−1'−イル）フェ
ノール、及びそれらの混合物。
【００５４】１．２．アルキルチオメチルフェノール、
例えば ２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノ
ール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェ
ノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフ
ェノール、２，４−ジドデシルチオメチル−４−ノニル
フェノール。
【００５５】１．３．ヒドロキノン及びアルキル化ヒド
ロキノン、例えば ２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，
５−ジ第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ第三アミル
ヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシル
オキシフェノール、２，６−ジ第三ブチルヒドロキノ
ン、２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニソー
ル、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニソー
ル、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル
ステアレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）ジスルフィド。
【００５６】１．４．ヒドロキシル化チオジフェニルエ
ーテル、例えば、 ２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェ
ノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノー
ル）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチ
ルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル
−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，
６−ジ第二アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，
６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィ
ド。
【００５７】１．５．アルキリデンビスフェノール、例
えば ２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチル
フェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチ
ル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス
〔４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェ
ノール〕、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−
シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス
（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メ
チレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，
２’−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノー
ル）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４
−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス
〔６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノー
ル〕、２，２’−メチレンビス〔６−（α，α−ジメチ
ルベンジル）−４−ノニルフェノール〕、４，４’−メ
チレンビス（２，６−ジ第三ブチルフェノール）、４，
４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェ
ノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロ
キシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３
−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）
−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタ
ン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブ
タン、エチレングリコールビス〔３，３−ビス（３’−
第三ブチル−４’ーヒドロキシフェニル）ブチレー
ト〕、ビス（３−第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メ
チルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス〔２−
（３’−第三ブチル−２’ーヒドロキシ−５’−メチル
ベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル〕テ
レフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−
ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−
ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタ
ン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００５８】１．６．Ｏ−，Ｎ−及びＳ−ベンジル化合
物、例えば ３，５，３’，５’−テトラ第三ブチル−４，４’−ジ
ヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル ４−ヒ
ドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテ
ート、トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロ
キシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレー
ト、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）スルフィド、イソオクチル ３，５−ジ第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル−メルカプトアセテート。
【００５９】１．７．ヒドロキシベンジル化マロネー
ト、例えば ジオクタデシル ２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル
−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシ
ル ２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチ
ルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル
２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）マロネート、ジ〔４−（１，１，３，３−
テトラメチルブチル）フェニル〕２，２−ビス（３，５
−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネー
ト。
【００６０】１．８．ヒドロキシベンジル化芳香族体、
例えば １，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、
１、４−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、
２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）フェノール。
【００６１】１．９．トリアジン化合物、例えば ２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−
ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５
−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−
１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−
４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−
トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノ
キシ）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イ
ソシアヌレ−ト、１，３，５−トリス（４−第三ブチル
−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシ
アヌレ−ト、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−ト
リアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ
−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，
５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソ
シアヌレ−ト。
【００６２】１．１０．ベンジルホスホネート、例えば ジメチル ２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、ジエチル ３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル
３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホス
ホネート、ジオクタデシル ５−第三ブチル−４−ヒド
ロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、モノエチル
３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホス
ホネートのカルシウム塩。１．１１．アシルアミノフェノール 、例えば ラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸４−
ヒドロキシアニリド、オクチル Ｎ−（３，５−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−カルバメート。
【００６３】１．１２．β−（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一価又
は多価アルコールとのエステル、 アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタデカ
ノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジ
オール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）
シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チア
ペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリ
メチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホス
ファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］
オクタン。
【００６４】１．１３．β−（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の以下の
一価又は多価アルコールとのエステル、 アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタデカ
ノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジ
オール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）
シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チア
ペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリ
メチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホス
ファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］
オクタン。
【００６５】１．１４．β−（３，５−ジシクロヘキシ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一
価又は多価アルコールとのエステル、 アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタデカ
ノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジ
オール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）
シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チア
ペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリ
メチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホス
ファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］
オクタン。
【００６６】１．１５．３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル酢酸の以下の一価又は多価アルコール
とのエステル、 アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタデカ
ノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジ
オール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）
シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チア
ペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリ
メチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホス
ファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］
オクタン。
【００６７】１．１６．β−（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例え
ば Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、Ｎ，
Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル）ヒドラジン。
【００６８】２． 紫外線吸収剤及び光安定剤 ２．１．２−( ２’−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリ
アゾール 、例えば、 ５’−メチル、３’，５’−ジ第三ブチル−、５’−第
三ブチル−、５’−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル) −、５−クロロ−３’，５’−ジ第三ブチル−、
５−クロロ−３’−第三ブチル−５’−メチル−、３’
−第二ブチル−５’−第三ブチル−、４’−オクトキシ
−、３’，５’−ジ第三アミル−及び３’，５’−ビス
（α，α−ジメチルベンジル）−誘導体；５−クロロ−
３’−第三ブチル−５’−（２−オクチルオキシカルボ
ニルエチル）−及び５−クロロ−３’−第三ブチル−
５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニル
エチル］−、５−クロロ−３’−第三ブチル−５’−
（２−メトキシカルボニルエチル）−、３’−第三ブチ
ル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−、３’
−第三ブチル−５’−（２−オクチルオキシカルボニル
エチル）−、３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エ
チルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−、３’−ド
デシル−５’−メチル−及び３’−第三ブチル−５’−
（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）−２’−
ヒドロキシフェニル−２Ｈ−２−ベンゾトリアゾール、
２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テト
ラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イル
フェノール］の混合物；２−［３’−第三ブチル−５’
−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキ
シフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレ
ングリコール３００とのトランスエステル化生成物；
［Ｒ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＣＯＯ（ＣＨ2 ）3 ］2 −（式
中、Ｒは３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−
２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニルを表わ
す）。
【００６９】２．２．２−ヒドロキシ−ベンゾフェノ
ン、例えば ４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ
−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−
ベンジルオキシ−、４，２’，４’−トリヒドロキシ−
及び２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
【００７０】２．３．置換又は非置換安息香酸のエステ
ル、例えば ４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチ
レート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイル
レゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レ
ゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ
第三ブチルフェニル ３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンゾエート、及びヘキサデシル３，５−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル
３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート及
び２−メチル−４，６−ジ第三ブチルフェニル ３，５
−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【００７１】２．４ アクリレート、例えば エチル α−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレー
ト、イソオクチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−ア
クリレート、メチル α−カルボメトキシシンナメー
ト、メチル α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシ
ンナメート、ブチル α−シアノ−β−メチル−ｐ−メ
トキシシンナメート、メチル α−カルボメトキシ−p
−メトキシシンナメート及びＮ−（β−カルボメトキシ
−β−シアノビニル) −２−メチルインドリン。
【００７２】２．５ ニッケル化合物、例えば ２，２’−チオビス−〔４−（１，１，３，３−テトラ
メチルブチル) フェノール〕のニッケル錯体、例えば
１：１又は１：２錯体であって、所望によりｎ−ブチル
アミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキ
シル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴う
もの、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒド
ロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジルホスホン酸モノ
アルキルエステル、例えばメチルもしくはエチルエステ
ルのニッケル塩、ケトキシムのニッケル錯体、例えば２
−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシルケトキ
シム、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシ
−ピラゾールのニッケル錯体であって、所望により他の
配位子を伴うもの。
【００７３】２．６ 立体障害性アミン、例えば ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバ
ケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ル）サクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタ
メチルピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチルピペリジル）ｎ−ブチル−３，５
−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、
１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−テトラメチル
−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成
物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オ
クチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−ｓ−ト
リアジンとの縮合生成物、トリス（２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテー
ト、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシ
レート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス
（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−
ベンゾイル−２，２，，６，６−テトラメチルピペリジ
ン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメ
チルピペリジル）２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキ
シ−３，５−ジ第三ブチルベンジル）マロネート、３−
ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，
３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジ
オン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テ
トラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチ
ルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）
サクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと
４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリ
アジンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−
ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペ
リジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３
−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、２−
クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，
２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−
トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミ
ノ）エタンとの縮合生成物、８−アセチル−３−ドデシ
ル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリ
アザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ド
デシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジル）ピロリドン−２，５−ジオン、３−ドデシル
−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペ
リジル）ピロリドン−２，５−ジオン。
【００７４】２．７．シュウ酸ジアミド、例えば ４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−
ジオクチルオキシ−５，５’−ジ第三ブチルオキサニリ
ド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ第三ブ
チルオキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサ
ニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピ
ル）オキサルアミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−
２’−エチルオキサニリド及び該化合物と２エトキシ−
２’−エチル−５，４’−ジ第三ブチルオキサニリドと
の混合物、ｏ−及びｐ−メトキシ−二置換オキサニリド
の混合物、及びｏ−及びｐ−エトキシ−二置換オキサニ
リドの混合物。
【００７５】２．８．２−（２−ヒドロキシフェニル）
−１，３，５−トリアジン、例えば ２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオ
キシフェニル) −１，３，５−トリアジン、２−（２−
ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−
ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリ
アジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，
６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−
トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロ
ピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ
−４−オクチルオキシフェニル) −４，６−ビス（４−
メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２
−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル) −４，６
−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−ト
リアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキ
シ−３−ブチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−
４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，
５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒ
ドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニ
ル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン。
【００７６】３．金属不活性化剤、例えば Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−
Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリ
チロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第
三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒド
ラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリア
ゾール、ビス（ベンジリデン）シュウ酸ジヒドラジド、
オキサニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸
ジフェニルヒドラジド、アジピン酸Ｎ，Ｎ’−ジアセチ
ルヒドラジド、シュウ酸Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイ
ル）ジヒドラジド、チオジプロピオン酸Ｎ，Ｎ’−ビス
（サリチロイル）ジヒドラジド。
【００７７】４．ホスフィット及びホスホナイト、例え
ば トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフ
ィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノ
ニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィッ
ト、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペン
タエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ
第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペン
タエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ第
三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス（２，４−ジ第三ブチル−４−メチルフェニ
ル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（イソ
デシルキシ）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビ
ス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）ペン
タエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−
トリ第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホス
フィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィッ
ト、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）４，
４’−ビフェニレンジホスホナト、６−イソオクチルオ
キシ−２，４，８，１０−テトラ第三ブチル−１２Ｈ−
ジベンゾ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシ
ン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ第三ブチ
ル−１２−メチル−ジベンゾ［ｄ，ｇ］−１，３，２−
ジオキサホスホシン。
【００７８】５．過酸化物を破壊する化合物、例えば β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、
ステアリル、ミリスチル又はトリデシルエステル、メル
カプトベンズイミダゾール、又は２−メルカプトベンズ
イミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜
鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトー
ルテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネー
ト。
【００７９】６．ポリアミド安定剤、例えば ヨウ化物及び／又はリン化合物と組合せた銅塩、及び二
価マンガンの塩。７．塩基性補助安定剤 、例えば メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、
トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導
体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸の
アルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、例えばステア
リン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ベヘニン酸マグ
ネシウム、ステアリン酸マグネシウム、リシノール酸ナ
トリウム、パルミチン酸カリウム、ピロカテコール酸ア
ンチモン又はピロカテコール酸錫。
【００８０】８．核剤、例えば ４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢
酸。９．充填剤及び強化剤 、例えば 炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、
タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及
び水酸化物、カーボンブラック及びグラファイト。１０．その他の添加剤 、例えば 可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、蛍光漂白剤、難燃剤、
静電防止剤及び発泡剤。
【００８１】本発明の組成物が潤滑剤及び圧媒液をベー
スとするものである場合、それらはある使用特性を改良
するために加えられる他の添加剤、例えば他の酸化防止
剤、金属不活性剤、防錆剤、粘度指数改善剤、流動点降
下剤、分散剤／界面活性剤及び耐磨耗添加剤を含むこと
ができる。
【００８２】酸化防止剤の例は、表題”１．酸化防止
剤”、特に１．１ないし１．１０項のもとに再編集され
たリストから見ることができる。他の添加剤の例を以下
に示す。
【００８３】アミン系抗酸化剤の例 Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ジ第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチル−ペンチル）−ｐ−
フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３
−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，
Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレン
ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−（ナフチル−２）−ｐ−フェニレ
ンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−
フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）
−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１
−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレン
ジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−
フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルホンアミ
ド）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’
−ジ第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニル
アミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポ
キシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルア
ミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化
ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ−第三ブチル−
オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェ
ノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイ
ルアミノフェノール、４−ドテカノイルアミノフェノー
ル、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ジ−（４
−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−第三ブチル
−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジ
アミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニ
ルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，
４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ジ−［（２
−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ジ−（フ
ェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、
ジ−［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］
アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルア
ミン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチ
ルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，
３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノ
チアジン、Ｎ−アリルチアジン。
【００８４】他の抗酸化剤の例 脂肪族又は芳香族ホスファイト、チオジプロピオン酸又
はチオジ酢酸のエステル、又はジチオカルバミン酸又は
ジチオリン酸の塩。例えば銅のための金属不活性化剤の例は： トリアゾール類、ベンゾトリアゾール類とそれらの誘導
体、トルトリアゾール類とそれらの誘導体、２−メルカ
プトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾトリアゾ
ール、２，５−ジメルカプトベンゾトリアゾール、２，
５−ジメルカプトベンゾチアジアゾール、５，５’−メ
チレンビスベンゾトリアゾール、４，５，６，７−テト
ラヒドロベンゾトリアゾール、サリチリデンプロピレン
ジアミン、サリチルアミノグアニジン及びそれらの塩類
である。
【００８５】防錆剤の例は： ａ）有機酸、そのエステル、金属塩及び無水物、例え
ば：Ｎ−オレイルザルコシン、ソルビタンモノオレエー
ト、ナフテン酸鉛、無水アルケニルコハク酸、例えば無
水ドデセニルコハク酸、アルケニルコハク酸の部分エス
テルと部分アミド、４−ノニルフェノキシ酢酸、 ｂ）含窒素化合物、例えば： Ｉ．第１、第２又は第３級脂肪族又は環式脂肪族アミン
類と有機及び無機酸のアミン塩、例えば油溶性のアルキ
ルアンモニウムカルボキシレート、 II．複素環化合物、例えば： 置換イミダゾリン類とオキサゾリン類、 ｃ）含リン化合物、例えば：リン酸の部分エステル又は
ホスホン酸の部分エステルのアミン塩、ジアルキルジチ
オリン酸の亜鉛塩、 ｄ）含硫黄化合物、例えば：ジノニルナフタレンスルホ
ン酸バリウム、石油スルホン酸カルシウムである。
【００８６】粘度指数向上剤の例は： ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ビニルピロリ
ドン／メタクリレート共重合体、ポリビニルピロリド
ン、ポリブテン、オレフィン共重合体、スチレン／アク
リレート共重合体、ポリエーテルである。流動点降下剤の例は： ポリメタアクリレート、アルキル化ナフタレン誘導体で
ある。
【００８７】分散剤／界面活性剤の例は： ポリブテニルコハク酸アミド又は−イミド、ポリブテニ
ルホスホン酸誘導体、塩基性のスルホン酸又はフェノー
ルのマグネシウム塩、スルホン酸又はフェノールのカル
シウム塩、及びスルホン酸又はフェノールのバリウム塩
である。耐磨耗添加剤の例は： 硫黄及び／又はリン及び／又はハロゲン−含有化合物；
例えば硫酸化植物油、ジアルキルジチオリン酸亜鉛、リ
ン酸トリトリル、塩素化パラフィン、アルキル及びアリ
ールジ−及びトリスルフィド、トリフェニルホスホロチ
オネート、ジエタノールアミノメチルトリルトリアゾー
ル、ジ（２−エチルヘキシル）アミノメチルトリルトリ
アゾールである。
【００８８】式Ｉ又はIIで表される本発明のスルホキシ
ドは、例えば式III で表わされる化合物を酸化すること
により得ることができる。適当な酸化剤の例は、過酸化
水素もしくは過カルボン酸、有機ヒドロパーオキサイド
又は他の適当な有機もしくは無機酸化剤であり、関連文
献から公知の方法によりその反応を行なうことができ
る。適当な過カルボン酸の例はｍ−クロロ過安息香酸、
過酢酸又はトリフルオロ過酢酸である。使用できるヒド
ロパーオキサイドの例は第三ブチルパーオキサイド及び
クメンヒドロパーオキサイドである。
【００８９】出発物質はまた、その場で調製される酸化
剤で酸化され得る。このタイプの酸化剤の例は、過酸化
水素とカルボン酸の混合物中で生成する過カルボン酸で
ある。所望の生成物に依存して、酸化剤を化学量論的な
又は過剰な量で加えるのが有利である。反応パラメータ
は、スルホキシドのスルホンへの更なる酸化が最小にな
るように選択される。酸化は溶媒の存在下で行なうのが
有利である。使用される溶媒の例は非酸化性有機溶媒、
例えば塩素化炭化水素、ケトン又は炭化水素である。適
当な塩素化炭化水素の例はメチレンクロライド又はクロ
ロホルムであり、適当なケトンの例はアセトン、メチル
エチルケトン又はメチルイソプロピルケトンであり、そ
して適当な炭化水素は特には芳香族炭化水素、例えばト
ルエン又はキシレンである。
【００９０】反応温度は例えば−４０ないし＋８０℃で
あってよい。温度及び特定の反応に依存して、反応時間
は例えば１０分ないし２４時間である。出発物質、式II
I で表わされる化合物及びそれらの製法は文献から知ら
れており、そして多くの特許明細書、例えば米国特許第
４，７５９，８６２号及び米国特許第４、８５７、５７
２号明細書中に記載されており、それらに記載されてい
る方法に準じて製造することができる。
【００９１】本発明の混合物は、式Ｉ又はIIで表わされ
る化合物と式III で表わされる化合物から、例えば個々
の材料を所望の相対的量で混合することにより製造する
ことができる。しかしながら、これらの混合物を式III
で表わされる化合物の部分的酸化により、例えば上記方
法により得るのが好ましく、酸化剤は化学量論的量より
も少なく使用される。その量は混合物中の式Ｉ又はII又
はIII で現われる化合物の所望含量に依存する。それは
簡単な予備試験又は計算により容易に決定することがで
きる。
【００９２】より詳細な知識は、以下の製造実施例から
得られる。以下の実施例で本発明を更に詳しく説明す
る。以後の説明及び特許請求の範囲での部及び％は特記
しない限り重量による。
【００９３】参照例１：
【化３】 ３０％過酸化水素５．７ｇを０℃で、アセトン１２０ｍ
ｌ中に溶解した２−第三ブチル−６−メチル−４−（ｎ
−オクチルチオメチル）フェノール１６．１ｇ（０．０
５モル）に滴下して加える。室温で２６時間撹拌した
後、溶媒を減圧下で留去する。溶離剤として９：１の比
率のメチレンクロライド／酢酸エチルを用いるシリカゲ
ルクロマトグラフィーにより、２−第三ブチル−６−メ
チル−４−（オクチルスルフィニルメチル）フェノール
１２．２ｇが黄色湯として得られる。 元素分析 計算値：Ｃ 70.96 ％ 実測値：Ｃ 70.98 ％ Ｈ 10.12 ％ Ｈ 9.89 ％ Ｓ 9.47 ％ Ｓ 9.40 ％
【００９４】参照例２〜１４： 式III で表わされる特定置換チオメチルフェノールを、
遊離体及び生成物の溶解度に依り、アセトン又はメチレ
ンクロライドに溶解する。３０％過酸化水素を０〜２０
℃で５〜１０分間にわたって滴下して加える。その混合
物を次いで室温で４〜２０時間撹拌する。薄層クロマト
グラフィーにより反応完了をチェックする。次いで溶媒
を減圧下で留去する。溶離剤を用いるシリカゲルクロマ
トグラフィーにより生成物が純粋な形で得られる。参照
例２〜１４の生成物を表１に掲げる。独特の 1Ｈ核磁気
共鳴データを表２に再現する。
【００９５】
【化４】 〔表１〕
【表１】 * 異性体混合物 **２−エチルヘキシル (a) 過酸化水素 0.1モル使用 (b) 溶媒 酢酸（後処理：最初に重炭酸ナトリウム溶液で洗浄） (c) 生成物はクロマトグラフィーを使用せずに純粋に得られる 溶離剤：Ａ メチレンクロライド／酢酸エチル（49：１） Ｂ メチレンクロライド／酢酸エチル（19：１） Ｃ メチレンクロライド／酢酸エチル（９：１） Ｄ ヘキサン／メチレンクロライド／酢酸エチル（6:4:1) Ｅ メチレンクロライド Ｆ ヘキサン／酢酸エチル（７：１）
【００９６】〔表２〕 参照例２〜１４の化合物の独特な1 Ｈ ＮＭＲシグナル
は、重水素のクロロホルム中、１００ＭＨｚで測定され
た（標準テトラメチルシラン）
【表２】 * ３００ＭＨｚで， **２５０ＭＨｚで *** 3.69/3.47 及び3.35( CHCH3 ) で３四重項（3 ＪHH＝７）異性体混合物 ****3.70/3.48 及び3.35( CHCH3 ) で３四重項（3 ＪHH＝７）異性体混合物
【００９７】実施例１：
【化５】 参照例１記載の操作を繰り返し、２，４−ビス（第三ブ
チル）−６−オクチルチオメチルフェノールを等モル量
の過酸化水素と反応させ、ヘキサン／酢酸エチル（９：
１）を用いるカラムクロマトグラフィー後、融点５８〜
５９℃の２，４−ビス（第三ブチル−６−オクチルスル
フィニルメチルフェノール１１．９５ｇを得る。 元素分析 計算値：Ｃ 72.58 ％ 実測値：Ｃ 72.58 ％ Ｈ 10.59 ％ Ｈ 10.29 ％ Ｓ 8.42 ％ Ｓ 8.49 ％ 独特の1 Ｈ核磁気共鳴シグナル：４．３１及び３．８６
ｐｐｍ（ＪAB＝１４Ｈｚ）。
【００９８】実施例２：
【化６】 参照例１記載の操作を繰り返し、工業用グレードの４−
ノニルフェノール（異性体混合物）をホルムアルデヒド
及び１−ドデカンチオールと共にアルキルチオメチル化
することにより得られた２−ドデシルチオメチル−４−
ノニルフェノールを過酸化水素溶液と反応させる。ヘキ
サン／酢酸エチル（４：１）を用いるカラムクロマトグ
ラフィー後、２−ドデシルスルフィニルメチル−４−ノ
ニルフェノール６．７ｇが無色油状物として単離され
る。 元素分析 計算値：Ｃ 74.61 ％ 実測値：Ｃ 74.67 ％ Ｈ 11.18 ％ Ｈ 11.10 ％ Ｓ 7.11 ％ Ｓ 7.14 ％ 独特の1 Ｈ核磁気共鳴シグナル：〜４．４５及び〜３．
８０ｐｐｍ（ＪAB＝１４Ｈｚ）。
【００９９】参照例１５〜１６： 参照例１に記載の方法と同様にして化合物を製造する。
それらを表３に掲げる一方、対応する化合物の独特の核
磁気共鳴シグナルを表４に掲げる。
【化７】 〔表３〕
【表３】 * １，１，３，３−テトラメチルブチル
【０１００】〔表４〕 参照例１５〜１６の化合物の独特な1 Ｈ ＮＭＲシグナ
ルは、重水素のクロロホルム中、１００ＭＨｚで測定さ
れた（標準テトラメチルシラン）
【表４】
【０１０１】参照例１７： ２倍過剰の代わりに１．１等量のみの過酸化水素を用い
て参照例６を繰り返し、反応混合物を蒸発させた後、更
に分離することなく、1 Ｈ ＮＭＲによれば１：２の比
率の出発チオエーテルとスルフォキシドで構成される橙
色樹脂状物を得る。
【０１０２】参照例１８： ２倍過剰の代わりに０．５等量の過酸化水素を用いて参
照例６を繰り返し、反応混合物を蒸発させた後、更に分
離することなく、1 Ｈ ＮＭＲによれば２：１の比率の
出発チオエーテルとスルフォキシドで構成される橙色粘
性油状物を得る。
【０１０３】実施例３〜２２： 参照例２〜１４の化合物と同様にして実施例３〜２２の
化合物を製造する。化合物は表５ａ及び５ｂに掲げる
が、独特の1 Ｈ核磁気共鳴データはを表６から見ること
ができる。化学シフト値は、テトラメチルシランに対す
る[ppm] で示されている。溶媒として重水素のクロロホ
ルムを用いた。
【化８】 〔表５ａ〕 この表の全化合物について、Ｒ4 は水素原子である。
【表５】
【０１０４】〔表５ｂ〕
【表６】 Ａ ヘキサン／酢酸エチル（４９：１） Ｂ ヘキサン／酢酸エチル（９：１） Ｃ ヘキサン／アセトン（８：１） Ｄ ヘキサン／メチレンクロライド（１：１） Ｅ ヘキサン／アセトン（９：１） Ｆ ヘキサン／酢酸エチル（４：１） Ｇ ヘキサン／酢酸エチル（７：３）1) 2-C 18H 37：ｎ−オクタデカン−２−イル基2) t-C 8 H 17：１，１，３，３−テトラメチルブチル
基3) t-C 12H 25：１，１，３，３，５，５−ヘキサメチ
ルヘキシル基及び２，２，４，６，６−ペンタメチルヘ
プチ−４−イル基からなる異性混合体4) t-C 8 H 17：第一オクタノール異性混合体のエステ
ル5)6) 異性混合体基7) 2-C 8 H 17：ｎ−オクタン−２−イル基8) t-C 9 H 19：異性混合体*) カラムクロマトグラフィーにより更に精製**) アセトンから再結晶
【０１０５】〔表６〕
【表７】 a) ジアステレオマー混合物 b) 異性体混合物 (m) 多重項
【０１０６】参照例１９：ポリブタジエンゴムの安定化
（ブラベンダー試験） ２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール０．３６％で予
め安定化したポリブタジエン１００部を、試験される安
定剤０．２５％と共にブラベンダープラストグラフ(Bra
bender plastograph) 中、 １６０℃及び６０ｒｐｍで３
０分間混練する。 装置は以下の原理で操作する： サーモスタットで制御された加熱混練室中で回転する２
本の混練用ロールは、ペンダルム法(pendulum manner)
により支持されたモータで運転される。混練室中のプラ
スチックの流動抵抗を克服するために、ある程度のトル
クが必要であり、それはトルクペンダルムにより表示さ
れ時間の関数として記録される。トルクカーブ、誘導時
間すなわちトルクが１００ｒｐｍまで増加する迄の誘導
時間（分）、以後の最大トルクを測定する。該試験は、
添加された安定剤が流動抵抗を実質的に長時間一定に保
つこと、すなわちプラスチックが長期間安定であること
を示す。結果を表７に示す。
【０１０７】〔表７〕
【表８】 * ブランクは本発明の安定剤を含まない
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｃ１０Ｎ 30:08 Ｃ１０Ｎ 30:08 30:12 30:12 40:08 40:08 (72)発明者 パウル デュプス スイス国，1723 マルリー，ルート デ ゥ コンフィン 14 (56)参考文献 特公 昭43−16741（ＪＰ，Ｂ１) 特公 昭49−27092（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07C 317/00 C08K 5/00 C10M 135/00 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 次式Ｉ 【化１】 （式中、 Ｒ1 は水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル
    基、炭素原子数５もしくは６のシクロアルキル基又は炭
    素原子数５もしくは６のシクロアルケニル基を表わし、
    Ｒ2 は−ＣＨ2 −ＳＯ−Ｒ5 を表わし、Ｒ3 は水素原子
    を表わし、Ｒ4 は炭素原子数１ないし１８のアルキル
    基、炭素原子数５もしくは６のシクロアルキル基又は炭
    素原子数５もしくは６のシクロアルケニル基を表わし、
    Ｒ5 は炭素原子数８ないし２０のアルキル基、フェニル
    基、ベンジル基又は−ＣＨ2 ＣＯＯＲ6 を表わし、そし
    てＲ6 は炭素原子数１ないし２０のアルキル基を表す）
    で表わされる化合物。
  2. 【請求項２】 請求項１記載の少なくとも１種の化合物
    と次式III 【化２】 （式Ｉで表わされる成分と式III で表わされる成分とで
    は、後者が−ＳＯ−基の代わりに−Ｓ−基を含有するこ
    とによってのみ異なるがその他の点で前者と同じ構造を
    有する）で表わされる少なくとも１種の化合物との混合
    物からなる、有機材料のための安定剤。
  3. 【請求項３】 式III で表わされる少なくとも１種の化
    合物を部分的に酸化することによって得られる請求項２
    記載の安定剤。
  4. 【請求項４】 式III で表わされる化合物と式Ｉで表わ
    される化合物の比が１：９ないし９：１である請求項２
    記載の安定剤。
  5. 【請求項５】 酸化、熱及び／又は光−誘導劣化に感受
    性である有機材料と、請求項１記載の式Ｉで表わされる
    少なくとも１種の化合物又は請求項２記載の少なくとも
    １種の安定剤とを含有する安定化組成物。
  6. 【請求項６】 請求項１記載の少なくとも１種の化合物
    を含有する請求項５記載の安定化組成物。
  7. 【請求項７】 有機材料が有機（好ましくは合成）ポリ
    マー、潤滑剤又は圧媒液である請求項５記載の安定化組
    成物。
  8. 【請求項８】 有機材料がエラストマー又は潤滑剤であ
    る請求項５記載の安定化組成物。
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